JPH10205730A - 排ガス処理装置 - Google Patents
排ガス処理装置Info
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- JPH10205730A JPH10205730A JP9014053A JP1405397A JPH10205730A JP H10205730 A JPH10205730 A JP H10205730A JP 9014053 A JP9014053 A JP 9014053A JP 1405397 A JP1405397 A JP 1405397A JP H10205730 A JPH10205730 A JP H10205730A
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- incinerator
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 焼却炉に投入されるゴミ質に違いがあって
も、また焼却炉の運用方法に違いがあってもダイオキシ
ンおよび窒素酸化物等の排出濃度を低減する高い信頼性
を有する総合的な排ガス処理装置を提供すること。 【解決手段】 都市ゴミ焼却設備において、焼却炉１上
部の二次燃焼室３を一次燃焼室とは別に設け、一次燃焼
室と二次燃焼室２の間に燃焼排ガス中に含まれるダスト
を除じんする除じん装置２を設けるかまたは図示してい
ないが一次燃焼室と二次燃焼室を備えた焼却炉１から排
出する排ガス流路の高温領域内に前記除じん装置２を設
ける。または焼却炉から排出する排ガス流路の高温領域
内に燃焼排ガス中に含まれるダストを除じんする除じん
装置を設け、その後流側に再加熱室を設けても良い。
も、また焼却炉の運用方法に違いがあってもダイオキシ
ンおよび窒素酸化物等の排出濃度を低減する高い信頼性
を有する総合的な排ガス処理装置を提供すること。 【解決手段】 都市ゴミ焼却設備において、焼却炉１上
部の二次燃焼室３を一次燃焼室とは別に設け、一次燃焼
室と二次燃焼室２の間に燃焼排ガス中に含まれるダスト
を除じんする除じん装置２を設けるかまたは図示してい
ないが一次燃焼室と二次燃焼室を備えた焼却炉１から排
出する排ガス流路の高温領域内に前記除じん装置２を設
ける。または焼却炉から排出する排ガス流路の高温領域
内に燃焼排ガス中に含まれるダストを除じんする除じん
装置を設け、その後流側に再加熱室を設けても良い。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、都市ゴミ焼却排ガ
スの浄化装置に係わり、特に排ガス中に含まれるダイオ
キシン（ＤＸＮ）を効率よく除去する排ガス処理装置に
関する。
スの浄化装置に係わり、特に排ガス中に含まれるダイオ
キシン（ＤＸＮ）を効率よく除去する排ガス処理装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、埋め立て地の減少や環境問題に関
する関心から、都市ゴミは焼却処理される傾向が高く、
また、広域的なエネルギー問題の観点から都市ゴミ焼却
設備に廃熱回収ボイラや、さらにガスタービンによる当
該排ガスの独立再加熱を行うなど、発電設備付きのプラ
ントが増加している。これらの設備は都市近郊に建設さ
れることが多く、それに用いられる排ガス処理装置は公
害防止の点から高効率かつ高信頼性である必要がある。
こうした事情に臨み、従来法では図５に示すようなシス
テムが提案され、次第に実機にて運用されてきている。
する関心から、都市ゴミは焼却処理される傾向が高く、
また、広域的なエネルギー問題の観点から都市ゴミ焼却
設備に廃熱回収ボイラや、さらにガスタービンによる当
該排ガスの独立再加熱を行うなど、発電設備付きのプラ
ントが増加している。これらの設備は都市近郊に建設さ
れることが多く、それに用いられる排ガス処理装置は公
害防止の点から高効率かつ高信頼性である必要がある。
こうした事情に臨み、従来法では図５に示すようなシス
