JPH10195009A - ジメチルエーテル製造装置 - Google Patents
ジメチルエーテル製造装置Info
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- JPH10195009A JPH10195009A JP35805096A JP35805096A JPH10195009A JP H10195009 A JPH10195009 A JP H10195009A JP 35805096 A JP35805096 A JP 35805096A JP 35805096 A JP35805096 A JP 35805096A JP H10195009 A JPH10195009 A JP H10195009A
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- dimethyl ether
- gas
- synthesis
- medium oil
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 スラリー床式ジメチルエーテル製造装置
において媒体油の蒸発量を減少させかつ発泡を抑制しう
る簡便な手段を提供する。 【解決手段】 上記課題は、塔頂から反応生成ガスを排
出させるスラリー床式ジメチルエーテル合成塔と、該ガ
スを冷却して同伴してきた媒体油を凝縮させる冷却器
と、凝縮した媒体油をジメチルエーテル合成塔に返送す
るラインを有するジメチルエーテル製造装置において、
ジメチルエーテル合成塔の塔頂部にスプレーノズルを設
け前記媒体油返送ラインがこのスプレーノズルに接続さ
れていることを特徴とするジメチルエーテル製造装置に
よって解決される。
において媒体油の蒸発量を減少させかつ発泡を抑制しう
る簡便な手段を提供する。 【解決手段】 上記課題は、塔頂から反応生成ガスを排
出させるスラリー床式ジメチルエーテル合成塔と、該ガ
スを冷却して同伴してきた媒体油を凝縮させる冷却器
と、凝縮した媒体油をジメチルエーテル合成塔に返送す
るラインを有するジメチルエーテル製造装置において、
ジメチルエーテル合成塔の塔頂部にスプレーノズルを設
け前記媒体油返送ラインがこのスプレーノズルに接続さ
れていることを特徴とするジメチルエーテル製造装置に
よって解決される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、スラリー床式で
合成ガスからジメチルエーテルを製造する装置に関す
る。
合成ガスからジメチルエーテルを製造する装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】一酸化炭素と水素を主原料とする合成ガ
ス等からジメチルエーテルを直接合成する技術として
は、固定床触媒層に原料ガスを通過させ反応させる技術
が開発されている（特開平２−２８０８３６号公報、特
開平３−８４４６号公報等）。
ス等からジメチルエーテルを直接合成する技術として
は、固定床触媒層に原料ガスを通過させ反応させる技術
が開発されている（特開平２−２８０８３６号公報、特
開平３−８４４６号公報等）。
【０００３】ところが、ジメチルエーテル合成反応は強
い発熱反応であるため、触媒層の局部加熱による触媒の
失活を避けるため、触媒微粒子を高沸点媒体油のなかに
懸濁させたスラリー床式合成塔の中を原料ガスを通過さ
せて、高収率でジメチルエーテルを合成させる技術が開
発されてきた（特開平２−９８３３号公報、特開平３−
５２８３５号公報、特開平３−１８１４５３号公報、特
開平４−２６４０４６号公報、特表平５−８１００６９
（ＷＯ ９３／１００６９）号公報等）。
い発熱反応であるため、触媒層の局部加熱による触媒の
失活を避けるため、触媒微粒子を高沸点媒体油のなかに
懸濁させたスラリー床式合成塔の中を原料ガスを通過さ
せて、高収率でジメチルエーテルを合成させる技術が開
