JPH0859837A - Production of alkoxysilane - Google Patents

Production of alkoxysilane

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JPH0859837A
JPH0859837A JP24830094A JP24830094A JPH0859837A JP H0859837 A JPH0859837 A JP H0859837A JP 24830094 A JP24830094 A JP 24830094A JP 24830094 A JP24830094 A JP 24830094A JP H0859837 A JPH0859837 A JP H0859837A
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alkoxysilane
polysiloxane
mol
acid
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Toshibumi Hirose
広瀬俊文
Ryotaro Tsuji
良太郎 辻
Katsuya Ouchi
克哉 大内
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Abstract

PURPOSE: To produce in a high yield a halogen-free alkoxysilane which does not generate any halogen compd. such as hydrogen chloride or chlorosilane while conducting the reaction under mild conditions and thereby inhibiting side reactions. CONSTITUTION: An orthoester is reacted with a siloxane or a polysiloxane in the presence of an active hydrogen compd. and a catalyst.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この出願発明は、シリコーン工業
における重要な中間体の1つであるアルコキシシランの
製造方法に関するものであり、さらに詳しくは、目的と
するアルコキシシランを比較的温和な条件でハロゲンフ
リープロセスによりクリーンに高収率で製造する方法に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an alkoxysilane, which is one of the important intermediates in the silicone industry. More specifically, the desired alkoxysilane is prepared under relatively mild conditions. The present invention relates to a method for producing a clean and high yield by a halogen-free process.

【0002】[0002]

【従来の技術】特開平1−132590号公報には、一
般式 R1 aSi(OR24-a (式中、R1は置換または非置換の1価の炭化水素基を
表し、R2はアルキル基を表し、aは、0、1、2また
は3を表す)で示されるアルコキシシランとポリシロキ
サンとを、チタン化合物触媒存在下に反応させ、一般式 R3 bSiHc(OR24-(b+c) (式中、R2は上記と同じ、R3は置換または非置換の1
価の炭化水素基を表し、bは1、2または3を表し、c
は0、1または2を表す)で示されるアルコキシシラン
を得る方法が開示されている。この方法によれば、例え
ば、テトラメトキシシランと式Me3SiO−(MeH
SiO)40−SiOMe3で表されるポリメチルハイド
ロジェンシロキサンを反応させ、ジメトキシメチルシラ
ンを得ることができ、また、テトラエトキシシランと式
(Me2SiO)4で表されるオクタメチルシクロテトラ
シロキサンを反応させ、ジエトキシジメチルシランを得
ることができる。この方法においては、触媒として用い
られるチタン化合物によるポリシロキサンのSi−O結
合の開裂と、その部分への原料アルコキシシランからの
アルコキシ基の挿入反応(解重合反応)により目的とす
るアルコキシシランが生成するといわれている。
2. Description of the Related Art Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 1-132590 discloses that R 1 a Si (OR 2 ) 4-a (wherein R 1 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, R 1 2 represents an alkyl group, and a represents 0, 1, 2 or 3) and an alkoxysilane represented by the general formula R 3 b SiHc (OR 2 ) is reacted with a polysiloxane. 4- (b + c) (wherein R 2 is the same as above, R 3 is a substituted or unsubstituted 1
Represents a valent hydrocarbon group, b represents 1, 2 or 3, and c
Represents 0, 1 or 2) is disclosed. According to this method, for example, tetramethoxysilane and formula Me 3 SiO- (MeH
SiO) 40 -SiOMe 3 can be reacted with polymethylhydrogensiloxane to obtain dimethoxymethylsilane, and tetraethoxysilane and octamethylcyclotetrasiloxane represented by the formula (Me 2 SiO) 4 can be obtained. Can be reacted to obtain diethoxydimethylsilane. In this method, the target alkoxysilane is produced by the cleavage of the Si-O bond of the polysiloxane by the titanium compound used as a catalyst and the insertion reaction (depolymerization reaction) of the alkoxy group from the raw material alkoxysilane into that portion. It is said that.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】この方法はハロゲンフ
リープロセスであるため塩化水素やクロルシランを副生
しない長所があるが、副反応が多く目的物の収率が低下
する上、反応工程で面倒な分留操作が必要であり、副生
成物のポリシロキサンが多量に残渣として生成するとい
う問題点があった。
Since this method is a halogen-free process, it has the advantage that hydrogen chloride and chlorosilane are not by-produced, but there are many side reactions, which lowers the yield of the target product and is troublesome in the reaction process. There is a problem that a fractional distillation operation is necessary and a large amount of by-product polysiloxane is produced as a residue.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】この出願発明は、このよ
うな従来技術の欠点を解決し、目的物のアルコキシシラ
ンを高収率で製造する方法を提供することを目的とす
る。この出願発明者等は、このような目的を達成するた
めに種々の方法を検討した結果、活性水素基含有化合物
及び触媒、とくに酸の存在下に、オルトカルボン酸エス
テルとポリシロキサンとを反応させると、主として解重
合反応が進行し、また従来法に比べて副生成物が少な
く、目的のアルコキシシランを高収率で製造することが
できることを見い出し、この出願発明を完成したもので
ある。
The object of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art and to provide a method for producing a desired alkoxysilane in a high yield. The inventors of the present application have studied various methods for achieving such an object, and as a result, reacted an orthocarboxylic acid ester with a polysiloxane in the presence of an active hydrogen group-containing compound and a catalyst, particularly an acid. It was found that the depolymerization reaction mainly proceeds, and the amount of by-products is smaller than that in the conventional method, and the desired alkoxysilane can be produced in a high yield, and the invention of this application has been completed.