テムが提案され、次第に実機にて運用されてきている。
【０００３】この図５に示す従来法では、焼却炉１から
排出される排ガスは廃熱回収ボイラ５において熱交換さ
れた後、減温塔１２、有毒ガス除去装置１３、バグフィ
ルタ７などを経て、触媒脱硝装置８に導かれ、同時にア
ンモニア注入装置１０からアンモニアが注入され、排ガ
スは脱硝された後、煙突９から排出される。ここで、有
毒ガス除去装置１３では通常、消石灰（Ｃａ（Ｏ
Ｈ）2）などが注入されるので、後流側のバグフィルタ
７上で反応して塩化水素や硫黄酸化物が除去される。
排出される排ガスは廃熱回収ボイラ５において熱交換さ
れた後、減温塔１２、有毒ガス除去装置１３、バグフィ
ルタ７などを経て、触媒脱硝装置８に導かれ、同時にア
ンモニア注入装置１０からアンモニアが注入され、排ガ
スは脱硝された後、煙突９から排出される。ここで、有
毒ガス除去装置１３では通常、消石灰（Ｃａ（Ｏ
Ｈ）2）などが注入されるので、後流側のバグフィルタ
７上で反応して塩化水素や硫黄酸化物が除去される。
【０００４】また、このバグフィルタ７では、同時にダ
ストが除去されるが、「１９９０年１２月厚生省より通
知されたダイオキシン類発生防止等ガイドライン」によ
り、低温域に当該バグフィルタ７が設置されるためＤＸ
Ｎも同時に取り除かれることになる。さらに、後流域の
触媒脱硝装置８では低温高活性の触媒が使用されるが、
通常は、その効率向上のためバグフィルタ７の出口部に
排ガス再加熱器１１を設置して排ガス温度を上昇する方
式が採用されている。
ストが除去されるが、「１９９０年１２月厚生省より通
知されたダイオキシン類発生防止等ガイドライン」によ
り、低温域に当該バグフィルタ７が設置されるためＤＸ
Ｎも同時に取り除かれることになる。さらに、後流域の
触媒脱硝装置８では低温高活性の触媒が使用されるが、
通常は、その効率向上のためバグフィルタ７の出口部に
排ガス再加熱器１１を設置して排ガス温度を上昇する方
式が採用されている。
【０００５】特に最近注目されているダイオキシン（Ｄ
ＸＮ）の排出濃度については、現在の国のガイドライン
により０．５ｎｇ／Ｎｍ3以下とするように規制されて
おり、前記図５に示す従来システム中で上記バグフィル
タ７にて前記規制値以下のダイオキシン濃度になるよう
に対応する傾向があるが、ゴミの燃焼や運用条件によっ
ては目標値を満足させることは厳しく、更に将来的には
欧米なみの厳しい規制（０．１ｎｇ／Ｎｍ3以下）が適
用される可能性もあり、後流側に設置した触媒法分解装
置による除去が期待されている。
ＸＮ）の排出濃度については、現在の国のガイドライン
により０．５ｎｇ／Ｎｍ3以下とするように規制されて
おり、前記図５に示す従来システム中で上記バグフィル
タ７にて前記規制値以下のダイオキシン濃度になるよう
に対応する傾向があるが、ゴミの燃焼や運用条件によっ
ては目標値を満足させることは厳しく、更に将来的には
欧米なみの厳しい規制（０．１ｎｇ／Ｎｍ3以下）が適
用される可能性もあり、後流側に設置した触媒法分解装
置による除去が期待されている。
【０００６】焼却炉などから排出する排ガス中のダイオ
キシンを効果的に除去するために、高温の排ガス流路域
に集じん器を設ける方法が知られている（特開平３−１
９６８８７号、特開平４−１９４５０７号、特開平３−
２２４６１１号）。
キシンを効果的に除去するために、高温の排ガス流路域
に集じん器を設ける方法が知られている（特開平３−１
９６８８７号、特開平４−１９４５０７号、特開平３−
２２４６１１号）。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の従来法
ではゴミの燃焼により発生する塩化水素、硫黄酸化物、
ダイオキシンおよび窒素酸化物等の排出濃度は、焼却炉
に投入されるゴミ質により、または燃焼炉の運用方法に
より異なり、それらの排出濃度を特定の規制値以下にコ
ントロールすることは難しかった。特に、ダイオキシン
については将来的にもその排出量を欧州並の厳しい規制