発されてきた（特開平２−９８３３号公報、特開平３−
５２８３５号公報、特開平３−１８１４５３号公報、特
開平４−２６４０４６号公報、特表平５−８１００６９
（ＷＯ ９３／１００６９）号公報等）。
【０００４】このスラリー床式においても反応温度が高
いために媒体油が気化して反応生成ガスとともに流出が
起こる。そこで合成塔から排出される反応生成ガスを冷
却して媒体油を凝縮させ、これを合成塔に返送してい
る。返送位置は合成塔の底部である。
いために媒体油が気化して反応生成ガスとともに流出が
起こる。そこで合成塔から排出される反応生成ガスを冷
却して媒体油を凝縮させ、これを合成塔に返送してい
る。返送位置は合成塔の底部である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】媒体油の蒸発量はかな
り多量になるため合成塔の排出管はかなり大径のものな
るばかりか、凝縮のための冷却器も大型になり返送のた
めのポンプも能力の大きなものを用いていた。また、ス
ラリー床上部の泡立ちも多くスラリーの飛沫同伴も問題
となっていた。
り多量になるため合成塔の排出管はかなり大径のものな
るばかりか、凝縮のための冷却器も大型になり返送のた
めのポンプも能力の大きなものを用いていた。また、ス
ラリー床上部の泡立ちも多くスラリーの飛沫同伴も問題
となっていた。
【０００６】本発明の目的はスラリー床式ジメチルエー
テル製造装置において媒体油の蒸発量を減少させかつ発
泡を抑制しうる簡便な手段を提供することにある。
テル製造装置において媒体油の蒸発量を減少させかつ発
泡を抑制しうる簡便な手段を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するべく鋭意検討の結果、冷却器で凝縮回収され
た媒体油が低温であることに着目し、これを合成塔の塔
頂から塔内にスプレーすれば塔頂部の気相を冷却して塔
外へ排出される媒体油の量を減少できること、また、発
泡も抑制できることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
を解決するべく鋭意検討の結果、冷却器で凝縮回収され
た媒体油が低温であることに着目し、これを合成塔の塔
頂から塔内にスプレーすれば塔頂部の気相を冷却して塔
外へ排出される媒体油の量を減少できること、また、発
泡も抑制できることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
【０００８】すなわち、本発明は、塔頂から反応生成ガ
スを排出させるスラリー床式ジメチルエーテル合成塔
と、該ガスを冷却して同伴してきた媒体油を凝縮させる
冷却器と、凝縮した媒体油をジメチルエーテル合成塔に
返送するラインを有するジメチルエーテル製造装置にお
いて、ジメチルエーテル合成塔の塔頂部にスプレーノズ
ルを設け前記媒体油返送ラインがこのスプレーノズルに
接続されていることを特徴とするジメチルエーテル製造
装置に関するものである。
スを排出させるスラリー床式ジメチルエーテル合成塔
と、該ガスを冷却して同伴してきた媒体油を凝縮させる
冷却器と、凝縮した媒体油をジメチルエーテル合成塔に
返送するラインを有するジメチルエーテル製造装置にお
いて、ジメチルエーテル合成塔の塔頂部にスプレーノズ
ルを設け前記媒体油返送ラインがこのスプレーノズルに
接続されていることを特徴とするジメチルエーテル製造
装置に関するものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】ジメチルエーテル合成塔はスラリ
ー床式であればいかなるものでも使用できる。
ー床式であればいかなるものでも使用できる。
【００１０】ジメチルエーテル合成触媒には、メタノー
ル合成触媒とメタノール脱水触媒が混合されて用いら
れ、場合により水性ガスシフト触媒がさらに加えられ
る。これらは混合状態で使用されるほか、水性ガスシフ
ト触媒を切り放して二段反応とすることもできる。本発
