JPH10199253A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
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- JPH10199253A JPH10199253A JP8351652A JP35165296A JPH10199253A JP H10199253 A JPH10199253 A JP H10199253A JP 8351652 A JP8351652 A JP 8351652A JP 35165296 A JP35165296 A JP 35165296A JP H10199253 A JPH10199253 A JP H10199253A
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- JP
- Japan
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- memory
- memory block
- data
- bit line
- sense amplifier
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- Dram (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 センスアンプおよびデータバスの数を低減で
き、メモリチップサイズの縮小化が図れる半導体記憶装
置を実現する。 【解決手段】 メモリブロック10を選択して読み出し
を行うとき、選択メモリセル1のデータに応じて、ビッ
ト線BL0,/BL0の電位を設定しセンスアンプ60
により確定して保持する。カラムデコーダ50によりカ
ラム信号線YL1を活性化し、選択ゲート14と24を
導通状態に保持し、ビット線BL0のデータを選択ゲー
ト14を介してデータバスD0に出力し、ビット線/B
L0のデータをスイッチ16、センスアンプ60および
スイッチ26を介して非選択メモリブロック20のビッ
ト線/BL0に転送し、選択ゲート24を介してデータ
バス/D0に出力するので、データバスの本数を半分に
低減でき、センスアンプの数も半減でき、メモリチップ
サイズの縮小化を実現できる。
き、メモリチップサイズの縮小化が図れる半導体記憶装
置を実現する。 【解決手段】 メモリブロック10を選択して読み出し
を行うとき、選択メモリセル1のデータに応じて、ビッ
ト線BL0,/BL0の電位を設定しセンスアンプ60
により確定して保持する。カラムデコーダ50によりカ
ラム信号線YL1を活性化し、選択ゲート14と24を
導通状態に保持し、ビット線BL0のデータを選択ゲー
ト14を介してデータバスD0に出力し、ビット線/B
L0のデータをスイッチ16、センスアンプ60および
スイッチ26を介して非選択メモリブロック20のビッ
ト線/BL0に転送し、選択ゲート24を介してデータ
バス/D0に出力するので、データバスの本数を半分に
低減でき、センスアンプの数も半減でき、メモリチップ
サイズの縮小化を実現できる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置、
特にメモリブロック内のデータバスおよびセンスアンプ
の数を低減できるランダムアクセスメモリに関するもの
である。
特にメモリブロック内のデータバスおよびセンスアンプ
の数を低減できるランダムアクセスメモリに関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】ランダムアクセスメモリ(以下、RAM
という)において、共通のカラムデコーダのアドレスは
そのアドレスに応じて選択されるすべてのメモリブロッ
クに対して均等に信号を与えている。このため、メモリ
ブロック内に偶数本のデータバスが存在する必要があ
り、メモリブロックサイズのカラム方向の縮小化の障害
となっている。
という)において、共通のカラムデコーダのアドレスは
そのアドレスに応じて選択されるすべてのメモリブロッ
クに対して均等に信号を与えている。このため、メモリ
ブロック内に偶数本のデータバスが存在する必要があ
り、メモリブロックサイズのカラム方向の縮小化の障害
となっている。
【0003】図5は一般的な半導体記憶装置、例えば、
RAMの構成を示すブロック図である。図示のRAMは
三つのメモリブロック10,20,30、ローデコーダ
およびワード線ドライバー12,22,32、カラムデ
コーダ50により構成されている。BL0,/BL0は
各メモリブロック10,20,30,40のビット線、
WL0〜WLmは各メモリブロックのワード線、YL0
〜YLnはカラムデコーダ50からのカラム信号線、D
0,/D0はデータバスをそれぞれ示している。なお、
各メモリブロック10,20,30,40において複数
本のビット線および複数本のワード線が交差して配置さ
れ、これのビット線およびワード線の交差点にメモリセ
ルがそれぞれ配置されている。図5はシステムの構成を
示す概念図であり、これらの信号線の一部分のみを示し
ている。
RAMの構成を示すブロック図である。図示のRAMは
三つのメモリブロック10,20,30、ローデコーダ
およびワード線ドライバー12,22,32、カラムデ
コーダ50により構成されている。BL0,/BL0は
各メモリブロック10,20,30,40のビット線、
WL0〜WLmは各メモリブロックのワード線、YL0
〜YLnはカラムデコーダ50からのカラム信号線、D
0,/D0はデータバスをそれぞれ示している。なお、
各メモリブロック10,20,30,40において複数
本のビット線および複数本のワード線が交差して配置さ
れ、これのビット線およびワード線の交差点にメモリセ
ルがそれぞれ配置されている。図5はシステムの構成を
示す概念図であり、これらの信号線の一部分のみを示し
ている。
【0004】ローデコーダおよびワード線ドライバー1
2,22,32は、入力されたローアドレスに応じて各
メモリブロック10,20,30のワード線WL0〜W
Lmを選択して駆動する。以下の説明においては12,
22,32を単にローデコーダという。カラムデコーダ
50は入力されたカラムアドレスに応じてカラム信号線
YL0〜YLnを選択制御し、各メモリブロック10,
20,30の選択ゲート14,24,34を制御する。
なお、図5ではローデコーダ12,22,32およびカ
ラムデコーダ50にそれぞれローアドレスおよびカラム
アドレスを入力するアドレスバスが省略している。
2,22,32は、入力されたローアドレスに応じて各
メモリブロック10,20,30のワード線WL0〜W
Lmを選択して駆動する。以下の説明においては12,
22,32を単にローデコーダという。カラムデコーダ
50は入力されたカラムアドレスに応じてカラム信号線
YL0〜YLnを選択制御し、各メモリブロック10,
20,30の選択ゲート14,24,34を制御する。
なお、図5ではローデコーダ12,22,32およびカ
ラムデコーダ50にそれぞれローアドレスおよびカラム
アドレスを入力するアドレスバスが省略している。
【0005】図示のように、各メモリブロック10,2
0,30にデータバスD0,/D0が設けられており、
読み出し時にメモリセルの記憶データがそれに接続され
ているビット線に読み出される。ビット線上の読み出し
データがそれぞれ選択ゲート14,24,34を介して
データバスD0,/D0に出力される。なお、各ビット
線BL0,/BL0にセンスアンプが接続されており、
読み出し時、選択されたメモリセルからビット線に読み
出されたデータがセンスアンプにより増幅された後、デ
ータバスD0,/D0に出力される。図5においては、
センスアンプが省略されているが、図示の各選択ゲート
14,24,34にセンスアンプが含まれていると考え
られる。
0,30にデータバスD0,/D0が設けられており、
読み出し時にメモリセルの記憶データがそれに接続され
ているビット線に読み出される。ビット線上の読み出し