値以下にコントロールすることは困難であった。本発明
の課題は、上記した従来技術の問題点をなくし、焼却炉
に投入されるゴミ質に違いがあっても、また焼却炉の運
用方法に違いがあってもダイオキシンおよび窒素酸化物
等の排出濃度を低減する高い信頼性を有する総合的な排
ガス処理装置を提供することである。
ではゴミの燃焼により発生する塩化水素、硫黄酸化物、
ダイオキシンおよび窒素酸化物等の排出濃度は、焼却炉
に投入されるゴミ質により、または燃焼炉の運用方法に
より異なり、それらの排出濃度を特定の規制値以下にコ
ントロールすることは難しかった。特に、ダイオキシン
については将来的にもその排出量を欧州並の厳しい規制
値以下にコントロールすることは困難であった。本発明
の課題は、上記した従来技術の問題点をなくし、焼却炉
に投入されるゴミ質に違いがあっても、また焼却炉の運
用方法に違いがあってもダイオキシンおよび窒素酸化物
等の排出濃度を低減する高い信頼性を有する総合的な排
ガス処理装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を達成するた
め、本発明では以下の構成を採用する。すなわち、都市
ゴミ焼却設備において、焼却炉上部の二次燃焼室を一次
燃焼室とは別に設け、一次燃焼室と二次燃焼室の間に燃
焼排ガス中に含まれるダストを除じんする除じん装置を
設けた排ガス処理装置、または都市ゴミ焼却設備におい
て、焼却炉から排出する排ガス流路の高温領域内に燃焼
排ガス中に含まれるダストを除じんする除じん装置を設
け、その後流側に再加熱室を設けた排ガス処理装置であ
る。
め、本発明では以下の構成を採用する。すなわち、都市
ゴミ焼却設備において、焼却炉上部の二次燃焼室を一次
燃焼室とは別に設け、一次燃焼室と二次燃焼室の間に燃
焼排ガス中に含まれるダストを除じんする除じん装置を
設けた排ガス処理装置、または都市ゴミ焼却設備におい
て、焼却炉から排出する排ガス流路の高温領域内に燃焼
排ガス中に含まれるダストを除じんする除じん装置を設
け、その後流側に再加熱室を設けた排ガス処理装置であ
る。
【０００９】本発明の上記排ガス処理装置において、二
次燃焼室内または再加熱室内の温度を５００℃以上とす
ることが望ましい。また、二次燃焼室または再加熱室の
後流域に廃熱回収装置を配置して廃熱エネルギーを回収
すること、および二次燃焼室または再加熱室の後流域に
廃熱回収装置と脱硫装置と低温集じん装置と脱硝装置を
順次配置して排ガスの浄化処理を行うことが望ましい。
次燃焼室内または再加熱室内の温度を５００℃以上とす
ることが望ましい。また、二次燃焼室または再加熱室の
後流域に廃熱回収装置を配置して廃熱エネルギーを回収
すること、および二次燃焼室または再加熱室の後流域に
廃熱回収装置と脱硫装置と低温集じん装置と脱硝装置を
順次配置して排ガスの浄化処理を行うことが望ましい。
【００１０】本発明によれば、廃熱回収装置の後流域に
低温集じん装置で回収された回収ダストを再注入する流
路を設け、ダイオキシン濃度が低下している回収ダスト
中の未反応のＣａ（ＯＨ）2を脱硫処理に利用すること
ができる。
低温集じん装置で回収された回収ダストを再注入する流
路を設け、ダイオキシン濃度が低下している回収ダスト
中の未反応のＣａ（ＯＨ）2を脱硫処理に利用すること
ができる。
【００１１】本発明では、まず排ガス中のダイオキシン
を効果的に除去するため、以下の（１）〜（４）の作用
に基づいて考察されたものである。 （１）ゴミの燃焼によって生ずるベンゼン、ジクロロベ
ンゼン、フェノール類などが、ダイオキシンの前駆体と
なり得る。 （２）また、生成したポリ塩化ビニルやポリエチレン等
の物質から新たにダイオキシンが生成される可能性があ
る。 （３）焼却排ガスのダスト中に含まれる微量金属（例え
ばＣｕなど）による触媒作用で約３００℃近辺にて滞留
時間が長いとダイオキシンが生成されやすい。 （４）ダイオキシンは排ガス中ではダストに吸着された
状態やミスト状あるいはガス状で存在するが、低温域で