明はこれらのいずれの触媒にも適用できる。
ル合成触媒とメタノール脱水触媒が混合されて用いら
れ、場合により水性ガスシフト触媒がさらに加えられ
る。これらは混合状態で使用されるほか、水性ガスシフ
ト触媒を切り放して二段反応とすることもできる。本発
明はこれらのいずれの触媒にも適用できる。
【００１１】メタノール合成触媒としては、通常工業的
にメタノール合成に用いられる酸化銅−酸化亜鉛、酸化
亜鉛−酸化クロム、酸化銅−酸化亜鉛／酸化クロム、酸
化銅−酸化亜鉛／アルミナ等がある。メタノール脱水触
媒としては酸塩基触媒であるγ−アルミナ、シリカ、シ
リカ・アルミナ、ゼオライトなどがある。ゼオライトの
金属酸化物成分としてはナトリウム、カリウム等のアル
カリ金属の酸化物、カルシウム、マグネシウム等のアル
カリ土族の酸化物等である。水性ガスシフト触媒として
は酸化銅−酸化亜鉛、酸化銅−酸化クロム−酸化亜鉛、
酸化鉄−酸化クロムなどがある。メタノール合成触媒は
強いシフト触媒活性を有するので水性ガスシフト触媒を
兼ねることができる。メタノール脱水触媒及び水性ガス
シフト触媒を兼ねるものとしてアルミナ担持酸化銅触媒
を用いることができる。
にメタノール合成に用いられる酸化銅−酸化亜鉛、酸化
亜鉛−酸化クロム、酸化銅−酸化亜鉛／酸化クロム、酸
化銅−酸化亜鉛／アルミナ等がある。メタノール脱水触
媒としては酸塩基触媒であるγ−アルミナ、シリカ、シ
リカ・アルミナ、ゼオライトなどがある。ゼオライトの
金属酸化物成分としてはナトリウム、カリウム等のアル
カリ金属の酸化物、カルシウム、マグネシウム等のアル
カリ土族の酸化物等である。水性ガスシフト触媒として
は酸化銅−酸化亜鉛、酸化銅−酸化クロム−酸化亜鉛、
酸化鉄−酸化クロムなどがある。メタノール合成触媒は
強いシフト触媒活性を有するので水性ガスシフト触媒を
兼ねることができる。メタノール脱水触媒及び水性ガス
シフト触媒を兼ねるものとしてアルミナ担持酸化銅触媒
を用いることができる。
【００１２】前述のメタノール合成触媒、メタノール脱
水触媒および水性ガスシフト触媒の混合割合は、特に限
定されることなく各成分の種類あるいは反応条件等に応
じて適宜選定すればよいが、通常は重量比でメタノール
合成触媒１に対してメタノール脱水触媒は０．１〜５程
度、好ましくは０．２〜２程度、そして、水性ガスシフ
ト触媒は、０．２〜５程度、好ましくは０．５〜３程度
の範囲が適当であることが多い。メタノール合成触媒に
水性ガスシフト触媒を兼ねさせた場合には、上記の水性
ガスシフト触媒の量はメタノール合成触媒の量に合算さ
れる。
水触媒および水性ガスシフト触媒の混合割合は、特に限
定されることなく各成分の種類あるいは反応条件等に応
じて適宜選定すればよいが、通常は重量比でメタノール
合成触媒１に対してメタノール脱水触媒は０．１〜５程
度、好ましくは０．２〜２程度、そして、水性ガスシフ
ト触媒は、０．２〜５程度、好ましくは０．５〜３程度
の範囲が適当であることが多い。メタノール合成触媒に
水性ガスシフト触媒を兼ねさせた場合には、上記の水性
ガスシフト触媒の量はメタノール合成触媒の量に合算さ
れる。
【００１３】上記の触媒は粉末状態で使用され、平均粒
径が３００μｍ以下、好ましくは１〜２００μｍ程度、
特に好ましくは１０〜１５０μｍ程度が適当である。そ
のために必要によりさらに粉砕することができる。
径が３００μｍ以下、好ましくは１〜２００μｍ程度、
特に好ましくは１０〜１５０μｍ程度が適当である。そ
のために必要によりさらに粉砕することができる。
【００１４】媒体油は反応条件下において液体状態を呈
するものであればそのいずれもが使用可能である。例え
ば脂肪族、芳香族および脂環族の炭化水素、アルコー
ル、エーテル、エステル、ケトンおよびハロゲン化物、
これらの化合物の混合物等を使用できる。また、硫黄分
を除去した軽油、減圧軽油、水素化処理したコールター
ルの高沸点留分、フィッシャートロプシュ合成油、高沸
