JPH10219136A - 防眩処理剤、防眩膜及びその製造方法 - Google Patents
防眩処理剤、防眩膜及びその製造方法Info
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- JPH10219136A JPH10219136A JP9041672A JP4167297A JPH10219136A JP H10219136 A JPH10219136 A JP H10219136A JP 9041672 A JP9041672 A JP 9041672A JP 4167297 A JP4167297 A JP 4167297A JP H10219136 A JPH10219136 A JP H10219136A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 溶剤の使用による塗工性向上の利点を活かし
つつ、塗工ムラが生じにくくてヘイズ値とその面方向均
一性に優れる防眩膜を形成できる防眩処理剤を得るこ
と。 【解決手段】 溶剤に、少なくとも放射線硬化型樹脂を
溶解させると共に、平均粒径１０μm以下の微粒子（１
１）を分散させてなる分散液に、チキソトロピー化剤を
配合してなる防眩処理剤、及びその防眩処理剤よりなる
薄膜展開層の硬化処理層からなる防眩膜（１）、並びに
前記の防眩処理剤を薄膜展開し、その展開層を速やかに
脱溶剤処理したのち放射線を照射して硬化処理する防眩
膜の製造方法。 【効果】 高精度な薄膜展開性を達成しつつ、微粒子の
均一分散性に優れて厚膜塗工の場合にもヘイズ値に優
れ、そのバラツキが少ない防眩膜を形成できる。
つつ、塗工ムラが生じにくくてヘイズ値とその面方向均
一性に優れる防眩膜を形成できる防眩処理剤を得るこ
と。 【解決手段】 溶剤に、少なくとも放射線硬化型樹脂を
溶解させると共に、平均粒径１０μm以下の微粒子（１
１）を分散させてなる分散液に、チキソトロピー化剤を
配合してなる防眩処理剤、及びその防眩処理剤よりなる
薄膜展開層の硬化処理層からなる防眩膜（１）、並びに
前記の防眩処理剤を薄膜展開し、その展開層を速やかに
脱溶剤処理したのち放射線を照射して硬化処理する防眩
膜の製造方法。 【効果】 高精度な薄膜展開性を達成しつつ、微粒子の
均一分散性に優れて厚膜塗工の場合にもヘイズ値に優
れ、そのバラツキが少ない防眩膜を形成できる。
Description
【０００１】
【発明の技術分野】本発明は、微粒子の樹脂層中への埋
没を防止した防眩処理剤、並びに防眩性に優れて表示装
置等に好適な防眩膜及びその製造方法に関する。
没を防止した防眩処理剤、並びに防眩性に優れて表示装
置等に好適な防眩膜及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、放射線硬化樹脂層中に微粒子を分
散させてなる防眩膜を形成するための防眩処理剤として
は、溶剤に放射線硬化型樹脂を溶解させると共に微粒子
を分散させてなる分散液が知られていた（特開平５−１
６２２６１号公報）。溶剤を用いないものの提案もある
が（特開平６−１８７０６号公報）、塗工性に乏しく均
一に薄膜展開することが困難な難点がある。
散させてなる防眩膜を形成するための防眩処理剤として
は、溶剤に放射線硬化型樹脂を溶解させると共に微粒子
を分散させてなる分散液が知られていた（特開平５−１
６２２６１号公報）。溶剤を用いないものの提案もある
が（特開平６−１８７０６号公報）、塗工性に乏しく均
一に薄膜展開することが困難な難点がある。
【０００３】前記の如く溶剤を使用することで塗工性を
向上させうる。しかしながら、従来の溶剤使用の防眩処