はその蒸気圧は低いダストに吸着された状態になりやす
い。すなわち、ダスト中でのダイオキシンの新たな生成
を極力低減するためにも、まず、ダスト濃度を低減する
ことが肝要である。
を効果的に除去するため、以下の（１）〜（４）の作用
に基づいて考察されたものである。 （１）ゴミの燃焼によって生ずるベンゼン、ジクロロベ
ンゼン、フェノール類などが、ダイオキシンの前駆体と
なり得る。 （２）また、生成したポリ塩化ビニルやポリエチレン等
の物質から新たにダイオキシンが生成される可能性があ
る。 （３）焼却排ガスのダスト中に含まれる微量金属（例え
ばＣｕなど）による触媒作用で約３００℃近辺にて滞留
時間が長いとダイオキシンが生成されやすい。 （４）ダイオキシンは排ガス中ではダストに吸着された
状態やミスト状あるいはガス状で存在するが、低温域で
はその蒸気圧は低いダストに吸着された状態になりやす
い。すなわち、ダスト中でのダイオキシンの新たな生成
を極力低減するためにも、まず、ダスト濃度を低減する
ことが肝要である。
【００１２】そのため、本発明では二次燃焼室（一次燃
焼室後流に配置した焼却炉より分割した燃焼室）または
焼却炉（一次燃焼室と二次燃焼室を備えている）の後流
側の高温域に設置させた除じん装置においてダストおよ
びダスト中に含まれる触媒作用を有する微量金属を最小
限に抑える方式を採用している。
焼室後流に配置した焼却炉より分割した燃焼室）または
焼却炉（一次燃焼室と二次燃焼室を備えている）の後流
側の高温域に設置させた除じん装置においてダストおよ
びダスト中に含まれる触媒作用を有する微量金属を最小
限に抑える方式を採用している。
【００１３】さらに本発明の特徴は、ガス状で存在する
ダイオキシンやその前駆物質については、焼却炉より分
割した二次燃焼室または焼却炉（一次燃焼室と二次燃焼
室を備えている）の後流側に再加熱室を設けて、該二次
燃焼室または再加熱室内で燃焼空気を吹き込むことによ
ってダイオキシン自身の熱分解を促し、またはその新た
な生成を防ぐよう考慮している。ここで高温除じん装置
の設置温度域としては上記（１）の３００℃を超え、３
５０〜４００℃以上（図３）とすることが好ましい。
ダイオキシンやその前駆物質については、焼却炉より分
割した二次燃焼室または焼却炉（一次燃焼室と二次燃焼
室を備えている）の後流側に再加熱室を設けて、該二次
燃焼室または再加熱室内で燃焼空気を吹き込むことによ
ってダイオキシン自身の熱分解を促し、またはその新た
な生成を防ぐよう考慮している。ここで高温除じん装置
の設置温度域としては上記（１）の３００℃を超え、３
５０〜４００℃以上（図３）とすることが好ましい。
【００１４】通常、除じん装置としては電気集じん器が
広く使用されているが、本発明では、特に高温域での使
用となるためサイクロン式集じん装置や耐熱性を有する
除じんフィルタ等を用いることが好ましい。
広く使用されているが、本発明では、特に高温域での使
用となるためサイクロン式集じん装置や耐熱性を有する
除じんフィルタ等を用いることが好ましい。
【００１５】また、高温（５００℃以上）の除じん装置
から排出された排ガスは、炉本体から分割された二次燃
焼室または焼却炉の後流側の再加熱室に導かれ、ここで
燃焼用空気を吹き込むことで比較的容易にガス状のダイ
オキシンやその前駆体が燃焼分解できる。
から排出された排ガスは、炉本体から分割された二次燃
焼室または焼却炉の後流側の再加熱室に導かれ、ここで
燃焼用空気を吹き込むことで比較的容易にガス状のダイ
オキシンやその前駆体が燃焼分解できる。
【００１６】次に、本発明による高温除塵の有無による
排ガス中のＤＸＮ濃度変化の結果を図４に示す。なお、
ここで排ガスは二次燃焼室または焼却炉の後流側の再加
熱室の後流で、排熱回収装置にて効率よく熱回収される
ため、プラント効率も損なうことはない。
排ガス中のＤＸＮ濃度変化の結果を図４に示す。なお、
ここで排ガスは二次燃焼室または焼却炉の後流側の再加
熱室の後流で、排熱回収装置にて効率よく熱回収される
