JPH10204653A - クロメ−ト処理金属箔の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ロ−ルコ−ト方式で金属箔帯１にクロメ−ト
処理液６を塗布して、クロメ−ト処理金属箔を製造する
方法において、幅方向のクロメ−ト皮膜量を均一にする
ことのできる方法を提供する。 【解決手段】 クロメ−ト処理液６の塗布をロ−ル長手
方向の版溝密度が均一な版胴ロ−ル４を用いて、グラビ
ア印刷方式またはオフセット印刷方式で行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、極めて微量のクロメ−
ト処理液を精度よく塗布できるクロメ−ト処理金属箔の
製造方法に関する。

【０００２】

【従来技術】ロ−ルコ−ト方式で金属箔帯にクロメ−ト
処理液を塗布して、クロメ−ト処理金属箔を製造する場
合、バッキングロ−ルに金属箔帯を巻き付けて、パンに
入れた有機樹脂含有クロメ−ト処理液を金属製の汲み上
げロ−ルで汲み上げて、ゴム製の塗布ロ−ルに転写した
後、塗布ロ−ルを金属箔帯の移送方向と同方向または逆
方向に回転させて、金属箔帯に転写する方法で行ってい
る。この場合、塗布ロ−ルとしては表面の平滑なゴムロ
−ルを用いている。

【０００３】しかし、この方法では、クロメ−ト処理液
の金属箔帯への塗布量は汲み上げロ−ルと塗布ロ−ルの
圧着力をロ−ルの硬さ、形状を加味して調整し、その絞
り程度により決定されるが、これらすべてを加味して圧
着力を均一に調整するのは難しく、圧着力が不均一とな
ることにより処理液の絞りも不均一となり、金属箔帯の
幅方向クロメ−ト皮膜厚が均一にならない。また、この
方法でクロメ−ト皮膜を薄くするためには、両ロ−ルの
圧着力を大きくするとが必要であり、両ロ−ルの圧着力
を大きくすると、塗布ロ−ルが破損したり、回転負荷が
大きくなったりするため、機械負荷の点から限界があ
り、機械的に安定する皮膜厚を設定すると、皮膜厚が一
般的な目標塗布量である１０〜２０ｍｇ／ｍ²より厚く
なり、皮膜密着性、加工性が劣るという欠点があった。
また、塗布時に塗布量を低くするため、クロメ−ト処理
液の濃度を下げて、塗布すると、表面張力により処理液
が金属箔帯上で液滴になりやすく、はじきが発生し、処
理むらになるという欠点もあった。

【０００４】これの欠点を解決するため、クロメ−ト処
理金属箔帯の製造を電解クロメ−ト処理法で行うことが
提案されている。この方法はクロメ−ト処理液中で金属
箔帯を電解処理して、表面にクロメ−ト皮膜を形成する
ので、電極に精度の良いものを使用すれば、幅方向のク
ロメ−ト皮膜分布は均一になり、また、通電量の調整に
よりクロメ−ト皮膜量を容易に薄くでき、さらに、金属
箔帯がどのような金属であってもクロメ−ト皮膜を形成
できる。

【０００５】しかし、電解クロメ−ト処理法は、整流器
や電解槽などの大型設備を必要とし、また、クロメ−ト
皮膜を精度良く制御するには電解液の撹拌、電極の精度
等に充分なる注意を払わなければならない等の問題があ
った。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題を
解決したクロメ−ト処理金属箔の製造方法を提供するも
のである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、ロ−ルコ−ト
方式で金属箔帯にクロメ−ト処理液を塗布して、クロメ
−ト処理金属箔を製造する方法において、クロメ−ト処
理液の塗布をロ−ル長手方向の版溝密度が均一な版胴ロ
−ルを用いて、グラビア印刷方式またはオフセット印刷
方式で行うようにした。

【０００８】

【作用】グラビア印刷やオフセット印刷では、金属製の
版胴ロ−ルにドクタ−を当接させて、過剰に付着したク
ロメ−ト処理液を掻き取るので、版胴ロ−ルに付着する
クロメ−ト処理液は版溝内のものだけになる。そこで、
版胴ロ−ルとして、長手方向の版溝密度が均一なものを
用いれば、版胴ロ−ルの長手方向のクロメ−ト処理液付
着量は均一になる。グラビア印刷は版胴ロ−ルで版溝内
の金属箔帯に転写するので、金属箔帯幅方向のクロメ−
ト皮膜量分布は均一になる。また、オフセット印刷では
金属製の版胴ロ−ルに付着したクロメ−ト処理液をゴム
製の胴ロ−ルに転写して、それを金属箔帯に転写するの
で、金属箔帯幅方向のクロメ−ト皮膜量分布は同様に均
一になる。

