JPH10197879A - 液晶装置の製造方法 - Google Patents
液晶装置の製造方法Info
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- JPH10197879A JPH10197879A JP500997A JP500997A JPH10197879A JP H10197879 A JPH10197879 A JP H10197879A JP 500997 A JP500997 A JP 500997A JP 500997 A JP500997 A JP 500997A JP H10197879 A JPH10197879 A JP H10197879A
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】配線の影になる部分のシール材に未硬化分が残
ったり、結晶化ガラスなどの紫外線をほとんど透過させ
ない透明基板を用いた場合に、照射光量が不足して、信
頼性試験においてシール材が液晶と反応して表示画像が
損なわれる。 【解決手段】液晶表示素子の一対の透明基板の両側から
紫外線を照射する。紫外線の照射を複数回に分けて照射
し、その間冷却する。
ったり、結晶化ガラスなどの紫外線をほとんど透過させ
ない透明基板を用いた場合に、照射光量が不足して、信
頼性試験においてシール材が液晶と反応して表示画像が
損なわれる。 【解決手段】液晶表示素子の一対の透明基板の両側から
紫外線を照射する。紫外線の照射を複数回に分けて照射
し、その間冷却する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶装置の製造方
法に関する。さらに、詳しくは、紫外線硬化型樹脂をシ
ール材に用いた液晶装置の製造方法に関する。
法に関する。さらに、詳しくは、紫外線硬化型樹脂をシ
ール材に用いた液晶装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の液晶装置の製造方法においては、
一対の透明基板をシール材を介して貼り合わせた後に、
所定のセル厚に押圧せしめ、圧着治具の駆動系がない透
明基板側から紫外線を照射してシール材を硬化せしめて
いた。
一対の透明基板をシール材を介して貼り合わせた後に、
所定のセル厚に押圧せしめ、圧着治具の駆動系がない透
明基板側から紫外線を照射してシール材を硬化せしめて
いた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の技術に
おいては、一方の透明基板側からのみ紫外線を照射して
いたため、配線の影になる部分のシール材に未硬化分が
残ったり、結晶化ガラスなどの紫外線をほとんど透過さ
せない透明基板を用いた場合に、照射光量が不足して、
信頼性試験においてシール材が液晶と反応して表示画像
が損なわれるといった課題を有する。
おいては、一方の透明基板側からのみ紫外線を照射して
いたため、配線の影になる部分のシール材に未硬化分が
残ったり、結晶化ガラスなどの紫外線をほとんど透過さ
せない透明基板を用いた場合に、照射光量が不足して、
信頼性試験においてシール材が液晶と反応して表示画像
が損なわれるといった課題を有する。
【０００４】そこで本発明は、このような課題を解決す
るもので、その目的とするところは、紫外線硬化型樹脂
をシール材に用いた液晶装置において、高い信頼性を得
るところにある。
るもので、その目的とするところは、紫外線硬化型樹脂
をシール材に用いた液晶装置において、高い信頼性を得
るところにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記した従来
技術における問題点を解決するためになされたものであ
り、請求項１記載のように、少なくとも一方の透明基板
上に液晶の電気光学効果を制御するための手段を具備し
た一対の透明基板を紫外線硬化型樹脂からなるシール材
を介して貼り合わせた後に、所定のセル厚に押圧し、紫
外線を照射してシール材を硬化せしめ、上記一対の透明
基板間に液晶を封入してなる液晶表示素子の製造方法に