ため、プラント効率も損なうことはない。
【００１７】上述のように、ダイオキシンの発生形態に
見合った除去装置を採用することにより、今後適用が予
想される欧州並の厳しいダイオキシンの排出規制値
（０．１ｎｇ／Ｎｍ3以下）にも対応が可能となる。
見合った除去装置を採用することにより、今後適用が予
想される欧州並の厳しいダイオキシンの排出規制値
（０．１ｎｇ／Ｎｍ3以下）にも対応が可能となる。
【００１８】従来法では、ダストの中のダイオキシン濃
度が高いためダストは循環再利用することは困難で、未
反応の消石灰はそのまま低温集じん器（バグフィルタ）
のダストとして処分されていたが、上記本発明の排ガス
処理により従来法の低温集じん器（バグフィルタ）で回
収されるダスト中のダイオキシン濃度が軽減できるた
め、下記の反応を行う目的で使用される消石灰（消石灰
と硫黄酸化物は等モルで、また、消石灰と塩化水素は１
対２モル等量で反応する）の利用率を向上できる。 Ｃａ（ＯＨ）2＋２ＨＣｌ→ＣａＣｌ2＋２Ｈ2Ｏ Ｃａ（ＯＨ）2＋ＳＯ2＋Ｈ2Ｏ→ＣａＳＯ3＋２Ｈ2Ｏ
度が高いためダストは循環再利用することは困難で、未
反応の消石灰はそのまま低温集じん器（バグフィルタ）
のダストとして処分されていたが、上記本発明の排ガス
処理により従来法の低温集じん器（バグフィルタ）で回
収されるダスト中のダイオキシン濃度が軽減できるた
め、下記の反応を行う目的で使用される消石灰（消石灰
と硫黄酸化物は等モルで、また、消石灰と塩化水素は１
対２モル等量で反応する）の利用率を向上できる。 Ｃａ（ＯＨ）2＋２ＨＣｌ→ＣａＣｌ2＋２Ｈ2Ｏ Ｃａ（ＯＨ）2＋ＳＯ2＋Ｈ2Ｏ→ＣａＳＯ3＋２Ｈ2Ｏ
【００１９】低温集じん器（バグフィルタ）にて回収さ
れたダストは一部または全部を熱回収装置の後流に再注
入し、消石灰の利用率の向上を図ることができ、消石灰
の利用率はプラント条件によって異なるが、１０％程度
改善される。
れたダストは一部または全部を熱回収装置の後流に再注
入し、消石灰の利用率の向上を図ることができ、消石灰
の利用率はプラント条件によって異なるが、１０％程度
改善される。
【００２０】また、このように低温集じん器にて回収さ
れるダスト中には、有毒なダイオキシンが少ないため、
ダストの廃棄あるいは溶融処理をより容易に行うことが
可能となる。
れるダスト中には、有毒なダイオキシンが少ないため、
ダストの廃棄あるいは溶融処理をより容易に行うことが
可能となる。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて、実施例により説明する。 実施例１（二次燃焼室の分割型） 図１に本実施例の排ガス処理装置のフローを示す。図１
に示すように、燃焼炉１からの都市ゴミ燃焼排ガスは、
約８００℃域に設置された高温の集じん装置２に導入さ
れ、ダストとダスト中に含まれるダイオキシン生成に関
与する触媒作用を有する微量金属が取り除かれる。
いて、実施例により説明する。 実施例１（二次燃焼室の分割型） 図１に本実施例の排ガス処理装置のフローを示す。図１
に示すように、燃焼炉１からの都市ゴミ燃焼排ガスは、
約８００℃域に設置された高温の集じん装置２に導入さ
れ、ダストとダスト中に含まれるダイオキシン生成に関
与する触媒作用を有する微量金属が取り除かれる。
【００２２】次に除じん後の高温排ガスは分割された二
次燃焼室３に導かれるが、二次燃焼室３には二次燃焼空
気ポート４から空気が吹き込まれる。排ガス中の未燃分
中には一酸化炭素や炭化水素のほか、ダイオキシンやそ
の前駆体が含まれており、当該二次燃焼空気の二次燃焼
室３への吹き込みにより、前記物質の二次燃焼が生じ、
容易に熱分解される。続いて排ガスは排熱回収装置５に
導入されて排熱回収される。
次燃焼室３に導かれるが、二次燃焼室３には二次燃焼空
気ポート４から空気が吹き込まれる。排ガス中の未燃分
中には一酸化炭素や炭化水素のほか、ダイオキシンやそ
の前駆体が含まれており、当該二次燃焼空気の二次燃焼
室３への吹き込みにより、前記物質の二次燃焼が生じ、