【0005】すなわち、この出願発明は、オルトエステ
ルとシロキサンもしくはポリシロキサンとを、活性水素
基含有化合物及び触媒、とくに酸の存在下に反応させる
ことを特徴とするアルコキシシランの製造方法である。
That is, the invention of the present application is a method for producing an alkoxysilane, which comprises reacting an orthoester with a siloxane or a polysiloxane in the presence of an active hydrogen group-containing compound and a catalyst, particularly an acid.

【0006】この出願発明の方法に用いられるオルトエ
ステルとしては、オルトギ酸メチル、オルトギ酸エチ
ル、オルトギ酸プロピル、オルトギ酸ブチル、オルトギ
酸オクチル等のオルトギ酸エステル、オルト酢酸メチ
ル、オルト酢酸エチル、オルト酢酸プロピル、オルト酢
酸ブチル、オルト酢酸オクチル等のオルト酢酸エステ
ル、オルト安息香酸メチル等が例示されるが、これらに
限定されるものではない。これらの中で、オルトギ酸メ
チル、オルト酢酸メチル等のオルトメチルエステルが反
応性の点で好ましい。
Examples of orthoesters used in the method of the present invention include orthoformate such as methyl orthoformate, ethyl orthoformate, propyl orthoformate, butyl orthoformate, octyl orthoformate, methyl orthoacetate, ethyl orthoacetate, orthoacetate. Examples thereof include orthoacetic acid esters such as propyl acetate, butyl orthoacetate, octyl orthoacetate, and methyl orthobenzoate, but are not limited thereto. Among these, orthomethyl esters such as methyl orthoformate and methyl orthoacetate are preferable in terms of reactivity.

【0007】この出願発明の方法で用いられるシロキサ
ンもしくはポリシロキサンとしては、分子内に2個以上
のケイ素原子が酸素原子を介して結合している化合物で
ある。
The siloxane or polysiloxane used in the method of the present invention is a compound in which two or more silicon atoms are bonded in the molecule through oxygen atoms.

【0008】ケイ素上の置換基としては、水素原子、ア
ルキル基、クロルメチル基のような置換アルキル基、ビ
ニル基、アリル基などのようなアルケニル基、フェニル
基、トリル基などのようなアリール基などがあげられ
る。これらのシロキサンもしくはポリシロキサンの中
で、その分子中にSi−H結合を有するものが反応が早
いので好ましい。
Substituents on silicon include hydrogen atom, alkyl groups, substituted alkyl groups such as chloromethyl group, alkenyl groups such as vinyl group and allyl group, aryl groups such as phenyl group and tolyl group, etc. Can be given. Of these siloxanes or polysiloxanes, those having a Si-H bond in the molecule are preferred because of quick reaction.