データがそれぞれ選択ゲート14,24,34を介して
データバスD0,/D0に出力される。なお、各ビット
線BL0,/BL0にセンスアンプが接続されており、
読み出し時、選択されたメモリセルからビット線に読み
出されたデータがセンスアンプにより増幅された後、デ
ータバスD0,/D0に出力される。図5においては、
センスアンプが省略されているが、図示の各選択ゲート
14,24,34にセンスアンプが含まれていると考え
られる。
【0006】メモリブロック10,20,30の選択ゲ
ート14,24,34はカラム信号線YL0により制御
される。ビット線BL0,/BL0はそれぞれデータバ
スD0,/D0に接続される。読み出し時に、ビット線
BL0,/BL0からなるビット線対が用いられ、選択
メモリセルの記憶データに応じてビット線対をなす二本
のビット線BL0,/BL0がそれぞれ反転するレベル
に設定される。例えば、メモリブロック10においてワ
ード線WLm−1がローデコーダ12により選択された
とき、メモリセル1が選択メモリセルとなり、その記憶
データがビット線BL0に読み出され、これに応じてセ
ンスアンプによりビット線BL0の電位が確定され、/
BL0がその反転レベルに保持される。また、ワード線
WLmがローデコーダ12により選択されたとき、メモ
リセル2が選択メモリセルとなり、その記憶データがビ
ット線/BL0に読み出される。センスアンプにより読
み出したデータに応じてビット線/BL0の電位が確定
され、ビット線BL0がその反転レベルに保持される。
ビット線BL0,/BL0の電位が選択ゲート14を介
してデータバスD0,/D0にそれぞれ転送される。さ
らに、各メモリブロック10,20,30のデータバス
D0,/D0の読み出しデータが図示しないメインデー
タバスにまとめて転送され、入出力バッファを介して外
部に出力される。
ート14,24,34はカラム信号線YL0により制御
される。ビット線BL0,/BL0はそれぞれデータバ
スD0,/D0に接続される。読み出し時に、ビット線
BL0,/BL0からなるビット線対が用いられ、選択
メモリセルの記憶データに応じてビット線対をなす二本
のビット線BL0,/BL0がそれぞれ反転するレベル
に設定される。例えば、メモリブロック10においてワ
ード線WLm−1がローデコーダ12により選択された
とき、メモリセル1が選択メモリセルとなり、その記憶
データがビット線BL0に読み出され、これに応じてセ
ンスアンプによりビット線BL0の電位が確定され、/
BL0がその反転レベルに保持される。また、ワード線
WLmがローデコーダ12により選択されたとき、メモ
リセル2が選択メモリセルとなり、その記憶データがビ
ット線/BL0に読み出される。センスアンプにより読
み出したデータに応じてビット線/BL0の電位が確定
され、ビット線BL0がその反転レベルに保持される。
ビット線BL0,/BL0の電位が選択ゲート14を介
してデータバスD0,/D0にそれぞれ転送される。さ
らに、各メモリブロック10,20,30のデータバス
D0,/D0の読み出しデータが図示しないメインデー
タバスにまとめて転送され、入出力バッファを介して外
部に出力される。
【0007】書き込み時に、データの流れは読み出し時
と逆になっており、外部からの書き込みデータは入出力
バッファを介してメインデータバスに転送され、各メモ
リブロック10,20,30のデータバスに転送され
る。カラムデコーダ50により、所定のカラム信号線が
選択される。例えば、カラム信号線YL0が選択された
場合、YL0で制御されている選択ゲート14,24,
34が開き、データバスD0,/D0上のデータがそれ
ぞれビット線BL0,/BL0に転送される。さらに、
ローデコーダによりワード線が選択され、それに接続さ
れているメモリセルが選択される。例えば、ローデコー
ダ12によりワード線WLm−1が選択されると、メモ
リセル1が選択され、ビット線BL0の書き込みデータ
がメモリセル1に書き込まれる。一方、ローデコーダ1
2によりワード線WLmが選択されると、メモリセル2
が選択され、ビット線/BL0の書き込みデータがメモ
リセル2に書き込まれる。
と逆になっており、外部からの書き込みデータは入出力
バッファを介してメインデータバスに転送され、各メモ
リブロック10,20,30のデータバスに転送され
る。カラムデコーダ50により、所定のカラム信号線が
選択される。例えば、カラム信号線YL0が選択された
場合、YL0で制御されている選択ゲート14,24,
34が開き、データバスD0,/D0上のデータがそれ
ぞれビット線BL0,/BL0に転送される。さらに、
ローデコーダによりワード線が選択され、それに接続さ
れているメモリセルが選択される。例えば、ローデコー
ダ12によりワード線WLm−1が選択されると、メモ
リセル1が選択され、ビット線BL0の書き込みデータ
がメモリセル1に書き込まれる。一方、ローデコーダ1
2によりワード線WLmが選択されると、メモリセル2
が選択され、ビット線/BL0の書き込みデータがメモ
リセル2に書き込まれる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来の半導体記憶装置においては、各メモリブロックが共
有しているカラムデコーダは各メモリブロックを均等に
選択しており、各メモリブロック内のデータバスおよび
センスアンプが多く、メモリブロックサイズのカラム方
向の縮小化が困難になるという問題がある。
来の半導体記憶装置においては、各メモリブロックが共
有しているカラムデコーダは各メモリブロックを均等に
選択しており、各メモリブロック内のデータバスおよび
センスアンプが多く、メモリブロックサイズのカラム方
向の縮小化が困難になるという問題がある。
【0009】本発明はかかる事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的はメモリブロック内のセンスアンプお
よびデータバスの数を低減でき、メモリチップサイズの
縮小化を可能にし、かつ各センスアンプに接続されてい
る負荷となるビット線容量の増加を抑制できる半導体記
憶装置を提供することにある。
であり、その目的はメモリブロック内のセンスアンプお
よびデータバスの数を低減でき、メモリチップサイズの
縮小化を可能にし、かつ各センスアンプに接続されてい
る負荷となるビット線容量の増加を抑制できる半導体記
憶装置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は複数のメモリセルが行列状に配列して構成
されているメモリブロックを複数有し、隣り合う二つの
メモリブロックおよびこれらのメモリブロックで共有し
ているセンスアンプにより、一組のメモリブロック対を
構成し、隣り合う二組のメモリブロック対が共通のデー
タバスを用いてデータの入出力を行い、カラムデコーダ
で活性化されるカラム信号線によりメモリブロック対を
選択する半導体記憶装置であって、隣り合う二組のメモ
リブロック対をそれぞれ上記カラム信号線の奇数信号線
と偶数信号線で選択する選択手段を有する。
め、本発明は複数のメモリセルが行列状に配列して構成
されているメモリブロックを複数有し、隣り合う二つの
メモリブロックおよびこれらのメモリブロックで共有し
ているセンスアンプにより、一組のメモリブロック対を
構成し、隣り合う二組のメモリブロック対が共通のデー
タバスを用いてデータの入出力を行い、カラムデコーダ
で活性化されるカラム信号線によりメモリブロック対を
選択する半導体記憶装置であって、隣り合う二組のメモ
リブロック対をそれぞれ上記カラム信号線の奇数信号線
と偶数信号線で選択する選択手段を有する。
【0011】また、本発明では、データアクセス時各メ
モリブロック対を構成する二つのメモリブロックの内一
つが選択され、選択されたメモリブロックのメモリセル
に対してデータの入出力が行われ、上記各メモリブロッ
クとこれらのメモリブロックが共用しているセンスアン
プとの間に、センスアンプを選択されたメモリブロック