容易に熱分解される。続いて排ガスは排熱回収装置５に
導入されて排熱回収される。
【００２３】その後、硫黄酸化物および塩化水素を除去
する目的で消石灰が排ガス流路の注入ライン６から注入
される。そして排ガスは低温バグフィルタ７に導かれ、
ダスト、塩化水素および硫黄酸化物に加えて飛灰に吸着
したダイオキシンが除去されることになる。
する目的で消石灰が排ガス流路の注入ライン６から注入
される。そして排ガスは低温バグフィルタ７に導かれ、
ダスト、塩化水素および硫黄酸化物に加えて飛灰に吸着
したダイオキシンが除去されることになる。
【００２４】一方、窒素酸化物については当該バグフィ
ルタ７の後流に設置されている触媒脱硝装置８におい
て、アンモニア注入装置１０から同時に注入されるアン
モニアを還元剤として排ガスは脱硝された後、煙突９か
ら排出される。
ルタ７の後流に設置されている触媒脱硝装置８におい
て、アンモニア注入装置１０から同時に注入されるアン
モニアを還元剤として排ガスは脱硝された後、煙突９か
ら排出される。
【００２５】実施例２（再加熱型） 上記の実施例１に対して、図２に示すように都市ゴミ焼
却炉１の出口部にサイクロン式高温集じん装置２を設置
して、排ガス中のダストを除去した後、再加熱装置１１
にて排ガスが再加熱される。ここで当該、再加熱器１１
内には図示しない燃焼装置が設けられており、この燃焼
装置により排ガス中のダイオキシンやその前駆体が燃焼
分解される。その後、燃焼により昇温された排ガスは廃
熱回収ボイラ５により熱回収されるのでプラントの熱
（発電）効率を損なうことはない。その後、消石灰が排
ガス流路の注入ライン６から注入され、排ガス中の硫黄
酸化物および塩化水素が除去される。また、窒素酸化物
はバグフィルタ７の後流に設置されている触媒脱硝装置
８において、アンモニア注入装置１０から注入されるア
ンモニアを還元剤として排ガスは脱硝された後、煙突９
から排出される。
却炉１の出口部にサイクロン式高温集じん装置２を設置
して、排ガス中のダストを除去した後、再加熱装置１１
にて排ガスが再加熱される。ここで当該、再加熱器１１
内には図示しない燃焼装置が設けられており、この燃焼
装置により排ガス中のダイオキシンやその前駆体が燃焼
分解される。その後、燃焼により昇温された排ガスは廃
熱回収ボイラ５により熱回収されるのでプラントの熱
（発電）効率を損なうことはない。その後、消石灰が排
ガス流路の注入ライン６から注入され、排ガス中の硫黄
酸化物および塩化水素が除去される。また、窒素酸化物
はバグフィルタ７の後流に設置されている触媒脱硝装置
８において、アンモニア注入装置１０から注入されるア
ンモニアを還元剤として排ガスは脱硝された後、煙突９
から排出される。
【００２６】
【発明の効果】本発明によれば、都市ゴミ燃焼排ガス中
に含まれる有害なダイオキシンを容易に、かつ効率よく
除去することが可能になるので今後の厳しい排出規制に
も対応できると共に、低温除じん装置にて回収されたダ
スト中のダイオキシン濃度を低減できるので灰処理が容
易になる。
に含まれる有害なダイオキシンを容易に、かつ効率よく
除去することが可能になるので今後の厳しい排出規制に
も対応できると共に、低温除じん装置にて回収されたダ
スト中のダイオキシン濃度を低減できるので灰処理が容
易になる。
【図１】 本発明の一実施例の排ガス処理装置のフロー
図である。
図である。
【図２】 本発明の他の実施例を表すフロー図である。
【図３】 加熱処理によるＤＸＮ濃度の変化図である。
【図４】 除じん処理の有無ＤＸＮ排出量の比較図であ
る。
る。
【図５】 従来法による排ガス処理装置のフロー図であ
る。
る。
１ 燃焼炉 ２ 高温集じん装置 ３ 二次燃焼室 ４ 二次燃焼空気ポート ５ 排熱回収ボイラ ６ 消石灰注入ライン ７ バグフィルタ ８ 触媒脱硝装置および／または触媒法ＤＸＮ分解装置 ９ 煙突 １０ アンモニア注入装
置 １１ 再加熱器 １２ 減温塔 １３ 有毒ガス除去装置