点食用油等も使用できる。溶媒中に存在させる触媒量は
溶媒の種類、反応条件などによって適宜決定されるが、
通常は溶媒に対して１〜５０重量％であり、２〜３０重
量％程度が好ましい。
するものであればそのいずれもが使用可能である。例え
ば脂肪族、芳香族および脂環族の炭化水素、アルコー
ル、エーテル、エステル、ケトンおよびハロゲン化物、
これらの化合物の混合物等を使用できる。また、硫黄分
を除去した軽油、減圧軽油、水素化処理したコールター
ルの高沸点留分、フィッシャートロプシュ合成油、高沸
点食用油等も使用できる。溶媒中に存在させる触媒量は
溶媒の種類、反応条件などによって適宜決定されるが、
通常は溶媒に対して１〜５０重量％であり、２〜３０重
量％程度が好ましい。
【００１５】本発明の製造装置はこのスラリー床式合成
塔の塔頂部に冷却器で凝縮した媒体油を返送してスプレ
ーノズルから噴霧させるところに特徴がある。スプレー
ノズルの数は複数がよく、合成塔の規模に応じて３〜２
０個程度を円状に配置するのがよい。ノズルは塔頂面に
取付けてもよく、また、塔内にリング状の管等を設けそ
の管の下面に適宜間隔をおいてノズル孔を穿設してもよ
い。
塔の塔頂部に冷却器で凝縮した媒体油を返送してスプレ
ーノズルから噴霧させるところに特徴がある。スプレー
ノズルの数は複数がよく、合成塔の規模に応じて３〜２
０個程度を円状に配置するのがよい。ノズルは塔頂面に
取付けてもよく、また、塔内にリング状の管等を設けそ
の管の下面に適宜間隔をおいてノズル孔を穿設してもよ
い。
【００１６】冷却器は媒体油を凝縮させるものであれば
よい。系には凝縮した媒体油を一時貯留する受槽を設け
ることが好ましい。また、この媒体油は合成塔内に噴出
させるため、これを加圧するポンプが必要である。
よい。系には凝縮した媒体油を一時貯留する受槽を設け
ることが好ましい。また、この媒体油は合成塔内に噴出
させるため、これを加圧するポンプが必要である。
【００１７】冷却器の温度は、５０℃〜２５０℃、好ま
しくは１００℃〜１５０℃程度になる。
しくは１００℃〜１５０℃程度になる。
【００１８】冷却器の温度は、媒体油の蒸発ロスをなく
すために低い温度にすることが好ましいが、低すぎると
媒体油の流動が悪くなり、熱交換器の閉塞、伝熱量の低
下などの原因となる。また、ジメチルエーテル、メタノ
ールなどの生成物を多量に凝縮し、無駄な内部循環を起
こす。
すために低い温度にすることが好ましいが、低すぎると
媒体油の流動が悪くなり、熱交換器の閉塞、伝熱量の低
下などの原因となる。また、ジメチルエーテル、メタノ
ールなどの生成物を多量に凝縮し、無駄な内部循環を起
こす。
【００１９】水素と一酸化炭素の混合割合はＨ2／ＣＯ
モル比で０．５〜３．０、好ましくは０．８〜２．０の
混合比のものを使用できる。一方、水素と一酸化炭素の
割合（Ｈ2／ＣＯ比）が著しく小さな（例えば、０.５以
下）混合ガスあるいは水素を含まない一酸化炭素の場合
には、別途スチームを供給して反応器中で一酸化炭素の
一部をスチームにより水素と二酸化炭素に変換すること
が必要である。水蒸気の量は変換したい一酸化炭素量
(不足している水素量と等しい)と等モルである。また、
二酸化炭素の量は変換された一酸化炭素と同じモル数と
なる。このような原料ガスの例としては、石炭ガス化ガ
ス、天然ガスからの合成ガス、炭層メタン等を挙げるこ
とができる。触媒被毒を防止するために原料ガスに硫黄
化合物が含まれている場合には予め脱硫処理する必要が
ある。この脱硫により硫黄化合物濃度は１ｐｐｍ以下、
好ましくは０．０５ｐｐｍ以下にする。硫黄化合物の種
類はＳＯｘ、Ｈ2Ｓ、ＣＯＳ等がある。
モル比で０．５〜３．０、好ましくは０．８〜２．０の
混合比のものを使用できる。一方、水素と一酸化炭素の
割合（Ｈ2／ＣＯ比）が著しく小さな（例えば、０.５以
下）混合ガスあるいは水素を含まない一酸化炭素の場合
には、別途スチームを供給して反応器中で一酸化炭素の
一部をスチームにより水素と二酸化炭素に変換すること
