JPH10218885A - Production of hydrocarbyloxysilicon compound - Google Patents

Production of hydrocarbyloxysilicon compound

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JPH10218885A
JPH10218885A JP2349197A JP2349197A JPH10218885A JP H10218885 A JPH10218885 A JP H10218885A JP 2349197 A JP2349197 A JP 2349197A JP 2349197 A JP2349197 A JP 2349197A JP H10218885 A JPH10218885 A JP H10218885A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
hydroxyl group
hydrocarbyloxysilicon
alcohol
reaction
Prior art date
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Pending
Application number
JP2349197A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Makoto Matsumoto
誠 松本
Nobuhito Murakami
信仁 村上
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Momentive Performance Materials Japan LLC
Original Assignee
Toshiba Silicone Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP2349197A priority Critical patent/JPH10218885A/en
Publication of JPH10218885A publication Critical patent/JPH10218885A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an efficient production process for a hydrocarbyloxysilicon compound of high quality in high yield. SOLUTION: An alcoholic or phenolic hydroxyl group-bearing compound is allowed to react with a halogenated silicon compound, the product is subjected to dehydrohalogenation, a silylating agent bearing Si-N bond(s) is allowed to react with the product to complete the dehydrohalogenation as well as to silylate the remaining hydroxyl-bearing compound.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハロゲン化ケイ素
化合物と水酸基含有有機化合物との脱ハロゲン化水素反
応による、ケイ素原子に結合したヒドロカルビルオキシ
基を有する化合物の製造方法に関し、さらに詳しくは、
ハロゲン化ケイ素化合物にアルコール性またはフェノー
ル性の水酸基を含有する化合物を反応させて、脱ハロゲ
ン化水素させた後、Si−N結合を有するシリル化剤を
反応させて、脱ハロゲン化水素を完結させるとともに、
残存する水酸基含有有機化合物をシリル化することを特
徴とする、アルコキシシラン化合物、フェノキシシラン
化合物のようなヒドロカルビルオキシケイ素化合物の製
造方法に関する。
The present invention relates to a method for producing a compound having a hydrocarbyloxy group bonded to a silicon atom by a dehydrohalogenation reaction between a silicon halide compound and a hydroxyl group-containing organic compound.
After reacting a silicon halide compound with a compound containing an alcoholic or phenolic hydroxyl group and dehydrohalogenating, reacting with a silylating agent having a Si-N bond to complete the dehydrohalogenation With
The present invention relates to a method for producing a hydrocarbyloxysilicon compound such as an alkoxysilane compound or a phenoxysilane compound, which comprises silylating a remaining hydroxyl-containing organic compound.

【0002】[0002]

【従来の技術】ハロゲン化ケイ素化合物をヒドロカルビ
ルオキシ化する方法は、広く知られている。操作の容易
さおよび原料コストの低さから、アルコール類、フェノ
ール類などの水酸基を含有する化合物を使用する方法が
一般的である。この反応は平衡反応であるため、副生す
るハロゲン化水素をいかに反応系外へ除去するかが、反
応の律速となっている。特に、目的物であるヒドロカル
ビルオキシケイ素化合物が酸性水溶液中で不安定で、加
水分解反応や縮合反応を起こしやすい場合には、該ハロ
ゲン化水素の除去は重要である。このハロゲン化水素の
除去の効率を改善するために、(1)大量の不活性ガス
を反応系内に吹込む方法、(2)反応系内にハロゲン化
水素の補足剤として塩基を添加する方法(特開昭52−
116425号公報および特開昭53−135935号
公報参照)、(3)低沸点溶媒とともに還流する方法
(特開昭63−310893号公報参照)、(4)反応
系内を減圧にする方法などが採用されている。そして、
これらの方法の場合、反応を完結させるために水酸基含
有化合物を過剰に使用するのが一般的である。
2. Description of the Related Art Methods for hydrocarbyloxylation of silicon halide compounds are widely known. A method using a compound containing a hydroxyl group such as alcohols and phenols is generally used because of easiness of operation and low raw material cost. Since this reaction is an equilibrium reaction, how to remove by-product hydrogen halide to the outside of the reaction system is the rate-determining reaction. In particular, when the target hydrocarbyloxysilicon compound is unstable in an acidic aqueous solution and easily undergoes a hydrolysis reaction or a condensation reaction, the removal of the hydrogen halide is important. In order to improve the efficiency of the removal of hydrogen halide, (1) a method of blowing a large amount of inert gas into the reaction system, and (2) a method of adding a base as a hydrogen halide scavenger in the reaction system. (Japanese Patent Laid-Open No. 52-
No. 116425 and JP-A-53-135935), (3) a method of refluxing with a low boiling point solvent (see JP-A-63-310893), and (4) a method of reducing the pressure in the reaction system. Has been adopted. And
In these methods, an excess of a hydroxyl group-containing compound is generally used to complete the reaction.

【0003】しかしながら、特にフェノール性の水酸基
含有化合物を用いた場合、これらは一般に常温で固体で
あるため、反応後、目的物を蒸留によって精製する際
に、コンデンサー中で固化してコンデンサーを詰まらせ
たり、目的物の留出の際にコンデンサーに固着したフェ
ノール類が溶出して目的物を汚損するなどの問題があっ
た。
[0003] However, particularly when phenolic hydroxyl group-containing compounds are used, they are generally solid at room temperature. Therefore, when the target product is purified by distillation after the reaction, it solidifies in the condenser and clogs the condenser. In addition, phenols adhered to the condenser are eluted during distillation of the target product, and the target product is contaminated.