置 １１ 再加熱器 １２ 減温塔 １３ 有毒ガス除去装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｆ２３Ｊ 15/00
Claims (9)
- 【請求項１】 都市ゴミ焼却設備において、焼却炉上部
の二次燃焼室を一次燃焼室とは別に設け、一次燃焼室と
二次燃焼室の間に燃焼排ガス中に含まれるダストを除じ
んする除じん装置を設けたことを特徴とする排ガス処理
装置。 - 【請求項２】 二次燃焼室内の温度を５００℃以上とし
たことを特徴とする請求項１記載の排ガス処理装置。 - 【請求項３】 二次燃焼室の後流域に廃熱回収装置を配
置したことを特徴とする請求項１または２記載の排ガス
処理装置。 - 【請求項４】 二次燃焼室の後流域に廃熱回収装置と脱
硫装置と低温集じん装置と脱硝装置を順次配置したこと
を特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の排ガ
ス処理装置。 - 【請求項５】 低温集じん装置で回収されたダストを廃
熱回収装置の後流域に再注入する流路を設けたことを特
徴とする請求項４記載の排ガス処理装置。 - 【請求項６】 都市ゴミ焼却設備において、焼却炉から
排出する排ガス流路の高温領域内に燃焼排ガス中に含ま
れるダストを除じんする除じん装置を設け、その後流側
に再加熱室を設けたことを特徴とする排ガス処理装置。 - 【請求項７】 再加熱室内の温度を５００℃以上とした
ことを特徴とする請求項６記載の排ガス処理装置。 - 【請求項８】 再加熱室の後流域に廃熱回収装置を配置
したことを特徴とする請求項６または７記載の排ガス処
理装置。 - 【請求項９】 再加熱室の後流域に廃熱回収装置と脱硫
装置と低温集じん装置と脱硝装置を順次配置したことを
特徴とする請求項６ないし８のいずれかに記載の排ガス
処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9014053A JPH10205730A (ja) | 1997-01-28 | 1997-01-28 | 排ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9014053A JPH10205730A (ja) | 1997-01-28 | 1997-01-28 | 排ガス処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10205730A true JPH10205730A (ja) | 1998-08-04 |
Family
ID=11850357
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9014053A Pending JPH10205730A (ja) | 1997-01-28 | 1997-01-28 | 排ガス処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10205730A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001027533A1 (en) * | 1999-10-13 | 2001-04-19 | Hitachi, Ltd. | Refuse exhaust gas treating system and treating method |
-
1997
- 1997-01-28 JP JP9014053A patent/JPH10205730A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001027533A1 (en) * | 1999-10-13 | 2001-04-19 | Hitachi, Ltd. | Refuse exhaust gas treating system and treating method |
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