おいて、紫外線を一対の透明基板の両側から照射してシ
ール材の未硬化を防止している。
技術における問題点を解決するためになされたものであ
り、請求項１記載のように、少なくとも一方の透明基板
上に液晶の電気光学効果を制御するための手段を具備し
た一対の透明基板を紫外線硬化型樹脂からなるシール材
を介して貼り合わせた後に、所定のセル厚に押圧し、紫
外線を照射してシール材を硬化せしめ、上記一対の透明
基板間に液晶を封入してなる液晶表示素子の製造方法に
おいて、紫外線を一対の透明基板の両側から照射してシ
ール材の未硬化を防止している。
【０００６】また、請求項２記載或いは請求項３の発明
のごとく、ポリシリコン薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の
様に熱膨張係数が低くかつコストが安い結晶化ガラスを
一方の基板に用いた液晶表示素子の場合には、結晶化ガ
ラスがほとんど紫外線を透過させないため、両面から紫
外線を照射することは、非常に効果が高い。
のごとく、ポリシリコン薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の
様に熱膨張係数が低くかつコストが安い結晶化ガラスを
一方の基板に用いた液晶表示素子の場合には、結晶化ガ
ラスがほとんど紫外線を透過させないため、両面から紫
外線を照射することは、非常に効果が高い。
【０００７】さらに、請求項４から６の発明のごとく、
紫外線の照射を複数回に分けて照射することにより、照
射時の液晶表示素子の温度上昇を抑え、液晶表示素子の
温度上昇によるアライメントずれを防止することができ
る。この場合、請求項６の発明のごとく、照射する間隔
に液晶装置を強制的に冷却すれば、シール材の硬化時間
を短縮できると共に、アライメントずれを防止する効果
はより高まる。
紫外線の照射を複数回に分けて照射することにより、照
射時の液晶表示素子の温度上昇を抑え、液晶表示素子の
温度上昇によるアライメントずれを防止することができ
る。この場合、請求項６の発明のごとく、照射する間隔
に液晶装置を強制的に冷却すれば、シール材の硬化時間
を短縮できると共に、アライメントずれを防止する効果
はより高まる。
【０００８】また、複数回に分けて照射する場合は、請
求項５の発明のごとく、少なくとも最初の照射はシール
材全面を照射することにより、紫外線照射密度のムラに
よる一対の透明基板の剥がれやセル厚のムラをも防止す
ることができる。
求項５の発明のごとく、少なくとも最初の照射はシール
材全面を照射することにより、紫外線照射密度のムラに
よる一対の透明基板の剥がれやセル厚のムラをも防止す
ることができる。
【０００９】請求項７に記載の如く、本発明は接着剤を
介して接着された一対の基板間に、液晶を挟持してなる
液晶装置の製造方法において、紫外線硬化接着剤からな
る前記接着剤を前記一対の基板の一方の基板上に形成
し、前記一対の基板の他方の基板と対向させて液晶セル
を構成する工程と、前記一対の基板の一方側から紫外線
を照射する工程と、前記一対の基板の両側から紫外線を
照射する工程とを有することを特徴とする。
介して接着された一対の基板間に、液晶を挟持してなる
液晶装置の製造方法において、紫外線硬化接着剤からな
る前記接着剤を前記一対の基板の一方の基板上に形成
し、前記一対の基板の他方の基板と対向させて液晶セル
を構成する工程と、前記一対の基板の一方側から紫外線
を照射する工程と、前記一対の基板の両側から紫外線を
照射する工程とを有することを特徴とする。
【００１０】このような構成により、アライメントずれ
を防止するとともに、紫外線の未硬化部分を防ぐことが
できる。
を防止するとともに、紫外線の未硬化部分を防ぐことが
できる。
【００１１】また、請求項８に記載の如く、本発明は接
着剤を介して接着された一対の基板間に、液晶を挟持し
てなる液晶装置の製造方法において、紫外線硬化接着剤
からなる前記接着剤を前記一対の基板の一方の基板上に
形成し、前記一対の基板の他方の基板と対向させてセル
を構成する工程と、前記一対の基板の一方側から紫外線