【0004】また、反応後、液体クロマトグラフィーに
より目的物と原料化合物を分離して精製する際に、水酸
基含有化合物は極性が高いため、吸着剤(充填剤)に対
する吸着親和力が高く、溶離剤や展開溶剤の選定が困難
であったり、さらに水酸基含有化合物自体が吸着され
て、完全には回収できないといった問題があった。
[0004] Further, when the target compound and the starting compound are separated and purified by liquid chromatography after the reaction, the hydroxyl group-containing compound has a high polarity, and therefore has a high adsorption affinity for the adsorbent (filler), and the eluent and the like. There are problems that it is difficult to select a developing solvent and that the hydroxyl group-containing compound itself is adsorbed and cannot be completely recovered.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の従来
技術の有する問題点を解決するためになされたもので、
ヒドロカルビルオキシケイ素化合物を効率よく、純度よ
く、しかも収率よく製造する方法を提供することを目的
とする。なお、ここでヒドロカルビルオキシケイ素化合
物とは、ケイ素原子に結合した、置換もしくは非置換の
アルコキシ基またはフェノキシ基のようなヒドロカルビ
ルオキシ基を有する化合物をいう。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art.
An object of the present invention is to provide a method for producing a hydrocarbyloxysilicon compound efficiently, with high purity, and with high yield. Here, the hydrocarbyloxysilicon compound means a compound having a hydrocarbyloxy group such as a substituted or unsubstituted alkoxy group or a phenoxy group bonded to a silicon atom.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、ハロゲン
化ケイ素化合物と、アルコール性またはフェノール性の
水酸基を含有する化合物との脱ハロゲン化水素反応によ
る、ヒドロカルビルオキシケイ素化合物の製造方法を種
々検討した結果、Si−N結合を含有するシリル化剤が
ハロゲン化水素を捕捉して、脱ハロゲン化水素反応を完
結させること、および残存する上記の水酸基含有化合物
が、同じシリル化剤によりシリル化されて、凝固点の上
昇や極性の低下が起こり、蒸留精製の際のコンデンサー
中における固化が抑制され、また液体クロマトグラフィ
ーにおける吸着親和力が低下して、分離性が改善される
ことに着目し、検討を進めた結果、本発明を完成するに
至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have proposed various processes for producing hydrocarbyloxysilicon compounds by a dehydrohalogenation reaction of a silicon halide compound with a compound having an alcoholic or phenolic hydroxyl group. As a result of the examination, it was found that the silylating agent containing a Si—N bond captures the hydrogen halide to complete the dehydrohalogenation reaction, and that the remaining hydroxyl group-containing compound is silylated by the same silylating agent. Investigating, focusing on the fact that the freezing point increases and the polarity decreases, solidification in the condenser during distillation purification is suppressed, and the adsorption affinity in liquid chromatography decreases, improving the separability. As a result, the present invention has been completed.

【0007】すなわち、本発明のヒドロカルビルオキシ
ケイ素化合物の製造方法は、Si−X結合(式中、Xは
塩素、臭素またはヨウ素を表す)を有するハロゲン化ケ
イ素化合物に、アルコール性またはフェノール性の水酸
基を含有する化合物を反応させて、脱ハロゲン化水素さ
せた後、Si−N結合を有するシリル化剤を反応させ
て、脱ハロゲン化水素を完結させるとともに、残存する
該水酸基含有化合物をシリル化することを特徴とする。
That is, the method for producing a hydrocarbyloxysilicon compound of the present invention comprises the steps of: adding an alcoholic or phenolic hydroxyl group to a silicon halide compound having a Si—X bond (X represents chlorine, bromine or iodine); Is reacted and dehydrohalogenated, and then reacted with a silylating agent having a Si—N bond to complete the dehydrohalogenation and silylate the remaining hydroxyl-containing compound. It is characterized by the following.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明で使用されるハロゲン化ケ
イ素化合物としては、分子中にSi−X結合(式中、X
は前述のとおり)を有するものであれば特に限定されな
いが、たとえば、次の化合物を挙げることができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As the silicon halide compound used in the present invention, a Si—X bond (where X is
Is not particularly limited as long as it has the above-mentioned), and examples thereof include the following compounds.

【0009】(1)一般式: R1 aSiX4-a (式中、Xは前述のとおり;R1 はたがいに同一でも異
なっていてもよい、水素原子または脂肪族不飽和結合を
含まない置換もしくは非置換の炭素数1〜30、好まし
くは炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表し;aは0〜
3の整数である)で示されるハロシラン化合物;具体例
としては、トリメチルクロロシラン、トリエチルクロロ
シラン、トリメチルブロモシラン、トリイソプロピルク
ロロシラン、トリ−n−ブチルクロロシラン、トリフェ
ニルクロロシラン、クロロメチルジメチルクロロシラ
ン、3−ブロモプロピルジメチルクロロシラン、3−メ
ルカプトプロピルジメチルクロロシランなどのトリオル
ガノハロシラン;ジメチルジクロロシラン、ジエチルジ
クロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、メチルフェ
ニルジクロロシラン、ジメチルジブロモシランなどのジ
オルガノジハロシラン;メチルトリクロロシラン、エチ
ルトリクロロシラン、tert−ブチルトリブロモシラン、
クロロメチルトリクロロシラン、3−ブロモプロピルト
リブロモシランなどのオルガノトリハロシラン;トリク
ロロシラン、メチルジクロロシラン、ジメチルクロロシ
ランなどの、分子中にSi−H結合するハロシラン;な
らびにテトラクロロシラン、テトラヨードシランなどの
テトラハロシランが挙げられる。
(1) General formula: R 1 a SiX 4-a (wherein X is as described above; R 1 may be the same or different and does not contain a hydrogen atom or an aliphatic unsaturated bond) A represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms;
Halosilane compound represented by the formula: trimethylchlorosilane, triethylchlorosilane, trimethylbromosilane, triisopropylchlorosilane, tri-n-butylchlorosilane, triphenylchlorosilane, chloromethyldimethylchlorosilane, 3-bromo Triorganohalosilanes such as propyldimethylchlorosilane and 3-mercaptopropyldimethylchlorosilane; diorganodihalosilanes such as dimethyldichlorosilane, diethyldichlorosilane, diphenyldichlorosilane, methylphenyldichlorosilane and dimethyldibromosilane; methyltrichlorosilane and ethyl Trichlorosilane, tert-butyltribromosilane,
Organotrihalosilanes such as chloromethyltrichlorosilane and 3-bromopropyltribromosilane; halosilanes having a Si—H bond in a molecule such as trichlorosilane, methyldichlorosilane and dimethylchlorosilane; and tetrahalosilanes such as tetrachlorosilane and tetraiodosilane Halosilanes.