側に接続する切り換える手段を有する。
モリブロック対を構成する二つのメモリブロックの内一
つが選択され、選択されたメモリブロックのメモリセル
に対してデータの入出力が行われ、上記各メモリブロッ
クとこれらのメモリブロックが共用しているセンスアン
プとの間に、センスアンプを選択されたメモリブロック
側に接続する切り換える手段を有する。
【0012】さらに、本発明では、隣り合う二本のビッ
ト線によりビット線対が構成され、読み出し時に選択さ
れたメモリセルの記憶データおよびその反転データがビ
ット線対を構成する二本のビット線にそれぞれ出力さ
れ、メモリアクセス時に選択されたメモリブロックの上
記ビット線対の内一方は、当該選択メモリブロックの選
択ゲートを介してデータバスに接続され、他方は上記ス
イッチおよびセンスアンプを介して非選択メモリブロッ
クのビット線に接続され、さらに非選択メモリブロック
の選択ゲートを介して非選択メモリブロック側のデータ
バスに接続される。
ト線によりビット線対が構成され、読み出し時に選択さ
れたメモリセルの記憶データおよびその反転データがビ
ット線対を構成する二本のビット線にそれぞれ出力さ
れ、メモリアクセス時に選択されたメモリブロックの上
記ビット線対の内一方は、当該選択メモリブロックの選
択ゲートを介してデータバスに接続され、他方は上記ス
イッチおよびセンスアンプを介して非選択メモリブロッ
クのビット線に接続され、さらに非選択メモリブロック
の選択ゲートを介して非選択メモリブロック側のデータ
バスに接続される。
【0013】本発明によれば、複数のメモリブロックに
より構成された半導体記憶装置において、隣り合う二つ
のメモリブロックおよびこれらのメモリブロックで共有
しているセンスアンプにより一つのメモリブロック対を
構成している。各メモリブロック対はカラム信号線によ
り選択され、選択されたメモリブロック対のビット線と
データバスが選択ゲートを介して接続される。さらに、
隣り合うメモリブロック対はカラム信号線の奇数信号線
と偶数信号線によりそれぞれ選択される。各メモリブロ
ック対の間に、隣りのメモリブロック対と共用するデー
タバスが配置されおり、メモリアクセス時に、隣り合う
メモリブロック対が同時に選択されることなく、データ
バスの共有によるデータバスの衝突が回避できる。
より構成された半導体記憶装置において、隣り合う二つ
のメモリブロックおよびこれらのメモリブロックで共有
しているセンスアンプにより一つのメモリブロック対を
構成している。各メモリブロック対はカラム信号線によ
り選択され、選択されたメモリブロック対のビット線と
データバスが選択ゲートを介して接続される。さらに、
隣り合うメモリブロック対はカラム信号線の奇数信号線
と偶数信号線によりそれぞれ選択される。各メモリブロ
ック対の間に、隣りのメモリブロック対と共用するデー
タバスが配置されおり、メモリアクセス時に、隣り合う
メモリブロック対が同時に選択されることなく、データ
バスの共有によるデータバスの衝突が回避できる。
【0014】メモリアクセス時に、選択されたメモリブ
ロック対の内一つのメモリブロックが選択され、それに
対して読み出し或いは書き込みが行われる。読み出し時
に選択メモリセルのデータが一対のビット線に読み出し
データおよびその反転データが出力され、センスアンプ
により増幅された後、一方は選択ゲートを介してデータ
バスに出力され、他方はセンスアンプ切り換え用スイッ
チとセンスアンプを介して非選択メモリブロックのビッ
ト線に転送され、非選択メモリブロックの選択ゲートを
介してデータバスに出力される。これにより、メモリブ
ロックのデータバスの本数が半分に低減でき、かつセン
スアンプの数も半減でき、メモリチップの縮小化が可能
となる。
ロック対の内一つのメモリブロックが選択され、それに
対して読み出し或いは書き込みが行われる。読み出し時
に選択メモリセルのデータが一対のビット線に読み出し
データおよびその反転データが出力され、センスアンプ
により増幅された後、一方は選択ゲートを介してデータ
バスに出力され、他方はセンスアンプ切り換え用スイッ
チとセンスアンプを介して非選択メモリブロックのビッ
ト線に転送され、非選択メモリブロックの選択ゲートを
介してデータバスに出力される。これにより、メモリブ
ロックのデータバスの本数が半分に低減でき、かつセン
スアンプの数も半減でき、メモリチップの縮小化が可能
となる。
【0015】
【発明の実施の形態】図1は本発明に係る半導体記憶装
置の一実施形態を示す回路図である。本実施形態の半導
体記憶装置はメモリブロック10,20,30,40、
カラムデコーダ50、センスアンプ60,70により構
成されている。各メモリブロック10,20,30,4
0にワード線を選択して駆動するローデコーダ12,2
2,32,42が設けられている。
置の一実施形態を示す回路図である。本実施形態の半導
体記憶装置はメモリブロック10,20,30,40、
カラムデコーダ50、センスアンプ60,70により構
成されている。各メモリブロック10,20,30,4
0にワード線を選択して駆動するローデコーダ12,2
2,32,42が設けられている。
【0016】メモリブロック10,20はセンスアンプ
60を共有し、メモリブロック30,40はセンスアン
プ70を共有する。このため、メモリブロック10とセ
ンスアンプ60の間にセンスアンプ選択スイッチ16が
接続され、メモリブロック20とセンスアンプ60との
間にスイッチ26が接続されている。スイッチ16、2
6はそれぞれローデコーダ12,22からのスイッチイ
ネーブル信号SE,/SEにより制御される。センスア
ンプ60はローデコーダ12,22からのセンスアンプ
イネーブル信号SAEにより制御される。同様に、メモ
リブロック30,40はセンスアンプ70を共有し、メ
モリブロック30とセンスアンプ70との間にスイッチ
36が接続され、メモリブロック40とセンスアンプ7
0をの間にスイッチ46が接続されている。スイッチ3
6、46はそれぞれローデコーダ32,42からのスイ
ッチイネーブル信号SE,/SEにより制御される。セ
ンスアンプ60はローデコーダ32,42からのセンス
アンプイネーブル信号SAEにより制御される。
60を共有し、メモリブロック30,40はセンスアン
プ70を共有する。このため、メモリブロック10とセ
ンスアンプ60の間にセンスアンプ選択スイッチ16が
接続され、メモリブロック20とセンスアンプ60との
間にスイッチ26が接続されている。スイッチ16、2
6はそれぞれローデコーダ12,22からのスイッチイ
ネーブル信号SE,/SEにより制御される。センスア
ンプ60はローデコーダ12,22からのセンスアンプ
イネーブル信号SAEにより制御される。同様に、メモ
リブロック30,40はセンスアンプ70を共有し、メ
モリブロック30とセンスアンプ70との間にスイッチ
36が接続され、メモリブロック40とセンスアンプ7
0をの間にスイッチ46が接続されている。スイッチ3
6、46はそれぞれローデコーダ32,42からのスイ
ッチイネーブル信号SE,/SEにより制御される。セ
ンスアンプ60はローデコーダ32,42からのセンス
アンプイネーブル信号SAEにより制御される。
【0017】本実施形態の最大の特徴は、メモリブロッ
ク10,20およびメモリブロック30,40はそれぞ
れメモリブロック対を構成し、隣り合うメモリブロック
対はそれぞれ偶数番のカラム信号線YL2n(n=0,
1,2…)および奇数番のカラム信号線YL2n+1に
より選択され、かつ隣り合うメモリブロック対は共通の
データバスを有することである。図1では、メモリブロ
ック10,20からなるメモリブロック対はカラム信号
線YL1により選択され、メモリブロック30,40か
らなるメモリブロック対はカラム信号線YL0により選
択される。かつ、これらのメモリブロック対は、データ
バス/D0を共有している。カラムデコーダ50により
カラム信号線YL0が選択され活性化状態に設定されて
いるとき、メモリブロック30,40からなるメモリブ