を照射する工程と、前記一対の基板の前記一方側から及
び他方側から交互に紫外線を照射する工程とを有するこ
とを特徴とする。このような構成により、アライメント
ずれを防止するとともに、紫外線の未硬化部分を防ぐこ
とができる。また、請求項９記載のように、前記一方側
から照射する工程と前記他方側から照射する工程との間
に前記一対の基板を冷却する工程を有することにより、
一対の基板の温度上昇を防ぎながら紫外線を十分硬化さ
せることができる。
着剤を介して接着された一対の基板間に、液晶を挟持し
てなる液晶装置の製造方法において、紫外線硬化接着剤
からなる前記接着剤を前記一対の基板の一方の基板上に
形成し、前記一対の基板の他方の基板と対向させてセル
を構成する工程と、前記一対の基板の一方側から紫外線
を照射する工程と、前記一対の基板の前記一方側から及
び他方側から交互に紫外線を照射する工程とを有するこ
とを特徴とする。このような構成により、アライメント
ずれを防止するとともに、紫外線の未硬化部分を防ぐこ
とができる。また、請求項９記載のように、前記一方側
から照射する工程と前記他方側から照射する工程との間
に前記一対の基板を冷却する工程を有することにより、
一対の基板の温度上昇を防ぎながら紫外線を十分硬化さ
せることができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面に基づいて説
明する。
明する。
【００１３】〔実施例１〕図１は、本実施例にかかわる
液晶装置の製造方法の主要工程図である。
液晶装置の製造方法の主要工程図である。
【００１４】まず、石英ガラス等からなる透明基板１上
にスイッチング素子としてポリシリコンＴＦＴ及び画素
電極、データー線及び走査線等をマトリックス状に形成
する。（ａ） 次に、結晶化ガラスからなる対向基板２とポリシリコン
ＴＦＴが形成された透明基板１に配向膜としてポリイミ
ド膜を形成し、ラビング法により配向処理したのちに、
紫外線硬化型樹脂からなるシール材３が所定の形状で印
刷し、シール材を介して位置合わせを行いながら貼り合
わせる。（ｂ） 次に、アライメントが完了した上下の基板１、２に対し
て圧着治具４にて所定の圧力（例えばシール剤の印刷さ
れるシール材の面積に対して２〜２０Ｋｇ／ｃｍ２）を
所定時間加えて、所定のセル厚が得られる。次に、圧着
治具の透明基板５側からシール材３全面に紫外線６を照
射して、シール材３を硬化させる。（ｃ） 次に、シール材３を完全硬化させるために、一対の基板
の両側から同時に紫外線６照射する。（ｄ） 次に、その間隙に液晶を封入し、所定の形状に切断して
液晶装置を得た。
にスイッチング素子としてポリシリコンＴＦＴ及び画素
電極、データー線及び走査線等をマトリックス状に形成
する。（ａ） 次に、結晶化ガラスからなる対向基板２とポリシリコン
ＴＦＴが形成された透明基板１に配向膜としてポリイミ
ド膜を形成し、ラビング法により配向処理したのちに、
紫外線硬化型樹脂からなるシール材３が所定の形状で印
刷し、シール材を介して位置合わせを行いながら貼り合
わせる。（ｂ） 次に、アライメントが完了した上下の基板１、２に対し
て圧着治具４にて所定の圧力（例えばシール剤の印刷さ
れるシール材の面積に対して２〜２０Ｋｇ／ｃｍ２）を
所定時間加えて、所定のセル厚が得られる。次に、圧着
治具の透明基板５側からシール材３全面に紫外線６を照
射して、シール材３を硬化させる。（ｃ） 次に、シール材３を完全硬化させるために、一対の基板
の両側から同時に紫外線６照射する。（ｄ） 次に、その間隙に液晶を封入し、所定の形状に切断して
液晶装置を得た。
【００１５】ここで、（ｃ）の工程で、紫外線の照射に
より一対の透明基板が温度上昇してしまうと、上下の透
明基板の熱膨張係数の違いにより、透明基板の位置合わ
せがずれてしまうため、照射温度は、２０秒以下で、照
射時間は、５０℃以下になるように設定して、２０ｍＷ
／ｃｍ2以上、好ましくは１００ｍＷ／ｃｍ2程度の紫外
線を照射することが望ましい。紫外線は、２０ｍＷ／ｃ
ｍ2以下の場合は、十分にシール材が硬化されない問題
を有する。また１００ｍＷ／ｃｍ2程度よりも高くして