理剤にあっては、薄膜展開した際の塗工ムラが大きく、
それを脱溶剤処理し放射線で硬化処理して形成した防眩
膜の表面が外観不良でヘイズ値のバラツキが大きく、１
０μm以上に厚膜塗工して塗工ムラによるヘイズ値のバ
ラツキを抑制した場合には、ヘイズ値が低下して防眩効
果に乏しくなる問題点があった。
向上させうる。しかしながら、従来の溶剤使用の防眩処
理剤にあっては、薄膜展開した際の塗工ムラが大きく、
それを脱溶剤処理し放射線で硬化処理して形成した防眩
膜の表面が外観不良でヘイズ値のバラツキが大きく、１
０μm以上に厚膜塗工して塗工ムラによるヘイズ値のバ
ラツキを抑制した場合には、ヘイズ値が低下して防眩効
果に乏しくなる問題点があった。
【０００４】
【発明の技術的課題】本発明は、溶剤の使用による塗工
性向上の利点を活かしつつ、塗工ムラが生じにくくてヘ
イズ値とその面方向均一性に優れる防眩膜を形成できる
防眩処理剤の開発を課題とする。
性向上の利点を活かしつつ、塗工ムラが生じにくくてヘ
イズ値とその面方向均一性に優れる防眩膜を形成できる
防眩処理剤の開発を課題とする。
【０００５】
【課題の解決手段】本発明は、溶剤に、少なくとも放射
線硬化型樹脂を溶解させると共に、平均粒径１０μm以
下の微粒子を分散させてなる分散液に、チキソトロピー
化剤を配合したことを特徴とする防眩処理剤、及びその
防眩処理剤よりなる薄膜展開層の硬化処理層からなるこ
とを特徴とする防眩膜、並びに前記の防眩処理剤を薄膜
展開し、その展開層を速やかに脱溶剤処理したのち放射
線を照射して硬化処理することを特徴とする防眩膜の製
造方法を提供するものである。
線硬化型樹脂を溶解させると共に、平均粒径１０μm以
下の微粒子を分散させてなる分散液に、チキソトロピー
化剤を配合したことを特徴とする防眩処理剤、及びその
防眩処理剤よりなる薄膜展開層の硬化処理層からなるこ
とを特徴とする防眩膜、並びに前記の防眩処理剤を薄膜
展開し、その展開層を速やかに脱溶剤処理したのち放射
線を照射して硬化処理することを特徴とする防眩膜の製
造方法を提供するものである。
【０００６】
【発明の効果】本発明によれば、チキソトロピー化剤を
用いたことにより、溶剤を使用した良好な塗工性と高精
度な薄膜展開性を達成しつつ、微粒子の均一分散性に優
れヘイズ値の面方向均一性に優れて、高ヘイズ値でその
バラツキが少ない防眩膜を形成できる防眩処理剤を得る
ことができ、これは分散液にチキソトロピー性を付与し
て微粒子の沈降を抑制したことに基づく。
用いたことにより、溶剤を使用した良好な塗工性と高精
度な薄膜展開性を達成しつつ、微粒子の均一分散性に優
れヘイズ値の面方向均一性に優れて、高ヘイズ値でその
バラツキが少ない防眩膜を形成できる防眩処理剤を得る
ことができ、これは分散液にチキソトロピー性を付与し
て微粒子の沈降を抑制したことに基づく。
【０００７】すなわち上記した如く従来の防眩処理剤で
はヘイズ値のバラツキ防止のために厚膜塗工した場合、
ヘイズ値の低下問題を惹起する。本発明者らはかかる低
下問題が、分散液の薄膜展開から硬化処理までの間に微
粒子が自重沈降し、形成される防眩膜の樹脂硬化層中に
微粒子が埋没することに原因のあることを究明し、この
知見に基づきチキソトロピー化剤を配合して分散液にチ
キソトロピー性を付与し、これにより高精度な薄膜展開
性を達成しつつ、それを硬化処理するまでの間における
微粒子の沈降を抑制して前記の効果を達成したものであ
る。
はヘイズ値のバラツキ防止のために厚膜塗工した場合、
ヘイズ値の低下問題を惹起する。本発明者らはかかる低
下問題が、分散液の薄膜展開から硬化処理までの間に微
粒子が自重沈降し、形成される防眩膜の樹脂硬化層中に