ロック対が選択され、メモリブロック10,20からな
るメモリブロック対が非選択となる。一方、カラムデコ
ーダ50によりカラム信号線YL1が選択され活性化状
態に設定されているとき、メモリブロック10,20か
らなるメモリブロック対が選択され、メモリブロック3
0,40からなるメモリブロック対が非選択となる。隣
り合うメモリブロック対でデータバスを共有することに
より、データバスの本数を半分に低減できる。また、隣
り合うメモリブロック対をそれぞれ奇数番および偶数番
のカラム信号線により選択するので、データバスの共有
によるデータの衝突が回避できる。以下、図1を参照し
つつ、本実施形態の半導体記憶装置の構成および動作に
ついて詳細に説明し、本発明の特徴をより明白にする。
ク10,20およびメモリブロック30,40はそれぞ
れメモリブロック対を構成し、隣り合うメモリブロック
対はそれぞれ偶数番のカラム信号線YL2n(n=0,
1,2…)および奇数番のカラム信号線YL2n+1に
より選択され、かつ隣り合うメモリブロック対は共通の
データバスを有することである。図1では、メモリブロ
ック10,20からなるメモリブロック対はカラム信号
線YL1により選択され、メモリブロック30,40か
らなるメモリブロック対はカラム信号線YL0により選
択される。かつ、これらのメモリブロック対は、データ
バス/D0を共有している。カラムデコーダ50により
カラム信号線YL0が選択され活性化状態に設定されて
いるとき、メモリブロック30,40からなるメモリブ
ロック対が選択され、メモリブロック10,20からな
るメモリブロック対が非選択となる。一方、カラムデコ
ーダ50によりカラム信号線YL1が選択され活性化状
態に設定されているとき、メモリブロック10,20か
らなるメモリブロック対が選択され、メモリブロック3
0,40からなるメモリブロック対が非選択となる。隣
り合うメモリブロック対でデータバスを共有することに
より、データバスの本数を半分に低減できる。また、隣
り合うメモリブロック対をそれぞれ奇数番および偶数番
のカラム信号線により選択するので、データバスの共有
によるデータの衝突が回避できる。以下、図1を参照し
つつ、本実施形態の半導体記憶装置の構成および動作に
ついて詳細に説明し、本発明の特徴をより明白にする。
【0018】図1は本発明を説明するための概念図であ
り、メモリの動作に関わる一部分の信号線のみを示して
おり、他の部分は省略している。また、メモリブロック
10,20,30,40はほぼ同じ構成を有しており、
以下ではメモリブロック10を中心にその構成および動
作を説明し、他のメモリブロックは同様な構成に基づき
機能することはいうまでもない。
り、メモリの動作に関わる一部分の信号線のみを示して
おり、他の部分は省略している。また、メモリブロック
10,20,30,40はほぼ同じ構成を有しており、
以下ではメモリブロック10を中心にその構成および動
作を説明し、他のメモリブロックは同様な構成に基づき
機能することはいうまでもない。
【0019】図示のように、メモリブロック10におい
て複数のワード線WL0〜WLmと複数のビット線BL
0,/BL0〜BLn,/BLnが交差して配置されて
おり、これらのワード線とビット線との交差点にメモリ
セルが配置されている。例えば、ワード線WLm−1と
ビット線BL0との交差点にメモリセル1が配置され、
ワード線WLmとビット線/BL0との交差点にメモリ
セル2が配置されている。なお、図1においてはメモリ
セルの具体的な構成を示しておらず、その配置場所を○
で示すのみである。本実施形態のメモリブロック10,
20,30,40は静的なRAM(SRAM)或いは動
的なRAM(DRAM)の何れかにより構成することが
できる。
て複数のワード線WL0〜WLmと複数のビット線BL
0,/BL0〜BLn,/BLnが交差して配置されて
おり、これらのワード線とビット線との交差点にメモリ
セルが配置されている。例えば、ワード線WLm−1と
ビット線BL0との交差点にメモリセル1が配置され、
ワード線WLmとビット線/BL0との交差点にメモリ
セル2が配置されている。なお、図1においてはメモリ
セルの具体的な構成を示しておらず、その配置場所を○
で示すのみである。本実施形態のメモリブロック10,
20,30,40は静的なRAM(SRAM)或いは動
的なRAM(DRAM)の何れかにより構成することが
できる。
【0020】DRAMのメモリセルによりメモリブロッ
ク10,20,30,40を構成する場合、メモリセル
アレイの一部分を図2(a)に示している。図示のよう
に、DRAMの各メモリセルMC0〜MC3はそれぞれ
選択用トランジスタQ0 〜Q3 と電荷蓄積用容量素子C
0 〜C3 により構成されている。各メモリセルMC0〜
MC3の容量素子C0 〜C3 の蓄積電荷量によりデータ
の“0”または“1”が記憶される。メモリセルMC0
はワード線WL0とビット線BL0との間に接続され、
メモリセルMC1はワード線WL1とビット線BL0と
の間に接続されている。メモリセルMC2はワード線W
L2とビット線/BL0との間に接続され、メモリセル
MC3はワード線WL3とビット線/BL0との間に接
続されている。
ク10,20,30,40を構成する場合、メモリセル
アレイの一部分を図2(a)に示している。図示のよう
に、DRAMの各メモリセルMC0〜MC3はそれぞれ
選択用トランジスタQ0 〜Q3 と電荷蓄積用容量素子C
0 〜C3 により構成されている。各メモリセルMC0〜
MC3の容量素子C0 〜C3 の蓄積電荷量によりデータ
の“0”または“1”が記憶される。メモリセルMC0
はワード線WL0とビット線BL0との間に接続され、
メモリセルMC1はワード線WL1とビット線BL0と
の間に接続されている。メモリセルMC2はワード線W
L2とビット線/BL0との間に接続され、メモリセル
MC3はワード線WL3とビット線/BL0との間に接
続されている。
【0021】データの読み出しはビット線BL0,/B
L0からなるビット線対を介して行われる。例えば、ロ
ーデコーダによりワード線WL0が立ち上げられ、メモ
リセルMC0が選択されたとき、選択用トランジスタQ
0が導通状態となり、容量素子C0に蓄積した電荷に応
じてビット線BL0の電位が設定される。センスアンプ
により、ビット線BL0の電位に応じてビット線対BL
0,/BL0のレベルが決定される。一方、ローデコー
ダによりワード線WL2が立ち上げられ、メモリセルM
C2が選択されたとき、選択用トランジスタQ2が導通
状態となり、容量素子C2に蓄積した電荷に応じてビッ
ト線/BL0の電位が設定される。センスアンプによ
り、ビット線/BL0の電位に応じてビット線対BL
0,/BL0のレベルが決定される。そしてビット線B
L0,/BL0の電位がそれぞれデータバスD0,/D
0に転送され、これに応じて選択メモリセルの記憶デー
タが読み出される。
L0からなるビット線対を介して行われる。例えば、ロ
ーデコーダによりワード線WL0が立ち上げられ、メモ
リセルMC0が選択されたとき、選択用トランジスタQ
0が導通状態となり、容量素子C0に蓄積した電荷に応
じてビット線BL0の電位が設定される。センスアンプ
により、ビット線BL0の電位に応じてビット線対BL
0,/BL0のレベルが決定される。一方、ローデコー
ダによりワード線WL2が立ち上げられ、メモリセルM
C2が選択されたとき、選択用トランジスタQ2が導通
状態となり、容量素子C2に蓄積した電荷に応じてビッ
ト線/BL0の電位が設定される。センスアンプによ
り、ビット線/BL0の電位に応じてビット線対BL
0,/BL0のレベルが決定される。そしてビット線B
L0,/BL0の電位がそれぞれデータバスD0,/D
0に転送され、これに応じて選択メモリセルの記憶デー
タが読み出される。
【0022】データの書き込み時の信号の流れは上述し
た読み出し時と逆になり、データバスD0,/D0に印
加された書き込みデータおよびその反転データに応じて
