JPH10216456A - 2床吸着装置系内で圧力スウイング吸着を起こさせることによる気体混合物の分離方法 - Google Patents
2床吸着装置系内で圧力スウイング吸着を起こさせることによる気体混合物の分離方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 2床吸着装置系内で圧力スゥイング吸着を起
こさせることによる気体混合物の分離方法。 【解決手段】 本発明は、無機吸着剤、特にモレキュラ
ーシーブゼオライトを用いた2床吸着装置系内で圧力ス
ゥイング吸着を起こさせることによって気体混合物、特
に空気の吸着分離を行う簡潔化した改良方法に関し、こ
の方法はまたエネルギーに関しても好適である。
こさせることによる気体混合物の分離方法。 【解決手段】 本発明は、無機吸着剤、特にモレキュラ
ーシーブゼオライトを用いた2床吸着装置系内で圧力ス
ゥイング吸着を起こさせることによって気体混合物、特
に空気の吸着分離を行う簡潔化した改良方法に関し、こ
の方法はまたエネルギーに関しても好適である。
Description
【0001】本発明は、無機吸着剤、特にモレキュラー
シーブゼオライトを用いた2床吸着装置(two−be
d adsorber)系内で圧力スゥイング吸着(p
ressure−swing adsorption)
を起こさせることによって気体混合物、特に空気の吸着
分離(adsorptive separation)
を行う簡潔化した改良方法に関し、この方法はまたエネ
ルギーに関しても好適である。
シーブゼオライトを用いた2床吸着装置(two−be
d adsorber)系内で圧力スゥイング吸着(p
ressure−swing adsorption)
を起こさせることによって気体混合物、特に空気の吸着
分離(adsorptive separation)
を行う簡潔化した改良方法に関し、この方法はまたエネ
ルギーに関しても好適である。
【0002】圧力スゥイング吸着を利用したガス混合物
の吸着分離は20年に渡って知られており、それに関連
して工業的分離方法がいろいろ開発されてきた。しかし
ながら、そのような方法は全部、吸着剤に対する親和性
がより高い気体部分[気体混合物(粗ガス)に含まれ
る]をいわゆる吸着段階で吸着装置に入っている吸着剤
の表面に保持させそしてあまり強力には吸着されない成
分を吸着装置(この中に吸着剤が仕込まれている)から
取り出すことができると言った原理を基にしている。次
に、吸着段階後、圧力を下げることに加えて任意に上記
あまり強力には吸着されない気体部分で上記吸着剤をフ
ラッシュ洗浄(flushing)することで、吸着相
の脱離を達成している。その圧力をほぼ周囲圧力にか或
は周囲圧力より若干高い圧力にまで下げる場合のシステ
ムはPSA(Pressure Swing Adso
rption)システムと呼ばれている。真空ポンプを
用いて圧力を周囲圧力以下の圧力にまで下げる場合のシ
ステムはVSA(Vacuum Swing Adso
rption)システムと呼ばれている。この場合もま
た吸着剤を、任意に、あまり強力には吸着されない気体
部分でフラッシュ洗浄してもよい。しかしながら、ま
た、特に例えばモレキュラーシーブゼオライトを用いて
空気の酸素を豊富にする場合などでは、フラッシュ洗浄
を省く場合もある。加圧吸着と真空脱離を伴う過程はP
VSA(Pressure VacuumSwing
Adsorption)システムと呼ばれている。
の吸着分離は20年に渡って知られており、それに関連
して工業的分離方法がいろいろ開発されてきた。しかし
ながら、そのような方法は全部、吸着剤に対する親和性
がより高い気体部分[気体混合物(粗ガス)に含まれ
る]をいわゆる吸着段階で吸着装置に入っている吸着剤
の表面に保持させそしてあまり強力には吸着されない成
分を吸着装置(この中に吸着剤が仕込まれている)から
取り出すことができると言った原理を基にしている。次
に、吸着段階後、圧力を下げることに加えて任意に上記
あまり強力には吸着されない気体部分で上記吸着剤をフ
ラッシュ洗浄(flushing)することで、吸着相
の脱離を達成している。その圧力をほぼ周囲圧力にか或
は周囲圧力より若干高い圧力にまで下げる場合のシステ
ムはPSA(Pressure Swing Adso
rption)システムと呼ばれている。真空ポンプを
用いて圧力を周囲圧力以下の圧力にまで下げる場合のシ
ステムはVSA(Vacuum Swing Adso
rption)システムと呼ばれている。この場合もま
た吸着剤を、任意に、あまり強力には吸着されない気体
部分でフラッシュ洗浄してもよい。しかしながら、ま
た、特に例えばモレキュラーシーブゼオライトを用いて
空気の酸素を豊富にする場合などでは、フラッシュ洗浄
を省く場合もある。加圧吸着と真空脱離を伴う過程はP
VSA(Pressure VacuumSwing
Adsorption)システムと呼ばれている。
【0003】以下に示す説明詳細において、「バール」
で表すデータは周囲圧力を基準にした時の圧力過剰分で
あると理解されるべきであり、真空排気の圧力「ミリバ
ール」は絶対値であると理解されるべきであり、そして
Nm3は1.013バール絶対下0℃におけるm3である
と理解されるべきである。
で表すデータは周囲圧力を基準にした時の圧力過剰分で
あると理解されるべきであり、真空排気の圧力「ミリバ
ール」は絶対値であると理解されるべきであり、そして
Nm3は1.013バール絶対下0℃におけるm3である
と理解されるべきである。
【0004】吸着をほぼ周囲圧力、即ち例えば−0.0
5から0.1バールで起こさせそして脱離を例えば10
0から400ミリバール(絶対)の如き低圧で起こさせ
る場合のプロセスはVSAプロセスと呼ばれている。脱
離段階後に行われる気体による吸着剤の充填は常に吸着
段階の圧力になるように行われており、PSA吸着の場
合の充填は、あまり強力には吸着されない気体部分を用
いてか、或は粗ガスを用いてか、或は両方を同時に用い
て行われている。VSA技術の場合の充填は、あまり強
力には吸着されない気体部分を用いて行われる。
5から0.1バールで起こさせそして脱離を例えば10
0から400ミリバール(絶対)の如き低圧で起こさせ
る場合のプロセスはVSAプロセスと呼ばれている。脱
離段階後に行われる気体による吸着剤の充填は常に吸着
段階の圧力になるように行われており、PSA吸着の場
合の充填は、あまり強力には吸着されない気体部分を用
いてか、或は粗ガスを用いてか、或は両方を同時に用い
て行われている。VSA技術の場合の充填は、あまり強
力には吸着されない気体部分を用いて行われる。
【0005】従って、この上で述べた分離方法は3段
階:即ち吸着(分離)と脱離(圧力低下を伴う)と再充
填(圧力の蓄積を伴う)に分割され、このことを考慮す
ると、PSAまたはVSA過程を全体的に連続様式で操
作しようとする場合には吸着装置が3基必要になる。
階:即ち吸着(分離)と脱離(圧力低下を伴う)と再充
填(圧力の蓄積を伴う)に分割され、このことを考慮す
ると、PSAまたはVSA過程を全体的に連続様式で操
作しようとする場合には吸着装置が3基必要になる。
【0006】ある場合には、投資費用を下げることを考
慮して、2基の吸着装置と1基の産物緩衝装置(pro
duct buffer)を伴うVSAシステムが一般
的であった。この場合の吸着過程も3段階、即ち吸着と
真空排気(evacuation)と仕込み(吸着圧力
に到達するまで)から成っているが利用できる吸着装置
は2基のみであることから、いくつかの段階は互いの中
に滑らかに流れるか或は非常に短期間保持される。吸着
はたいてい0.1から1バールで行われていることか
ら、空気で周囲圧力より高い圧力を作り出している過程
で既に所望生成物が生じる。
慮して、2基の吸着装置と1基の産物緩衝装置(pro
duct buffer)を伴うVSAシステムが一般
的であった。この場合の吸着過程も3段階、即ち吸着と
真空排気(evacuation)と仕込み(吸着圧力
に到達するまで)から成っているが利用できる吸着装置
は2基のみであることから、いくつかの段階は互いの中
に滑らかに流れるか或は非常に短期間保持される。吸着
はたいてい0.1から1バールで行われていることか
ら、空気で周囲圧力より高い圧力を作り出している過程
で既に所望生成物が生じる。
【0007】空気のO2を豊富にするPVSAプロセス
の場合の2床吸着装置の時間的工程順はしばしば下記の
通りである(また図9および図10も参照): a)吸着装置A内における吸着を例えば圧力過剰分が
0.4バール(圧力=PAd-max)の圧力で終了し、 b)吸着装置Aから2番目の吸着装置Bに移す段階(い
わゆるBFP段階:時間t1)で、ほぼ周囲圧力または
若干低い圧力、例えば700ミリバール(圧力=
PDes,0)にまで降下させると同時に吸着装置Bを真空
排気し、そしてB内の圧力をそれの最低圧力(圧力=P
Des,min)からより高い圧力、例えば200から400
ミリバール(圧力=PBFP)にまで上昇させ、 c)吸着装置Aの真空排気(時間t2、t3および
t4);真空ポンプ「V」を用いて600から200ミ
リバール(絶対)(圧力=PDes,min)にすることでN
2の脱離をフラッシュガス(flush gas)の使
用有り無しで行い、 d)移す段階(bを参照)、これは吸着装置A内の圧力
が例えば200から400ミリバールから上昇する結果
として起こる(時間t5)、 e)送風機「G」による空気を用いて吸着装置A内の圧
力がほぼ周囲圧力になりかつ吸着圧力になるまで行う残
りの仕込み段階[任意に追加的に「G」を迂回させても
よく、部分的に第一仕込み段階中に行い、そしてまた緩
衝装置「R」から来るO2産物も用いて行う](時間
t6);圧縮装置「K」を用いて産物ガスを貯蔵装置
「R」から連続的に取り出す。
の場合の2床吸着装置の時間的工程順はしばしば下記の
通りである(また図9および図10も参照): a)吸着装置A内における吸着を例えば圧力過剰分が
0.4バール(圧力=PAd-max)の圧力で終了し、 b)吸着装置Aから2番目の吸着装置Bに移す段階(い
わゆるBFP段階:時間t1)で、ほぼ周囲圧力または
若干低い圧力、例えば700ミリバール(圧力=
PDes,0)にまで降下させると同時に吸着装置Bを真空
排気し、そしてB内の圧力をそれの最低圧力(圧力=P
Des,min)からより高い圧力、例えば200から400
ミリバール(圧力=PBFP)にまで上昇させ、 c)吸着装置Aの真空排気(時間t2、t3および
t4);真空ポンプ「V」を用いて600から200ミ
リバール(絶対)(圧力=PDes,min)にすることでN
2の脱離をフラッシュガス(flush gas)の使
用有り無しで行い、 d)移す段階(bを参照)、これは吸着装置A内の圧力
が例えば200から400ミリバールから上昇する結果
として起こる(時間t5)、 e)送風機「G」による空気を用いて吸着装置A内の圧
力がほぼ周囲圧力になりかつ吸着圧力になるまで行う残
りの仕込み段階[任意に追加的に「G」を迂回させても
よく、部分的に第一仕込み段階中に行い、そしてまた緩
衝装置「R」から来るO2産物も用いて行う](時間
t6);圧縮装置「K」を用いて産物ガスを貯蔵装置
「R」から連続的に取り出す。
【0008】空気送風機および真空ポンプに与えるべき
エネルギーはO2の収率、即ち使用する空気に入ってい
るO2量に対する産物ガスに入っているO2量の比率の直
接的な影響を受けることから、適切な手段を用いて、吸