微粒子が埋没することに原因のあることを究明し、この
知見に基づきチキソトロピー化剤を配合して分散液にチ
キソトロピー性を付与し、これにより高精度な薄膜展開
性を達成しつつ、それを硬化処理するまでの間における
微粒子の沈降を抑制して前記の効果を達成したものであ
る。
【０００８】
【発明の実施形態】本発明の防眩処理剤は、溶剤に、少
なくとも放射線硬化型樹脂を溶解させると共に、平均粒
径１０μm以下の微粒子を分散させてなる分散液に、チ
キソトロピー化剤を配合したものである。
なくとも放射線硬化型樹脂を溶解させると共に、平均粒
径１０μm以下の微粒子を分散させてなる分散液に、チ
キソトロピー化剤を配合したものである。
【０００９】放射線硬化型樹脂としては、紫外線や可視
光線や電子線等の電離性放射線の照射により硬化処理で
きる適宜な樹脂を用いてよく、特に限定はない。従って
防眩膜で公知の放射線硬化型樹脂のいずれも用いうる。
ちなみにその例としては、アクリル系やエポキシ系、ウ
レタン系やポリエステル系、ポリエーテル系やアルキッ
ド系、スピロアセタール系やポリブタジエン系、ポリチ
オールポリエン系などの放射線硬化型樹脂があげられ
る。
光線や電子線等の電離性放射線の照射により硬化処理で
きる適宜な樹脂を用いてよく、特に限定はない。従って
防眩膜で公知の放射線硬化型樹脂のいずれも用いうる。
ちなみにその例としては、アクリル系やエポキシ系、ウ
レタン系やポリエステル系、ポリエーテル系やアルキッ
ド系、スピロアセタール系やポリブタジエン系、ポリチ
オールポリエン系などの放射線硬化型樹脂があげられ
る。
【００１０】また放射線硬化型樹脂は、オリゴマーやプ
レポレマーの状態にある前記の樹脂成分に、アクリル系
やスチレン系、Ｎ−ビニルピロリドン系や多官能アクリ
レート系などのモノマーを配合して粘度調整したものな
どであってもよい。得られる防眩膜の硬度ないし耐擦傷
性や耐衝撃性、柔軟性などの点より好ましく用いうる放
射線硬化型樹脂は、ポリウレタンアクリレートとポリエ
ステルアクリレートを併用したものである。
レポレマーの状態にある前記の樹脂成分に、アクリル系
やスチレン系、Ｎ−ビニルピロリドン系や多官能アクリ
レート系などのモノマーを配合して粘度調整したものな
どであってもよい。得られる防眩膜の硬度ないし耐擦傷
性や耐衝撃性、柔軟性などの点より好ましく用いうる放
射線硬化型樹脂は、ポリウレタンアクリレートとポリエ
ステルアクリレートを併用したものである。
【００１１】なお放射線硬化型樹脂には、必要に応じて
例えばアセトフェノン類やベンゾフェノン類、ミヒラー
ケトン類やチオキサントン類等の光重合開始剤、アミン
類やホスフィン類等の光増感剤などの適宜な添加剤を配
合することもできる。
例えばアセトフェノン類やベンゾフェノン類、ミヒラー
ケトン類やチオキサントン類等の光重合開始剤、アミン
類やホスフィン類等の光増感剤などの適宜な添加剤を配
合することもできる。
【００１２】放射線硬化型樹脂からなる硬化膜中に分散
保持させて光の拡散性を付与するための微粒子として
は、硬化膜中に分散させた場合に透明性を示す、セラミ
ック等の無機物やプラスチック等の有機物からなる適宜
なものを用いうる。ちなみにその例としては、シリカや
チタニア、アルミナやジルコニアなどからなる無機微粒
子、アクリル系ポリマーやカーボネート系ポリマー、ス
チレン系ポリマーや塩化ビニル系ポリマーなどからなる
有機微粒子があげられる。
保持させて光の拡散性を付与するための微粒子として
は、硬化膜中に分散させた場合に透明性を示す、セラミ
ック等の無機物やプラスチック等の有機物からなる適宜
なものを用いうる。ちなみにその例としては、シリカや