【0010】(2)一般式: R2 bc SiX4-b-c (式中、Xは前述のとおり;R2 はたがいに同一でも異
なっていてもよい、水素原子または脂肪族不飽和結合を
含まない置換もしくは非置換の炭素数1〜30、好まし
くは炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表し;Yはエチ
レン性不飽和基を含む基を表し;aは0〜2の整数、c
は1〜3の整数、ただしb+cは1〜3の整数である)
で示される不飽和ハロシラン化合物;具体例としては、
ジメチルビニルクロロシラン、アリルジメチルクロロシ
ラン、5−ヘキセニルジメチルブロモシランなどのトリ
オルガノハロシラン;メチルビニルジクロロシラン、ア
リルフェニルジクロロシラン、(4−エテニルフェニ
ル)メチルジクロロシラン、3−アクリロキシプロピル
メチルジクロロシランなどのジオルガノジハロシラン;
ならびにビニルトリクロロシラン、2−(4−エテニル
フェニル)エチルトリクロロシラン、3−メタクリロキ
シプロピルトリクロロシランなどのオルガノトリハロシ
ランが挙げられる。
(2) General formula: R 2 b Y c SiX 4-bc (wherein X is as described above; R 2 is a hydrogen atom or an aliphatic unsaturated bond which may be the same or different. Represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms; Y represents a group containing an ethylenically unsaturated group; a represents an integer of 0 to 2; , C
Is an integer of 1 to 3, provided that b + c is an integer of 1 to 3)
An unsaturated halosilane compound represented by the following;
Triorganohalosilanes such as dimethylvinylchlorosilane, allyldimethylchlorosilane, and 5-hexenyldimethylbromosilane; methylvinyldichlorosilane, allylphenyldichlorosilane, (4-ethenylphenyl) methyldichlorosilane, and 3-acryloxypropylmethyldichlorosilane Diorganodihalosilanes such as;
And organotrihalosilanes such as vinyltrichlorosilane, 2- (4-ethenylphenyl) ethyltrichlorosilane, and 3-methacryloxypropyltrichlorosilane.

【0011】(3)一般式: R3 d3-d Si〔OR4 Si〕n OSiR5 d3-e (式中、Xは前述のとおり;R3 、R4 およびR5 は、
それぞれ、たがいに同一でも異なっていてもよい、水素
原子または置換もしくは非置換の炭素数1〜30、好ま
しくは炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表し;dおよ
びeはそれぞれ0〜2の整数、nは0〜2の整数であ
る)で示される直鎖状ハロシロキサン化合物;具体例と
しては、1,3−ジクロロ−1,1,3,3−テトラメ
チルジシロキサン、1,3−ジクロロ−1,3−ジメチ
ル−1,3−ジフェニルジシロキサン、1,3−ジクロ
ロ−1,3−ジメチル−1,3−ジビニルジシロキサ
ン、1,3−ジクロロ−1,3−ジメチルジシロキサ
ン、1,3−ジブロモ−1,1,3,3−テトラメチル
ジシロキサン、1,3−ジブロモ−1,3−ジメチルジ
シロキサン、1,1,3−トリクロロ−1,3,3−ト
リメチルジシロキサン、1,1,3,3−テトラクロロ
−1,3−ジメチルジシロキサン、1,1,3,3−テ
トラクロロ−1,3−ジフェニルジシロキサンなどのオ
ルガノハロジシロキサン;1,5−ジクロロ−1,1,
3,3,5,5−ヘキサメチルトリシロキサンなどのオ
ルガノハロトリシロキサン;ならびに1,7−ジクロロ
−1,1,3,3,5,5,7,7−オクタメチルテト
ラシロキサンなどのオルガノハロテトラシロキサンが挙
げられる。
(3) General formula: R 3 d X 3-d Si [OR 4 Si] n OSiR 5 d X 3-e (where X is as described above; R 3 , R 4 and R 5 are
Each represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, which may be the same or different; An integer of 2 and n is an integer of 0 to 2); specific examples thereof include 1,3-dichloro-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 3-dichloro-1,3-dimethyl-1,3-diphenyldisiloxane, 1,3-dichloro-1,3-dimethyl-1,3-divinyldisiloxane, 1,3-dichloro-1,3-dimethyldisiloxane Siloxane, 1,3-dibromo-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3-dibromo-1,3-dimethyldisiloxane, 1,1,3-trichloro-1,3,3-trimethyl Disiloxane, 1,1,3,3-tetrachloro-1,3-dimethyldisiloxane, 1,1,3,3-tetrachloro-1,3-diphenyldisiloxane and other organohalodisiloxanes; 1,5-dichloro-1 , 1,
Organohalotrisiloxanes such as 3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane; and organohalotrisiloxanes such as 1,7-dichloro-1,1,3,3,5,5,7,7-octamethyltetrasiloxane Tetrasiloxane may be mentioned.

【0012】(4)一般式: R5 f3-f SiSiR6 q3-g (式中、Xは前述のとおり;R5 およびR6 は、それぞ
れ、たがいに同一でも異なっていてもよい、水素原子ま
たは置換もしくは非置換の炭素数1〜30、好ましくは
炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表し;fおよびgは
それぞれ0〜2の整数である)で示されるジシラン化合
物;具体例としては、1,2−ジクロロ−1,1,2,
2−テトラメチルジシラン、1,1−ジクロロ−1,
2,2−トリメチル−2−フェニルジシラン、1,1,
2−トリクロロ−1,2,2−トリメチルジシラン、
1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフェニルジ
シラン、1,1,2−トリブロモ−1,2,2−トリメ
チルジシラン、1,1,2,2−テトラクロロ−1,2
−ジメチルジシラン、1,1,2,2−テトラクロロ−
1,2−ジフェニルジシラン、1,1,2,2−テトラ
ブロモ−1,2−ジメチルジシランなどが挙げられる。
[0012] (4) General formula: R 5 f X 3-f SiSiR 6 q X 3-g ( wherein, X is as above; R 5 and R 6 are each, even the same as or different from each other A divalent silane represented by a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 30, preferably 1 to 6 carbon atoms; f and g are each an integer of 0 to 2) Compound; Specific examples are 1,2-dichloro-1,1,2,2
2-tetramethyldisilane, 1,1-dichloro-1,
2,2-trimethyl-2-phenyldisilane, 1,1,
2-trichloro-1,2,2-trimethyldisilane,
1,1,2-trichloro-1,2,2-triphenyldisilane, 1,1,2-tribromo-1,2,2-trimethyldisilane, 1,1,2,2-tetrachloro-1,2
-Dimethyldisilane, 1,1,2,2-tetrachloro-
Examples thereof include 1,2-diphenyldisilane and 1,1,2,2-tetrabromo-1,2-dimethyldisilane.