ビット線BL0,/BL0のレベルが設定され、これに
基づき選択メモリセルの容量素子の蓄積電荷量が制御さ
れる。
た読み出し時と逆になり、データバスD0,/D0に印
加された書き込みデータおよびその反転データに応じて
ビット線BL0,/BL0のレベルが設定され、これに
基づき選択メモリセルの容量素子の蓄積電荷量が制御さ
れる。
【0023】SRAMのメモリセルによりメモリブロッ
クを構成する場合、メモリセルアレイの一部分を図2
(b)に示している。DRAMのメモリセルと異なっ
て、各メモリセルMC0〜MC3はビット線BL0,/
BL0の両方に接続されている。SRAMのメモリセル
の具体的な構成は図3に示している。図3(a)は六つ
のトランジスタQ1〜Q6により構成されているいわゆ
る6トランジスタSRAMメモリセルの構成を示してい
る。トランジスタQ1〜Q4によりフリップフロップ型
の記憶素子が形成され、ノードN1,N2の電位に応じ
てデータの“0”または“1”が記憶される。トランジ
スタQ5,Q6はアクセストランジスタであり、ゲート
が接続されているワード線の電位に応じてオン/オフ状
態が制御される。読み出し時に、例えばワード線WL0
が立ち上げられ、選択メモリセルMC0のアクセストラ
ンジスタQ5,Q6が導通状態に設定され、ノードN
1,N2の電位に応じてビット線BL0,/BL0の電
位が設定される。センスアンプによりビット線BL0,
/BL0の電位が確定され、それに応じてデータバスD
0,/D0のレベルが決定される。書き込み時に、ビッ
ト線BL0,/BL0のレベルに応じてノードN1,N
2の電位が設定され、書き込みデータが記憶される。図
3(a)に示す6トランジスタSRAMメモリセルの代
わりに、図3(b)に示す4トランジスタSRAMメモ
リセルを用いることもできる。図示のように、4トラン
ジスタSRAMメモリセルでは、6トランジスタメモリ
セルにおけるpMOSトランジスタQ1,Q3の代わり
に高抵抗素子R1,R3が用いられている。
クを構成する場合、メモリセルアレイの一部分を図2
(b)に示している。DRAMのメモリセルと異なっ
て、各メモリセルMC0〜MC3はビット線BL0,/
BL0の両方に接続されている。SRAMのメモリセル
の具体的な構成は図3に示している。図3(a)は六つ
のトランジスタQ1〜Q6により構成されているいわゆ
る6トランジスタSRAMメモリセルの構成を示してい
る。トランジスタQ1〜Q4によりフリップフロップ型
の記憶素子が形成され、ノードN1,N2の電位に応じ
てデータの“0”または“1”が記憶される。トランジ
スタQ5,Q6はアクセストランジスタであり、ゲート
が接続されているワード線の電位に応じてオン/オフ状
態が制御される。読み出し時に、例えばワード線WL0
が立ち上げられ、選択メモリセルMC0のアクセストラ
ンジスタQ5,Q6が導通状態に設定され、ノードN
1,N2の電位に応じてビット線BL0,/BL0の電
位が設定される。センスアンプによりビット線BL0,
/BL0の電位が確定され、それに応じてデータバスD
0,/D0のレベルが決定される。書き込み時に、ビッ
ト線BL0,/BL0のレベルに応じてノードN1,N
2の電位が設定され、書き込みデータが記憶される。図
3(a)に示す6トランジスタSRAMメモリセルの代
わりに、図3(b)に示す4トランジスタSRAMメモ
リセルを用いることもできる。図示のように、4トラン
ジスタSRAMメモリセルでは、6トランジスタメモリ
セルにおけるpMOSトランジスタQ1,Q3の代わり
に高抵抗素子R1,R3が用いられている。
【0024】図1に示すメモリブロック10において、
ワード線WL0〜WLmはローデコーダ12により選択
され、選択されたワード線が活性化状態に設定される。
ビット線BL0,/BL0はスイッチ16を介してセン
スアンプ60に接続されている。ビット線BL0は選択
ゲート14を介してデータバスD0に接続されている。
一方、ビット線BL0はスイッチ16、センスアンプ6
0およびメモリブロック20のスイッチ26を介してメ
モリブロック20のビット線BL0に接続されている。
ビット線/BL0はスイッチ16、センスアンプ60お
よびメモリブロック20のスイッチ26を介してメモリ
ブロック20のビット線/BL0に接続されている。メ
モリブロック20のビット線/BL0は選択ゲート24
を介してデータバス/D0に接続されている。
ワード線WL0〜WLmはローデコーダ12により選択
され、選択されたワード線が活性化状態に設定される。
ビット線BL0,/BL0はスイッチ16を介してセン
スアンプ60に接続されている。ビット線BL0は選択
ゲート14を介してデータバスD0に接続されている。
一方、ビット線BL0はスイッチ16、センスアンプ6
0およびメモリブロック20のスイッチ26を介してメ
モリブロック20のビット線BL0に接続されている。
ビット線/BL0はスイッチ16、センスアンプ60お
よびメモリブロック20のスイッチ26を介してメモリ
ブロック20のビット線/BL0に接続されている。メ
モリブロック20のビット線/BL0は選択ゲート24
を介してデータバス/D0に接続されている。
【0025】メモリブロック10,20はセンスアンプ
60を共有し、スイッチ16および26によりメモリブ
ロック10,20のビット線とセンスアンプ60の切り
換えが行われる。例えば、読み出し時メモリブロック1
0が選択されたとき、ローデコーダ12によりスイッチ
イネーブル信号SEが活性化され、スイッチ16が導通
状態に設定される。このときローデコーダ22により、
スイッチイネーブル信号/SEが非活性化され、スイッ
チ26が非導通状態に設定されるので、センスアンプ6
0により、メモリブロック10側のビット線BL0,/
BL0のデータが増幅される。同様に、メモリブロック
20が選択されたとき、メモリブロック10側のスイッ
チ16が非導通状態、メモリブロック20側のスイッチ
26が導通状態に設定されるので、センスアンプにより
メモリブロック20のビット線BL0,/BL0のデー
タが増幅される。
60を共有し、スイッチ16および26によりメモリブ
ロック10,20のビット線とセンスアンプ60の切り
換えが行われる。例えば、読み出し時メモリブロック1
0が選択されたとき、ローデコーダ12によりスイッチ
イネーブル信号SEが活性化され、スイッチ16が導通
状態に設定される。このときローデコーダ22により、
スイッチイネーブル信号/SEが非活性化され、スイッ
チ26が非導通状態に設定されるので、センスアンプ6
0により、メモリブロック10側のビット線BL0,/
BL0のデータが増幅される。同様に、メモリブロック
20が選択されたとき、メモリブロック10側のスイッ
チ16が非導通状態、メモリブロック20側のスイッチ
26が導通状態に設定されるので、センスアンプにより
メモリブロック20のビット線BL0,/BL0のデー
タが増幅される。
【0026】メモリブロックアクセス時に、メモリブロ
ック対を構成するメモリブロック10、20が同時に選
択されることがなく、常にその内の一つが選択される。
スイッチ16、26の切り換え動作によりセンスアンプ
60の負荷として接続されているビット線はメモリブロ
ック10または20側の何れかであり、負荷容量の増加
を抑制され、センスアンプの動作安定性および感度への
影響を最小限に抑制される。
ック対を構成するメモリブロック10、20が同時に選
択されることがなく、常にその内の一つが選択される。
スイッチ16、26の切り換え動作によりセンスアンプ
60の負荷として接続されているビット線はメモリブロ
ック10または20側の何れかであり、負荷容量の増加
を抑制され、センスアンプの動作安定性および感度への
影響を最小限に抑制される。
【0027】センスアンプ60はローデコーダ12、2
2からのセンスアンプイネーブル信号SAEにより活性
化され、メモリブロック10、20の何れかが選択され
たときに動作する。センスアンプ60によりメモリブロ
ック10、20の内、選択されたメモリブロックのビッ