着出口ゾーン内のO2濃度が入り口ゾーン内のO2濃度と
本質的に等しくなるような様式で真空排気前の過程を終
結させる試みが行われてきた。これは、出口ゾーンから
出て来るガスを入り口ゾーンに再循環させる方法に当て
はまる。
エネルギーはO2の収率、即ち使用する空気に入ってい
るO2量に対する産物ガスに入っているO2量の比率の直
接的な影響を受けることから、適切な手段を用いて、吸
着出口ゾーン内のO2濃度が入り口ゾーン内のO2濃度と
本質的に等しくなるような様式で真空排気前の過程を終
結させる試みが行われてきた。これは、出口ゾーンから
出て来るガスを入り口ゾーンに再循環させる方法に当て
はまる。
【0009】英国特許出願公開第1,559,325号
(特に図7および8;吸着装置を3基用いた吸着方法)
では、例えば吸着装置Aによる吸着の終了時に、産物ガ
スO2に比較してO2量が低いガスを、吸着圧力で既に仕
込み終わった吸着装置Bに吸着圧力で入り口ゾーンに供
給して戻し、そして産物ガスを吸着装置Bの出口ゾーン
から取り出している。再循環量および時間はO2の生成
速度で決定されることから、再循環の時間は比較的長
い。このような方法は、産物を再循環させる時間によっ
て吸着装置を加圧する時間が短くなるか或はポンプ排気
(pumping−out)時間が短くなると言った重
大な欠点を有する。加うるに、ゼオライト原料の上流に
位置させた乾燥ゾーンに通して乾燥ガスを導いており、
その結果として、水分が上記ゼオライト原料のN2−O2
分離ゾーンに入り込んでしまう。
(特に図7および8;吸着装置を3基用いた吸着方法)
では、例えば吸着装置Aによる吸着の終了時に、産物ガ
スO2に比較してO2量が低いガスを、吸着圧力で既に仕
込み終わった吸着装置Bに吸着圧力で入り口ゾーンに供
給して戻し、そして産物ガスを吸着装置Bの出口ゾーン
から取り出している。再循環量および時間はO2の生成
速度で決定されることから、再循環の時間は比較的長
い。このような方法は、産物を再循環させる時間によっ
て吸着装置を加圧する時間が短くなるか或はポンプ排気
(pumping−out)時間が短くなると言った重
大な欠点を有する。加うるに、ゼオライト原料の上流に
位置させた乾燥ゾーンに通して乾燥ガスを導いており、
その結果として、水分が上記ゼオライト原料のN2−O2
分離ゾーンに入り込んでしまう。
【0010】英国特許出願公開第2,154,465号
(特に図3)に示されている吸着装置を3基用いた系で
は、例えば吸着装置Aによる吸着の終了時に、吸着装置
A内の圧力が低下して吸着装置B内の圧力が上昇するよ
うに吸着装置Aの出口ゾーンから真空排気吸着装置Bの
入り口ゾーンに入る部分を横切る圧力補正が実施されて
いる。同じ方法がドイツ特許出願公開第30 30 0
81号(特に図1およびコラム4の18−47行)に記
述されている。このような方法の欠点は、移すべき量が
圧力開放の可能な圧力差によって前以て決定されていて
制限されること、即ち吸着を周囲圧力で行う場合には適
用不能な点である。
(特に図3)に示されている吸着装置を3基用いた系で
は、例えば吸着装置Aによる吸着の終了時に、吸着装置
A内の圧力が低下して吸着装置B内の圧力が上昇するよ
うに吸着装置Aの出口ゾーンから真空排気吸着装置Bの
入り口ゾーンに入る部分を横切る圧力補正が実施されて
いる。同じ方法がドイツ特許出願公開第30 30 0
81号(特に図1およびコラム4の18−47行)に記
述されている。このような方法の欠点は、移すべき量が
圧力開放の可能な圧力差によって前以て決定されていて
制限されること、即ち吸着を周囲圧力で行う場合には適
用不能な点である。
【0011】ヨーロッパ特許出願公開第0 334 4
95号にも同様に吸着装置を2基用いた系における圧力
補正システムが記述されている。真空排気開始時におけ
る排気は、例えば吸着装置Aの出口の所で吸着装置Aか
ら下降流様式で行われており、それと同時に、O2量が
低いガスが上昇流様式で取り出されて、既に真空排気さ
れている吸着装置Bの中にそれの入り口ゾーンに通して
上昇流様式で送り込まれている。この場合もまた再循環
ガス量は制限される、即ちポンプ排気過程における圧力
差の範囲内に限定され、これが欠点になっている。
95号にも同様に吸着装置を2基用いた系における圧力
補正システムが記述されている。真空排気開始時におけ
る排気は、例えば吸着装置Aの出口の所で吸着装置Aか
ら下降流様式で行われており、それと同時に、O2量が
低いガスが上昇流様式で取り出されて、既に真空排気さ
れている吸着装置Bの中にそれの入り口ゾーンに通して
上昇流様式で送り込まれている。この場合もまた再循環
ガス量は制限される、即ちポンプ排気過程における圧力
差の範囲内に限定され、これが欠点になっている。
【0012】この上に記述した公知方法は、いわゆる
「流出ガス」が乾燥していて再循環過程中に乾燥ゾーン
に通して導かれる結果として水先端部(water f
ront)がゼオライトゾーンの中に押し込まれると言
った欠点を有する。加うるに、再循環に伴うガス量が向
流圧力開放の前以て決められた圧力差によって制限され
るか、或はパラメーター、例えば産物の量などが前以て
決められている結果として再循環時間があまりにも長す
ぎる。その結果として、空気のO2を豊富にする場合、
O2量が低い(21から90%)ガスの可能な量全体を
再循環させるのは不可能である。
「流出ガス」が乾燥していて再循環過程中に乾燥ゾーン
に通して導かれる結果として水先端部(water f
ront)がゼオライトゾーンの中に押し込まれると言
った欠点を有する。加うるに、再循環に伴うガス量が向
流圧力開放の前以て決められた圧力差によって制限され
るか、或はパラメーター、例えば産物の量などが前以て
決められている結果として再循環時間があまりにも長す
ぎる。その結果として、空気のO2を豊富にする場合、
O2量が低い(21から90%)ガスの可能な量全体を
再循環させるのは不可能である。
【0013】従って、本目的は、乾燥ガスをいわゆる湿
った乾燥ゾーンに通すことを回避しかつO2量が低い産
物ガス(残存産物ガス)を再循環させることに関する欠
点、例えば時間の損失または再循環ガス量の制限などに
関する欠点を回避するように、吸着分離を簡潔かつエネ
ルギーに関して好ましい様式で実施することを可能にす
る2床吸着装置系内で圧力スゥイング吸着を行うことを
通して、気体混合物、特に空気の改良分離方法を利用す
ることができるようにすることであった。
った乾燥ゾーンに通すことを回避しかつO2量が低い産
物ガス(残存産物ガス)を再循環させることに関する欠
点、例えば時間の損失または再循環ガス量の制限などに
関する欠点を回避するように、吸着分離を簡潔かつエネ
ルギーに関して好ましい様式で実施することを可能にす
る2床吸着装置系内で圧力スゥイング吸着を行うことを
通して、気体混合物、特に空気の改良分離方法を利用す
ることができるようにすることであった。
【0014】本発明に従う方法を用いることで上記目的
を達成することができた。
を達成することができた。
【0015】本発明の主題は、酸素産物の流れを連続的
に一定に維持するための産物緩衝装置を伴う2床吸着装
置系[この2床吸着装置の床に入っているモレキュラー
シーブゼオライトは同種原料の状態で存在しているか或
はいろいろな種類のゼオライトから成る数種の異なる原
料の状態で存在しており、そして任意に、水に関して選
択性を示す吸着剤の層が該原料の上流に位置していても
よい]内で、吸着中には空気をほぼ周囲圧力下でか或は
圧力過剰分が0.5バール以下の圧力下で第一吸着装置
Aに導きそして吸着装置Aの出口末端の所でO2濃度が
60から96体積%である酸素量が高い産物ガスが得ら
れるように該モレキュラーシーブゼオライトに窒素を酸
素を基準にして優先的に吸着させそして吸着後には真空
排気を100ミリバールから600ミリバール(絶対)
の最低圧力で吸着に対して向流でかけることによって窒
素および任意に水分の脱離を起こさせることを通して、
モレキュラーシーブゼオライトによる吸着で空気の分離
を行う方法であり、この方法は、 a)吸着装置Aにおける吸着後、該装置の圧力を、吸着
段階後の最終値から、A)周囲圧力にか、B)600ミ
リバールに及ぶ低圧にか、或はC)圧力過剰分が0.2
バール以下の圧力にまで降下させ、そしてこの過程中、
該装置の入り口末端をa)閉じるか、b)周囲に関係さ
せて開放するか、或はc)空気圧縮装置を連結したまま
にし、残存産物ガスを吸着装置Aの出口末端から出させ
て吸着装置Bの出口末端に流れ込ませるが、この段階の
開始時における吸着装置Bの圧力を100から600ミ
リバールの最低圧力レベルにしておき、そして任意に、
吸着装置Bの真空排気をそれの入り口末端を通して同時
に行うことで吸着装置B内の圧力をa)上昇させるか、
b)一定のままにするか、或はc)降下させてもよく、 b)追加的圧縮を用いないで周囲空気を吸着装置Aの中
にそれの入り口末端に通して導入するが、この過程中、
吸着装置A内の圧力をほぼ周囲圧力のままにするか或は
吸着装置Aに仕込みを行って周囲圧力にし、O2が豊富
なガスを吸着装置Aの出口末端の所で取り出して吸着装
置Bの中にそれの入り口末端に通してほぼ周囲圧力に到
達するまで導入し、そして任意に、追加的圧縮を用いる
ことなく追加的周囲空気を吸着装置Bの入り口末端の中
に直接導入してもよく、 c)周囲空気を圧縮で吸着装置Bの中にそれの入り口末
端に通して導き、そして同時に、産物ガスを産物緩衝装
置に送り込み、任意に、該産物緩衝装置から出て来る産
物ガスを吸着装置Bの出口末端に送り込むと同時に吸着
装置Aの真空排気をそれの入り口末端を通して行っても
よく、 d)吸着装置Aの真空排気を100から600ミリバー
ルの最低圧力になるまで行うと同時に吸着装置B内では
吸着装置Bの入り口末端を通して圧縮で導入された周囲
空気の吸着を起こさせ、そして産物ガスを吸着装置Bの
出口末端に通して産物緩衝装置の中に送り込み、そして
任意に、吸着装置Aに産物ガスをそれの出口末端に通し
て送り込むことでそれのフラッシュ洗浄を同時に行って
もよい、ことを特徴とする。
に一定に維持するための産物緩衝装置を伴う2床吸着装
置系[この2床吸着装置の床に入っているモレキュラー
シーブゼオライトは同種原料の状態で存在しているか或
はいろいろな種類のゼオライトから成る数種の異なる原
料の状態で存在しており、そして任意に、水に関して選
択性を示す吸着剤の層が該原料の上流に位置していても
よい]内で、吸着中には空気をほぼ周囲圧力下でか或は
圧力過剰分が0.5バール以下の圧力下で第一吸着装置
Aに導きそして吸着装置Aの出口末端の所でO2濃度が
60から96体積%である酸素量が高い産物ガスが得ら
れるように該モレキュラーシーブゼオライトに窒素を酸
素を基準にして優先的に吸着させそして吸着後には真空
排気を100ミリバールから600ミリバール(絶対)
の最低圧力で吸着に対して向流でかけることによって窒
素および任意に水分の脱離を起こさせることを通して、
モレキュラーシーブゼオライトによる吸着で空気の分離
を行う方法であり、この方法は、 a)吸着装置Aにおける吸着後、該装置の圧力を、吸着
段階後の最終値から、A)周囲圧力にか、B)600ミ
リバールに及ぶ低圧にか、或はC)圧力過剰分が0.2
バール以下の圧力にまで降下させ、そしてこの過程中、
該装置の入り口末端をa)閉じるか、b)周囲に関係さ
せて開放するか、或はc)空気圧縮装置を連結したまま
にし、残存産物ガスを吸着装置Aの出口末端から出させ