【0013】(5)一般式: R7 h3-h SiQSiR8 i3-i (式中、Xは前述のとおり;R7 およびR8 は、それぞ
れ、たがいに同一でも異なっていてもよい、水素原子ま
たは置換もしくは非置換の炭素数1〜30、好ましくは
炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表し;Qは炭素数1
〜30、好ましくは炭素数1〜10の置換または非置換
の2価の炭化水素基を表し;hおよびiはそれぞれ0〜
2の整数である)で示されるハロシルカルバン化合物;
具体例としては、1,1−ビス(ジメチルクロロシリ
ル)メタン、1,2−ビス(ジエチルブロモシリル)エ
タン、1,3−ビス(メチルジクロロ)プロパン、1,
4−ビス(メチルジクロロシリル)ベンゼン、1,5−
ビス(トリクロロシリル)ヘキサン、1,6−ビス(ト
リクロロシリル)ヘキサン、1,4−ビス〔2−(トリ
クロロシリル)エチル〕ベンゼンなどが挙げられる。
[0013] (5) the general formula: R 7 h X 3-h SiQSiR 8 i X 3-i ( wherein, X is as described above; R 7 and R 8 are, respectively, be the same with or different from each other Q represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms;
Represents a substituted or unsubstituted divalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms;
A halosylcarban compound represented by the formula:
Specific examples include 1,1-bis (dimethylchlorosilyl) methane, 1,2-bis (diethylbromosilyl) ethane, 1,3-bis (methyldichloro) propane,
4-bis (methyldichlorosilyl) benzene, 1,5-
Bis (trichlorosilyl) hexane, 1,6-bis (trichlorosilyl) hexane, 1,4-bis [2- (trichlorosilyl) ethyl] benzene and the like can be mentioned.

【0014】本発明で使用されるアルコール性またはフ
ェノール性水酸基を含有する化合物としては、たとえ
ば、次のものを挙げることができる。
Examples of the compound containing an alcoholic or phenolic hydroxyl group used in the present invention include the following.

【0015】すなわち、脂肪族水酸基含有化合物として
は、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルア
ルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコ
ール、イソブチルアルコール、 sec−ブチルアルコー
ル、tert−ブチルアルコール、n−ペンチルアルコー
ル、イソペンチルアルコール、n−ヘキシルアルコー
ル、4−メチル−2−ペンタノール、n−ヘプチルアル
コール、n−オクチルアルコール、2−エチルヘキシル
アルコール、n−デシルアルコール、イソデシルアルコ
ール、1−ドデシルアルコール、1−テトラデシルアル
コール、1−ヘキサデシルアルコール、1−オクタデシ
ルアルコールなどの直鎖状または分岐状の脂肪族飽和炭
化水素基を有するアルコール;シクロヘキサノール、メ
チルシクロヘキサノール、シクロドデシルアルコール、
テトラヒドロフルフリルアルコール、フルフリルアルコ
ールなどの脂環式1価アルコール;2−メトキシエタノ
ール、2−エトキシエタノール、2−ブトキシエタノー
ル、3−メトキシ−1−ブタノール、3−メチル−3−
メトキシ−1−ブタノールなどのエーテルアルコール;
エチレンクロロヒドリン、エピクロロヒドリン、2−
(2−クロロエトキシ)エタノール、3−クロロ−1−
プロパノールなどの置換炭化水素基を有するアルコー
ル;アリルアルコール、3−メチル−1−ブチン−3−
オールなどの脂肪族不飽和炭化水素基を有するアルコー
ル;ならびにエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオー
ル、グリセリン、トリメチロールプロパンなどの多価ア
ルコールが挙げられる。
That is, as the aliphatic hydroxyl group-containing compound, methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, sec-butyl alcohol, tert-butyl alcohol, n-pentyl alcohol, isopentyl Alcohol, n-hexyl alcohol, 4-methyl-2-pentanol, n-heptyl alcohol, n-octyl alcohol, 2-ethylhexyl alcohol, n-decyl alcohol, isodecyl alcohol, 1-dodecyl alcohol, 1-tetradecyl alcohol Alcohols having a linear or branched aliphatic saturated hydrocarbon group, such as, 1-hexadecyl alcohol and 1-octadecyl alcohol; cyclohexanol, methylcyclohexanol, Black dodecyl alcohol,
Alicyclic monohydric alcohols such as tetrahydrofurfuryl alcohol and furfuryl alcohol; 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol, 3-methoxy-1-butanol, 3-methyl-3-
Ether alcohols such as methoxy-1-butanol;
Ethylene chlorohydrin, epichlorohydrin, 2-
(2-chloroethoxy) ethanol, 3-chloro-1-
Alcohol having a substituted hydrocarbon group such as propanol; allyl alcohol, 3-methyl-1-butyne-3-
Alcohols having an aliphatic unsaturated hydrocarbon group such as all; and polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, glycerin, and trimethylolpropane.

【0016】芳香族水酸基含有化合物としては、2−フ
ェニルエチルアルコール、2−フェノキシエタノール、
2,2−ジフェニルエチルアルコール、2−(α−ナフ
チル)エチルアルコールなどの芳香環含有アルコール;
ならびにフェノール、o−メチルフェノール、p−メチ
ルフェノール、キシレノール、2,4,6−トリメチル
フェノール、o−エチルフェノール、p−tert−ブチル
フェノール、2,6−ジ−tert−ブチルフェノール、p
−オクチルフェノール、3,5−ジメチルフェノール、
o−メトキシフェノール、o−エトキシフェノール、4
−(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノール、
2,4−ジ−tert−ブチルフェノール、2,6−ジ−te
rt−ブチルフェノール、o−フェニルフェノール、p−
フェニルフェノール、4−フェノキシフェノール、トリ
ベンジルフェノール、2−ヒドロキシジベンゾフラン、
α−ナフトール、β−ナフトールなどの1価フェノール
類;カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン、4,4′
−メチレンジフェノールなどの多価フェノール類が挙げ
られる。
As the aromatic hydroxyl group-containing compound, 2-phenylethyl alcohol, 2-phenoxyethanol,
Aromatic ring-containing alcohols such as 2,2-diphenylethyl alcohol and 2- (α-naphthyl) ethyl alcohol;
And phenol, o-methylphenol, p-methylphenol, xylenol, 2,4,6-trimethylphenol, o-ethylphenol, p-tert-butylphenol, 2,6-di-tert-butylphenol, p
-Octylphenol, 3,5-dimethylphenol,
o-methoxyphenol, o-ethoxyphenol, 4
-(1-methyl-1-phenylethyl) phenol,
2,4-di-tert-butylphenol, 2,6-di-te
rt-butylphenol, o-phenylphenol, p-
Phenylphenol, 4-phenoxyphenol, tribenzylphenol, 2-hydroxydibenzofuran,
monohydric phenols such as α-naphthol and β-naphthol; catechol, resorcin, hydroquinone, 4,4 ′
-Polyhydric phenols such as methylene diphenol.