ト線BL0,/BL0の読み出しデータが増幅される。
例えば、メモリブロック10が選択されたとき、センス
アンプ60の状態が確定した後、ローデコーダ22によ
りスイッチ26が導通状態に設定されるのでメモリブロ
ック10のビット線/BL0データがメモリブロック2
0のビット線に転送される。その後、カラムデコーダ5
0によりカラム信号線YL1が選択され、活性化される
ので、選択ゲート14,24がともに導通状態になり、
メモリブロック10のビット線BL0のデータが選択ゲ
ート14を介してデータバスD0に転送され、メモリブ
ロック20のビット線/BL0のデータが選択ゲート2
4を介してデータバス/D0に転送される。
2からのセンスアンプイネーブル信号SAEにより活性
化され、メモリブロック10、20の何れかが選択され
たときに動作する。センスアンプ60によりメモリブロ
ック10、20の内、選択されたメモリブロックのビッ
ト線BL0,/BL0の読み出しデータが増幅される。
例えば、メモリブロック10が選択されたとき、センス
アンプ60の状態が確定した後、ローデコーダ22によ
りスイッチ26が導通状態に設定されるのでメモリブロ
ック10のビット線/BL0データがメモリブロック2
0のビット線に転送される。その後、カラムデコーダ5
0によりカラム信号線YL1が選択され、活性化される
ので、選択ゲート14,24がともに導通状態になり、
メモリブロック10のビット線BL0のデータが選択ゲ
ート14を介してデータバスD0に転送され、メモリブ
ロック20のビット線/BL0のデータが選択ゲート2
4を介してデータバス/D0に転送される。
【0028】このように、メモリブロック10が選択さ
れたときメモリブロック10のビット線BL0のデータ
が選択ゲート14を介してデータバスD0に出力され、
メモリブロック10のビット線/BL0のデータがメモ
リブロック10と20間のスイッチ16、センスアンプ
60およびスイッチ26を介してメモリブロック20の
ビット線/BL0に転送され、選択ゲート24を介して
データバス/D0に出力される。
れたときメモリブロック10のビット線BL0のデータ
が選択ゲート14を介してデータバスD0に出力され、
メモリブロック10のビット線/BL0のデータがメモ
リブロック10と20間のスイッチ16、センスアンプ
60およびスイッチ26を介してメモリブロック20の
ビット線/BL0に転送され、選択ゲート24を介して
データバス/D0に出力される。
【0029】さらに、上述したことと同様にメモリブロ
ック30,40により構成されたメモリブロック対にお
いて、ビット線上の読み出しデータがメモリブロック2
0と30の間に配置されているデータバス/D0および
メモリブロック40の右側に配置されているデータバス
D0にそれぞれ出力される。メモリブロック30が選択
されたとき、メモリブロック30のビット線/BL0の
読み出しデータが選択ゲート34を介してデータバス/
D0に出力され、ビット線BL0の読み出しデータがメ
モリブロック30と40の間にあるスイッチ36、セン
スアンプ70およびスイッチ46を介してメモリブロッ
ク40のビット線BL0に転送され、さらに選択ゲート
44を介してデータバスD0に出力される。メモリブロ
ック40が選択されたときにも同様に、メモリブロック
40のビット線BL0の読み出しデータが選択ゲート4
4を介してデータバスD0に出力され、ビット線/BL
0の読み出しデータがスイッチ46、センスアンプ70
およびスイッチ36を介して、メモリブロック30のビ
ット線/BL0に転送され、選択ゲート43を介してデ
ータバス/D0に出力される。
ック30,40により構成されたメモリブロック対にお
いて、ビット線上の読み出しデータがメモリブロック2
0と30の間に配置されているデータバス/D0および
メモリブロック40の右側に配置されているデータバス
D0にそれぞれ出力される。メモリブロック30が選択
されたとき、メモリブロック30のビット線/BL0の
読み出しデータが選択ゲート34を介してデータバス/
D0に出力され、ビット線BL0の読み出しデータがメ
モリブロック30と40の間にあるスイッチ36、セン
スアンプ70およびスイッチ46を介してメモリブロッ
ク40のビット線BL0に転送され、さらに選択ゲート
44を介してデータバスD0に出力される。メモリブロ
ック40が選択されたときにも同様に、メモリブロック
40のビット線BL0の読み出しデータが選択ゲート4
4を介してデータバスD0に出力され、ビット線/BL
0の読み出しデータがスイッチ46、センスアンプ70
およびスイッチ36を介して、メモリブロック30のビ
ット線/BL0に転送され、選択ゲート43を介してデ
ータバス/D0に出力される。
【0030】このように、隣り合う二つのメモリブロッ
クがセンスアンプ切り換えスイッチによりセンスアンプ
を共有し、メモリブロック対が構成される。さらに隣り
合うメモリブロック対が共通のデータバスを用いてデー
タ転送を行う。カラムデコーダにより、隣り合うメモリ
ブロック対がカラム信号線の偶数番と奇数番の信号線に
より選択されるので、隣り合うメモリブロック対を同時
に選択されることなく、データバスの共用ができる。こ
のため、メモリブロックのデータバスの本数が半分まで
低減できる。
クがセンスアンプ切り換えスイッチによりセンスアンプ
を共有し、メモリブロック対が構成される。さらに隣り
合うメモリブロック対が共通のデータバスを用いてデー
タ転送を行う。カラムデコーダにより、隣り合うメモリ
ブロック対がカラム信号線の偶数番と奇数番の信号線に
より選択されるので、隣り合うメモリブロック対を同時
に選択されることなく、データバスの共用ができる。こ
のため、メモリブロックのデータバスの本数が半分まで
低減できる。
【0031】即ち、各メモリブロック対の間に設けられ
ているデータバスが従来のメモリブロックのデータバス
に較べて、本数が半減される。なお、これらのデータバ
スは図示しないメインデータバスに接続され、メインデ
ータバスを介して入出力バッファに接続されている。
ているデータバスが従来のメモリブロックのデータバス
に較べて、本数が半減される。なお、これらのデータバ
スは図示しないメインデータバスに接続され、メインデ
ータバスを介して入出力バッファに接続されている。
【0032】図4は上述した読み出し時の各部分の波形
を示す波形図である。なお、ここで、カラムデコーダ5
0によりカラム信号線YL1が活性化され、メモリブロ
ック10と20からなるメモリブロック対が選択され、
メモリブロック30と40からなるメモリブロック対が
非選択されるとする。かつ、選択されたメモリブロック
対の内、メモリブロック10が選択され、その中にロー
デコーダ12によりワード線WLmが活性化され、メモ
リセル2が選択され、それに対して読み出しが行われる
場合を想定して説明を進める。
を示す波形図である。なお、ここで、カラムデコーダ5
0によりカラム信号線YL1が活性化され、メモリブロ
ック10と20からなるメモリブロック対が選択され、
メモリブロック30と40からなるメモリブロック対が
非選択されるとする。かつ、選択されたメモリブロック
対の内、メモリブロック10が選択され、その中にロー
デコーダ12によりワード線WLmが活性化され、メモ
リセル2が選択され、それに対して読み出しが行われる
場合を想定して説明を進める。
【0033】読み出しを開始する前に、選択されたメモ
リブロック10に対してイコライズ動作が行われる。イ
コライズ動作により、各ビット線BL0,/BL0は例
えば、電源電圧VCCの中間レベルVCC/2に保持され
る。イコライズ終了後、読み出し動作が開始する。時間
t1 においてローデコーダ12により、ワード線WLm
が選択され活性化される。例えば、図示のようにワード
線WLmがローレベルからハイレベルに立ち上がる。ワ
ード線WLmに接続されているメモリセル2の記憶デー
タがビット線/BL0に出力される。
リブロック10に対してイコライズ動作が行われる。イ