て吸着装置Bの出口末端に流れ込ませるが、この段階の
開始時における吸着装置Bの圧力を100から600ミ
リバールの最低圧力レベルにしておき、そして任意に、
吸着装置Bの真空排気をそれの入り口末端を通して同時
に行うことで吸着装置B内の圧力をa)上昇させるか、
b)一定のままにするか、或はc)降下させてもよく、 b)追加的圧縮を用いないで周囲空気を吸着装置Aの中
にそれの入り口末端に通して導入するが、この過程中、
吸着装置A内の圧力をほぼ周囲圧力のままにするか或は
吸着装置Aに仕込みを行って周囲圧力にし、O2が豊富
なガスを吸着装置Aの出口末端の所で取り出して吸着装
置Bの中にそれの入り口末端に通してほぼ周囲圧力に到
達するまで導入し、そして任意に、追加的圧縮を用いる
ことなく追加的周囲空気を吸着装置Bの入り口末端の中
に直接導入してもよく、 c)周囲空気を圧縮で吸着装置Bの中にそれの入り口末
端に通して導き、そして同時に、産物ガスを産物緩衝装
置に送り込み、任意に、該産物緩衝装置から出て来る産
物ガスを吸着装置Bの出口末端に送り込むと同時に吸着
装置Aの真空排気をそれの入り口末端を通して行っても
よく、 d)吸着装置Aの真空排気を100から600ミリバー
ルの最低圧力になるまで行うと同時に吸着装置B内では
吸着装置Bの入り口末端を通して圧縮で導入された周囲
空気の吸着を起こさせ、そして産物ガスを吸着装置Bの
出口末端に通して産物緩衝装置の中に送り込み、そして
任意に、吸着装置Aに産物ガスをそれの出口末端に通し
て送り込むことでそれのフラッシュ洗浄を同時に行って
もよい、ことを特徴とする。
【0016】特に好適な様式では、本発明に従う方法
を、 a)吸着装置Aにおける吸着後、吸着装置Bの圧力をそ
れの出口末端を通して100から600ミリバールの最
低圧力レベルにしておいて残存産物ガスを吸着装置Aの
出口末端から出させて吸着装置Bに入れる過程で吸着装
置Aの圧力を圧力過剰分が0.2から0.5バールの範
囲の圧力からほぼ周囲圧力にまで降下させ、そして任意
に、吸着装置Bの真空排気をそれの入り口末端を通して
同時に行うことで吸着装置B内の圧力を最大で周囲圧力
の90%まで上昇させるか或は一定のままにしてもよ
く、 b)追加的圧縮を用いないで周囲空気を吸着装置Aの中
にそれの入り口末端に通して導入し、O2が豊富なガス
を吸着装置Aの出口末端の所で取り出して吸着装置Bの
中にそれの入り口末端に通してほぼ周囲圧力に到達する
まで導入し、そして任意に、追加的圧縮を用いることな
く追加的周囲空気を吸着装置Bに直接導入してもよく、 c)周囲空気を圧縮で吸着装置Bの中にそれの入り口末
端に通して導き、そして任意に、産物ガスを該産物緩衝
装置から吸着装置Bにそれの出口末端に通して同時に導
入すると同時に吸着装置Aの真空排気を行ってもよく、 d)吸着装置Aの真空排気を100から600ミリバー
ルの最低圧力になるまで行うと同時に吸着装置B内では
吸着装置Bの入り口末端を通して圧縮で導入された周囲
空気の吸着を起こさせ、そして産物ガスを吸着装置Bの
出口末端に通して産物緩衝装置の中に送り込み、そして
任意に、吸着装置Aに産物ガスをそれの出口末端に通し
て送り込むことでそれのフラッシュ洗浄を同時に行って
もよい、 ような様式で実施する。
を、 a)吸着装置Aにおける吸着後、吸着装置Bの圧力をそ
れの出口末端を通して100から600ミリバールの最
低圧力レベルにしておいて残存産物ガスを吸着装置Aの
出口末端から出させて吸着装置Bに入れる過程で吸着装
置Aの圧力を圧力過剰分が0.2から0.5バールの範
囲の圧力からほぼ周囲圧力にまで降下させ、そして任意
に、吸着装置Bの真空排気をそれの入り口末端を通して
同時に行うことで吸着装置B内の圧力を最大で周囲圧力
の90%まで上昇させるか或は一定のままにしてもよ
く、 b)追加的圧縮を用いないで周囲空気を吸着装置Aの中
にそれの入り口末端に通して導入し、O2が豊富なガス
を吸着装置Aの出口末端の所で取り出して吸着装置Bの
中にそれの入り口末端に通してほぼ周囲圧力に到達する
まで導入し、そして任意に、追加的圧縮を用いることな
く追加的周囲空気を吸着装置Bに直接導入してもよく、 c)周囲空気を圧縮で吸着装置Bの中にそれの入り口末
端に通して導き、そして任意に、産物ガスを該産物緩衝
装置から吸着装置Bにそれの出口末端に通して同時に導
入すると同時に吸着装置Aの真空排気を行ってもよく、 d)吸着装置Aの真空排気を100から600ミリバー
ルの最低圧力になるまで行うと同時に吸着装置B内では
吸着装置Bの入り口末端を通して圧縮で導入された周囲
空気の吸着を起こさせ、そして産物ガスを吸着装置Bの
出口末端に通して産物緩衝装置の中に送り込み、そして
任意に、吸着装置Aに産物ガスをそれの出口末端に通し
て送り込むことでそれのフラッシュ洗浄を同時に行って
もよい、 ような様式で実施する。
【0017】モレキュラーシーブゼオライトを用いた2
床吸着装置系で空気のO2を豊富にする吸着方法を見い
出し、これを用いると、酸素の発生に要するエネルギー
要求量を通常方法に比較してかなり低くすることがで
き、ここでは、特に0.05から0.5バール(最大で
1バールの圧力過剰分)で行う空気分離の吸着段階後、
任意に圧力を吸着に関して向流方向で例えば周囲圧力に
まで下げてもよく、この圧力が開放されたガスを公知様
式で既に真空排気されている吸着装置に送り込んだ後、
周囲空気をその開放された吸着装置の中に吸着に関して
向流方向で送り込み、その吸着装置の出口の所でO2含
有ガスを取り出し、そしてこの流出ガスを、真空排気を
受けさせそして任意にある程度再加圧しておいてもよい
吸着装置の入り口ゾーンに導入し、そして仕込みを、仕
込み圧力であるほぼ周囲圧力で終了させるか或は仕込み
ガスのO2濃度が15から90%になるように終了さ
せ、それによって、任意に、仕込み中、周囲空気をその
加圧すべき吸着装置の入り口ゾーンの中に同時に流れ込
ませてもよく、次にこの吸着装置に更に周囲空気を仕込
みかつ同時に緩衝装置から来るO2を吸着に対して向流
で仕込むことで最終圧力を0.03から0.5バール、
最大で1バール(圧力過剰分)にするが、それの最終圧
力に到達する前、即ち上記貯蔵装置の圧力が吸着装置の
圧力よりも若干低い時点で、O2産物を排出させて貯蔵
装置の中に送り込み、この期間の間、2番目の吸着装置
を向流で真空排気し、そして真空排気期間全体に渡って
か或は真空排気段階の終了時に、空気の分離に対して向
流でO2産物ガスを用いてフラッシュ洗浄を行う。
床吸着装置系で空気のO2を豊富にする吸着方法を見い
出し、これを用いると、酸素の発生に要するエネルギー
要求量を通常方法に比較してかなり低くすることがで
き、ここでは、特に0.05から0.5バール(最大で
1バールの圧力過剰分)で行う空気分離の吸着段階後、
任意に圧力を吸着に関して向流方向で例えば周囲圧力に
まで下げてもよく、この圧力が開放されたガスを公知様
式で既に真空排気されている吸着装置に送り込んだ後、
周囲空気をその開放された吸着装置の中に吸着に関して
向流方向で送り込み、その吸着装置の出口の所でO2含
有ガスを取り出し、そしてこの流出ガスを、真空排気を
受けさせそして任意にある程度再加圧しておいてもよい
吸着装置の入り口ゾーンに導入し、そして仕込みを、仕
込み圧力であるほぼ周囲圧力で終了させるか或は仕込み
ガスのO2濃度が15から90%になるように終了さ
せ、それによって、任意に、仕込み中、周囲空気をその
加圧すべき吸着装置の入り口ゾーンの中に同時に流れ込
ませてもよく、次にこの吸着装置に更に周囲空気を仕込
みかつ同時に緩衝装置から来るO2を吸着に対して向流
で仕込むことで最終圧力を0.03から0.5バール、
最大で1バール(圧力過剰分)にするが、それの最終圧
力に到達する前、即ち上記貯蔵装置の圧力が吸着装置の
圧力よりも若干低い時点で、O2産物を排出させて貯蔵
装置の中に送り込み、この期間の間、2番目の吸着装置
を向流で真空排気し、そして真空排気期間全体に渡って
か或は真空排気段階の終了時に、空気の分離に対して向
流でO2産物ガスを用いてフラッシュ洗浄を行う。
【0018】本発明に従う方法では、乾燥ガスを乾燥ゾ
ーンの入り口側に再循環させて導入すると言った欠点が
回避される。再循環の結果として生じる時間損失も再循
環ガスの量が制限されることもない。
ーンの入り口側に再循環させて導入すると言った欠点が
回避される。再循環の結果として生じる時間損失も再循
環ガスの量が制限されることもない。
【0019】O2生産(吸着)終了時そして任意に移す
段階で行う、O2量が低い産物ガス(残存産物ガス)の
再循環は、いろいろな方法で実施可能である。
段階で行う、O2量が低い産物ガス(残存産物ガス)の
再循環は、いろいろな方法で実施可能である。
【0020】例として個々の工程段階の半サイクルを図
5から図8に図式的に示す。加うるに、吸着装置内の圧
力プロファイルも図式的に示す。
5から図8に図式的に示す。加うるに、吸着装置内の圧
力プロファイルも図式的に示す。
【0021】図5の態様:時間t1において、吸着装置
「A」はそれのO2生産段階を約1気圧で終了し、空気
は、約1気圧で、吸着装置「A」による吸着に対して向
流で流れ続け、O2を含有するガスが上記吸着装置の出
口の所で取り出されて、上記ガスは吸着装置「B」を通
って吸着に対して向流で導かれるが、吸着装置「B」の
所の真空ポンプはまだ連結したままであり、「デカント
ガス(decant gas)の量」は、充分なフラッ
シュ洗浄作用が起こるに充分な量であり、その結果とし
て、上記吸着装置内の圧力は恐らく全くさらなる低下を
示さないで一定のままであるか、或は上昇し得る。次の
段階(時間t2)において、空気は例えば吸着装置
「A」の中を向流で導入され続け、O2量が低いガスが
上記吸着装置の出口の所で取り出されて、このガスが吸
着に関して向流で吸着装置「B」の中に送り込まれるこ
とで、吸着装置「B」が吸着圧力になり、それと同時
に、必要に応じて、周囲空気が吸着装置「B」の中に吸
着に関して向流で送り込まれる。O2量が低いガスを放
出した吸着装置「A」内の圧力はほぼ周囲圧力になる。
運び出されるところの、O2量が低いガスの量は、次の
分離で充分な量の周囲空気を利用できることから、それ
の全体量の点で制限されない。O2量が低いガスを生じ
させる時の圧力は周囲圧力であることから、その系の圧
力が失われる結果として、O2量が低いガスを放出した
吸着装置内の低い圧力が上昇し得る(図5、時間t2参
照)。次に、時間t3において、吸着装置「A」の真空
排気を吸着に対して向流で行い、ほぼ周囲圧力の空気が
吸着装置「B」の中に送り込まれかつO2産物が産物貯
蔵装置に送り込まれる。吸着段階および真空排気段階が
終了した時点で、任意に、吸着装置「A」を産物の部分
流れでフラッシュ洗浄してもよい(時間t4)。
「A」はそれのO2生産段階を約1気圧で終了し、空気
は、約1気圧で、吸着装置「A」による吸着に対して向
流で流れ続け、O2を含有するガスが上記吸着装置の出
口の所で取り出されて、上記ガスは吸着装置「B」を通
って吸着に対して向流で導かれるが、吸着装置「B」の
所の真空ポンプはまだ連結したままであり、「デカント
ガス(decant gas)の量」は、充分なフラッ
シュ洗浄作用が起こるに充分な量であり、その結果とし
て、上記吸着装置内の圧力は恐らく全くさらなる低下を
示さないで一定のままであるか、或は上昇し得る。次の
段階(時間t2)において、空気は例えば吸着装置
「A」の中を向流で導入され続け、O2量が低いガスが
上記吸着装置の出口の所で取り出されて、このガスが吸