【0009】この出願発明において、目的とするアルコ
キシシランがその分子中にSi−H結合を有するもので
ある場合には、原料として用いられるポリシロキサンは
分子中にSi−H結合を有するものが用いられる。この
ようなポリシロキサンの構造は、直鎖状、分岐状、環状
のいずれでもよく、これらの混合物でもよい。このよう
なポリシロキサンにおいて、ケイ素原子に結合した水素
原子以外の有機基としては、アルキル基、クロロメチル
基のような置換アルキル基、ビニル基、アリル基などの
ようなアルケニル基、フェニル基、トリル基などのよう
なアリール基などをあげることができる。これらのポリ
シロキサンの例としては次のようなものがあげられる。
In the invention of this application, when the desired alkoxysilane has a Si--H bond in its molecule, the polysiloxane used as a raw material is one having a Si--H bond in the molecule. To be The structure of such a polysiloxane may be linear, branched or cyclic, or may be a mixture thereof. In such a polysiloxane, organic groups other than hydrogen atoms bonded to silicon atoms include alkyl groups, substituted alkyl groups such as chloromethyl groups, alkenyl groups such as vinyl groups and allyl groups, phenyl groups and tolyl groups. There may be mentioned aryl groups such as groups and the like. Examples of these polysiloxanes include the following.

【0010】[0010]

【化1】 (ただし、pおよびqは0または整数を示す。)で表さ
れる直鎖状ポリシロキサン。
Embedded image (However, p and q show 0 or an integer.) A linear polysiloxane represented by the formula:

【0011】[0011]

【化2】 (ただし、pおよびqは0または整数を示す。)で表さ
れる直鎖状ポリシロキサン。
Embedded image (However, p and q show 0 or an integer.) A linear polysiloxane represented by the formula:

【0012】[0012]

【化3】 (ただし、mおよびnは0または整数であって、m+n
は2以上の整数を示す。)で表される環状ポリシロキサ
ン。
[Chemical 3] (However, m and n are 0 or integers, and m + n
Indicates an integer of 2 or more. ) A cyclic polysiloxane represented by:

【0013】[0013]

【化4】 (ただし、Phはフェニル基を示す。)[Chemical 4] (However, Ph represents a phenyl group.)

【0014】[0014]

【化5】 (ただし、Phはフェニル基を示す。)[Chemical 5] (However, Ph represents a phenyl group.)

【0015】このようなポリシロキサン中のSi−H結
合の含有量は、とくに制限されるものではないが、分子
中にSi−H結合を有するアルコキシシランの製造を目
的とする場合、この結合が多い方が目的とするアルコキ
シシランの収率が向上するので好ましい。前記のポリシ
ロキサンのさらに具体的な例としてはつぎのようなもの
があげられる。
The content of Si-H bond in such a polysiloxane is not particularly limited, but when the purpose is to produce an alkoxysilane having a Si-H bond in the molecule, this content is not limited. A larger amount is preferable because the yield of the desired alkoxysilane is improved. The following are more specific examples of the above polysiloxane.

【0016】[0016]

【化6】 [Chemical 6]

【0017】[0017]

【化7】 (CH32HSiO0.5単位とSiO2単位とからなり、
水素原子の含有量が1.03重量%で、25℃における
粘度が24cStの分岐状ポリメチルハイドロジェンシ
ロキサン、および
[Chemical 7] (CH 3 ) 2 HSiO consisting of 0.5 units and SiO 2 units,
A branched polymethylhydrogensiloxane having a hydrogen atom content of 1.03% by weight and a viscosity at 25 ° C. of 24 cSt, and

【0018】[0018]

【化8】 (nは2以上の整数を示す。)Embedded image (N represents an integer of 2 or more.)

【0019】この出願発明で用いられる活性水素基含有
化合物とは、オルトエステルと反応してアルコールを生
成するもの、もしくは分子中に水酸基、カルボキシル
基、メルカプト基、アミノ等を含む化合物であり、具体
的には、水、アルコール、カルボン酸、メカルプタン、
アミン等が上げられるが、とくに、水、アルコール、カ
ルボン酸が好ましい。
The active hydrogen group-containing compound used in the present invention is a compound which reacts with an orthoester to produce an alcohol, or a compound containing a hydroxyl group, a carboxyl group, a mercapto group, amino or the like in the molecule. Water, alcohol, carboxylic acid, mecarptan,
Amine and the like can be used, but water, alcohol and carboxylic acid are particularly preferable.