【0017】これらの水酸基含有化合物のうち、本発明
の特徴である精製工程における該水酸基含有化合物の固
着を防止する効果から、常温で固体である水酸基含有有
機化合物、たとえばフェノール類や高級アルコールによ
るハロゲン化ケイ素化合物のヒドロカルビルオキシ化
に、本発明の製造方法を適用することが、特に有効であ
るが、本発明はこれに限定されず、ヒドロカルビルオキ
シケイ素化合物一般の収率向上に用いることができる。
Among these hydroxyl group-containing compounds, from the effect of preventing the adhesion of the hydroxyl group-containing compound in the purification step, which is a feature of the present invention, a hydroxyl group-containing organic compound which is solid at room temperature, such as phenols or higher alcohols. It is particularly effective to apply the production method of the present invention to hydrocarbyloxylation of a silicon halide compound, but the present invention is not limited to this, and the present invention can be used to improve the yield of hydrocarbyloxysilicon compounds in general.

【0018】本発明で使用されるSi−N結合を有する
シリル化剤は、系内に残存する水酸基含有化合物の水酸
基をトリオルガノまたはジオルガノシリル化するととも
に、該シリル化反応によって系内に塩基性副生物を発生
する。このようなシリル化剤としては、具体的には、
N,O−ビス(トリメチルシリル)カルバマート、N,
N−ジメチルアミノトリメチルシラン、N,N−ジエチ
ルアミノトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラザン、
ヘキサエチルジシラザン、テトラメチルジシラザン、N
−トリメチルシリルイミダゾールなどを挙げることがで
きる。これらのうち、入手および取扱が容易で、副生す
るアンモニアの除去もまた容易なことから、ヘキサメチ
ルジシラザンが最も好ましい。
The silylating agent having a Si--N bond used in the present invention converts the hydroxyl group of the hydroxyl group-containing compound remaining in the system into a triorgano or diorganosilylation compound, and at the same time, reacts the basic compound into the system by the silylation reaction. Generates by-products. As such a silylating agent, specifically,
N, O-bis (trimethylsilyl) carbamate, N,
N-dimethylaminotrimethylsilane, N, N-diethylaminotrimethylsilane, hexamethyldisilazane,
Hexaethyldisilazane, tetramethyldisilazane, N
-Trimethylsilyl imidazole and the like. Of these, hexamethyldisilazane is most preferred because it is easy to obtain and handle and it is easy to remove by-product ammonia.

【0019】本発明のヒドロカルビルオキシケイ素化合
物の製造方法は、代表的には次のようにして実施され
る。すなわち、まず、アルコール性またはフェノール性
の水酸基を含有する化合物を、融点以上に加熱して融解
し、該水酸基含有化合物の水酸基1モルに対して0.8
〜1.2モルの反応性ハロゲン原子を与える量のハロゲ
ン化ケイ素化合物を滴下する。ここで、加熱温度は該水
酸基含有化合物を融解し、なおかつ滴下するハロゲン化
ケイ素化合物が容易に留出しない程度の温度がよく、用
いられる上記の両化合物の種類によっても異なるが、通
常30〜200℃であり、50〜150℃が好ましい。
The method for producing a hydrocarbyloxysilicon compound of the present invention is typically carried out as follows. That is, first, a compound containing an alcoholic or phenolic hydroxyl group is melted by heating to a temperature equal to or higher than the melting point, and 0.8 mol / mol of the hydroxyl group-containing compound is added.
An amount of the silicon halide compound that gives ~ 1.2 mol of reactive halogen atoms is added dropwise. Here, the heating temperature is preferably a temperature at which the hydroxyl group-containing compound is melted and the silicon halide compound to be dropped is not easily distilled off. The heating temperature varies depending on the type of the two compounds used, but usually 30 to 200. ° C, preferably 50 to 150 ° C.

【0020】ハロゲン化ケイ素化合物を滴下した後、脱
ハロゲン化水素反応を促進させるために、さらに継続し
て加熱を行うことが好ましい。また、本工程におけるハ
ロゲン化水素の留出を促進させるために、ハロゲン化ケ
イ素化合物が留出しない程度に、不活性ガスを反応系内
に吹込んだり、減圧状態にするなどの方法で、脱ハロゲ
ン化水素を行ってもよい。なお、次工程でのSi−N結
合を含有するシリル化剤の添加量をより少なくするた
め、系内におけるハロゲン化水素の残存量が0〜10,
000ppm 、より好ましくは0〜2,000ppm になる
まで加熱を継続することが好ましい。
After the dropwise addition of the silicon halide compound, it is preferable to continue heating to promote the dehydrohalogenation reaction. In order to promote the distillation of hydrogen halide in this step, degassing is performed by blowing an inert gas into the reaction system or reducing the pressure to such an extent that the silicon halide compound does not distill. Hydrogen halide may be performed. In order to further reduce the amount of the silylating agent containing a Si—N bond in the next step, the remaining amount of the hydrogen halide in the system is 0 to 10,
The heating is preferably continued until the concentration reaches 000 ppm, more preferably 0 to 2,000 ppm.

【0021】次に、通常30〜200℃、好ましくは5
0〜150℃において、残存する水酸基を含有する化合
物の水酸基1モルに対して通常1.0〜5.0モル、好
ましくは1.0〜2.0モルのシリル基を与える量のS
i−N結合を含有するシリル化剤を加え、ハロゲン化水
素を捕捉して脱ハロゲン化水素反応を完結させるととも
に、残存する水酸基含有化合物の水酸基をシリル化す
る。
Next, the temperature is usually 30 to 200 ° C., preferably 5 to 200 ° C.
At 0 to 150 ° C., an amount of S that gives 1.0 to 5.0 mol, preferably 1.0 to 2.0 mol of silyl groups is usually added per 1 mol of hydroxyl groups of the remaining hydroxyl group-containing compound.
A silylating agent containing an iN bond is added to capture the hydrogen halide to complete the dehydrohalogenation reaction and silylate the hydroxyl group of the remaining hydroxyl group-containing compound.