着に関して向流で吸着装置「B」の中に送り込まれるこ
とで、吸着装置「B」が吸着圧力になり、それと同時
に、必要に応じて、周囲空気が吸着装置「B」の中に吸
着に関して向流で送り込まれる。O2量が低いガスを放
出した吸着装置「A」内の圧力はほぼ周囲圧力になる。
運び出されるところの、O2量が低いガスの量は、次の
分離で充分な量の周囲空気を利用できることから、それ
の全体量の点で制限されない。O2量が低いガスを生じ
させる時の圧力は周囲圧力であることから、その系の圧
力が失われる結果として、O2量が低いガスを放出した
吸着装置内の低い圧力が上昇し得る(図5、時間t2参
照)。次に、時間t3において、吸着装置「A」の真空
排気を吸着に対して向流で行い、ほぼ周囲圧力の空気が
吸着装置「B」の中に送り込まれかつO2産物が産物貯
蔵装置に送り込まれる。吸着段階および真空排気段階が
終了した時点で、任意に、吸着装置「A」を産物の部分
流れでフラッシュ洗浄してもよい(時間t4)。
【0022】別の態様では、図6に従い、工程全体を図
5の方法に類似させて進行させるが、ここでは単に、空
気の分離を周囲圧力より高い圧力、例えば0.1から
0.6バール高い圧力で実施する。次に、吸着段階後、
吸着装置「A」と「B」を出口末端の所で連結させて、
いわゆるBFP段階を起こさせる、即ち吸着装置「B」
をまだ真空ポンプにつなげたままにしながら吸着装置
「A」の圧力を吸着装置「B」内の周囲圧力にまで降下
させ、それによって吸着装置「B」内の圧力は上昇し得
る。また、吸着装置「A」の開放を2段階で行うことも
可能である、即ち最初にBFP段階を例えば0.5バー
ルから0.2バールで始めて、「B」に真空ポンプを連
結しないで、「A」内の圧力が周囲圧力になるまで圧力
補正(PB段階)を継続することも可能である。
5の方法に類似させて進行させるが、ここでは単に、空
気の分離を周囲圧力より高い圧力、例えば0.1から
0.6バール高い圧力で実施する。次に、吸着段階後、
吸着装置「A」と「B」を出口末端の所で連結させて、
いわゆるBFP段階を起こさせる、即ち吸着装置「B」
をまだ真空ポンプにつなげたままにしながら吸着装置
「A」の圧力を吸着装置「B」内の周囲圧力にまで降下
させ、それによって吸着装置「B」内の圧力は上昇し得
る。また、吸着装置「A」の開放を2段階で行うことも
可能である、即ち最初にBFP段階を例えば0.5バー
ルから0.2バールで始めて、「B」に真空ポンプを連
結しないで、「A」内の圧力が周囲圧力になるまで圧力
補正(PB段階)を継続することも可能である。
【0023】図7に従う別の態様の場合、吸着装置
「A」に移す段階「BFP」および/または「PB」は
0.1バールで終了していることから、時間t2におい
て、O2量が低いガスが吸着装置Aに再循環する再循環
は、例えば圧力過剰分が0.1バールの圧力がほぼ周囲
圧力にまで下がるように進行する。
「A」に移す段階「BFP」および/または「PB」は
0.1バールで終了していることから、時間t2におい
て、O2量が低いガスが吸着装置Aに再循環する再循環
は、例えば圧力過剰分が0.1バールの圧力がほぼ周囲
圧力にまで下がるように進行する。
【0024】図8に従う別の態様の場合、吸着装置
「A」に移す段階「BFP」および/または「PB」は
800ミリバール(絶対)で終了していることから、時
間t2において、O2量が低いガスが吸着装置Aに再循環
する再循環は、例えば圧力が800ミリバール(絶対)
から上昇するように進行する、即ち低い圧力から始まっ
てほぼ周囲圧力に上昇するように進行する。
「A」に移す段階「BFP」および/または「PB」は
800ミリバール(絶対)で終了していることから、時
間t2において、O2量が低いガスが吸着装置Aに再循環
する再循環は、例えば圧力が800ミリバール(絶対)
から上昇するように進行する、即ち低い圧力から始まっ
てほぼ周囲圧力に上昇するように進行する。
【0025】図1、2、3および4を参照することで、
本発明に従う方法の実施がより詳細に明らかになるであ
ろう。
本発明に従う方法の実施がより詳細に明らかになるであ
ろう。
【0026】図4に、吸着装置AとBおよびO2緩衝装
置の時間的圧力プロファイルを示し、図2および3に、
個々の時間における工程段階を示す。
置の時間的圧力プロファイルを示し、図2および3に、
個々の時間における工程段階を示す。
【0027】時間t1:バルブA4/B4を通して分圧
補正を行う。バルブA1/A2/A3/B1/B3/A
B1を閉じる。空気送風機「G」を回路内で作動させ
る。バルブB2を閉じてもよく、この場合には、「純
粋」な圧力補正(PB)が起こり、次に真空ポンプ
「V」を回路内で作動させる。しかしながら、また、追
加的にバルブB1を開ける結果として送風機「G」で空
気を入り口側から流れ込ませることでPB段階における
仕込みを加速させることも可能である。別法として、バ
ルブB2を開ける(BFPプロセス)結果として吸着装
置Bの真空排気を継続する。時間t1中、上記吸着装置
内の圧力はPDes,minからそれぞれPPBまたはPBFPに
上昇する。また、BFP段階とPB段階を組み合わせる
ことも可能である、即ち最初にBFP段階を行う(即ち
真空排気を含める)ことで吸着装置Aの圧力を周囲圧力
より高い圧力にまで下げた後、PB段階(即ち分圧補
正)を行うことで、吸着装置Aをほぼ周囲圧力(または
若干低い圧力)になるまで開放する。また、この移す段
階(PB)をバルブA4/B3そしてラインLPおよび
LRを通して行うことも可能であり、それと同時に任意
にまたバルブB1を通して吸着装置Bに空気を一杯にな
るまで充填してもよい。時間t1中、O2量が高い産物を
貯蔵装置「R」から取り出して消費者に届ける。
補正を行う。バルブA1/A2/A3/B1/B3/A
B1を閉じる。空気送風機「G」を回路内で作動させ
る。バルブB2を閉じてもよく、この場合には、「純
粋」な圧力補正(PB)が起こり、次に真空ポンプ
「V」を回路内で作動させる。しかしながら、また、追
加的にバルブB1を開ける結果として送風機「G」で空
気を入り口側から流れ込ませることでPB段階における
仕込みを加速させることも可能である。別法として、バ
ルブB2を開ける(BFPプロセス)結果として吸着装
置Bの真空排気を継続する。時間t1中、上記吸着装置
内の圧力はPDes,minからそれぞれPPBまたはPBFPに
上昇する。また、BFP段階とPB段階を組み合わせる
ことも可能である、即ち最初にBFP段階を行う(即ち
真空排気を含める)ことで吸着装置Aの圧力を周囲圧力
より高い圧力にまで下げた後、PB段階(即ち分圧補
正)を行うことで、吸着装置Aをほぼ周囲圧力(または
若干低い圧力)になるまで開放する。また、この移す段
階(PB)をバルブA4/B3そしてラインLPおよび
LRを通して行うことも可能であり、それと同時に任意
にまたバルブB1を通して吸着装置Bに空気を一杯にな
るまで充填してもよい。時間t1中、O2量が高い産物を
貯蔵装置「R」から取り出して消費者に届ける。
【0028】時間t2:バルブA4、B3およびA1、
B1を開け、残りのバルブを閉じる。空気圧縮装置をほ
ぼ周囲圧力で運転することで空気をバルブA1に通して
吸着装置Aの中に流れ込ませ、O2量が低いガスをバル
ブA4に通して吸着装置Aから出させて酸循環ラインL
Rに流れ込ませそしてバルブB3に通して吸着装置Bの
中に流れ込ませ、加うるに、任意に空気を空気ラインL
Lに通して吸着装置Bの中に流れ込ませてもよい(バル
ブB1)(=RBF段階)。この場合、真空ポンプを回
路内で作動させる。時間t2では、上記吸着装置に入っ
ている原料の圧力が失われる結果として、吸着装置A内
の圧力は容易に周囲圧力以下の圧力にまで低下し得る。
ラインLRを通って吸着装置Bに到達させるO2量が低い
ガスの量は、バルブB1の所を通る空気の量を調節する
ことによって調整可能であり、例えばB1の開放を遅ら
せることなどで調整可能である。この空気量は、最小抽
出(extraction)圧力、吸着装置「A」内の
開放圧力差、およびO2量が高い再循環ガスの量に依存
する。O2量が低いガスの再循環は、仕込み圧力がほぼ
周囲圧力になった時点でか或はそれのO2濃度が約15
−90体積%になった時点で終了する。仕込み圧力にお
ける差(周囲圧力と真空排気圧力の間の差)があまりに
も小さいことが理由で仕込みガスの量が制限されると、
また、仕込みガスの最終O2濃度が21%をずっと越え
る可能性もある。この場合には、空気による「B」の追
加的仕込みを行う必要はない。
B1を開け、残りのバルブを閉じる。空気圧縮装置をほ
ぼ周囲圧力で運転することで空気をバルブA1に通して
吸着装置Aの中に流れ込ませ、O2量が低いガスをバル
ブA4に通して吸着装置Aから出させて酸循環ラインL
Rに流れ込ませそしてバルブB3に通して吸着装置Bの
中に流れ込ませ、加うるに、任意に空気を空気ラインL
Lに通して吸着装置Bの中に流れ込ませてもよい(バル
ブB1)(=RBF段階)。この場合、真空ポンプを回
路内で作動させる。時間t2では、上記吸着装置に入っ
ている原料の圧力が失われる結果として、吸着装置A内
の圧力は容易に周囲圧力以下の圧力にまで低下し得る。
ラインLRを通って吸着装置Bに到達させるO2量が低い
ガスの量は、バルブB1の所を通る空気の量を調節する
ことによって調整可能であり、例えばB1の開放を遅ら
せることなどで調整可能である。この空気量は、最小抽
出(extraction)圧力、吸着装置「A」内の
開放圧力差、およびO2量が高い再循環ガスの量に依存
する。O2量が低いガスの再循環は、仕込み圧力がほぼ
周囲圧力になった時点でか或はそれのO2濃度が約15
−90体積%になった時点で終了する。仕込み圧力にお
ける差(周囲圧力と真空排気圧力の間の差)があまりに
も小さいことが理由で仕込みガスの量が制限されると、
また、仕込みガスの最終O2濃度が21%をずっと越え
る可能性もある。この場合には、空気による「B」の追
加的仕込みを行う必要はない。
【0029】時間t3:バルブA2を通して吸着装置A
の排気を行う。バルブB2/B3を閉じ、空気圧縮装置
を用いて吸着装置Bの加圧をバルブB1を通して行う
か、或は別の態様では、吸着装置BにO2産物を貯蔵装
置「R」からバルブB4およびAB1を通して同時に仕
込む。吸着装置Aの真空排気を行っている間、バルブA
B1/A4を通して産物を送り込むことで吸着装置Aの
フラッシュ洗浄を行ってもよい。上記貯蔵装置の圧力が
最大PAd-maxから最低圧力PR,mに降下した時点で時間
t3の終点に到達する。
の排気を行う。バルブB2/B3を閉じ、空気圧縮装置
を用いて吸着装置Bの加圧をバルブB1を通して行う
か、或は別の態様では、吸着装置BにO2産物を貯蔵装
置「R」からバルブB4およびAB1を通して同時に仕
込む。吸着装置Aの真空排気を行っている間、バルブA
B1/A4を通して産物を送り込むことで吸着装置Aの
フラッシュ洗浄を行ってもよい。上記貯蔵装置の圧力が
最大PAd-maxから最低圧力PR,mに降下した時点で時間
t3の終点に到達する。
【0030】時間t4:バルブA2を通して吸着装置A
の排気を最低圧力PDes,minになるまで行うと同時に産
物ガスを産物ガスラインLPからバルブA4に通して送
り込むことでそれのフラッシュ洗浄を行う。従って、バ
ルブA4を通って吸着装置Aに到達するフラッシュガス
の量は最適でなければならない。BFPプロセス(時間
t1参照)の場合、このフラッシュガス量は非常に少量
であるか、或はこれを省くことも可能である。バルブB