もよいが、高くすると、温度が上昇してしまう問題が発
生するため、一対の基板の転移温度以下となるように設
定することが望ましい。
より一対の透明基板が温度上昇してしまうと、上下の透
明基板の熱膨張係数の違いにより、透明基板の位置合わ
せがずれてしまうため、照射温度は、２０秒以下で、照
射時間は、５０℃以下になるように設定して、２０ｍＷ
／ｃｍ2以上、好ましくは１００ｍＷ／ｃｍ2程度の紫外
線を照射することが望ましい。紫外線は、２０ｍＷ／ｃ
ｍ2以下の場合は、十分にシール材が硬化されない問題
を有する。また１００ｍＷ／ｃｍ2程度よりも高くして
もよいが、高くすると、温度が上昇してしまう問題が発
生するため、一対の基板の転移温度以下となるように設
定することが望ましい。
【００１６】また、（ｄ）の工程で、結晶化ガラスから
なる対向基板２側からのみ紫外線を照射した場合は、結
晶化ガラスの紫外線の透過光量が少ないために、シール
材が完全に硬化するまでに時間がかかり、一対の透明基
板が温度上昇により位置ずれしてしまい、生産性と歩留
りが大幅に低下してしまった。
なる対向基板２側からのみ紫外線を照射した場合は、結
晶化ガラスの紫外線の透過光量が少ないために、シール
材が完全に硬化するまでに時間がかかり、一対の透明基
板が温度上昇により位置ずれしてしまい、生産性と歩留
りが大幅に低下してしまった。
【００１７】以上のように、紫外線の照射を複数回に分
けて、一対の透明基板の両側から紫外線を照射したこと
により、位置ずれのない液晶表示素子が高歩留りで得ら
れ、かつ得られた液晶表示素子の信頼性も大幅に高める
ことができた。
けて、一対の透明基板の両側から紫外線を照射したこと
により、位置ずれのない液晶表示素子が高歩留りで得ら
れ、かつ得られた液晶表示素子の信頼性も大幅に高める
ことができた。
【００１８】〔実施例２〕図２は、本実施例にかかわる
液晶装置の製造方法の主要工程図である。
液晶装置の製造方法の主要工程図である。
【００１９】まず、石英ガラス等からなる透明基板１上
にスイッチング素子としてポリシリコンＴＦＴ及び画素
電極、データー線及び走査線等をマトリックス状に形成
する。（ａ） 次に、結晶化ガラスからなる対向基板２とポリシリコン
ＴＦＴが形成された透明基板１に配向膜としてポリイミ
ド膜を形成し、ラビング法により配向処理したのちに、
紫外線硬化型樹脂からなるシール材３を介して位置合わ
せを行いながら貼り合わせる。（ｂ） 次に、アライメントが完了した上下の基板１、２に対し
て圧着治具４にて所定の圧力（例えばシール剤の印刷さ
れるシール材の面積に対して２〜２０Ｋｇ／ｃｍ２）を
所定時間加えて、所定のセル厚が得られる。次に、圧着
治具の透明基板５側からシール材３全面に紫外線６を照
射して、シール材３を硬化させる。
にスイッチング素子としてポリシリコンＴＦＴ及び画素
電極、データー線及び走査線等をマトリックス状に形成
する。（ａ） 次に、結晶化ガラスからなる対向基板２とポリシリコン
ＴＦＴが形成された透明基板１に配向膜としてポリイミ
ド膜を形成し、ラビング法により配向処理したのちに、
紫外線硬化型樹脂からなるシール材３を介して位置合わ
せを行いながら貼り合わせる。（ｂ） 次に、アライメントが完了した上下の基板１、２に対し
て圧着治具４にて所定の圧力（例えばシール剤の印刷さ
れるシール材の面積に対して２〜２０Ｋｇ／ｃｍ２）を
所定時間加えて、所定のセル厚が得られる。次に、圧着
治具の透明基板５側からシール材３全面に紫外線６を照
射して、シール材３を硬化させる。
【００２０】この工程においても、実施例１と同様に、
紫外線の照射により一対の透明基板が温度上昇してしま
うと、上下の透明基板の熱膨張係数の違いにより、透明
基板の位置合わせがずれてしまうため、照射温度は、２
０秒以下で、照射時間は、５０℃以下になるように設定
して、２０ｍＷ／ｃｍ2以上、好ましくは１００ｍＷ／
ｃｍ2程度の紫外線を照射することが望ましい。紫外線
は、２０ｍＷ／ｃｍ2以下の場合は、十分紫外線が照射
されないためシール材は硬化されなくなってしまう。ま
た１００ｍＷ／ｃｍ2程度よりも高くしてもよいが、高