【0020】この出願発明で用いられるアルコールとし
ては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロ
ピルアルコール、n−プロピルアルコール、n−ブタノ
ール等の一価のアルコール、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール、グリセリン等の多価アルコールが例
示でき、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプ
ロピルアルコール、n−プロピルアルコール、n−ブタ
ノールが好ましく、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、n−ブタノールがとくに好ましいが、これらに限定
されるものではない。カルボン酸としては、ギ酸、酢
酸、プロピオン酸、アクリル酸等が例示され、ギ酸、酢
酸、プロピオン酸が好ましく、酢酸がとくに好ましい
が、これらに限定されるものではない。
As the alcohol used in the present invention, there are monohydric alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, n-propyl alcohol and n-butanol, and polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol and glycerin. Examples thereof include methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, n-propyl alcohol, and n-butanol, and methyl alcohol, ethyl alcohol, and n-butanol are particularly preferable, but not limited thereto. Examples of the carboxylic acid include formic acid, acetic acid, propionic acid, acrylic acid, and the like. Formic acid, acetic acid, and propionic acid are preferable, and acetic acid is particularly preferable, but not limited thereto.

【0021】触媒としては、酸が好ましく、硫酸、p−
トルエンスルホン酸、塩酸、リン酸、酢酸、塩化アルミ
ニウム等が例示され、硫酸、p−トルエンスルホン酸が
好ましく、硫酸がとくに好ましいが、これらに限定され
るものではない。
The catalyst is preferably an acid, such as sulfuric acid or p-
Toluenesulfonic acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, acetic acid, aluminum chloride and the like are exemplified, sulfuric acid and p-toluenesulfonic acid are preferable, and sulfuric acid is particularly preferable, but not limited thereto.

【0022】この出願発明は、活性水素基含有化合物を
使用することが必須である。活性水素基含有化合物を使
用しない場合には、反応は進行しないかもしくは著しく
遅い。反応速度は、活性水素基含有化合物の使用量に比
例して大きくすることができる。この出願発明で用いら
れる活性水素基含有化合物の量は、必ずしも量論的な量
を必要としない。この点もこの出願発明の大きな特徴で
ある。すなわち、活性水素基含有化合物の使用量は、い
わゆる開始剤的な量でよく、用いるポリシロキサンのケ
イ素原子またはオルトエステル分子の1/10以下のモ
ル数でも室温で反応を開始し、定量的に目的とするアル
コキシシランを得ることができる。したがって、反応液
から目的物のアルコキシシランを高純度に蒸留分離する
ことが容易である利点を有している。
In the invention of this application, it is essential to use an active hydrogen group-containing compound. When no active hydrogen group-containing compound is used, the reaction does not proceed or is extremely slow. The reaction rate can be increased in proportion to the amount of the active hydrogen group-containing compound used. The amount of the active hydrogen group-containing compound used in the invention of this application does not necessarily need to be a stoichiometric amount. This is also a major feature of the invention of this application. That is, the amount of the active hydrogen group-containing compound used may be a so-called initiator-like amount, and even if the number of moles of the silicon atom or orthoester molecule of the polysiloxane to be used is 1/10 or less, the reaction is started at room temperature to quantitatively The desired alkoxysilane can be obtained. Therefore, it has an advantage that the desired alkoxysilane can be easily separated by distillation from the reaction solution with high purity.

【0023】この出願発明の反応は、室温でも反応が進
行するため、特に加熱する必要がないことも特徴であ
る。従って、反応温度は、室温〜150℃で行うが、好
ましくは、室温〜120℃である。
The reaction of the invention of the present application is also characterized in that it does not particularly need to be heated because the reaction proceeds even at room temperature. Therefore, the reaction temperature is room temperature to 150 ° C, preferably room temperature to 120 ° C.

【0024】この出願発明は、室温という、おだやかな
条件で反応させることができ、塩化水素やクロルシラン
を副生せず、好ましくない副反応生成物が殆どなく反応
工程での面倒な分留操作も不必要であることから、ハロ
ゲンフリーなアルコキシシランを高収率で容易に製造す
ることができる。とくに、分子中にSi−H結合を有す
るアルコキシシランを高収率で容易に製造することがで
きる。
According to the invention of this application, the reaction can be carried out under mild conditions such as room temperature, hydrogen chloride and chlorosilane are not produced as by-products, and undesirable side reaction products are scarcely present, and a troublesome fractionation operation in the reaction step is also possible. Since it is unnecessary, a halogen-free alkoxysilane can be easily produced in high yield. In particular, an alkoxysilane having a Si-H bond in the molecule can be easily produced in high yield.