1により、吸着装置Bはそれの最終圧力になり続け、貯
蔵装置「R」へのO2産物の排出は時間t4以内に起こ
る。
の排気を最低圧力PDes,minになるまで行うと同時に産
物ガスを産物ガスラインLPからバルブA4に通して送
り込むことでそれのフラッシュ洗浄を行う。従って、バ
ルブA4を通って吸着装置Aに到達するフラッシュガス
の量は最適でなければならない。BFPプロセス(時間
t1参照)の場合、このフラッシュガス量は非常に少量
であるか、或はこれを省くことも可能である。バルブB
1により、吸着装置Bはそれの最終圧力になり続け、貯
蔵装置「R」へのO2産物の排出は時間t4以内に起こ
る。
【0031】この工程を、吸着装置AとBを交換して上
記工程段階(時間t1−t4)を同様な様式で継続する。
記工程段階(時間t1−t4)を同様な様式で継続する。
【0032】空気のO2を豊富にする本発明に従う方法
で用いるに適切な吸着剤の例は、O2に比較して優先的
なN2吸着を示すモレキュラーシーブゼオライト類、例
えばゼオライトAおよびゼオライトX[これらのNa形
態であるか、或は二価のアルカリ(土類金属)イオン
(例えばCa、Mg、Srまたはそれらの混合物)で置
換された形態か、或は一価イオン、例えばリチウムなど
で85%以上の置換率で置換された形態である]、また
は天然ゼオライト類、またはそれらの合成産物形態、例
えばモルデナイト(mordenite)またはチャバ
ザイト(chabazite)などである。
で用いるに適切な吸着剤の例は、O2に比較して優先的
なN2吸着を示すモレキュラーシーブゼオライト類、例
えばゼオライトAおよびゼオライトX[これらのNa形
態であるか、或は二価のアルカリ(土類金属)イオン
(例えばCa、Mg、Srまたはそれらの混合物)で置
換された形態か、或は一価イオン、例えばリチウムなど
で85%以上の置換率で置換された形態である]、また
は天然ゼオライト類、またはそれらの合成産物形態、例
えばモルデナイト(mordenite)またはチャバ
ザイト(chabazite)などである。
【0033】以下に示す実施例で本発明に従う方法がよ
り詳細に明らかになるであろう。
り詳細に明らかになるであろう。
【0034】
【実施例】全ての実施例で下記のデータを一定のままに
する: 貯蔵装置の容積:1.5m3 吸着装置の内径:550mm 吸着装置の充填高:1,800mm 周囲圧力:約1045ミリバール 吸着装置当たりの吸着剤仕込み量:吸着装置の下方末端
に中程度の孔を有するシリカゲルを56dm3位置さ
せ、残りの原料を、各場合とも、ヨーロッパ特許出願公
開第0 170 026号の実施例2に従って製造した
モレキュラーシーブCaゼオライトA(240kg)に
した。焼成を500から600℃の窒素流中で行う。C
aO/Al2O3のモル比は0.72であった。粒状化で
直径が1−2.5mmの球形態にした。
する: 貯蔵装置の容積:1.5m3 吸着装置の内径:550mm 吸着装置の充填高:1,800mm 周囲圧力:約1045ミリバール 吸着装置当たりの吸着剤仕込み量:吸着装置の下方末端
に中程度の孔を有するシリカゲルを56dm3位置さ
せ、残りの原料を、各場合とも、ヨーロッパ特許出願公
開第0 170 026号の実施例2に従って製造した
モレキュラーシーブCaゼオライトA(240kg)に
した。焼成を500から600℃の窒素流中で行う。C
aO/Al2O3のモル比は0.72であった。粒状化で
直径が1−2.5mmの球形態にした。
【0035】供給する粗ガスの温度を+30℃にし、常
に、30℃で周囲圧力下、水で75%飽和状態にした。
真空ポンプを通して機構で調整可能な2段階回転ピスト
ン送風機(「Roots」)を用いた。回転ピストン送
風機を用いて上記粗ガスを圧縮した。各場合とも圧力測
定を上記吸着装置の下方末端(空気が入る側)で行っ
た。
に、30℃で周囲圧力下、水で75%飽和状態にした。
真空ポンプを通して機構で調整可能な2段階回転ピスト
ン送風機(「Roots」)を用いた。回転ピストン送
風機を用いて上記粗ガスを圧縮した。各場合とも圧力測
定を上記吸着装置の下方末端(空気が入る側)で行っ
た。
【0036】1.03バール(絶対)における抽出容量
(extraction capacity)が20,
000m3/時であることが知られているRoots送
風機の特徴(=抽出圧力の関数としてのエネルギー要
求)を用いて、原料の上流における真空ポンプのエネル
ギー要求をポンプ排出中の圧力プロファイルから計算し
た。
(extraction capacity)が20,
000m3/時であることが知られているRoots送
風機の特徴(=抽出圧力の関数としてのエネルギー要
求)を用いて、原料の上流における真空ポンプのエネル
ギー要求をポンプ排出中の圧力プロファイルから計算し
た。
【0037】空気送風機のエネルギー要求を下記の式に
従って計算した:
従って計算した:
【0038】
【数1】
【0039】Pm=1045ミリバール Vo=1.03バール(絶対)における空気量(m3/
時) μ=効率=0.95実施例1 (比較) 図9に相当する装置を用いた。工程手順および圧力プロ
ファイルを図10に示す。
時) μ=効率=0.95実施例1 (比較) 図9に相当する装置を用いた。工程手順および圧力プロ
ファイルを図10に示す。
【0040】時間t1:0から4秒 空気圧縮装置を回路内に位置させた。吸着装置B内の圧
力をPDes,min=250ミリバールからPBFP=450
ミリバールにまで上昇させると同時に吸着装置A内の圧
力を最大圧力PAd-max=0.3バールを降下させること
で、ガスをバルブA03で吸着装置Aの上方末端からバ
ルブB03に通して吸着装置Bの中に送り込み、吸着装
置Bの真空排気を真空ポンプを用いて下方末端の所のバ
ルブB02を通して行った。吸着装置A内の圧力はP
Des,0=990ミリバールまで降下した。貯蔵装置Rが
産物ガスを約0.3バールの圧力で供給し、バルブAB
01を閉じた。
力をPDes,min=250ミリバールからPBFP=450
ミリバールにまで上昇させると同時に吸着装置A内の圧
力を最大圧力PAd-max=0.3バールを降下させること
で、ガスをバルブA03で吸着装置Aの上方末端からバ
ルブB03に通して吸着装置Bの中に送り込み、吸着装
置Bの真空排気を真空ポンプを用いて下方末端の所のバ
ルブB02を通して行った。吸着装置A内の圧力はP
Des,0=990ミリバールまで降下した。貯蔵装置Rが
産物ガスを約0.3バールの圧力で供給し、バルブAB
01を閉じた。
【0041】時間t2:4から9秒 バルブA02を通して吸着装置Aの真空排気を約650
ミリバールになるまで行い、この吸着装置の上方末端を
閉じた。空気圧縮装置「G」で空気をバルブB01に通
して吸着装置Bに下方末端から送り込むことでそれを1
気圧に加圧すると同時に、体積制御バルブAB01およ
びバルブB03を通して貯蔵装置「R」から来る気体を
用いて仕込みを行うことで、上記貯蔵装置内の圧力を約
0.3バールから約0.2バールまで降下させた。産物
ガスを貯蔵装置Rから継続して取り出した。
ミリバールになるまで行い、この吸着装置の上方末端を
閉じた。空気圧縮装置「G」で空気をバルブB01に通
して吸着装置Bに下方末端から送り込むことでそれを1
気圧に加圧すると同時に、体積制御バルブAB01およ
びバルブB03を通して貯蔵装置「R」から来る気体を
用いて仕込みを行うことで、上記貯蔵装置内の圧力を約
0.3バールから約0.2バールまで降下させた。産物
ガスを貯蔵装置Rから継続して取り出した。
【0042】時間t3:9から13秒 時間t2と同様に、吸着装置Aの真空排気を更に行い、
空気圧縮装置「G」から来る空気および貯蔵装置「R」
から来る産物を吸着装置Bに仕込んだ。貯蔵装置の圧力
および吸着装置B内の圧力が0.05バールに到達し
た。
空気圧縮装置「G」から来る空気および貯蔵装置「R」
から来る産物を吸着装置Bに仕込んだ。貯蔵装置の圧力
および吸着装置B内の圧力が0.05バールに到達し
た。
【0043】時間t4:13から30秒 吸着装置Aの真空排気を更に行うことで最終圧力である
250ミリバールに到達させた。空気圧縮装置「G」お
よびバルブB01により、空気を吸着装置Bの中に流れ
込ませ、産物ガスをバルブB03およびAB01に通し
て貯蔵装置Rの中に送り込むと、吸着装置A内の圧力お
よび貯蔵装置R内の圧力が最終圧力である0.3バール
に到達した。
250ミリバールに到達させた。空気圧縮装置「G」お
よびバルブB01により、空気を吸着装置Bの中に流れ
込ませ、産物ガスをバルブB03およびAB01に通し
て貯蔵装置Rの中に送り込むと、吸着装置A内の圧力お
よび貯蔵装置R内の圧力が最終圧力である0.3バール
に到達した。
【0044】単に吸着装置Aと吸着装置Bを交換して上
記過程を時間t1/t2/t3/t4に類似した様式で更に
進行させた。
記過程を時間t1/t2/t3/t4に類似した様式で更に
進行させた。
【0045】O2濃度が93%の産物ガスが貯蔵装置R
から19Nm3/時の量で得られた。O2の収率は46%
であり、真空ポンプの計算比エネルギー値は0.378
kWh/Nm3O2であり、ポンプおよび空気圧縮装置に
由来する全エネルギー値は0.472kWh/Nm3O2
であった。
から19Nm3/時の量で得られた。O2の収率は46%
であり、真空ポンプの計算比エネルギー値は0.378
kWh/Nm3O2であり、ポンプおよび空気圧縮装置に
由来する全エネルギー値は0.472kWh/Nm3O2
であった。
【0046】実施例2(比較) 図9に相当する装置を用いた。工程手順および圧力プロ
ファイルを図10に示す。しかしながら、時間t1中、
バルブA02およびB02により、真空ポンプと吸着装
置を切り離した。
ファイルを図10に示す。しかしながら、時間t1中、
バルブA02およびB02により、真空ポンプと吸着装
置を切り離した。
【0047】時間t1:0から4秒 バルブB01を開けた。真空排気された吸着装置Bの中
に周囲空気が流れ込んだ。バルブB02を閉じた。吸着
装置B内の圧力をPDes,min=250ミリバールからP
PB-1=650ミリバールにまで上昇させると同時に吸着
装置A内の圧力を最大値PAd-max=0.3バールからP
Des,0=990ミリバールまで降下させると、ガスが吸
着装置Aの上方末端からバルブA03を通って流れ出て
バルブB03を通って吸着装置Bの中に入った。貯蔵装
置Rが産物ガスを約0.3バールの圧力で供給し、バル
ブAB01を閉じた。
に周囲空気が流れ込んだ。バルブB02を閉じた。吸着
装置B内の圧力をPDes,min=250ミリバールからP
PB-1=650ミリバールにまで上昇させると同時に吸着
装置A内の圧力を最大値PAd-max=0.3バールからP
Des,0=990ミリバールまで降下させると、ガスが吸
着装置Aの上方末端からバルブA03を通って流れ出て
バルブB03を通って吸着装置Bの中に入った。貯蔵装
置Rが産物ガスを約0.3バールの圧力で供給し、バル
ブAB01を閉じた。
【0048】時間t2:4から9秒 バルブA02を通して吸着装置Aの真空排気を約650
ミリバールになるまで行い、この吸着装置の上方末端を
閉じた。空気圧縮装置で空気をバルブB01に通して吸
着装置Bに下方末端から送り込むことでそれを周囲圧力
にまで加圧すると同時に、体積制御バルブAB01およ
びバルブB03を通して貯蔵装置Rから来る気体を用い
て仕込みを行うことで、上記貯蔵装置内の圧力を約0.