が必要である。水蒸気の量は変換したい一酸化炭素量
(不足している水素量と等しい)と等モルである。また、
二酸化炭素の量は変換された一酸化炭素と同じモル数と
なる。このような原料ガスの例としては、石炭ガス化ガ
ス、天然ガスからの合成ガス、炭層メタン等を挙げるこ
とができる。触媒被毒を防止するために原料ガスに硫黄
化合物が含まれている場合には予め脱硫処理する必要が
ある。この脱硫により硫黄化合物濃度は１ｐｐｍ以下、
好ましくは０．０５ｐｐｍ以下にする。硫黄化合物の種
類はＳＯｘ、Ｈ2Ｓ、ＣＯＳ等がある。
【００２０】スラリー床反応器における反応条件として
は、反応温度は１５０〜４００℃が好ましく、特に２５
０〜３５０℃の範囲が好ましい。反応温度が１５０℃よ
り低くても、また４００℃より高くても一酸化炭素の転
化率が低くなる。反応圧力は１０〜３００ｋｇ／ｃ
ｍ2、より好ましくは１５〜１５０ｋｇ／ｃｍ2、特に好
ましくは２０〜７０ｋｇ／ｃｍ2が適当である。反応圧
力が１０ｋｇ／ｃｍ2より低いと一酸化炭素の転化率が
低く、また３００ｋｇ／ｃｍ2より高いと反応器が特殊
なものとなり、また昇圧のために多大なエネルギーが必
要であって経済的でない。空間速度（触媒１ｋｇあたり
の標準状態における混合ガスの供給速度）は、１００〜
５００００ｌ／ｋｇ・ｈが好ましく、特に５００〜３０
０００ｌ／ｋｇ・ｈである。空間速度が５００００ｌ／
ｋｇ・ｈより大きいと一酸化炭素の転化率が低くなり、
また１００ｌ／ｋｇ・ｈより小さいと反応器が極端に大
きくなって経済的でない。
は、反応温度は１５０〜４００℃が好ましく、特に２５
０〜３５０℃の範囲が好ましい。反応温度が１５０℃よ
り低くても、また４００℃より高くても一酸化炭素の転
化率が低くなる。反応圧力は１０〜３００ｋｇ／ｃ
ｍ2、より好ましくは１５〜１５０ｋｇ／ｃｍ2、特に好
ましくは２０〜７０ｋｇ／ｃｍ2が適当である。反応圧
力が１０ｋｇ／ｃｍ2より低いと一酸化炭素の転化率が
低く、また３００ｋｇ／ｃｍ2より高いと反応器が特殊
なものとなり、また昇圧のために多大なエネルギーが必
要であって経済的でない。空間速度（触媒１ｋｇあたり
の標準状態における混合ガスの供給速度）は、１００〜
５００００ｌ／ｋｇ・ｈが好ましく、特に５００〜３０
０００ｌ／ｋｇ・ｈである。空間速度が５００００ｌ／
ｋｇ・ｈより大きいと一酸化炭素の転化率が低くなり、
また１００ｌ／ｋｇ・ｈより小さいと反応器が極端に大
きくなって経済的でない。
【００２１】
【実施例】本発明の一実施例であるジメチルエーテル製
造装置のフローシートを図２に、そのジメチルエーテル
合成塔塔頂部周辺の拡大図を図１に示す。
造装置のフローシートを図２に、そのジメチルエーテル
合成塔塔頂部周辺の拡大図を図１に示す。
【００２２】この装置は下記の構成からなっている。
【００２３】(１) 合成ガス発生装置 石炭ガス化、天然ガスのリフォーミングなどのようにＨ
2とＣＯを主成分とする合成ガスを製造する装置。
2とＣＯを主成分とする合成ガスを製造する装置。
【００２４】(２) 合成ガスコンプレッサー 合成ガス発生装置の運転圧力がＤＭＥ合成塔の圧力より
も低い場合に必要になる。
も低い場合に必要になる。
【００２５】(３) ＣＯ2除去部 ＣＯ2はＤＭＥ合成反応を阻害するため、合成ガス中に
ＣＯ2が多い場合に吸収法等のＣＯ2除去装置が必要にな
る。
ＣＯ2が多い場合に吸収法等のＣＯ2除去装置が必要にな
る。
【００２６】(４) ＤＭＥ合成部 合成ガスは、ガス／ガス熱交換器で合成塔出口ガスと熱
交換し、昇温して合成塔底部に入る。合成塔底部でスラ
リー液中に気泡分散したガスは、次に示す反応をしなが
ら上昇する。 メタノール合成反応 ＣＯ＋２Ｈ2 → ＣＨ3ＯＨ ＤＭＥ合成反応 ２ＣＨ3ＯＨ → ＣＨ3ＯＣＨ3＋Ｈ2Ｏ シフト反応 ＣＯ＋Ｈ2Ｏ → ＣＯ2＋Ｈ2
交換し、昇温して合成塔底部に入る。合成塔底部でスラ
リー液中に気泡分散したガスは、次に示す反応をしなが