【0025】[0025]

【実施例】つぎに実施例および比較例によってこの出願
発明を具体的に説明する。 実施例1 リフラックスコンデンサーを備えた容量100mlの2
口フラスコ中で、Me3SiO−(MeHSiO)40
SiOMe3(重合度は平均)のポリメチルハイドロジ
ェンシロキサン10.56g(Si−H結合換算で0.
164mol)、オルトギ酸メチル18.05g(0.
170mol)、メタノール0.46g(0.014m
ol)および硫酸20.5mg(0.20mmol)の
混合物を室温で攪拌した。攪拌すると内温が少し(約5
℃)下がるのが観察された。そのまま6時間攪拌後、反
応液をガスクロマトグラフィーと1H NMRによって
分析した結果、原料ポリシロキサン中のSi−H基を基
準に、Me(MeO)2SiHがほぼ100%収率で生
成していた。この反応液22.7gを50mlなす型フ
ラスコに取り、精留塔(内径1.5cm、高さ9cm、
金属コイル充填)を通して蒸留した。まず油浴温度を5
0〜75℃に保ち、沸点約30℃の留分6.9gをとっ
た。その後、沸点が上がりはじめたので受器をかえ、沸
点約50〜60℃の無色液体11.7gを得た。前留の
主成分はギ酸メチルであり、中にMe(MeO)2Si
Hが1.45g(0.014mol)含まれていた。本
留中にはMe(MeO)SiHが11.4g(0.10
8mol)含まれており、単離収率は81%、純度は9
8%であった。
EXAMPLES Next, the invention of the present application will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. Example 1 2 with a capacity of 100 ml equipped with a reflux condenser
In the mouth flask, Me 3 SiO- (MeHSiO) 40 -
10.56 g of polymethyl hydrogen siloxane of SiOMe 3 (degree of polymerization is average) (0.
164 mol) and methyl orthoformate 18.05 g (0.
170 mol), 0.46 g of methanol (0.014 m)
ol) and 20.5 mg (0.20 mmol) of sulfuric acid were stirred at room temperature. When stirred, the internal temperature becomes a little (about 5
C) was observed. After stirring for 6 hours, the reaction solution was analyzed by gas chromatography and 1 H NMR. As a result, Me (MeO) 2 SiH was produced in almost 100% yield based on the Si—H group in the raw material polysiloxane. It was 22.7 g of this reaction solution was placed in a 50 ml eggplant-shaped flask, and a rectification column (internal diameter: 1.5 cm, height: 9 cm,
Distilled through metal coil filling). First, set the oil bath temperature to 5
The temperature was maintained at 0 to 75 ° C, and 6.9 g of a fraction having a boiling point of about 30 ° C was taken. After that, since the boiling point started to rise, the receiver was changed to obtain 11.7 g of a colorless liquid having a boiling point of about 50 to 60 ° C. The main component of the fore-distillation is methyl formate, which contains Me (MeO) 2 Si.
1.45 g (0.014 mol) of H was contained. Me (MeO) SiH was 11.4 g (0.10
8 mol), the isolation yield is 81% and the purity is 9
It was 8%.

【0026】実施例2 実施例1と同様な装置を用い、ポリメチルハイドロジェ
ンシロキサン9.65g(Si−H結合換算で0.15
0mol)、オルトギ酸メチル16.93g(0.15
9mol)、メタノール10.01g(0.312mo
l)および硫酸0.19mg(0.19mmol)を室
温で攪拌した。攪拌すると内温が少し低下した。2時間
攪拌を続けた後、反応液をガスクロマトグラフィーで測
定したところ、ほぼ100%収率(Si−H基準)でM
e(MeO)2SiHが生成していた。
Example 2 Using the same apparatus as in Example 1, 9.65 g of polymethyl hydrogen siloxane (0.15 in terms of Si--H bond) was used.
0 mol), 16.93 g (0.15 g) of methyl orthoformate
9 mol), methanol 10.01 g (0.312 mo)
1) and 0.19 mg (0.19 mmol) of sulfuric acid were stirred at room temperature. When stirred, the internal temperature dropped slightly. After continuously stirring for 2 hours, the reaction solution was measured by gas chromatography to find that it was almost 100% M (based on Si-H).
e (MeO) 2 SiH was produced.