【０００９】版胴ロ−ルの版溝は、クロメ−ト処理液を
汲み上げ易くし、しかも、金属箔帯や胴ロ−ルとの接触
抵抗を小さくするため、螺旋状のものにして、その密度
を１インチ当たり５０本以上にすると、乾燥状態でクロ
メ−ト皮膜量を２０ｍｇ／ｍ²以下にできるとともに、
±３ｍｇ／ｍ²の精度で塗布でき、しかも、ウェット状
態ではじきが生じない。版溝の密度が１インチ当たり５
０本未満であると、塗布量が多くなるため、ウェット状
態ではじきが発生し、塗布むらが生じる。

【００１０】金属箔帯にクロメ−ト処理液を塗布する場
合、金属箔帯を離隔した２本の圧胴ロ−ルで張設して、
その圧胴ロ−ル間の金属箔に版胴ロ−ルまたはゴム製の
胴ロ−ルを接触させる方法で塗布すると、版胴ロ−ルが
圧胴ロ−ルと接触しないため、版胴ロ−ルの寿命が長
く、また、金属箔帯に皺が発生しない。両ロ−ルが接触
していると、皺が発生し易いため、製品化が困難にな
る。版胴ロ−ルまたは胴ロ−ルの回転方向はグラビア印
刷、オフセット印刷の場合とも金属箔帯の移動方向と逆
方向に回転させると、クロメ−ト皮膜にピンホ−ルが発
生するのを防止することができる。

【００１１】クロメ−ト処理液を塗布した後の金属箔帯
は、加熱処理を施して、クロメ−ト皮膜からクロムが溶
出しないようにする。この加熱処理は９０〜２５０℃、
好ましくは１１０〜２００℃で行うのが望ましい。９０
℃未満ではクロムが金属箔帯に充分固定されていないた
め、クロムが溶出し易く、２５０℃を超えると、クロメ
−ト皮膜が破壊されて、皮膜に割れが生じ易くなり、好
ましくない。版胴ロ−ルまたは胴ロ−ルの回転はピンホ
−ルが発生するのを防止するため、金属箔帯の移動方向
と逆方向に回転させるのが好ましい。

【００１２】本発明によるクロメ−ト処理金属箔帯の製
造は、金属箔帯の金属に関係なく適用でき、金属箔帯が
例えば鉄箔、アルミニウム箔、銅箔、ステンレス箔、チ
タン箔、亜鉛めっき箔、銅めっき箔、アルミニウムめっ
き箔、ニツケルめっき箔であっても適用できる。

【００１３】

【実施例】

実施例１ 図１は、グラビア印刷方式によるクロメ−ト処理金属箔
帯の製造方法を示すもので、金属箔帯１は離隔配置した
２本の平行な圧胴ロ−ル２、２ａで張設して、その圧胴
ロ−ル２、２ａ間にグラビア印刷機３を配置する。この
グラビア印刷機３は金属箔帯１を境界にして金属製の圧
胴ロ−ル２、２ａと反対側になるように配置して、版胴
ロ−ル４が金属箔帯１を圧胴ロ−ル２、２ａの方向に押
し出すように版胴ロ−ル４を金属箔帯１に接触させる。
この状態で金属箔帯１を図１で右から左に移動させる。
また、グラビア印刷機３はクロメ−ト処理液溜め５にク
ロメ−ト処理液６を入れて、版胴ロ−ル４は下部がクロ
メ−ト処理液６に浸漬されるようにするとともに、右側
にドクタ−７を配置して、反時計方向に回転させる。な
お、版胴ロ−ル４としては、図３に示すように螺旋状版
溝８が形成されたものを用いた。

【００１４】実施例２ 図２は、オフセット印刷方式によるクロメ−ト処理金属
箔帯の製造方法を示すもので、実施例１のグラビア印刷
機３の代わりにオフセット印刷機９を配置したものであ
る。オフセット印刷機９はクロメ−ト処理液溜め５にク
ロメ−ト処理液６を入れて、金属製の版胴ロ−ル４の下
部をクロメ−ト処理液６に浸漬させ、右側にドクタ−７
を配置してある。また、版胴ロ−ル４にはゴム製の胴ロ
−ル１０が配置されていて、金属箔帯１を圧胴ロ−ル
２、２ａの方向に押し出している。この状態で金属箔帯
１を図１で右から左に移動させ、版胴ロ−ル４および胴
ロ−ル１０はいずれも反時計方向に回転させる。