【0022】なお、この工程において、脱ハロゲン化水
素反応を完結させるために、ハロゲン化水素の捕捉を目
的として、さらに他の塩基を添加してもよい。このよう
な塩基としては、たとえば、トリエチルアミン、ジイソ
プロピルアミン、トリ−n−オクチルアミン、アリルア
ミン、トリアリルアミン、エチレンジアミン、テトラメ
チルエチレンジアミン、トリエチレンジアミン、ピリジ
ン、α−ピコリン、2,4,6−トリメチルピリジン、
ピペリジン、2−メチルピペリジン、ピペラジン、ピラ
ジン、ピロリジン、1,8−ジアザビシクロ〔5,4,
0〕ウンデカ−7−エンなどが挙げられる。
In this step, in order to complete the dehydrohalogenation reaction, another base may be added for the purpose of capturing the hydrogen halide. Such bases include, for example, triethylamine, diisopropylamine, tri-n-octylamine, allylamine, triallylamine, ethylenediamine, tetramethylethylenediamine, triethylenediamine, pyridine, α-picoline, 2,4,6-trimethylpyridine,
Piperidine, 2-methylpiperidine, piperazine, pyrazine, pyrrolidine, 1,8-diazabicyclo [5,4,
0] undec-7-ene and the like.

【0023】さらに、本発明のヒドロカルビルオキシケ
イ素化合物の製造方法においては、全工程を通じて、あ
るいは脱ハロゲン化水素反応の際やろ過の際に、必要に
応じて溶媒を使用してもよい。このような溶媒として
は、原料や生成物に対して不活性な溶媒であれば特に限
定されないが、たとえば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、イソオクタン、デカン、ドデカンなどの
脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン、エチ
ルベンゼン、ナフサなどの芳香族炭化水素;トリフルオ
ロエチレン、ペルフルオロエチレン、四塩化炭素などの
ハロゲン化炭化水素;ジメチルエーテル、ジエチルエー
テル、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテルおよび
ポリエーテルなどが挙げられ、これらを単独で用いて
も、2個以上を併用してもよい。
Further, in the method for producing a hydrocarbyloxysilicon compound of the present invention, a solvent may be used as necessary throughout all the steps, or during the dehydrohalogenation reaction or the filtration. Such a solvent is not particularly limited as long as it is a solvent inert to the raw materials and products. For example, aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane, octane, isooctane, decane and dodecane; benzene, Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, ethylbenzene, and naphtha; halogenated hydrocarbons such as trifluoroethylene, perfluoroethylene, and carbon tetrachloride; ethers and polyethers such as dimethyl ether, diethyl ether, dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, and tetrahydrofuran And these may be used alone or in combination of two or more.

【0024】このようにして得られた、目的物であるヒ
ドロカルビルオキシケイ素化合物および上記の水酸基含
有化合物のシリル化物を含む反応混合物から、通常、塩
酸塩が析出する。これをろ別した後、蒸留および/また
は液体クロマトグラフィーにより、精製を行うことがで
きる。
The hydrochloride is usually precipitated from the reaction mixture containing the hydrocarbyloxysilicon compound as the target substance and the silylated product of the above-mentioned hydroxyl group-containing compound. After being filtered off, purification can be performed by distillation and / or liquid chromatography.

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明のヒドロカルビルオキシケイ素化
合物の製造方法によれば、ハロゲン化水素を捕捉して脱
ハロゲン化水素反応が完結するとともに、残存する水酸
基含有化合物のシリル化により、凝固点の上昇や極性の
低下が起こる。したがって、蒸留精製の際のコンデンサ
ー中での固化で抑制するとともに、液体クロマトグラフ
ィーによる吸着の親和力が低下することによる、分離性
の改善が可能となり、純度の高いヒドロカルビルオキシ
ケイ素化合物を収率よく製造できるという、格別な効果
を有する。さらに、目的物であるヒドロカルビルオキシ
ケイ素化合物が収率よく得られること、製造工程の操作
が非常に簡単で、効率よく行うことができるため、製造
コストが低減されること、および低価格の原料を使用で
きるという利点もある。
According to the method for producing a hydrocarbyloxysilicon compound of the present invention, the hydrogen halide is captured to complete the dehydrohalogenation reaction, and the remaining hydroxyl group-containing compound is silylated to increase the freezing point. Polarity loss occurs. Therefore, it can be suppressed by solidification in a condenser during distillation purification and the separation affinity can be improved by lowering the affinity of adsorption by liquid chromatography, so that a highly pure hydrocarbyloxysilicon compound can be produced in good yield. It has a special effect that it can be done. Furthermore, since the hydrocarbyloxysilicon compound as the target substance can be obtained in a high yield, the operation of the production process is very simple and can be performed efficiently, the production cost can be reduced, and low-cost raw materials can be used. There is also the advantage that it can be used.

【0026】本発明によって製造されるヒドロカルビル
オキシケイ素化合物は、各種シリコーン、ポリシランな
どの中間原料として用いられるほか、架橋剤、シランカ
ップリング剤、各種樹脂の改質剤、各種基材の表面処理
剤などとして有用である。
The hydrocarbyloxysilicon compound produced by the present invention is used as an intermediate material for various silicones and polysilanes, as well as a crosslinking agent, a silane coupling agent, a modifier for various resins, and a surface treatment agent for various substrates. It is useful as such.

【0027】[0027]

【実施例】以下、実施例および比較例によって、本発明
をさらに詳細に説明する。なお、これらの例中の部およ
び%は、重量部および重量%を示す。本発明は、これら
の実施例によって限定されるものではない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples and Comparative Examples. Parts and% in these examples indicate parts by weight and% by weight. The present invention is not limited by these examples.

【0028】実施例1 滴下漏斗、攪拌機および−20℃の冷媒が循環するジム
ロートコンデンサーを備えたフラスコに、あらかじめ5
0℃に加熱して融解したフェノール100部を仕込み、
60℃に加熱、攪拌しながらメチルトリクロロシラン5
3部(フェノール/メチルトリクロロシランのモル比=
1/3)を、5時間かけて滴下した。そしてさらに、6
0℃で2時間の加熱、攪拌を行った。この段階における
フラスコの内容物を、反応混合物Aとする。
Example 1 A flask equipped with a dropping funnel, a stirrer and a Dimroth condenser through which a refrigerant at -20 ° C. circulates was charged in advance with 5 mL.
Charge 100 parts of phenol melted by heating to 0 ° C.
Heat to 60 ° C and stir with methyltrichlorosilane 5
3 parts (molar ratio of phenol / methyltrichlorosilane =
1/3) was added dropwise over 5 hours. And furthermore, 6
Heating and stirring were performed at 0 ° C. for 2 hours. The contents of the flask at this stage are referred to as reaction mixture A.

【0029】ついで、フラスコを100℃に昇温して、
反応混合物Aに窒素ガスを通しながら、加熱、攪拌を1
2時間行った。この段階におけるフラスコの内容物を、
反応混合物Bとする。
Then, the temperature of the flask was raised to 100 ° C.
While passing nitrogen gas through the reaction mixture A, heat and stir for 1
Performed for 2 hours. At this stage, the contents of the flask are
Let it be reaction mixture B.