くすると、温度が上昇してしまう問題が発生するので、
ガラス転移温度よりも低くするように設定することが好
ましい。（ｃ） 次に、シール材３を完全硬化させるために、まず石英ガ
ラス等からなる透明基板１側から２０ｍＷ／ｃｍ2以
上、好ましくは１００ｍＷ／ｃｍ2 の紫外線６を十数秒
〜数分、好ましくは６０秒程度照射する。（ｄ） 次に水冷された冷却板７上に十数秒〜数分、好ましくは
６０秒程度放置して、一対の透明基板を常温まで冷却す
る。（ｅ） 再び、次のステージで結晶化ガラスからなる対向基板２
側から２０ｍＷ／ｃｍ2以上、好ましくは１００ｍＷ／
ｃｍ2 の紫外線６を十数秒〜数分、好ましくは６０秒程
度照射する。（ｆ） ここで、完全硬化する際の温度は、低い方が望ましい
が、シール材は（ｃ）の工程でほぼ硬化しているため、
１００℃以下であればほとんど位置ずれすることがなく
連続照射ができ、効率的に紫外線を照射することができ
る。
紫外線の照射により一対の透明基板が温度上昇してしま
うと、上下の透明基板の熱膨張係数の違いにより、透明
基板の位置合わせがずれてしまうため、照射温度は、２
０秒以下で、照射時間は、５０℃以下になるように設定
して、２０ｍＷ／ｃｍ2以上、好ましくは１００ｍＷ／
ｃｍ2程度の紫外線を照射することが望ましい。紫外線
は、２０ｍＷ／ｃｍ2以下の場合は、十分紫外線が照射
されないためシール材は硬化されなくなってしまう。ま
た１００ｍＷ／ｃｍ2程度よりも高くしてもよいが、高
くすると、温度が上昇してしまう問題が発生するので、
ガラス転移温度よりも低くするように設定することが好
ましい。（ｃ） 次に、シール材３を完全硬化させるために、まず石英ガ
ラス等からなる透明基板１側から２０ｍＷ／ｃｍ2以
上、好ましくは１００ｍＷ／ｃｍ2 の紫外線６を十数秒
〜数分、好ましくは６０秒程度照射する。（ｄ） 次に水冷された冷却板７上に十数秒〜数分、好ましくは
６０秒程度放置して、一対の透明基板を常温まで冷却す
る。（ｅ） 再び、次のステージで結晶化ガラスからなる対向基板２
側から２０ｍＷ／ｃｍ2以上、好ましくは１００ｍＷ／
ｃｍ2 の紫外線６を十数秒〜数分、好ましくは６０秒程
度照射する。（ｆ） ここで、完全硬化する際の温度は、低い方が望ましい
が、シール材は（ｃ）の工程でほぼ硬化しているため、
１００℃以下であればほとんど位置ずれすることがなく
連続照射ができ、効率的に紫外線を照射することができ
る。
【００２１】次に、その間隙に液晶を封入し、所定の形
状に切断して液晶表示素子を得た。
状に切断して液晶表示素子を得た。
【００２２】ここで、（ｃ）の工程の圧着治具の透明基
板５は、紫外線の透過率が高い石英ガラス或いはパイレ
ックスガラスが望ましく、さらには、熱線をカットする
ために少なくとも６００ｎｍ以上の波長をカットする膜
が形成されているものがよい。
板５は、紫外線の透過率が高い石英ガラス或いはパイレ
ックスガラスが望ましく、さらには、熱線をカットする
ために少なくとも６００ｎｍ以上の波長をカットする膜
が形成されているものがよい。
【００２３】また、（ｃ）工程、（ｄ）工程、（ｆ）工
程の紫外線６の照射光量は、均一なほど良く、周辺照度
比が悪い光源でシール材を硬化させるとシール材が部分
的に劣化してしまい、信頼性が悪くなるため、７０％以
上の周辺照度比が好ましい。
程の紫外線６の照射光量は、均一なほど良く、周辺照度
比が悪い光源でシール材を硬化させるとシール材が部分
的に劣化してしまい、信頼性が悪くなるため、７０％以
上の周辺照度比が好ましい。
【００２４】さらに、（ｅ）工程の冷却板は水冷式に限
るものではなく、低温のドライエアーで冷却しても良
く、放熱が高い金属板等ならば、特別な冷却をしなくて
も同様の効果が得られる。また、外部から低温のドライ
エアーを吹きかけても良い。
るものではなく、低温のドライエアーで冷却しても良
く、放熱が高い金属板等ならば、特別な冷却をしなくて
も同様の効果が得られる。また、外部から低温のドライ
エアーを吹きかけても良い。
【００２５】また、（ｅ）工程、（ｆ）工程を数回繰り
返して、１回の紫外線の照射時間を短縮すれば、より位