【0027】実施例3 実施例1と同様な装置を用い、ポリジメチルシロキサン
10.02g(Si換算で0.135mol)、オルト
ギ酸メチル15.47g(0.146mol)、メタノ
ール0.74g(0.023mol)、硫酸20mg
(0.20mmol)を室温で攪拌した。3時間攪拌し
た後、ガスクロマトグラフィーで測定したところ、Me
2Si(OMe)2の生成は認められなかった。そこで、
さらにメタノールと硫酸を追加し、合計がそれぞれ、メ
タノール4.94g(0.154mol)、硫酸60m
g(0.61mmol)とした。50℃で8時間攪拌し
た後、反応液をガスクロマトグラフィーで測定したとこ
ろ91%収率(Si基準)でMe2Si(OMe)2が生
成していた。
Example 3 Using the same apparatus as in Example 1, 10.02 g of polydimethylsiloxane (0.135 mol in terms of Si), 15.47 g (0.146 mol) of methyl orthoformate and 0.74 g of methanol (0.14 mol) were used. 023mol), sulfuric acid 20mg
(0.20 mmol) was stirred at room temperature. After stirring for 3 hours, gas chromatography showed that Me
No formation of 2 Si (OMe) 2 was observed. Therefore,
Methanol and sulfuric acid were added, and the total amount was 4.94 g (0.154 mol) of methanol and 60 m of sulfuric acid, respectively.
g (0.61 mmol). After stirring at 50 ° C. for 8 hours, the reaction solution was measured by gas chromatography to find that Me 2 Si (OMe) 2 was produced in a 91% yield (Si standard).

【0028】実施例4 実施例1と同様な装置を用い、1,3,5,7−テトラ
メチルシロキサン3.03g(12.6mmol、Si
−H結合換算で50.4mmol)、オルトギ酸メチル
5.71g(53.8mmol)、硫酸0.02g
(0.20mmol)、メタノール0.14g(4.4
mmol)を室温で3時間攪拌した。ガスクロマトグラ
フィーで測定すると、Me(MeO)2SiHが98%
収率(Si−H基準)で生成していた。
Example 4 Using the same apparatus as in Example 1, 3.03 g (12.6 mmol, Si of 1,3,5,7-tetramethylsiloxane) was used.
-H bond conversion 50.4 mmol), methyl orthoformate 5.71 g (53.8 mmol), sulfuric acid 0.02 g
(0.20 mmol), 0.14 g of methanol (4.4
(mmol) was stirred at room temperature for 3 hours. 98% Me (MeO) 2 SiH measured by gas chromatography
It was produced in a yield (based on Si-H).

【0029】実施例5 リフラックスコンデンサーを備えた200mlの3口フ
ラスコに、ポリメチルハイドロジエンシロキサン50.
0g(Si−H結合換算で0.78mol)、オルトギ
酸メチル99.2g(0.94mol)、メタノール
2.50g(0.078mol)、硫酸0.54mg
(5.5mmol)を加え、50℃の油浴中で180分
攪拌した。反応液をガスクロマトグラフィーによって分
析したところ、原料ポリシロキサン中のSi−H基を基
準にMe(MeO)2SiHが93%収率で生成してい
た。この反応液146.6gを用い、精留塔(内径1.
5cm、高さ50cm、ガラスビーズ充填)を通して蒸
留した。まず、油浴温度を45〜70℃に保ち、沸点3
2〜37℃の前留分43.4gを得た。その後、沸点3
5〜55℃の中間留分10.1gを取った後、沸点59
〜61℃の本留分67.5gを得た。前留分の主成分は
ギ酸メチルであり、中間留分は、ギ酸メチルとMe(M
eO)2SiHがほぼ半々であった。本留分中にMe
(MeO)2SiHは65.4g(0.62mol)、
Me3SiOMeが1.6g(0.015mol)、メ
タノールが0.1g(0.003mol)含まれてお
り、単離収率は79%、純度は97%であった。
Example 5 In a 200 ml three-necked flask equipped with a reflux condenser, polymethylhydrogensiloxane 50.
0 g (0.78 mol in terms of Si-H bond), methyl orthoformate 99.2 g (0.94 mol), methanol 2.50 g (0.078 mol), sulfuric acid 0.54 mg
(5.5 mmol) was added, and the mixture was stirred in an oil bath at 50 ° C for 180 minutes. When the reaction liquid was analyzed by gas chromatography, Me (MeO) 2 SiH was produced in a yield of 93% based on the Si—H group in the raw material polysiloxane. A rectification column (inner diameter 1.
Distilled through 5 cm, height 50 cm, filled with glass beads). First, keep the oil bath temperature at 45 to 70 ° C and set the boiling point to 3
43.4 g of a distillate fraction of 2 to 37 ° C was obtained. Then boiling point 3
After taking 10.1 g of a middle distillate at 5 to 55 ° C, the boiling point is 59
67.5 g of a main fraction having a temperature of ˜61 ° C. was obtained. The main component of the previous fraction is methyl formate, and the middle fraction is methyl formate and Me (M
eO) 2 SiH was almost half. Me in the main fraction
(MeO) 2 SiH is 65.4 g (0.62 mol),
It contained Me 3 SiOMe of 1.6 g (0.015 mol) and methanol of 0.1 g (0.003 mol), and the isolated yield was 79% and the purity was 97%.