【0030】続いて、フラスコを60℃まで冷却し、ヘ
キサメチルジシラザン5部を加えて1時間攪拌した。こ
の段階で得られたフラスコの内容物を、反応混合物Cと
する。
Subsequently, the flask was cooled to 60 ° C., 5 parts of hexamethyldisilazane was added, and the mixture was stirred for 1 hour. The contents of the flask obtained at this stage are referred to as reaction mixture C.

【0031】フラスコから滴下漏斗を外して、ト字管、
リービッヒコンデンサー、減圧用アダプターおよびナス
型フラスコを装着した後、10Torrの減圧下で100℃
まで昇温し、過剰量のヘキサメチルジシラザンおよび副
生したトリメチルフェノキシシランを留去し、室温まで
冷却した。ついで、ろ過によって副生した塩酸塩をろ別
して、残留物108部を得た。該残留物をガスクロマト
グラフィー(GC)によって分析した結果、目的とする
メチルトリフェノキシシランが、純度97.6%で含ま
れていた。また、テトラブロモフェノールフタレインエ
チルエステルカリウム塩を指示薬とし、KOHアルコー
ル溶液を用いる滴定による塩酸分含有量は、0ppm であ
った。
Remove the dropping funnel from the flask,
After attaching the Liebig condenser, adapter for decompression and eggplant-shaped flask, 100 ℃ under reduced pressure of 10 Torr
The temperature was raised to an excessive level, excess hexamethyldisilazane and trimethylphenoxysilane by-produced were distilled off, and the mixture was cooled to room temperature. Then, the hydrochloride produced as a by-product was filtered off to obtain 108 parts of a residue. The residue was analyzed by gas chromatography (GC). As a result, the target methyltriphenoxysilane was contained at a purity of 97.6%. Further, the content of hydrochloric acid by titration using potassium salt of tetrabromophenolphthalein ethyl ester as an indicator with a KOH alcohol solution was 0 ppm.

【0032】この残留物を減圧蒸留によって精製し、沸
点172〜176℃/2Torrのメチルトリフェノキシシ
ランの蒸留精製物98部を得た。理論量に対する収率
は、85.7%であった。こうして得られたメチルトリ
フェノキシシランを分析した結果、GC純度は99.6
%であり、塩酸分含有量は0ppm であった。なお、反応
混合物A〜C、常圧蒸留の残留物および蒸留精製物の、
GC分析および塩酸分測定の結果を、表1に示す。
The residue was purified by distillation under reduced pressure to obtain 98 parts of a purified product of methyltriphenoxysilane having a boiling point of 172 to 176 ° C./2 Torr. The yield based on the theoretical amount was 85.7%. As a result of analyzing the methyltriphenoxysilane thus obtained, the GC purity was 99.6.
% And the hydrochloric acid content was 0 ppm. In addition, the reaction mixtures A to C, the residue of atmospheric distillation and the purified product of distillation,
Table 1 shows the results of the GC analysis and the measurement of the hydrochloric acid content.

【0033】比較例1 実施例1と同様の原料組成および操作により、反応混合
物Bに相当する反応混合物B′を調製した。これをト字
管、リービッヒコンデンサー、三つ又減圧用アダプター
およびナス型フラスコを装着したナシ型フラスコを使用
して蒸留精製を行い、沸点172〜176℃/2Torrの
蒸留精製物87.3部を得た。理論量に対する収率は、
76.3%であった。得られた蒸留精製物中のメチルト
リフェノキシシランのGC純度は91.2%、塩酸分含
有量は700ppm であり、強い塩酸臭を有していた。な
お、蒸留精製中、リービッヒコンデンサー中にフェノー
ルが凝固、固着して蒸留系を閉塞したので、しばしばド
ライヤーなどを用いて固着物を溶解させる必要があっ
た。得られた反応混合物B′および蒸留精製物のGC分
析および塩酸分測定の結果を、表1に示す。
Comparative Example 1 A reaction mixture B 'corresponding to the reaction mixture B was prepared by the same raw material composition and operation as in Example 1. This was subjected to distillation purification using a T-shaped tube, a Liebig condenser, a three-pronged adapter and a pear-shaped flask equipped with an eggplant-shaped flask to obtain 87.3 parts of a distilled purified product having a boiling point of 172 to 176 ° C / 2 Torr. . The yield relative to the theoretical amount is
76.3%. GC purity of methyltriphenoxysilane in the obtained distilled purified product was 91.2%, the content of hydrochloric acid was 700 ppm, and the product had a strong hydrochloric acid odor. During distillation purification, phenol was coagulated and fixed in the Liebig condenser to block the distillation system, so that it was often necessary to dissolve the fixed substance using a drier or the like. Table 1 shows the results of GC analysis and hydrochloric acid measurement of the obtained reaction mixture B 'and the purified purified product.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】実施例2 滴下漏斗、攪拌機および−20℃の冷媒が循環するジム
ロートコンデンサーを備えたフラスコに、あらかじめ7
0℃に加熱して融解した1−オクタデシルアルコール2
88部を仕込み、70℃に加熱、攪拌しながらメチルト
リクロロシラン53部(1−オクタデシルアルコール/
メチルトリクロロシランのモル比=1/3)を、5時間
かけて滴下した。そしてさらに、70℃で2時間、加熱
攪拌を行った。この段階におけるフラスコの内容物を、
反応混合物Dとする。
Example 2 A flask equipped with a dropping funnel, a stirrer and a Dimroth condenser in which a -20 ° C. refrigerant circulates was previously charged with
1-octadecyl alcohol 2 melted by heating to 0 ° C
88 parts were charged and heated at 70 ° C. while stirring and 53 parts of methyltrichlorosilane (1-octadecyl alcohol /
(The molar ratio of methyltrichlorosilane = 1/3) was added dropwise over 5 hours. Then, the mixture was further heated and stirred at 70 ° C. for 2 hours. At this stage, the contents of the flask are
Let it be reaction mixture D.

【0036】ついで、フラスコを100℃に昇温して、
反応混合物Dに窒素ガスを通しながら、加熱攪拌を12
時間行った。この段階におけるフラスコの内容物を、反
応混合物Eとする。
Then, the temperature of the flask was raised to 100 ° C.
While passing nitrogen gas through the reaction mixture D, the mixture was heated and stirred for 12 hours.
Time went. The contents of the flask at this stage are referred to as reaction mixture E.