チタニア、アルミナやジルコニアなどからなる無機微粒
子、アクリル系ポリマーやカーボネート系ポリマー、ス
チレン系ポリマーや塩化ビニル系ポリマーなどからなる
有機微粒子があげられる。
【００１３】また微粒子に導電性を有するものを用い
て、防眩膜に帯電防止能を付与することもできる。その
導電性微粒子の例としては、酸化錫、アンチモンやフッ
素をドープした酸化錫、酸化インジウム、錫をドープし
た酸化インジウム、酸化アンチモンの如き導電性の金属
酸化物からなるものなどがあげられる。
て、防眩膜に帯電防止能を付与することもできる。その
導電性微粒子の例としては、酸化錫、アンチモンやフッ
素をドープした酸化錫、酸化インジウム、錫をドープし
た酸化インジウム、酸化アンチモンの如き導電性の金属
酸化物からなるものなどがあげられる。
【００１４】微粒子は、防眩性の付与や沈降の抑制等の
点より、平均粒径が１０μm以下、就中０．１〜９μm、
特に０．５〜８μmのものが用いられる。微粒子の配合
量は、防眩効果等の点より放射線硬化型樹脂１００重量
部あたり、１〜３０重量部、就中２〜２０重量部、特に
３〜１５重量部が一般的である。なお微粒子の配合量を
調節することにより、防眩膜のヘイズ値（拡散透過率／
全光線透過率）を制御しうるが、本発明においては５〜
２０％、就中７〜１８％、特に８〜１５％のヘイズ値を
示す防眩膜の形成が好ましい。
点より、平均粒径が１０μm以下、就中０．１〜９μm、
特に０．５〜８μmのものが用いられる。微粒子の配合
量は、防眩効果等の点より放射線硬化型樹脂１００重量
部あたり、１〜３０重量部、就中２〜２０重量部、特に
３〜１５重量部が一般的である。なお微粒子の配合量を
調節することにより、防眩膜のヘイズ値（拡散透過率／
全光線透過率）を制御しうるが、本発明においては５〜
２０％、就中７〜１８％、特に８〜１５％のヘイズ値を
示す防眩膜の形成が好ましい。
【００１５】チキソトロピー化剤は、分散液を薄膜展開
する際の高剪断力が作用するときには低い粘度特性を示
して良好な塗工性を示し、薄膜展開後の静止状態では高
い粘度特性を示して微粒子が沈降しにくい特性を付与す
ることを目的とする。従ってチキソトロピー化剤として
は、例えばエチルセルロースやポリアクリル酸や有機粘
土などの、分散液に前記の粘度特性を付与しうる適宜な
ものを用いうる。
する際の高剪断力が作用するときには低い粘度特性を示
して良好な塗工性を示し、薄膜展開後の静止状態では高
い粘度特性を示して微粒子が沈降しにくい特性を付与す
ることを目的とする。従ってチキソトロピー化剤として
は、例えばエチルセルロースやポリアクリル酸や有機粘
土などの、分散液に前記の粘度特性を付与しうる適宜な
ものを用いうる。
【００１６】チキソトロピー化剤の配合量は、分散液の
粘度特性などに応じて適宜に決定しうるが、一般には塗
工性と微粒子沈降の抑制性の両立性などの点より、放射
線硬化型樹脂１００重量部あたり、０．１〜１０重量
部、就中０．５〜８重量部、特に１〜５重量部とされ
る。
粘度特性などに応じて適宜に決定しうるが、一般には塗
工性と微粒子沈降の抑制性の両立性などの点より、放射
線硬化型樹脂１００重量部あたり、０．１〜１０重量
部、就中０．５〜８重量部、特に１〜５重量部とされ
る。
【００１７】防眩処理剤の調製は、例えば溶剤を介し放
射線硬化型樹脂と微粒子とチキソトロピー化剤を混合し
て、放射線硬化型樹脂が溶解し、かつ微粒子が分散し
た、チキソトロピー化剤含有の分散液とする方式などに
より行うことができる。その際、溶剤としては、放射線
硬化型樹脂を溶解しうる例えばアルコール類やケトン
類、エーテル類や炭化水素類、アミン類などの適宜なも
のを用いうる。