置ずれが少なくできる。
返して、１回の紫外線の照射時間を短縮すれば、より位
置ずれが少なくできる。
【００２６】以上のように、紫外線の照射を複数回に分
けて、一対の透明基板の両側から紫外線を照射したこと
により、位置ずれのない液晶表示素子が高歩留りで得ら
れ、かつ得られた液晶表示素子の信頼性も大幅に高める
ことができた。
けて、一対の透明基板の両側から紫外線を照射したこと
により、位置ずれのない液晶表示素子が高歩留りで得ら
れ、かつ得られた液晶表示素子の信頼性も大幅に高める
ことができた。
【００２７】さらに、ポリシリコンＴＦＴを用いた液晶
装置の対向基板を結晶化ガラスにすることが可能にな
り、１インチ以上の高精細な液晶表示素子を安価に製造
することが可能になった。
装置の対向基板を結晶化ガラスにすることが可能にな
り、１インチ以上の高精細な液晶表示素子を安価に製造
することが可能になった。
【００２８】本実施例は、ポリシリコンＴＦＴを用いた
液晶装置について説明したが、それに限るものではな
く、アモルファスシリコンＴＦＴを用いた液晶装置、タ
ンジュンマトリクスの液晶装置等であっても同様な効果
を有する。
液晶装置について説明したが、それに限るものではな
く、アモルファスシリコンＴＦＴを用いた液晶装置、タ
ンジュンマトリクスの液晶装置等であっても同様な効果
を有する。
【００２９】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明の液晶
表示素子の製造方法は、一対の透明基板の両側から紫外
線を照射したことにより、配線の影になる部分のシール
材も十分に硬化させることができ、また、結晶化ガラス
などの紫外線をほとんど透過させない透明基板を用いた
場合でも、照射光量が不足することがなくなり、信頼性
試験においてシール材が液晶と反応して表示画像が損な
われることが防止できた。
表示素子の製造方法は、一対の透明基板の両側から紫外
線を照射したことにより、配線の影になる部分のシール
材も十分に硬化させることができ、また、結晶化ガラス
などの紫外線をほとんど透過させない透明基板を用いた
場合でも、照射光量が不足することがなくなり、信頼性
試験においてシール材が液晶と反応して表示画像が損な
われることが防止できた。
【００３０】また、紫外線の照射を複数回に分けて、一
対の透明基板の温度上昇を抑えながら両面から紫外線を
照射したことにより、位置ずれのない液晶表示素子が高
い歩留りで得られた。
対の透明基板の温度上昇を抑えながら両面から紫外線を
照射したことにより、位置ずれのない液晶表示素子が高
い歩留りで得られた。
【００３１】
【図１】本発明の実施例１の液晶表示素子の製造方法の
主要工程図。
主要工程図。
【図２】本発明の実施例２の液晶表示素子の製造方法の
主要工程図。
主要工程図。
１．透明基板 ２．対向基板 ３．シール材 ４．圧着治具 ５．圧着治具の透明基板 ６．紫外線 ７．冷却板
Claims (9)
- 【請求項１】少なくとも一方の透明基板上に液晶の電気
光学効果を制御するための手段を具備した一対の透明基
板を紫外線硬化型樹脂からなるシール材を介して貼り合
わせた後に、所定のセル厚に押圧し、紫外線を照射して
シール材を硬化せしめ、該一対の透明基板間に液晶を封
入してなる液晶装置の製造方法において、 紫外線を一対の透明基板の両側から照射してシール材を
硬化せしめることを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 【請求項２】請求項１記載の液晶装置の製造方法であっ
て、 前記一対の透明基板のうち少なくとも一方が結晶化ガラ
スであることを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 【請求項３】請求項２記載の液晶装置の製造方法であっ
て、 液晶表示素子がポリシリコン薄膜トランジスタを用いた
液晶装置であることを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 【請求項４】請求項１から請求項３記載の液晶装置の製