3バールから約0.2バールまで降下させた。産物ガス
を貯蔵装置Rから継続して取り出した。
ミリバールになるまで行い、この吸着装置の上方末端を
閉じた。空気圧縮装置で空気をバルブB01に通して吸
着装置Bに下方末端から送り込むことでそれを周囲圧力
にまで加圧すると同時に、体積制御バルブAB01およ
びバルブB03を通して貯蔵装置Rから来る気体を用い
て仕込みを行うことで、上記貯蔵装置内の圧力を約0.
3バールから約0.2バールまで降下させた。産物ガス
を貯蔵装置Rから継続して取り出した。
【0049】時間t3:9から13秒 吸着装置Aの真空排気を更に行う。時間t2と同様に、
空気および貯蔵装置から来る産物ガスを吸着装置Bに仕
込んだ。貯蔵装置の圧力および吸着装置B内の圧力がほ
ぼ周囲圧力に到達した。
空気および貯蔵装置から来る産物ガスを吸着装置Bに仕
込んだ。貯蔵装置の圧力および吸着装置B内の圧力がほ
ぼ周囲圧力に到達した。
【0050】時間t4:13から30秒 吸着装置Aの真空排気を更に行うことで最終圧力である
250ミリバールに到達させた。バルブB01により、
空気を吸着装置Bの中に流れ込ませ、産物ガスをバルブ
B03およびAB01に通して貯蔵装置Rの中に送り込
むと、吸着装置A内の圧力および貯蔵装置R内の圧力が
最終圧力である0.3バールに到達した。この期間中、
吸着装置AをO2産物ガス、即ち体積制御バルブB03
を通してフラッシュ洗浄したが、このフラッシュガスの
量を、真空ポンプの下流における残存ガス中の最大O2
濃度が18体積%になることを基準にして調整した。
250ミリバールに到達させた。バルブB01により、
空気を吸着装置Bの中に流れ込ませ、産物ガスをバルブ
B03およびAB01に通して貯蔵装置Rの中に送り込
むと、吸着装置A内の圧力および貯蔵装置R内の圧力が
最終圧力である0.3バールに到達した。この期間中、
吸着装置AをO2産物ガス、即ち体積制御バルブB03
を通してフラッシュ洗浄したが、このフラッシュガスの
量を、真空ポンプの下流における残存ガス中の最大O2
濃度が18体積%になることを基準にして調整した。
【0051】単に吸着装置Aと吸着装置Bを交換して上
記過程を時間t1/t2/t3/t4に類似した様式で更に
進行させた。
記過程を時間t1/t2/t3/t4に類似した様式で更に
進行させた。
【0052】O2濃度が93%の産物ガスが貯蔵装置R
から17.68Nm3/時の量で得られた。O2の収率は
44%であり、真空ポンプの計算比エネルギー値は0.
379kWh/Nm3O2であり、ポンプおよび空気圧縮
装置に由来する全エネルギー値は0.468kWh/N
m3O2であった。
から17.68Nm3/時の量で得られた。O2の収率は
44%であり、真空ポンプの計算比エネルギー値は0.
379kWh/Nm3O2であり、ポンプおよび空気圧縮
装置に由来する全エネルギー値は0.468kWh/N
m3O2であった。
【0053】実施例3[比較;ヨーロッパ特許出願公開
第0 334 495号(図3d/4d)に従う] 図1に相当する装置を用いた。工程手順および圧力プロ
ファイルを図10に示す。
第0 334 495号(図3d/4d)に従う] 図1に相当する装置を用いた。工程手順および圧力プロ
ファイルを図10に示す。
【0054】時間t1:0から4秒 空気圧縮装置を回路内に位置させた。吸着装置B内の圧
力をPDes,min=250ミリバールからPBF-1=450
ミリバールにまで上昇させると同時に吸着装置A内の圧
力を最大圧力PAd-max=0.3バールから降下させるこ
とで、ガスをバルブA4で吸着装置Aの上方末端からバ
ルブB4に通して吸着装置Bの中に送り込み、吸着装置
Bの真空排気を真空ポンプを用いて下方末端の所のバル
ブB3を通して行った。吸着装置A内の圧力はPDes,0
=990ミリバールにまで降下した。貯蔵装置Rが産物
ガスを約0.3バールの圧力で供給し、バルブAB1を
閉じた。
力をPDes,min=250ミリバールからPBF-1=450
ミリバールにまで上昇させると同時に吸着装置A内の圧
力を最大圧力PAd-max=0.3バールから降下させるこ
とで、ガスをバルブA4で吸着装置Aの上方末端からバ
ルブB4に通して吸着装置Bの中に送り込み、吸着装置
Bの真空排気を真空ポンプを用いて下方末端の所のバル
ブB3を通して行った。吸着装置A内の圧力はPDes,0
=990ミリバールにまで降下した。貯蔵装置Rが産物
ガスを約0.3バールの圧力で供給し、バルブAB1を
閉じた。
【0055】時間t2a:4から6秒 バルブA2を通して吸着装置Aの真空排気を約650−
700ミリバールになるまで行い、吸着装置Aの上方末
端をバルブA4で開けた。吸着装置Aから来るO2量が
低いガスを吸着装置Bに仕込む、即ちバルブA4、ライ
ンLPおよびLRそして入り口バルブB3を通して仕込む
ことで約650ミリバールにした。産物ガスを貯蔵装置
Rから取り出した。
700ミリバールになるまで行い、吸着装置Aの上方末
端をバルブA4で開けた。吸着装置Aから来るO2量が
低いガスを吸着装置Bに仕込む、即ちバルブA4、ライ
ンLPおよびLRそして入り口バルブB3を通して仕込む
ことで約650ミリバールにした。産物ガスを貯蔵装置
Rから取り出した。
【0056】時間t2b:6から9秒 バルブA2を通して吸着装置Aの真空排気を約450ミ
リバールになるまで行い、吸着装置Aの上方末端を閉じ
た。空気圧縮装置で空気をバルブB1に通して吸着装置
Bに下方末端から送り込みそして貯蔵装置R(バルブA
B1およびB4)からガスを送り込むことでそれをほぼ
周囲圧力にまで加圧した。産物ガスが貯蔵装置Rから継
続して取り出され、貯蔵装置Rの圧力が0.15バール
まで降下した。
リバールになるまで行い、吸着装置Aの上方末端を閉じ
た。空気圧縮装置で空気をバルブB1に通して吸着装置
Bに下方末端から送り込みそして貯蔵装置R(バルブA
B1およびB4)からガスを送り込むことでそれをほぼ
周囲圧力にまで加圧した。産物ガスが貯蔵装置Rから継
続して取り出され、貯蔵装置Rの圧力が0.15バール
まで降下した。
【0057】時間t3:9から13秒 時間t2bと同様に、吸着装置Aの真空排気を更に行い、
空気および貯蔵装置から来る産物ガスを吸着装置Bに仕
込むと、貯蔵装置および吸着装置B内の圧力が0.05
バールに到達した。
空気および貯蔵装置から来る産物ガスを吸着装置Bに仕
込むと、貯蔵装置および吸着装置B内の圧力が0.05
バールに到達した。
【0058】時間t4:13から30秒 吸着装置Aの真空排気を継続しながらバルブA4を通し
てO2ガスをフラッシュガスとして入れることで、最終
圧力である250ミリバールに到達させた。バルブB1
により、空気を吸着装置「B」の中に流れ込ませ、産物
ガスをバルブB4およびAB1に通して貯蔵装置Rの中
に流れ込ませると、吸着装置A内の圧力および貯蔵装置
R内の圧力が最終圧力である0.3バールに到達した。
バルブA4でO2フラッシュガスの量を調整した。
てO2ガスをフラッシュガスとして入れることで、最終
圧力である250ミリバールに到達させた。バルブB1
により、空気を吸着装置「B」の中に流れ込ませ、産物
ガスをバルブB4およびAB1に通して貯蔵装置Rの中
に流れ込ませると、吸着装置A内の圧力および貯蔵装置
R内の圧力が最終圧力である0.3バールに到達した。
バルブA4でO2フラッシュガスの量を調整した。
【0059】単に吸着装置Aと吸着装置Bを交換して上
記過程を時間t1/t2a/t2/t3/t4に類似した様式
で更に進行させた。
記過程を時間t1/t2a/t2/t3/t4に類似した様式
で更に進行させた。
【0060】O2濃度が93%の産物ガスが貯蔵装置R
から19.8Nm3/時の量で得られた。O2の収率は4
7.5%であり、真空ポンプの計算比エネルギー値は
0.375kWh/Nm3O2であり、ポンプおよび空気
圧縮装置に由来する全エネルギー値は0.466kWh
/Nm3O2であった。
から19.8Nm3/時の量で得られた。O2の収率は4
7.5%であり、真空ポンプの計算比エネルギー値は
0.375kWh/Nm3O2であり、ポンプおよび空気
圧縮装置に由来する全エネルギー値は0.466kWh
/Nm3O2であった。
【0061】実施例4(本発明に従う) 図1に相当する装置を用いた。工程手順を図2/3に示
し、圧力プロファイルを図4に示す。時間t1中、バル
ブA2およびB2で真空ポンプと吸着装置を切り離し
た。
し、圧力プロファイルを図4に示す。時間t1中、バル
ブA2およびB2で真空ポンプと吸着装置を切り離し
た。
【0062】時間t1:0から4秒 A4およびB4を除き、吸着装置AおよびBのバルブを
全部閉じた。その結果として、O2量が高いガスは吸着
装置Aから出て前以て排気しておいた吸着装置Bの中に
流れ込んだ。吸着装置B内の圧力をPDes,min=250
ミリバールからPBP-1=650ミリバールにまで上昇さ
せると同時に吸着装置A内の圧力を圧力PAd-max=0.
3バール(過剰分)をPDes,0=周囲圧力にまで降下さ
せた。貯蔵装置Rが産物ガスを約0.3から0.25バ
ールの圧力で供給した。
全部閉じた。その結果として、O2量が高いガスは吸着
装置Aから出て前以て排気しておいた吸着装置Bの中に
流れ込んだ。吸着装置B内の圧力をPDes,min=250
ミリバールからPBP-1=650ミリバールにまで上昇さ
せると同時に吸着装置A内の圧力を圧力PAd-max=0.