コライズ動作により、各ビット線BL0,/BL0は例
えば、電源電圧VCCの中間レベルVCC/2に保持され
る。イコライズ終了後、読み出し動作が開始する。時間
t1 においてローデコーダ12により、ワード線WLm
が選択され活性化される。例えば、図示のようにワード
線WLmがローレベルからハイレベルに立ち上がる。ワ
ード線WLmに接続されているメモリセル2の記憶デー
タがビット線/BL0に出力される。
【0034】時間t2 においてローデコーダ12により
スイッチ16のイネーブル信号SEが活性化され、ハイ
レベルに立ち上げられる。これに応じてスイッチ16が
導通状態となりビット線/BL0の読み出しデータがセ
ンスアンプ60に入力される。そして、時間t3 におい
てセンスアンプ60の動作状態を制御するセンスアンプ
イネーブル信号SAEがローデコーダ12により立ち上
げられ、これを受けてセンスアンプ60は動作状態に切
り換わり、ビット線/BL0上の読み出しデータに応じ
てビット線BL0,/BL0のレベルを設定する。ここ
で、通常、センスアンプイネーブル信号SAEが立ち上
がる前にスイッチ16を一度非導通状態に切り換え、セ
ンスアンプ60で駆動する寄生容量を切り離しセンスア
ンプ60の感度を向上させる手法が用いられている。セ
ンスアンプの駆動能力が十分の場合、この切り離し動作
が省略してもよい。
スイッチ16のイネーブル信号SEが活性化され、ハイ
レベルに立ち上げられる。これに応じてスイッチ16が
導通状態となりビット線/BL0の読み出しデータがセ
ンスアンプ60に入力される。そして、時間t3 におい
てセンスアンプ60の動作状態を制御するセンスアンプ
イネーブル信号SAEがローデコーダ12により立ち上
げられ、これを受けてセンスアンプ60は動作状態に切
り換わり、ビット線/BL0上の読み出しデータに応じ
てビット線BL0,/BL0のレベルを設定する。ここ
で、通常、センスアンプイネーブル信号SAEが立ち上
がる前にスイッチ16を一度非導通状態に切り換え、セ
ンスアンプ60で駆動する寄生容量を切り離しセンスア
ンプ60の感度を向上させる手法が用いられている。セ
ンスアンプの駆動能力が十分の場合、この切り離し動作
が省略してもよい。
【0035】そして、時間t4 において非選択メモリブ
ロック20のローデコーダ22により、スイッチ26を
制御するスイッチイネーブル信号/SEが活性化され、
立ち上げられる。これによりスイッチ26が導通状態と
なり、非選択メモリブロック20のビット線BL0,/
BL0がセンスアンプ60によりそれぞれレベルが設定
される。なお、上述したセンスアンプ60の感度を向上
させるためのビット線切り離しが行われた場合、時間t
4 のタイミングでスイッチ16のイネーブル信号SEが
ふたたび立ち上げられ、メモリブロック10のビット線
BL0,/BL0がセンスアンプ60によりレベルが保
持される。
ロック20のローデコーダ22により、スイッチ26を
制御するスイッチイネーブル信号/SEが活性化され、
立ち上げられる。これによりスイッチ26が導通状態と
なり、非選択メモリブロック20のビット線BL0,/
BL0がセンスアンプ60によりそれぞれレベルが設定
される。なお、上述したセンスアンプ60の感度を向上
させるためのビット線切り離しが行われた場合、時間t
4 のタイミングでスイッチ16のイネーブル信号SEが
ふたたび立ち上げられ、メモリブロック10のビット線
BL0,/BL0がセンスアンプ60によりレベルが保
持される。
【0036】次いで、時間t5 においてカラムデコーダ
50によりカラム信号線YL1が選択され、が立ち上げ
られる。カラム信号線YL1により制御されている選択
ゲート14と24が導通状態に設定される。メモリブロ
ック10においてビット線BL0のレベルがデータバス
D0に出力され、メモリブロック20においてビット線
/BL0のレベルがデータバス/D0に出力される。な
お、このとき、カラム信号線YL0が活性化されておら
ず、メモリブロック30と40により構成されれている
メモリブロック対が選択されず、メモリブロック30ま
たは40におけるメモリアクセスが行われない。また、
上述したメモリブロック10に対する読み出しの時、メ
モリブロック20においてワード線が立ち上がることが
ないので、メモリブロック20側のデータが破壊される
ことはない。このため、スイッチ26を導通状態に設定
し、メモリブロック20側のビット線をデータ出力の経
路として用いることが可能となり、カラム信号線YL1
によりメモリブロック対を構成するメモリブロック1
0,20を共通に選択することができる。
50によりカラム信号線YL1が選択され、が立ち上げ
られる。カラム信号線YL1により制御されている選択
ゲート14と24が導通状態に設定される。メモリブロ
ック10においてビット線BL0のレベルがデータバス
D0に出力され、メモリブロック20においてビット線
/BL0のレベルがデータバス/D0に出力される。な
お、このとき、カラム信号線YL0が活性化されておら
ず、メモリブロック30と40により構成されれている
メモリブロック対が選択されず、メモリブロック30ま
たは40におけるメモリアクセスが行われない。また、
上述したメモリブロック10に対する読み出しの時、メ
モリブロック20においてワード線が立ち上がることが
ないので、メモリブロック20側のデータが破壊される
ことはない。このため、スイッチ26を導通状態に設定
し、メモリブロック20側のビット線をデータ出力の経
路として用いることが可能となり、カラム信号線YL1
によりメモリブロック対を構成するメモリブロック1
0,20を共通に選択することができる。
【0037】なお、以上の説明において読み出し動作を
例として、本実施形態の半導体記憶装置の動作について
説明したが、書き込み動作の原理は上述した読み出し動
作と同様であり、ただし、このときデータの流れは読み
出し時と逆である。データバスに入力された書き込みデ
ータがカラム信号線により選択されたメモリブロック対
に入力され、書き込みデータの半分は非選択メモリブロ
ックのビット線を介して選択メモリブロックのビット線
に転送され、ワード線により選択されたメモリセルに書
き込まれる。
例として、本実施形態の半導体記憶装置の動作について
説明したが、書き込み動作の原理は上述した読み出し動
作と同様であり、ただし、このときデータの流れは読み
出し時と逆である。データバスに入力された書き込みデ
ータがカラム信号線により選択されたメモリブロック対
に入力され、書き込みデータの半分は非選択メモリブロ
ックのビット線を介して選択メモリブロックのビット線
に転送され、ワード線により選択されたメモリセルに書
き込まれる。
【0038】以上説明したように、本実施形態によれ
ば、読み出し時メモリブロック10が選択されたとき、
選択メモリセル1または2のデータに応じてビット線B
L0,/BL0の電位が設定され、センスアンプ60に
より確定して保持される。カラムデコーダ50によりカ
ラム信号線YL1が活性化されたとき、選択ゲート14
と24が導通状態に保持され、ビット線BL0のデータ
が選択ゲート14を介してデータバスD0に出力され、
ビット線/BL0のデータがスイッチ16、センスアン
プ60およびスイッチ26を介してメモリブロック2の
ビット線/BL0に転送され、選択ゲート24を介して
データバス/D0に出力されるので、データバスの本数
が半分に低減でき、さらにセンスアンプの数も半減で
き、メモリチップサイズの縮小化を実現できる。
ば、読み出し時メモリブロック10が選択されたとき、
選択メモリセル1または2のデータに応じてビット線B
L0,/BL0の電位が設定され、センスアンプ60に
より確定して保持される。カラムデコーダ50によりカ
ラム信号線YL1が活性化されたとき、選択ゲート14
と24が導通状態に保持され、ビット線BL0のデータ
が選択ゲート14を介してデータバスD0に出力され、
ビット線/BL0のデータがスイッチ16、センスアン
プ60およびスイッチ26を介してメモリブロック2の