【0037】続いて、フラスコを60℃まで冷却し、ヘ
キサメチルジシラザン5部を加えて1時間攪拌した。こ
の段階で得られたフラスコの内容物を、反応混合物Fと
する。
Subsequently, the flask was cooled to 60 ° C., 5 parts of hexamethyldisilazane was added, and the mixture was stirred for 1 hour. The contents of the flask obtained at this stage are referred to as reaction mixture F.

【0038】フラスコから滴下漏斗を外して、ト字管、
リービッヒコンデンサー、減圧用アダプターおよびナス
型フラスコを装着した後、10Torrの減圧下で80℃ま
で昇温して、過剰量のヘキサメチルジシラザンを留去
し、室温まで冷却した。ついで、ろ過によって副生した
塩酸塩をろ別して、残留物315部を得た。該残留物を
GCによって分析した結果、目的とするメチルトリ−1
−オクタデシルオキシシランが、純度93.4%で含ま
れていた。また、実施例1と同様の滴定による塩酸分含
有量は、0ppm であった。
Remove the dropping funnel from the flask,
After attaching a Liebig condenser, an adapter for decompression and an eggplant-shaped flask, the temperature was raised to 80 ° C. under a reduced pressure of 10 Torr to distill off excess hexamethyldisilazane and cooled to room temperature. Then, the hydrochloride produced as a by-product was filtered off to obtain 315 parts of a residue. The residue was analyzed by GC.
-Octadecyloxysilane was contained in a purity of 93.4%. The content of hydrochloric acid by titration in the same manner as in Example 1 was 0 ppm.

【0039】この残留物315部を、20倍量のシリカ
ゲル(和光純薬工業(株)社製、ワコーゲルC−30
0)を充填剤に、またヘキサン/ジエチルエーテルの容
量比1/1の混合溶媒を展開溶媒として使用して、液体
クロマトグラフィーによる精製を行い、溶媒を留去した
後、目的とするメチルトリ−1−オクタデシルオキシシ
ラン精製物248部を得た。理論量に対する収率は、8
3.7%であった。こうして得られたメチルトリ−1−
オクタデシルオキシシランを分析した結果、GC純度は
99.1%であり、塩酸分含有量は0ppm であった。な
お、反応混合物D〜F、残留物およびクロマトグラフィ
ー精製物の、GC分析および塩酸分測定の結果を、表2
に示す。
315 parts of this residue was mixed with a 20-fold amount of silica gel (Wakogel C-30, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.).
Purification by liquid chromatography was carried out using 0) as a filler and a mixed solvent of hexane / diethyl ether at a volume ratio of 1/1 as a developing solvent. -248 parts of purified octadecyloxysilane were obtained. The yield based on the theoretical amount is 8
3.7%. Methyl tri-1- thus obtained
As a result of analyzing octadecyloxysilane, the GC purity was 99.1% and the hydrochloric acid content was 0 ppm. Table 2 shows the results of GC analysis and measurement of hydrochloric acid content of the reaction mixtures DF, the residues, and the chromatographically purified product.
Shown in

【0040】比較例2 実施例2と同様の原料組成および操作により、反応混合
物Eに相当する反応混合物E′を調製した。そして、こ
の反応混合物E′全量を、20倍量のシリカゲル(和光
純薬工業(株)社製、ワコーゲルC−300)を充填剤
に、また実施例2に用いたのと同様の混合溶媒を展開溶
媒として、液体クロマトグラフィーによる精製を行っ
て、目的とするメチルトリ−1−オクタデシルオキシシ
ランを含有するフラクションを回収し、溶媒留去の後、
精製物を231部得た。理論量に対する収率は、78.
1%であった。こうして得られたメチルトリ−1−オク
タデシルオキシシランを分析した結果、GC純度は9
0.1%であり、塩酸分含有量は84ppm であった。得
られた反応混合物E′および蒸留精製物の、GC分析お
よび塩酸分測定の結果を、表2に示す。
Comparative Example 2 A reaction mixture E 'corresponding to the reaction mixture E was prepared by the same raw material composition and operation as in Example 2. Then, the entire amount of the reaction mixture E 'was mixed with a 20-fold amount of silica gel (Wakogel C-300, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a filler, and a mixed solvent similar to that used in Example 2 was used. As a developing solvent, purification by liquid chromatography was performed, and a fraction containing the target methyltri-1-octadecyloxysilane was recovered.
231 parts of a purified product were obtained. The yield based on the theoretical amount is 78.
1%. As a result of analyzing the thus obtained methyltri-1-octadecyloxysilane, the GC purity was 9%.
0.1%, and the hydrochloric acid content was 84 ppm. Table 2 shows the results of GC analysis and measurement of hydrochloric acid content of the obtained reaction mixture E 'and the purified purified product.

【0041】[0041]

【表2】 [Table 2]

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 Si−X結合(式中、Xは塩素、臭素ま
たはヨウ素を表す)を有するハロゲン化ケイ素化合物
に、アルコール性またはフェノール性の水酸基を含有す
る化合物を反応させて、脱ハロゲン化水素させた後、S
i−N結合を有するシリル化剤を反応させて、脱ハロゲ
ン化水素を完結させるとともに、残存する該水酸基含有
化合物をシリル化することを特徴とするヒドロカルビル
オキシケイ素化合物の製造方法。
1. A halogenated silicon compound having an Si—X bond (wherein X represents chlorine, bromine or iodine) is reacted with a compound containing an alcoholic or phenolic hydroxyl group to dehalogenate the compound. After hydrogenation, S
A method for producing a hydrocarbyloxysilicon compound, which comprises reacting a silylating agent having an iN bond to complete dehydrohalogenation and silylating the remaining hydroxyl group-containing compound.
【請求項2】 水酸基含有化合物が、フェノール類であ
る、請求項1記載の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the hydroxyl group-containing compound is a phenol.
【請求項3】 Si−N結合を有するシリル化剤が、ヘ
キサメチルジシラザンである、請求項1記載の製造方
法。
3. The method according to claim 1, wherein the silylating agent having a Si—N bond is hexamethyldisilazane.
【請求項4】 ヒドロカルビルオキシケイ素化合物が、
アルコキシシランまたはフェノキシシランである、請求
項1記載の製造方法。
4. The method of claim 1, wherein the hydrocarbyloxysilicon compound is
The production method according to claim 1, wherein the production method is an alkoxysilane or a phenoxysilane.
JP2349197A 1997-02-06 1997-02-06 Production of hydrocarbyloxysilicon compound Pending JPH10218885A (en)

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