3バール(過剰分)をPDes,0=周囲圧力にまで降下さ
せた。貯蔵装置Rが産物ガスを約0.3から0.25バ
ールの圧力で供給した。
【0063】時間t2:4から9秒 バルブA1を通して空気を吸着装置Aの中に流れ込ま
せ、O2量が低いガスをバルブA4に通して取り出して
ラインLPおよびLRそしてバルブB3に通して吸着装置
Bの中に流れ込ませることで、吸着装置Bの仕込みをほ
ぼ周囲圧力になるまで行った。同時に、体積制御バルブ
B1に通して空気を吸着装置Bに送り込むことでそれを
一杯にした。O2量が低いガスをラインLRに通して送り
込むことによる仕込みをO2濃度が20−40体積%に
なった時点で終了させた。産物ガスを貯蔵装置Rから継
続して取り出した。
せ、O2量が低いガスをバルブA4に通して取り出して
ラインLPおよびLRそしてバルブB3に通して吸着装置
Bの中に流れ込ませることで、吸着装置Bの仕込みをほ
ぼ周囲圧力になるまで行った。同時に、体積制御バルブ
B1に通して空気を吸着装置Bに送り込むことでそれを
一杯にした。O2量が低いガスをラインLRに通して送り
込むことによる仕込みをO2濃度が20−40体積%に
なった時点で終了させた。産物ガスを貯蔵装置Rから継
続して取り出した。
【0064】時間t3:9から13秒 バルブA2を通して吸着装置Aの真空排気を周囲圧力か
らほぼ650ミリバールになるまで行い、吸着装置Bに
空気をバルブB1に通して送り込みそして産物ガスを貯
蔵装置からバルブAB1およびB4を通して送り込むこ
とで貯蔵装置の圧力と吸着装置B内の圧力がほぼ同じレ
ベルに到達するまで仕込みを行った。産物ガスを貯蔵装
置Rから継続して取り出した。
らほぼ650ミリバールになるまで行い、吸着装置Bに
空気をバルブB1に通して送り込みそして産物ガスを貯
蔵装置からバルブAB1およびB4を通して送り込むこ
とで貯蔵装置の圧力と吸着装置B内の圧力がほぼ同じレ
ベルに到達するまで仕込みを行った。産物ガスを貯蔵装
置Rから継続して取り出した。
【0065】時間t4:13から30秒 吸着装置Aの真空排気を継続して最終圧力である250
ミリバールに到達させた。これに関連させて、N2の脱
離を補助する観点で、O2量が高いガスをバルブA4に
通して吸着装置Aの中に導入した、即ち真空ポンプの排
気ガスに含まれるO2濃度が18体積%の値を越えない
ような量で導入した。空気送風機を用いて、吸着装置B
の加圧をそれの最終圧力である0.3バールになるまで
行った。産物ガスをバルブB4およびAB1に通して貯
蔵装置Rの中に流れ込ませた。
ミリバールに到達させた。これに関連させて、N2の脱
離を補助する観点で、O2量が高いガスをバルブA4に
通して吸着装置Aの中に導入した、即ち真空ポンプの排
気ガスに含まれるO2濃度が18体積%の値を越えない
ような量で導入した。空気送風機を用いて、吸着装置B
の加圧をそれの最終圧力である0.3バールになるまで
行った。産物ガスをバルブB4およびAB1に通して貯
蔵装置Rの中に流れ込ませた。
【0066】単に吸着装置Aと吸着装置Bを交換して上
記過程を時間t1/t2/t3/t4に類似した様式で更に
進行させた。
記過程を時間t1/t2/t3/t4に類似した様式で更に
進行させた。
【0067】O2濃度が93%の産物ガスが貯蔵装置R
から22Nm3/時の量で得られた。O2の収率は48%
であり、真空ポンプの計算比エネルギー値は0.341
kWh/Nm3O2であり、ポンプおよび空気送風機に由
来する全エネルギー値は0.437kWh/Nm3O2で
あった。
から22Nm3/時の量で得られた。O2の収率は48%
であり、真空ポンプの計算比エネルギー値は0.341
kWh/Nm3O2であり、ポンプおよび空気送風機に由
来する全エネルギー値は0.437kWh/Nm3O2で
あった。
【0068】実施例5(本発明に従う) 図1に相当する装置を用いた。圧力プロファイルを図4
に示した。工程手順を図2/3に見ることができる。
に示した。工程手順を図2/3に見ることができる。
【0069】時間t1:0から4秒 バルブB2、B4およびA4のみを開けて、吸着装置B
を真空ポンプにつなげた。その結果として、O2量が高
いガスは吸着装置Aから出て前以て真空排気しておいた
吸着装置Bの中に流れ込んだ。吸着装置B内の圧力をP
Des,min=250ミリバールからPBFP-1=450ミリ
バールにまで上昇させると同時に吸着装置A内の圧力を
圧力PAd-max=0.3バールをPDes,0=周囲圧力にま
で降下させた。貯蔵装置Rが産物ガスを約0.3から
0.25バールの圧力で供給した。
を真空ポンプにつなげた。その結果として、O2量が高
いガスは吸着装置Aから出て前以て真空排気しておいた
吸着装置Bの中に流れ込んだ。吸着装置B内の圧力をP
Des,min=250ミリバールからPBFP-1=450ミリ
バールにまで上昇させると同時に吸着装置A内の圧力を
圧力PAd-max=0.3バールをPDes,0=周囲圧力にま
で降下させた。貯蔵装置Rが産物ガスを約0.3から
0.25バールの圧力で供給した。
【0070】時間t2:4から9秒 バルブA1を通して空気を吸着装置Aの中に流れ込ま
せ、O2量が低いガスをバルブA4に通して取り出して
ラインLPおよびLRそしてバルブB3に通して吸着装置
Bの中に流れ込ませてそれを加圧することで、吸着装置
Bの仕込みをほぼ周囲圧力になるまで行った。同時に、
体積制御バルブB1に通して空気を吸着装置Bに送り込
むことでそれを一杯にした。O2量が低いガスをライン
LRに通して送り込むことによる仕込みをO2濃度が20
−40体積%になった時点で終了させた。産物ガスを貯
蔵装置Rから継続して取り出した。
せ、O2量が低いガスをバルブA4に通して取り出して
ラインLPおよびLRそしてバルブB3に通して吸着装置
Bの中に流れ込ませてそれを加圧することで、吸着装置
Bの仕込みをほぼ周囲圧力になるまで行った。同時に、
体積制御バルブB1に通して空気を吸着装置Bに送り込
むことでそれを一杯にした。O2量が低いガスをライン
LRに通して送り込むことによる仕込みをO2濃度が20
−40体積%になった時点で終了させた。産物ガスを貯
蔵装置Rから継続して取り出した。
【0071】時間t3:9から13秒 バルブA2を通して吸着装置Aの真空排気を周囲圧力か
らほぼ650ミリバールになるまで行い、吸着装置Bに
空気をバルブB1に通して送り込みそして産物ガスを貯
蔵装置からバルブAB1およびB4を通して送り込むこ
とで貯蔵装置の圧力と吸着装置B内の圧力がほぼ同じレ
ベルに到達するまで仕込みを行った。産物ガスを貯蔵装
置Rから継続して取り出した。
らほぼ650ミリバールになるまで行い、吸着装置Bに
空気をバルブB1に通して送り込みそして産物ガスを貯
蔵装置からバルブAB1およびB4を通して送り込むこ
とで貯蔵装置の圧力と吸着装置B内の圧力がほぼ同じレ
ベルに到達するまで仕込みを行った。産物ガスを貯蔵装
置Rから継続して取り出した。
【0072】時間t4:13から30秒 吸着装置Aの真空排気を継続して最終圧力である250
ミリバールに到達させた。空気送風機を用いて、吸着装
置Bの加圧を最終圧力である0.3バールになるまで行
った。産物ガスをバルブB4およびAB1に通して貯蔵
装置Rの中に流れ込ませた。O2産物ガスによる吸着装
置Aのフラッシュ洗浄は行わなかった。
ミリバールに到達させた。空気送風機を用いて、吸着装
置Bの加圧を最終圧力である0.3バールになるまで行
った。産物ガスをバルブB4およびAB1に通して貯蔵
装置Rの中に流れ込ませた。O2産物ガスによる吸着装
置Aのフラッシュ洗浄は行わなかった。
【0073】単に吸着装置Aと吸着装置Bを交換して上
記過程を時間t1/t2/t3/t4に類似した様式で更に
進行させた。
記過程を時間t1/t2/t3/t4に類似した様式で更に
進行させた。
【0074】O2濃度が93%の産物ガスが貯蔵装置R
から22Nm3/時の量で得られた。O2の収率は51%
であり、真空ポンプの計算比エネルギー値は0.342
kWh/Nm3O2であり、ポンプおよび空気送風機に由
来する全エネルギー値は0.438kWh/Nm3O2で
あった。
から22Nm3/時の量で得られた。O2の収率は51%
であり、真空ポンプの計算比エネルギー値は0.342
kWh/Nm3O2であり、ポンプおよび空気送風機に由
来する全エネルギー値は0.438kWh/Nm3O2で
あった。
【0075】実施例6(本発明に従う) 図1に相当する装置を用いた。工程手順および圧力プロ
ファイルを図4に示す。経時的な工程手順および圧力プ
ロファイルを図2/3および4に見ることができる。
ファイルを図4に示す。経時的な工程手順および圧力プ
ロファイルを図2/3および4に見ることができる。
【0076】時間t1:0から4秒 バルブB2、B4およびA4のみを開けて、吸着装置B
を真空ポンプにつなげた。その結果として、O2量が高
いガスは吸着装置Aから出て前以て真空排気しておいた
吸着装置Bの中に流れ込んだ。吸着装置B内の圧力をP
Des,min=250ミリバールからPBFP-1=450ミリ
バールにまで上昇させると同時に吸着装置A内の圧力を
圧力PAd-max=0.3バールをPDes,0=1気圧にまで
降下させた。貯蔵装置Rが産物ガスを約0.3から0.
25バールの圧力で供給した。
を真空ポンプにつなげた。その結果として、O2量が高
いガスは吸着装置Aから出て前以て真空排気しておいた
吸着装置Bの中に流れ込んだ。吸着装置B内の圧力をP
Des,min=250ミリバールからPBFP-1=450ミリ
バールにまで上昇させると同時に吸着装置A内の圧力を
圧力PAd-max=0.3バールをPDes,0=1気圧にまで
降下させた。貯蔵装置Rが産物ガスを約0.3から0.