ビット線/BL0に転送され、選択ゲート24を介して
データバス/D0に出力されるので、データバスの本数
が半分に低減でき、さらにセンスアンプの数も半減で
き、メモリチップサイズの縮小化を実現できる。
【0039】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体記
憶装置によれば、メモリブロックのデータバスの本数が
低減でき、センスアンプの数を半減できることをもとよ
り、メモリチップサイズの縮小化が可能となる。また、
センスアンプの負荷容量を増加させることなく、センス
アンプの感度の低下を回避できる利点がある。
憶装置によれば、メモリブロックのデータバスの本数が
低減でき、センスアンプの数を半減できることをもとよ
り、メモリチップサイズの縮小化が可能となる。また、
センスアンプの負荷容量を増加させることなく、センス
アンプの感度の低下を回避できる利点がある。
【図1】本発明に係る半導体記憶装置の一実施形態を示
す回路図である。
す回路図である。
【図2】DRAMおよびSRAMメモリセルにより構成
されたメモリアレイの部分回路図である。
されたメモリアレイの部分回路図である。
【図3】SRAMメモリセルの構成を示す回路図であ
る。
る。
【図4】読み出し動作時にの波形図である。
【図5】一般的な半導体記憶装置の構成を示す回路図で
ある。
ある。
10,20,30,40…メモリブロック、12,2
2,32,42…ローデコーダ、14,24,34,4
4…選択ゲート、16,26,36,46…スイッチ、
50…カラムデコーダ、60,70…センスアンプ、V
CC…電源電圧、GND…接地電位。
2,32,42…ローデコーダ、14,24,34,4
4…選択ゲート、16,26,36,46…スイッチ、
50…カラムデコーダ、60,70…センスアンプ、V
CC…電源電圧、GND…接地電位。
Claims (6)
- 【請求項1】複数のメモリセルが行列状に配列して構成
されているメモリブロックを複数有し、隣り合う二つの
メモリブロックおよびこれらのメモリブロックで共有し
ているセンスアンプにより、一組のメモリブロック対を
構成し、隣り合う二組のメモリブロック対が共通のデー
タバスを用いてデータの入出力を行い、カラムデコーダ
で活性化されるカラム信号線によりメモリブロック対を
選択する半導体記憶装置であって、 隣り合う二組のメモリブロック対をそれぞれ上記カラム
信号線の奇数信号線と偶数信号線で選択する選択手段を
有する半導体記憶装置。 - 【請求項2】上記選択手段は、上記各メモリブロックの
ビット線とデータバスとの間に接続され、上記カラム信
号線により導通状態が制御される選択ゲートにより構成
されている請求項1記載の半導体記憶装置。 - 【請求項3】データアクセス時各メモリブロック対を構
成する二つのメモリブロックの内一つが選択され、選択
されたメモリブロックのメモリセルに対してデータの入
出力が行われ、 上記各メモリブロックとこれらのメモリブロックが共用
しているセンスアンプとの間に、センスアンプを選択さ
れたメモリブロック側に接続する切り換える手段を有す
る請求項1記載の半導体記憶装置。 - 【請求項4】上記切り換え手段は上記センスアンプと上
記メモリブロックのビット線との間に接続されているス
イッチにより構成されている請求項3記載の半導体記憶
装置。 - 【請求項5】隣り合う二本のビット線によりビット線対
が構成され、読み出し時に選択されたメモリセルの記憶
データおよびその反転データがビット線対を構成する二
本のビット線にそれぞれ出力される請求項4記載の半導
体記憶装置。 - 【請求項6】メモリアクセス時に選択されたメモリブロ
ックの上記ビット線対の内一方は、当該選択メモリブロ
ックの選択ゲートを介してデータバスに接続され、他方
は上記スイッチおよびセンスアンプを介して非選択メモ
リブロックのビット線に接続され、さらに非選択メモリ
ブロックの選択ゲートを介して非選択メモリブロック側
のデータバスに接続される請求項5記載の半導体記憶装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8351652A JPH10199253A (ja) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | 半導体記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8351652A JPH10199253A (ja) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10199253A true JPH10199253A (ja) | 1998-07-31 |
Family
ID=18418708
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8351652A Pending JPH10199253A (ja) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10199253A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005073904A1 (en) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
US7472296B2 (en) | 2004-02-20 | 2008-12-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Integrated circuit, semiconductor device and ID chip |
US7675808B2 (en) | 2006-05-25 | 2010-03-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
-
1996
- 1996-12-27 JP JP8351652A patent/JPH10199253A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005073904A1 (en) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
US7707442B2 (en) | 2004-01-30 | 2010-04-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd | Semiconductor device including a plurality of units and a control circuit for varying the power supplied to the plurality of units |
US8284625B2 (en) | 2004-01-30 | 2012-10-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device having memory blocks |
US8634266B2 (en) | 2004-01-30 | 2014-01-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
US7472296B2 (en) | 2004-02-20 | 2008-12-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Integrated circuit, semiconductor device and ID chip |
US7675808B2 (en) | 2006-05-25 | 2010-03-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
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