【0030】比較例1 実施例1と同様な装置を用い、ポリメチルハイドロジェ
ンシロキサン10.05g(0.156mol)、オル
トギ酸メチル21.9g(0.206mol)および硫
酸41mg(0.41mmol)を攪拌した。80℃に
加熱しながら3時間攪拌したが、Me(MeO)2Si
Hの生成はほとんど認められなかった。ギ酸メチルの留
去も起こらず反応は進行しなかった。
Comparative Example 1 Using the same apparatus as in Example 1, 10.05 g (0.156 mol) of polymethyl hydrogen siloxane, 21.9 g (0.206 mol) of methyl orthoformate and 41 mg (0.41 mmol) of sulfuric acid were added. It was stirred. It was stirred for 3 hours while heating to 80 ℃, Me (MeO) 2 Si
Almost no formation of H was observed. Distillation of methyl formate did not occur, and the reaction did not proceed.

【0031】実施例6〜10、比較例2 ヘキサメチルジシロキサン61.6g(0.38mo
l)とオルトギ酸メチル40.5g(0.38mol)
を混合してA液とした。A液を一部ガラス容器にとり、
ここに活性水素基含有化合物として水、メタノール、エ
タノール、1−ブタノール、酢酸等と硫酸触媒を加え室
温で反応を行い、1H NMRで20時間後、100時間
後の生成物のMe3SiOMe収率(Si基準)を求め
た。結果を表に示す。
Examples 6 to 10 and Comparative Example 2 Hexamethyldisiloxane 61.6 g (0.38 mo)
1) and methyl orthoformate 40.5 g (0.38 mol)
Were mixed to prepare a liquid A. Part of solution A is put in a glass container,
Water, methanol, ethanol, 1-butanol, acetic acid, and the like as active hydrogen group-containing compounds are added thereto and a sulfuric acid catalyst is reacted at room temperature. After 1 H NMR for 20 hours and after 100 hours, the product Me 3 SiOMe is collected. The rate (Si standard) was determined. The results are shown in the table.

【0032】[0032]

【表1】 [Table 1]

【0033】比較例3 リフラックスコンデンサーを備えた50mlの2口フラ
スコにポリメチルハイドロジエンシロキサン10.1g
(Si−H結合換算で0.16mol)、硫酸20mg
(0.20mmol)、メタノール8.7g(0.27
mol)を加え、85℃の油浴で115分加熱、攪拌し
た。Si−H価は1.01mmol/gであり、初期の
88%が消失したが、ガスクロマトグラフィーによる分
析の結果Me(MeO)2SiH収率は2%(Si−H
基準)であった。
Comparative Example 3 10.1 g of polymethylhydrogen siloxane was placed in a 50 ml two-necked flask equipped with a reflux condenser.
(0.16 mol in terms of Si-H bond), sulfuric acid 20 mg
(0.20 mmol), 8.7 g of methanol (0.27
mol) was added, and the mixture was heated and stirred in an oil bath at 85 ° C. for 115 minutes. SiH value is 1.01 mmol / g, the initial 88% is lost as a result of the analysis by gas chromatography Me (MeO) 2 SiH yield 2% (SiH
It was a standard).