25バールの圧力で供給した。
【0077】時間t2:4から9秒 バルブA1を通して空気を吸着装置Aの中に流れ込ま
せ、O2量が低いガスをバルブA4に通して取り出すこ
とで、吸着装置Bの仕込みをほぼ周囲圧力になるまで行
った。それによって、吸着装置Bの加圧をラインLPお
よびLRそしてバルブB3に通して行った。同時に、体
積制御バルブB1に通して空気を吸着装置Bに送り込む
ことでそれを一杯にした。O2量が低いガスをラインLR
に通して送り込むことによる仕込みをO2濃度が20−
40体積%になった時点で終了させた。産物ガスを貯蔵
装置Rから継続して取り出した。
せ、O2量が低いガスをバルブA4に通して取り出すこ
とで、吸着装置Bの仕込みをほぼ周囲圧力になるまで行
った。それによって、吸着装置Bの加圧をラインLPお
よびLRそしてバルブB3に通して行った。同時に、体
積制御バルブB1に通して空気を吸着装置Bに送り込む
ことでそれを一杯にした。O2量が低いガスをラインLR
に通して送り込むことによる仕込みをO2濃度が20−
40体積%になった時点で終了させた。産物ガスを貯蔵
装置Rから継続して取り出した。
【0078】時間t3:9から13秒 バルブA2を通して吸着装置Aの真空排気を周囲圧力か
らほぼ650ミリバールになるまで行い、吸着装置Bに
空気をバルブB1に通して送り込みそして産物ガスを貯
蔵装置からバルブAB1およびB4を通して送り込むこ
とで貯蔵装置の圧力と吸着装置B内の圧力がほぼ同じレ
ベルに到達するまで仕込みを行った。産物ガスを貯蔵装
置Rから継続して取り出した。
らほぼ650ミリバールになるまで行い、吸着装置Bに
空気をバルブB1に通して送り込みそして産物ガスを貯
蔵装置からバルブAB1およびB4を通して送り込むこ
とで貯蔵装置の圧力と吸着装置B内の圧力がほぼ同じレ
ベルに到達するまで仕込みを行った。産物ガスを貯蔵装
置Rから継続して取り出した。
【0079】時間t4:13から30秒 吸着装置Aの真空排気を継続して最終圧力である250
ミリバールに到達させた。空気送風機を用いて、吸着装
置Bの加圧を最終圧力である0.3バールになるまで行
った。産物ガスをバルブB4およびAB1に通して貯蔵
装置Rの中に流れ込ませた。産物ガスをラインLPから
出させてバルブA4に通して吸着装置Aの中に流れ込ま
せることで、O2産物ガスによる吸着装置Aのフラッシ
ュ洗浄を行った。フラッシュガスの量をバルブA4で調
整した。
ミリバールに到達させた。空気送風機を用いて、吸着装
置Bの加圧を最終圧力である0.3バールになるまで行
った。産物ガスをバルブB4およびAB1に通して貯蔵
装置Rの中に流れ込ませた。産物ガスをラインLPから
出させてバルブA4に通して吸着装置Aの中に流れ込ま
せることで、O2産物ガスによる吸着装置Aのフラッシ
ュ洗浄を行った。フラッシュガスの量をバルブA4で調
整した。
【0080】単に吸着装置Aと吸着装置Bを交換して上
記過程を時間t1/t2/t3/t4に類似した様式で更に
進行させた。
記過程を時間t1/t2/t3/t4に類似した様式で更に
進行させた。
【0081】O2濃度が93%の産物ガスが貯蔵装置R
から22.5Nm3/時の量で得られた。O2の収率は5
2%であり、真空ポンプの計算比エネルギー値は0.3
39kWh/Nm3O2であり、ポンプおよび空気圧縮装
置に由来する全エネルギー値は0.433kWh/Nm
3O2であった。
から22.5Nm3/時の量で得られた。O2の収率は5
2%であり、真空ポンプの計算比エネルギー値は0.3
39kWh/Nm3O2であり、ポンプおよび空気圧縮装
置に由来する全エネルギー値は0.433kWh/Nm
3O2であった。
【0082】実施例3と1の比較は、実施例3でO2量
が低い産物ガスを再循環させるとO2の収率は上昇する
がポンプ排気過程における圧力プロファイルが不利であ
ることを考慮に入れると現在の真空ポンプ要求に関する
改良は全く達成されなかったことを示している。
が低い産物ガスを再循環させるとO2の収率は上昇する
がポンプ排気過程における圧力プロファイルが不利であ
ることを考慮に入れると現在の真空ポンプ要求に関する
改良は全く達成されなかったことを示している。
【0083】他方、本発明に従う実施例4から6ではほ
ぼ周囲圧力で吸着段階を行った後にO2量が低い産物ガ
スを排出させており、このようにすると、比較実施例1
から3に比較して真空ポンプのエネルギー要求が明らか
に向上することが分かる。
ぼ周囲圧力で吸着段階を行った後にO2量が低い産物ガ
スを排出させており、このようにすると、比較実施例1
から3に比較して真空ポンプのエネルギー要求が明らか
に向上することが分かる。
【図1】本発明の実施で用いた装置を示す。
【図2】個々の時間における工程段階を示す。
【図3】個々の時間における工程段階を示す。
【図4】吸着装置AとBおよびO2緩衝装置の時間的圧
力プロファイルを示す。
力プロファイルを示す。
【図5】個々の工程段階の半サイクルおよび吸着装置内
の圧力プロファイルを図式的に示す。
の圧力プロファイルを図式的に示す。
【図6】個々の工程段階の半サイクルおよび吸着装置内
の圧力プロファイルを図式的に示す。
の圧力プロファイルを図式的に示す。
【図7】個々の工程段階の半サイクルおよび吸着装置内
の圧力プロファイルを図式的に示す。
の圧力プロファイルを図式的に示す。
【図8】個々の工程段階の半サイクルおよび吸着装置内
の圧力プロファイルを図式的に示す。
の圧力プロファイルを図式的に示す。
【図9】比較の実施で用いた装置を示す。
【図10】比較の工程手順および圧力プロファイルを示
す。
す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロベルト・ボルター ドイツ50679ケルン・クストデイスシユト ラーセ1アー
Claims (2)
- 【請求項1】 この2床吸着装置の床に入っているモレ
キュラーシーブゼオライトが同種原料の状態で存在して
いるか或はいろいろな種類のゼオライトから成る数種の
異なる原料の状態で存在しており、そして任意に、水に
関して選択性を示す吸着剤の層が該原料の上流に位置し
ていてもよい2床吸着装置系内で、吸着中には空気をほ
ぼ周囲圧力下でか或は圧力過剰分が0.5バール以下の
圧力下で第一吸着装置Aに導き、そして吸着装置Aの出
口末端の所でO2濃度が60から96体積%である酸素
量が高い産物ガスが得られるように該モレキュラーシー
ブゼオライトに窒素を酸素を基準にして優先的に吸着さ
せ、そして吸着後には真空排気を100ミリバールから
600ミリバール(絶対)の最低圧力で吸着に対して向
流でかけることによって窒素および任意に水分の脱離を
起こさせることを通して、酸素産物の流れを連続的に一
定に維持するための産物緩衝装置を伴う2床吸着装置系
においてモレキュラーシーブゼオライトによる吸着で空
気の分離を行う方法であって、 a)吸着装置Aにおける吸着後、該装置の圧力を、吸着
段階後の最終値から、A)周囲圧力にか、B)600ミ
リバールに及ぶ低圧にか、或はC)圧力過剰分が0.2
バール以下の圧力にまで降下させ、そしてこの過程中、
該装置の入り口末端をa)閉じるか、b)周囲に関係さ
せて開放するか、或はc)空気圧縮装置を連結したまま
にし、残存産物ガスを吸着装置Aの出口末端から出させ
て吸着装置Bの出口末端に流れ込ませるが、この段階の
開始時における吸着装置Bの圧力を100から600ミ
リバールの最低圧力レベルにしておき、そして任意に、
吸着装置Bの真空排気をそれの入り口末端を通して同時
に行うことで吸着装置B内の圧力をa)上昇させるか、
b)一定のままにするか、或はc)降下させてもよく、 b)追加的圧縮を用いないで周囲空気を吸着装置Aの中
にそれの入り口末端に通して導入するが、この過程中、
吸着装置A内の圧力をほぼ周囲圧力のままにするか或は
吸着装置Aに仕込みを行って周囲圧力にし、O2が豊富
なガスを吸着装置Aの出口末端の所で取り出して吸着装
置Bの中にそれの入り口末端に通してほぼ周囲圧力に到
達するまで導入し、そして任意に、追加的圧縮を用いる
ことなく追加的周囲空気を吸着装置Bの入り口末端の中
に直接導入してもよく、 c)周囲空気を圧縮して吸着装置Bの中にそれの入り口
末端に通して導き、そして同時に、産物ガスを産物緩衝
装置に送り込み、任意に、該産物緩衝装置から出て来る
産物ガスを吸着装置Bの出口末端に送り込むと同時に吸
着装置Aの真空排気をそれの入り口末端を通して行って
もよく、 d)吸着装置Aの真空排気を100から600ミリバー
ルの最低圧力になるまで行うと同時に吸着装置B内では
吸着装置Bの入り口末端を通して圧縮で導入された周囲
空気の吸着を起こさせ、そして産物ガスを吸着装置Bの
出口末端に通して産物緩衝装置の中に送り込み、そして
任意に、吸着装置Aに産物ガスをそれの出口末端に通し
て送り込むことでそれのフラッシュ洗浄を同時に行って
もよい、ことを特徴とする方法。 - 【請求項2】 請求項1記載の、酸素産物の流れを連続
的に一定に維持するための産物緩衝装置を伴う2床吸着
装置系内でモレキュラーシーブゼオライトによる吸着で
空気の分離を行う方法であって、 a)吸着装置Aにおける吸着後、吸着装置Bの圧力をそ
れの出口末端を通して100から600ミリバールの最
低圧力レベルにしておいて残存産物ガスを吸着装置Aの
出口末端から出させて吸着装置Bに入れる過程で吸着装
置Aの圧力を圧力過剰分が0.2から0.5バールの範
囲の圧力からほぼ周囲圧力にまで降下させ、そして任意
に、吸着装置Bの真空排気をそれの入り口末端を通して
同時に行うことで吸着装置B内の圧力を最大で周囲圧力
の90%まで上昇させるか或は一定のままにしてもよ
く、 b)追加的圧縮を用いないで周囲空気を吸着装置Aの中
にそれの入り口末端に通して導入し、O2が豊富なガス
を吸着装置Aの出口末端の所で取り出して吸着装置Bの
中にそれの入り口末端に通してほぼ周囲圧力に到達する
まで導入し、そして任意に、追加的圧縮を用いることな
く追加的周囲空気を吸着装置Bに直接導入してもよく、 c)周囲空気を圧縮で吸着装置Bの中にそれの入り口末
端に通して導き、そして任意に、産物ガスを該産物緩衝
装置から吸着装置Bにそれの出口末端に通して同時に導
入すると同時に吸着装置Aの真空排気を行ってもよく、 d)吸着装置Aの真空排気を100から600ミリバー
ルの最低圧力になるまで行うと同時に吸着装置B内では
吸着装置Bの入り口末端を通して圧縮で導入された周囲
空気の吸着を起こさせ、そして産物ガスを吸着装置Bの
出口末端に通して産物緩衝装置の中に送り込み、そして
任意に、吸着装置Aに産物ガスをそれの出口末端に通し
て送り込むことでそれのフラッシュ洗浄を同時に行って
もよい、ことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19703907 | 1997-02-03 | ||
DE19703907.3 | 1997-02-03 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10216456A true JPH10216456A (ja) | 1998-08-18 |
Family
ID=7819111
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10030343A Pending JPH10216456A (ja) | 1997-02-03 | 1998-01-29 | 2床吸着装置系内で圧力スウイング吸着を起こさせることによる気体混合物の分離方法 |
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Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0856348A3 (ja) |
JP (1) | JPH10216456A (ja) |
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CN (1) | CN1196274A (ja) |
BR (1) | BR9800540A (ja) |
CA (1) | CA2228392A1 (ja) |
CZ (1) | CZ30298A3 (ja) |
HU (1) | HUP9800205A2 (ja) |
PL (1) | PL324601A1 (ja) |
TW (1) | TW429160B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006102616A (ja) * | 2004-10-04 | 2006-04-20 | Bussan Nanotech Research Institute Inc | 成分分離方法および成分分離装置 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4469841B2 (ja) | 2003-05-23 | 2010-06-02 | ヨンセ ユニバーシティー | 酸素生成装置及びその制御方法 |
CN101357291B (zh) * | 2008-09-27 | 2011-04-20 | 北京信诺海博石化科技发展有限公司 | 连续法聚丙烯装置产生的聚丙烯尾气的处理工艺 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1559325A (en) * | 1976-02-27 | 1980-01-16 | Boc Ltd | Gas separation |
FR2633846B1 (fr) * | 1988-07-05 | 1991-04-19 | Air Liquide | Procede de traitement d'un melange gazeux par adsorption a variation de pression |
JP3076912B2 (ja) * | 1989-11-08 | 2000-08-14 | 株式会社日立製作所 | 混合ガスの分離方法及び装置 |
-
1998
- 1998-01-12 TW TW087100284A patent/TW429160B/zh active
- 1998-01-22 EP EP98101031A patent/EP0856348A3/de not_active Withdrawn
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- 1998-01-29 JP JP10030343A patent/JPH10216456A/ja active Pending
- 1998-01-30 CA CA002228392A patent/CA2228392A1/en not_active Abandoned
- 1998-02-02 KR KR1019980002761A patent/KR19980070990A/ko not_active Application Discontinuation
- 1998-02-02 PL PL98324601A patent/PL324601A1/xx unknown
- 1998-02-02 CZ CZ98302A patent/CZ30298A3/cs unknown
- 1998-02-03 BR BR9800540A patent/BR9800540A/pt not_active Application Discontinuation
- 1998-02-03 HU HU9800205A patent/HUP9800205A2/hu unknown
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006102616A (ja) * | 2004-10-04 | 2006-04-20 | Bussan Nanotech Research Institute Inc | 成分分離方法および成分分離装置 |
JP4548080B2 (ja) * | 2004-10-04 | 2010-09-22 | 三菱化学株式会社 | 成分分離方法および成分分離装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
PL324601A1 (en) | 1998-08-17 |
HU9800205D0 (en) | 1998-04-28 |
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