射線硬化型樹脂と微粒子とチキソトロピー化剤を混合し
て、放射線硬化型樹脂が溶解し、かつ微粒子が分散し
た、チキソトロピー化剤含有の分散液とする方式などに
より行うことができる。その際、溶剤としては、放射線
硬化型樹脂を溶解しうる例えばアルコール類やケトン
類、エーテル類や炭化水素類、アミン類などの適宜なも
のを用いうる。
【００１８】分散液を薄膜展開した後の脱溶剤処理の短
時間性、ひいては微粒子の沈降防止性などの点より好ま
しく用いうる溶剤としては、エタノールやトルエン、酢
酸エチルやメタノールなどがあげられる。溶剤の使用量
は、塗工性などに応じて適宜に決定しうるが、一般には
固形分濃度に基づいて５〜７０重量％、就中１０〜６０
重量％、特に１５〜５０重量％とされる。
時間性、ひいては微粒子の沈降防止性などの点より好ま
しく用いうる溶剤としては、エタノールやトルエン、酢
酸エチルやメタノールなどがあげられる。溶剤の使用量
は、塗工性などに応じて適宜に決定しうるが、一般には
固形分濃度に基づいて５〜７０重量％、就中１０〜６０
重量％、特に１５〜５０重量％とされる。
【００１９】防眩膜の形成は、例えば防眩処理剤を薄膜
展開し、その展開層を加熱処理等により脱溶剤処理した
後、放射線を照射して硬化処理する方法などにより行う
ことができる。防眩処理剤の薄膜展開は、例えばグラビ
ア塗工方式やダイ塗工方式、ディッピング方式やスピン
コート方式、スプレー方式などの適宜な塗工方式を適用
して行うことができる。
展開し、その展開層を加熱処理等により脱溶剤処理した
後、放射線を照射して硬化処理する方法などにより行う
ことができる。防眩処理剤の薄膜展開は、例えばグラビ
ア塗工方式やダイ塗工方式、ディッピング方式やスピン
コート方式、スプレー方式などの適宜な塗工方式を適用
して行うことができる。
【００２０】分散液を薄膜展開した後の脱溶剤処理は、
速やかに行うこと、就中、塗工後３０秒以内、特に１０
秒以内に完了することが微粒子の沈降を抑制して、表面
に微粒子を存続させ、微粒子を均等に分散含有する防眩
膜を得る点などより好ましい。薄膜展開の厚さ、ひいて
は防眩膜の厚さは、適用対象などに応じて適宜に決定し
うるが、脱溶剤処理の短時間性などの点より、３０μm
以下、就中０．１〜２０μm、特に１〜１５μmとするこ
とが好ましい。
速やかに行うこと、就中、塗工後３０秒以内、特に１０
秒以内に完了することが微粒子の沈降を抑制して、表面
に微粒子を存続させ、微粒子を均等に分散含有する防眩
膜を得る点などより好ましい。薄膜展開の厚さ、ひいて
は防眩膜の厚さは、適用対象などに応じて適宜に決定し
うるが、脱溶剤処理の短時間性などの点より、３０μm
以下、就中０．１〜２０μm、特に１〜１５μmとするこ
とが好ましい。
【００２１】防眩膜は、表示装置の表面形成材などの付
設対象面に防眩処理剤を直接塗工して形成することもで
きるし、図１に例示した如く、透明基材２の片面又は両
面に防眩膜１を形成し、その防眩膜付設の透明基材を付
設対象面に適用して設けることもできる。なお図中の１
１は微粒子である。
設対象面に防眩処理剤を直接塗工して形成することもで
きるし、図１に例示した如く、透明基材２の片面又は両
面に防眩膜１を形成し、その防眩膜付設の透明基材を付
設対象面に適用して設けることもできる。なお図中の１
１は微粒子である。
【００２２】前記の透明基材としては、例えばガラス、
ポリエステルやトリアセテート等のプラスチックからな
るフィルムないしシート、あるいは板などの適宜なもの
を用いうる。また偏光板や位相差板等の光学機能素材な
ども用いうる。防眩効果等の点より好ましく用いうる透
明基材は、表面平滑度が±１０μm以内の平滑性に優れ
るものである。