ら上昇する。 メタノール合成反応 ＣＯ＋２Ｈ2 → ＣＨ3ＯＨ ＤＭＥ合成反応 ２ＣＨ3ＯＨ → ＣＨ3ＯＣＨ3＋Ｈ2Ｏ シフト反応 ＣＯ＋Ｈ2Ｏ → ＣＯ2＋Ｈ2
【００２７】反応は、圧力５０ｋｇ／ｃｍ2Ａ（３０〜
１００ｋｇ／ｃｍ2Ａ）、温度２８０℃（２００〜３０
０℃）で行う。反応熱は、合成塔中に入れた熱交換チュ
ーブによって除去し、ＣＯ2再生塔、ＤＭＥ生成塔のリ
ボイラー熱源などに有効利用する。
１００ｋｇ／ｃｍ2Ａ）、温度２８０℃（２００〜３０
０℃）で行う。反応熱は、合成塔中に入れた熱交換チュ
ーブによって除去し、ＣＯ2再生塔、ＤＭＥ生成塔のリ
ボイラー熱源などに有効利用する。
【００２８】合成塔を出たガスは、ガス／ガス熱交換
器、媒体油回収用の冷却器によって約１００℃まで冷却
し、合成塔で蒸発した媒体油を凝縮回収する。凝縮した
媒体油は、セパレータで分離し、ポンプで合成塔頂部に
戻す。合成塔の頂部ガス相に冷却した溶媒をスプレーす
ると、頂部ガス相が少し冷却されて温度低下し、蒸発し
て合成塔から出ていく溶媒量を低減できる。また、フォ
ーミング（液相表面の泡立ち）の防止にもなる。
器、媒体油回収用の冷却器によって約１００℃まで冷却
し、合成塔で蒸発した媒体油を凝縮回収する。凝縮した
媒体油は、セパレータで分離し、ポンプで合成塔頂部に
戻す。合成塔の頂部ガス相に冷却した溶媒をスプレーす
ると、頂部ガス相が少し冷却されて温度低下し、蒸発し
て合成塔から出ていく溶媒量を低減できる。また、フォ
ーミング（液相表面の泡立ち）の防止にもなる。
【００２９】(５) ＤＭＥ冷却回収部 媒体油回収セパレータを出たガスは、さらに冷却してメ
タノールと水分を凝縮分離する。残ったガスは、更に−
４０℃（−２０〜−５０℃）程度に冷却して低温セパレ
ータ（ＬＴＳ）でＤＭＥを凝縮回収する。また同時にＣ
Ｏ2を凝縮分離する。
タノールと水分を凝縮分離する。残ったガスは、更に−
４０℃（−２０〜−５０℃）程度に冷却して低温セパレ
ータ（ＬＴＳ）でＤＭＥを凝縮回収する。また同時にＣ
Ｏ2を凝縮分離する。
【００３０】低温セパレータを出たガスと液は、メタノ
ールと水分を凝縮分離する前、または後のガスとの熱交
換を行って冷熱の回収を行う。
ールと水分を凝縮分離する前、または後のガスとの熱交
換を行って冷熱の回収を行う。
【００３１】(６) リサイクルガスコンプレッサー 冷熱を回収した後のガスは、メタンや窒素ガスの蓄積を
防止するために一部をパージする。残りのガスはリサイ
クルコンプレッサーで数ｋｇ／ｃｍ2加圧して合成塔に
戻す。
防止するために一部をパージする。残りのガスはリサイ
クルコンプレッサーで数ｋｇ／ｃｍ2加圧して合成塔に
戻す。
【００３２】(７) ＤＭＥ精製部 ＣＯ2ストリッパー：凝縮したＤＭＥとメタノールは、
３０〜３５ｋｇ／ｃｍ2Ａに減圧してＣＯ2ストリッパー
に供給する。ＣＯ2ストリッパーでは、凝縮液に溶解し
たＣＯ、水素とＣＯ2を頂部から放散する。ＤＭＥおよ
びＤＭＥより重たい成分が塔底に残る。
３０〜３５ｋｇ／ｃｍ2Ａに減圧してＣＯ2ストリッパー
に供給する。ＣＯ2ストリッパーでは、凝縮液に溶解し
たＣＯ、水素とＣＯ2を頂部から放散する。ＤＭＥおよ
びＤＭＥより重たい成分が塔底に残る。
【００３３】ＤＭＥ精製塔：ＣＯ2を除去した塔底部の
液は、次にＤＭＥ精製塔に送り塔頂で高濃度のＤＭＥ液
を回収する。
液は、次にＤＭＥ精製塔に送り塔頂で高濃度のＤＭＥ液
を回収する。
【００３４】メタノール回収塔：ＤＭＥ精製塔底部の液
はメタノール回収塔に送られ、塔頂でメタノール液を回
収する。塔底には水が残る。
はメタノール回収塔に送られ、塔頂でメタノール液を回
収する。塔底には水が残る。
【００３５】
【発明の効果】本発明により、スラリー床式合成塔でジ
メチルエーテルを合成する際に、スラリー床の媒体油の
蒸発量を減少させるとともに合成塔内での発泡を抑制す
ることができる。
メチルエーテルを合成する際に、スラリー床の媒体油の