【0034】比較例4 200mlの2口フラスコにポリメチルハイドロジエン
シロキサン10.0g(Si−H結合換算で0.16m
ol)、硫酸70mg(0.70mmol)、メタノー
ル42.2g(1.32mol)を加え、80℃の油浴
加熱、攪拌しながら精留塔(内径1.5cm、高さ9c
m、金属コイル充填)を通して沸点60〜63℃の液体
34.2gを留去した。ガスクロマトグラフィーの分析
の結果、留去された液体は3.1gのMe(MeO)2
SiHが含まれ、他はメタノールであった。Me(Me
O)2SiHの収率(Si−H基準)は19%であっ
た。
Comparative Example 4 A 200 ml two-necked flask was charged with 10.0 g of polymethylhydrogensiloxane (0.16 m in terms of Si--H bond).
ol), 70 mg (0.70 mmol) of sulfuric acid, and 42.2 g (1.32 mol) of methanol were added, and a rectification column (internal diameter: 1.5 cm, height: 9 c) was heated with stirring at 80 ° C. oil bath.
m, filled with a metal coil), 34.2 g of a liquid having a boiling point of 60 to 63 ° C. was distilled off. As a result of analysis by gas chromatography, the distilled liquid was 3.1 g of Me (MeO) 2
SiH was included and the others were methanol. Me (Me
The yield of O) 2 SiH (based on Si—H) was 19%.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上のように、この出願発明はオルトエ
ステルとシロキサンもしくはポリシロキサンとをアルコ
ール及び触媒存在下に室温のおだやかな条件下で反応さ
せることができるので、好ましくない副反応生成物が殆
どなく、反応工程での面倒な分留操作が不要であり、多
量の残渣が生成しない。また、ハロゲンフリープロセス
であるので、塩化水素やクロルシラン等のハロゲン化合
物を生成しない。従って、ハロゲンフリーなアルコキシ
シランを高収率で容易に製造することができる。
As described above, according to the invention of the present application, since an orthoester and a siloxane or a polysiloxane can be reacted in the presence of an alcohol and a catalyst under mild conditions at room temperature, undesirable side reaction products are generated. Since there is almost no, a troublesome fractionation operation in the reaction step is unnecessary, and a large amount of residue is not generated. Further, since it is a halogen-free process, it does not generate halogen compounds such as hydrogen chloride and chlorosilane. Therefore, halogen-free alkoxysilane can be easily produced in high yield.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 オルトエステルと、シロキサンもしくは
ポリシロキサンとを、活性水素基含有化合物及び触媒の
存在下に反応させることを特徴とするアルコキシシラン
の製造方法。
1. A method for producing an alkoxysilane, which comprises reacting an orthoester with a siloxane or a polysiloxane in the presence of an active hydrogen group-containing compound and a catalyst.
【請求項2】 シロキサンもしくはポリシロキサンが分
子中にSi−H結合を有するものであることを特徴とす
る請求項1に記載のアルコキシシランの製造方法。
2. The method for producing an alkoxysilane according to claim 1, wherein the siloxane or polysiloxane has a Si—H bond in the molecule.
【請求項3】 触媒が酸であることを特徴とする請求項
1に記載のアルコキシシランの製造方法。
3. The method for producing an alkoxysilane according to claim 1, wherein the catalyst is an acid.
【請求項4】 オルトエステルがオルトメチルエステル
であることを特徴とする請求項1に記載のアルコキシシ
ランの製造方法。
4. The method for producing an alkoxysilane according to claim 1, wherein the orthoester is an orthomethyl ester.
【請求項5】 活性水素基含有化合物がオルトエステル
と反応してアルコールを生成するものであることを特徴
とする請求項1に記載のアルコキシシランの製造方法。
5. The method for producing an alkoxysilane according to claim 1, wherein the active hydrogen group-containing compound reacts with an orthoester to produce an alcohol.
【請求項6】 活性水素基含有化合物が水、カルボン酸
またはアルコールであることを特徴とする請求項1に記
載のアルコキシシランの製造方法。
6. The method for producing an alkoxysilane according to claim 1, wherein the active hydrogen group-containing compound is water, carboxylic acid or alcohol.
【請求項7】 アルコキシシランが分子中にSi−H結
合を有するものであることを特徴とする請求項1に記載
のアルコキシシランの製造方法。
7. The method for producing an alkoxysilane according to claim 1, wherein the alkoxysilane has a Si—H bond in the molecule.
【請求項8】 アルコキシシランがジメトキシメチルシ
ランであることを特徴とする請求項1に記載のアルコキ
シシランの製造方法。
8. The method for producing an alkoxysilane according to claim 1, wherein the alkoxysilane is dimethoxymethylsilane.
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