ポリエステルやトリアセテート等のプラスチックからな
るフィルムないしシート、あるいは板などの適宜なもの
を用いうる。また偏光板や位相差板等の光学機能素材な
ども用いうる。防眩効果等の点より好ましく用いうる透
明基材は、表面平滑度が±１０μm以内の平滑性に優れ
るものである。
【００２３】なお前記した防眩膜付設の透明基材には、
図例の如く必要に応じて粘着層３を設けることもでき
る。粘着層は、防眩膜付設の透明基材を付設対象面に接
着固定するためのものであり、その付設は、適宜な塗工
機を用いて粘着剤を塗工する方式や、セパレータ上に設
けた粘着層を移着する方式などの粘着テープ等の形成方
法に準じた適宜な方式で行うことができる。
図例の如く必要に応じて粘着層３を設けることもでき
る。粘着層は、防眩膜付設の透明基材を付設対象面に接
着固定するためのものであり、その付設は、適宜な塗工
機を用いて粘着剤を塗工する方式や、セパレータ上に設
けた粘着層を移着する方式などの粘着テープ等の形成方
法に準じた適宜な方式で行うことができる。
【００２４】付設する粘着層の厚さは、使用目的に応じ
て決定でき一般には１〜１００μmとされる。用いる粘
着剤は、例えばアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリ
コーン系粘着剤など接着対象に応じて適宜に決定してよ
く、透明性や耐候性等に優れるものが好ましい。なお粘
着層は、図例の如く実用に供するまでの間、セパレータ
４などを仮着して保護することが好ましい。
て決定でき一般には１〜１００μmとされる。用いる粘
着剤は、例えばアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリ
コーン系粘着剤など接着対象に応じて適宜に決定してよ
く、透明性や耐候性等に優れるものが好ましい。なお粘
着層は、図例の如く実用に供するまでの間、セパレータ
４などを仮着して保護することが好ましい。
【００２５】本発明の防眩膜は、偏光板等の光学機能素
材や液晶表示装置等のディスプレイ装置などの種々の物
品に好ましく適用することができる。
材や液晶表示装置等のディスプレイ装置などの種々の物
品に好ましく適用することができる。
【００２６】
実施例１ ポリエステルアクリレート９０部（重量部、以下同じ）
に、ポリウレタンアクリレート１０部を混合した紫外線
硬化型樹脂１００部と、平均粒径１．５μmのシリカ１
０部と、有機粘土３部と、アセトフェノン系重合開始剤
５部をトルエン１２５部を介して混合し、シリカが分散
し、他成分が溶解した分散液からなる防眩処理剤を得
た。
に、ポリウレタンアクリレート１０部を混合した紫外線
硬化型樹脂１００部と、平均粒径１．５μmのシリカ１
０部と、有機粘土３部と、アセトフェノン系重合開始剤
５部をトルエン１２５部を介して混合し、シリカが分散
し、他成分が溶解した分散液からなる防眩処理剤を得
た。
【００２７】次に前記の防眩処理剤を厚さ５０μm、表
面平滑度±７μmのトリアセテートフィルムの表面にグ
ラビア塗工機を介して厚さ１０μmに薄膜展開し、８０
℃で２秒間脱溶剤処理したのち紫外線を照射して硬化処
理し、防眩膜を得た。
面平滑度±７μmのトリアセテートフィルムの表面にグ
ラビア塗工機を介して厚さ１０μmに薄膜展開し、８０
℃で２秒間脱溶剤処理したのち紫外線を照射して硬化処
理し、防眩膜を得た。
【００２８】比較例１ 有機粘土を無添加としたほかは、実施例１に準じて防眩
処理剤及び防眩膜を得た。
処理剤及び防眩膜を得た。
【００２９】比較例２ 薄膜展開の厚さを５μmとしたほかは、比較例１に準じ
て防眩処理剤及び防眩膜を得た。
て防眩処理剤及び防眩膜を得た。