蒸発量を減少させるとともに合成塔内での発泡を抑制す
ることができる。
【図１】 本発明の一実施例であるジメチルエーテル製
造装置のジメチルエーテル合成塔塔頂部周辺の拡大図で
ある。
造装置のジメチルエーテル合成塔塔頂部周辺の拡大図で
ある。
【図２】 上記ジメチルエーテル製造装置全体の構成を
示すフローシートである。
示すフローシートである。
Claims (1)
- 【請求項１】 塔頂から反応生成ガスを排出させるスラ
リー床式ジメチルエーテル合成塔と、該ガスを冷却して
同伴してきた媒体油を凝縮させる冷却器と、凝縮した媒
体油をジメチルエーテル合成塔に返送するラインを有す
るジメチルエーテル製造装置において、ジメチルエーテ
ル合成塔の塔頂部にスプレーノズルを設け前記媒体油返
送ラインがこのスプレーノズルに接続されていることを
特徴とするジメチルエーテル製造装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35805096A JPH10195009A (ja) | 1996-12-30 | 1996-12-30 | ジメチルエーテル製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35805096A JPH10195009A (ja) | 1996-12-30 | 1996-12-30 | ジメチルエーテル製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10195009A true JPH10195009A (ja) | 1998-07-28 |
Family
ID=18457283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35805096A Pending JPH10195009A (ja) | 1996-12-30 | 1996-12-30 | ジメチルエーテル製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10195009A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7537700B2 (en) | 2002-06-03 | 2009-05-26 | Central Research Institute Of Electric Power Industry | Method for removing water contained in solid using liquid material |
| US8246789B2 (en) | 2007-03-09 | 2012-08-21 | Central Research Institute Of Electric Power Industry | Hydrous matter treatment system |
-
1996
- 1996-12-30 JP JP35805096A patent/JPH10195009A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7537700B2 (en) | 2002-06-03 | 2009-05-26 | Central Research Institute Of Electric Power Industry | Method for removing water contained in solid using liquid material |
| US8246789B2 (en) | 2007-03-09 | 2012-08-21 | Central Research Institute Of Electric Power Industry | Hydrous matter treatment system |
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