造方法であって、 前記紫外線の照射を複数回に分けて照射することを特徴
とする液晶装置の製造方法。 - 【請求項５】請求項４記載の液晶装置の製造方法であっ
て、 前記複数回に分割した紫外線照射のうち、少なくとも最
初の紫外線照射はシール材全面に同時に照射されること
を特徴とする液晶装置の製造方法。 - 【請求項６】請求項４記載の液晶装置の製造方法であっ
て、 前記複数回に分割した紫外線照射の間に、基板を冷却す
る工程を設けることを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 【請求項７】接着剤を介して接着された一対の基板間
に、液晶を挟持してなる液晶装置の製造方法において、 紫外線硬化接着剤からなる前記接着剤を前記一対の基板
の一方の基板上に形成し、前記一対の基板の他方の基板
と対向させて液晶セルを構成する工程と、 前記一対の基板の一方側から紫外線を照射する工程と、 前記一対の基板の両側から紫外線を照射する工程とを有
することを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 【請求項８】接着剤を介して接着された一対の基板間
に、液晶を挟持してなる液晶装置の製造方法において、 紫外線硬化接着剤からなる前記接着剤を前記一対の基板
の一方の基板上に形成し、前記一対の基板の他方の基板
と対向させてセルを構成する工程と、 前記一対の基板の一方側から紫外線を照射する工程と、 前記一対の基板の前記一方側から及び他方側から交互に
紫外線を照射する工程とを有することを特徴とする液晶
装置の製造方法。 - 【請求項９】請求項８記載の液晶装置の製造方法であっ
て、前記一方側から照射する工程と前記他方側から照射
する工程との間に前記一対の基板を冷却する工程を有す
ることを特徴とする液晶装置の製造方法。
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|---|---|---|---|
| JP00500997A JP3843517B2 (ja) | 1997-01-14 | 1997-01-14 | 液晶装置の製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00500997A JP3843517B2 (ja) | 1997-01-14 | 1997-01-14 | 液晶装置の製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10197879A true JPH10197879A (ja) | 1998-07-31 |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000037997A1 (en) * | 1998-12-19 | 2000-06-29 | The Secretary Of State For Defence | Jig assembly of optical cells |
| KR100685912B1 (ko) * | 2000-07-28 | 2007-02-23 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정 패널의 제조방법 |
-
1997
- 1997-01-14 JP JP00500997A patent/JP3843517B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000037997A1 (en) * | 1998-12-19 | 2000-06-29 | The Secretary Of State For Defence | Jig assembly of optical cells |
| GB2361072A (en) * | 1998-12-19 | 2001-10-10 | Secr Defence | Jig assembly of optical cells |
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