【００１５】実施例１および２でクロメ−ト処理液６と
して、組成がクロム（Ｃｒ³⁺＋Ｃｒ⁶⁺）７ｗｔ％、シリ
カ（平均粒径８ｎｍ）５ｗｔ％、アクリル系樹脂３ｗｔ
％、水８５ｗｔ％であるものの２倍希釈液および４倍希
釈液をそれぞれ用い、また、版胴ロ−ル４としては、実
施例１の場合、１インチ当たり２００本の密度で螺旋状
版溝を有するものを、実施例２の場合は１インチ当たり
１００本の密度で螺旋状版溝を有するものをそれぞれ用
いて、ステンレス箔（厚さ５０μｍ、幅３００ｍｍ）に
クロメ−ト処理液を塗布し、２００℃で焼き付けた。ま
た、比較のため、同組成のクロメ−ト処理液を希釈せず
に従来法により塗布して、２００℃で焼き付けた。表１
に金属箔帯１の幅方向と長手方向のクロメ−ト皮膜量を
示す。

【００１６】

【表１】 （注１）幅方向皮膜量の１は金属箔帯の中央部分、２は
左側縁、３は右側縁の位置を測定した値である。 （注２）長手方向皮膜量は金属箔帯の中央部分を測定
し、１は基準点、２は基準点から長手方向に１０００ｍ
ｍ移動した部分、３は２０００ｍｍ移動した部分の位置
を測定した値である。

【００１７】

【発明の効果】以上のように、本発明によるクロメ−ト
処理金属箔の製造方法は、金属箔の幅方向クロメ−ト処
理液塗布量が均一になるように版胴ロ−ルで設定して、
それを直接または胴ロ−ルを介して金属箔に塗布するよ
うになっているので、金属箔の幅方向クロメ−ト皮膜量
は均一になる。また、クロメ−ト処理液の塗布に１イン
チ当たり５０本以上の密度で版溝が螺旋状に施されたも
のを使用すると、クロメ−ト皮膜量を２０ｍｇ/ｍ²以下
にでき、しかも、幅方向の分布は均一になる。さらに、
金属箔帯を離隔した２本の圧胴ロ−ルで張設して、その
圧胴ロ−ル間の金属箔をクロメ−ト処理液を版胴ロ−ル
またはゴム製の胴ロ−ルで塗布すると、これらの塗布ロ
−ルの摩耗が少なく、金属箔に皺が発生しない。また、
これらの塗布ロ−ルを金属箔帯の移動方向と逆方向に回
転させると、クロメ−ト皮膜にピンホ−ルが発生するの
を防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】は本発明でグラビア印刷方式によるクロメ−ト
処理金属箔の製造方法を示すものである。

【図２】は本発明でオフセット印刷方式によるクロメ−
ト処理金属箔の製造方法を示すものである。

【図３】は版胴ロ−ルの版溝を示すものである。

【符号の説明】

１…金属箔帯、２、２ａ…圧胴ロ−ル、３…グラビア印
刷機、４…版胴ロ−ル、５…クロメ−ト処理液溜め、６
…クロメ−ト処理液、７…ドクタ−、８…螺旋状版溝、
９…オフセット印刷機、１０…胴ロ−ル、

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 前田 靖治 千葉県市川市高谷新町７番地の１ 日新製 鋼株式会社技術研究所塗装複合材料研究部 内 (72)発明者 輿石 謙二 千葉県市川市高谷新町７番地の１ 日新製 鋼株式会社技術研究所塗装複合材料研究部 内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ロ−ルコ−ト方式で金属箔帯にクロメ
   −ト処理液を塗布して、クロメ−ト処理金属箔を製造す
   る方法において、クロメ−ト処理液の塗布をロ−ル長手
   方向の版溝密度が均一な版胴ロ−ルを用いて、グラビア
   印刷方式またはオフセット印刷方式で行うことを特徴と
   するクロメ−ト処理金属箔の製造方法。
2. 【請求項２】 グラビア印刷またはオフセット印刷の
   版胴ロ−ルとして、ロ−ル面に１インチ当たり５０本以
   上の密度で版溝が螺旋状に施されたものを使用すること
   を特徴とする請求項１に記載のクロメ−ト処理金属箔の
   製造方法。
3. 【請求項３】 金属箔帯を離隔した２本の圧胴ロ−ル
   で張設して、その圧胴ロ−ル間の金属箔を版胴ロ−ルま
   たはゴム製胴ロ−ルで塗布することを特徴とする請求項
   １に記載のクロメ−ト処理金属箔の製造方法。
4. 【請求項４】 版胴ロ−ルまたはゴム製胴ロ−ルを金
   属箔帯の移動方向と逆方向に回転させることを特徴とす
   る請求項３に記載のクロメ−ト処理金属箔の製造方法。