【００３０】評価試験 粘度 実施例、比較例で得た防眩処理剤の粘度（室温）を、Ｂ
型粘度計を用いて６ｒｐｍ又は６０ｒｐｍの条件で測定
した。
型粘度計を用いて６ｒｐｍ又は６０ｒｐｍの条件で測定
した。
【００３１】塗工性 実施例、比較例で得た防眩処理剤をグラビア塗工機にて
厚さ１０μm、又は５μmに薄膜展開する際の塗工性を調
べた。
厚さ１０μm、又は５μmに薄膜展開する際の塗工性を調
べた。
【００３２】外観 前記の薄膜展開層の表面外観を目視観察し、塗工ムラを
調べた。
調べた。
【００３３】沈降速度 実施例、比較例で得た防眩処理剤を撹拌後１０秒間静置
し、シリカの沈降速度を調べた。
し、シリカの沈降速度を調べた。
【００３４】ヘイズ値 実施例、比較例で得た防眩膜付設のトリアセテートフィ
ルムのヘイズ値を調べた。
ルムのヘイズ値を調べた。
【００３５】前記の結果を次表に示した。
【００３６】表より、実施例では塗工性に優れ、ヘイズ
値のバラツキが少なくて厚膜塗工の場合にも高いヘイズ
値が達成されていることがわかる。
値のバラツキが少なくて厚膜塗工の場合にも高いヘイズ
値が達成されていることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【図１】防眩膜の実施例の断面図
１：防眩膜（１１：微粒子） ２：透明基材 ３：粘着
層 ４：セパレータ
層 ４：セパレータ
Claims (4)
- 【請求項１】 溶剤に、少なくとも放射線硬化型樹脂を
溶解させると共に、平均粒径１０μm以下の微粒子を分
散させてなる分散液に、チキソトロピー化剤を配合した
ことを特徴とする防眩処理剤。 - 【請求項２】 請求項１に記載の防眩処理剤よりなる薄
膜展開層の硬化処理層からなることを特徴とする防眩
膜。 - 【請求項３】 請求項２において、表面平滑度が±１０
μm以内の透明基材上に支持されて、厚さが３０μm以下
の防眩膜。 - 【請求項４】 請求項１に記載の防眩処理剤を薄膜展開
し、その展開層を速やかに脱溶剤処理したのち放射線を
照射して硬化処理することを特徴とする防眩膜の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9041672A JPH10219136A (ja) | 1997-02-10 | 1997-02-10 | 防眩処理剤、防眩膜及びその製造方法 |
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| JP9041672A JPH10219136A (ja) | 1997-02-10 | 1997-02-10 | 防眩処理剤、防眩膜及びその製造方法 |
Publications (1)
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| JPH10219136A true JPH10219136A (ja) | 1998-08-18 |
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| JP9041672A Pending JPH10219136A (ja) | 1997-02-10 | 1997-02-10 | 防眩処理剤、防眩膜及びその製造方法 |
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1997
- 1997-02-10 JP JP9041672A patent/JPH10219136A/ja active Pending
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