JPH10187011A

JPH10187011A - 光メモリ板

Info

Publication number: JPH10187011A
Application number: JP8351498A
Authority: JP
Inventors: Mitsuteru Kimura; 光照木村
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1996-12-27
Filing date: 1996-12-27
Publication date: 1998-07-14

Abstract

(57)【要約】【課題】１個のピットや記録ビットのスペースで多く
の情報を記録できるような光ディスクやカードとしての
新しい光メモリ板を提供すること。【解決手段】トラックに沿って形成したパターン列に
おける各パターン３が，一組の独立の２つ以上のパター
ン３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・の組み合わせからなり，該２
つ以上のパターンが近接配置または重ね配置してあり，
該一組のパターン３に，レーザ光を照射したとき，該各
パターン３を構成する各２つ以上のパターン３Ａ，３
Ｂ，３Ｃ，・・に対応するホログラフィパターン１００
Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ，・・が同時にできるようにし
たものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は，高密度記録ができ
る光メモリ板に関するもので，特に文章，画像や音声な
どの記録および再生に用いられる光メモリ板に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】従来，光ディスクとして，プラスチック
の基板に，トラックに沿って細長いピットを形成してお
き，この上にアルミニウムなどの金属反射膜を形成して
おくと，集光したレーザ光がピット上に来たときは，ピ
ットがない箇所からの反射よりも光回折のため戻る反射
光が弱くなり暗くなることを利用し，ピットの有無を
０，１の信号として情報を記録させ，そして，この記録
情報を読み出すようにした読み出し装置があった。

【０００３】また，このような読み出し装置では，情報
読み出しのための集光したレーザ光がピット上に正確に
位置するようにさせるために，反射回折光の受光部に４
分割フォトダイオードを設け，４分割フォトダイオード
の受光強度分布からフォーカスエラー調整やラジアルエ
ラー調整を行っていた。

【０００４】また，従来，書き換え可能な光ディスクと
して，相変化型においては，結晶性かアモルファス性か
により，光の反射率の違いを利用して０，１の信号情報
を得るようにしているもの，光磁気記録型では，磁化に
よる反射光のカー効果，透過光のファラデー効果による
偏光面の回転があることを利用して，偏光板を用いて光
強度変化に変換して０，１の信号情報を得るようにして
いるものがあった。

【０００５】従来，光メモリ板にピットを形成する書き
込み（記録）方式は，多くの場合，単一のＡｒレーザや
Ｈｅ−Ｃｄレーザの光源を用い，これからのレーザ光を
単一の光変調器で記録すべき信号に応じて光強度変調し
て，光メモリ板となる基板に塗布したフォトレジスト膜
に集光し，露光して，順次ピットを形成して行くもので
あった。

【０００６】また，従来，相変化型や光磁気記録型の書
き込み方式では，単一の半導体レーザの光源を用い，記
録すべき信号に応じて点滅させて，相変化型や光磁気記
録型のための記録材料層を加熱するようにして記録ビッ
トを形成していた。

【０００７】また，従来，カード式の光メモリ板におい
て，カードにピットを形成したり，ピットの代わりに穴
をあけ，そこを透過する光を検出するなどして，ピット
または穴の間隔と組み合わせから情報を得るものもあっ
た。しかし，記録密度は，大きくなりえなかった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら，従来の
光メモリ板としての光ディスクにおいては，一個のピッ
トまたは記録ビットは，その存在の有無だけが情報であ
り，たとえば，１バイトを構成するには，トラックに沿
って８個のピットまたは記録ビットの存在すべきスペー
スを必要としていた。このため，さらに高密度記録に
は，多重記録やピットまたは記録ビットを更に小型化す
るなどの模索が始まっていた。

【０００９】本発明は，１個のピットや記録ビットのス
ペースで多くの情報を記録できるような光ディスクやカ
ードとしての新しい光メモリ板を提供することを目的と
する。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに，本発明の請求項１に係る光メモリ板は，基板１に
設定したトラック２に沿ってパターン列を形成し，該各
パターン３にレーザ光を照射したとき，該照射されたパ
ターン３によりスクリーン上にホログラフィパターン１
００ができるようにした光メモリ板１０であって，特定
の文字や数字あるいは記号に対応するようにした各パタ
ーン形状を基板１のトラック２に沿って形成し，それぞ
れに対応するスクリーン上のホログラフィパターン１０
０から記録情報が得られるように，基板１の各パターン
形状で情報を記録させるようにした光メモリ板におい
て，トラック２に沿って形成したパターン列における各
パターン３が，一組の独立の２つ以上のパターン３Ａ，
３Ｂ，３Ｃ，・・の組み合わせからなり，該２つ以上の
パターンが近接配置または重ね配置してあり，該一組の
パターン３に，レーザ光を照射したとき，該各パターン
３を構成する各２つ以上のパターン３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，
・・に対応するホログラフィパターン１００Ａ，１００
Ｂ，１００Ｃ，・・が同時にできるようにしたものであ
る。

【００１１】また，請求項２に係る光メモリ板は，基板
１に設定したトラック２に沿ってパターン列を形成し，
該各パターン３にレーザ光を照射したとき，該照射され
たパターン３によりスクリーン上にホログラフィパター
ン１００ができるようにした光メモリ板１０であって，
特定の文字や数字あるいは記号に対応するようにした各
パターン形状を基板１のトラック２に沿って形成し，そ
れぞれに対応するスクリーン上のホログラフィパターン
１００から記録情報が得られるように，基板１の各パタ
ーン形状で情報を記録させるようにした光メモリ板にお
いて，前記トラック２に沿って形成したパターン列にお
ける各パターン３が，細長形状，十字形状，三角形状，
二個以上のドットの組み合わせ形状または，これらの各
パターンを所定の角度だけトラック２に対して回転させ
た形状であるか，あるいは，円形状であって，かつ，ト
ラック２に沿って形成したパターン列における各パター
ン３が，一組の独立の２つ以上のパターン３Ａ，３Ｂ，
３Ｃ，・・の組み合わせからなり，該２つ以上のパター
ンが近接配置または重ね配置してあり，該一組のパター
ン３に，レーザ光を照射したとき，該各パターン３を構
成する各２つ以上のパターン３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・に
対応するホログラフィパターン１００Ａ，１００Ｂ，１
００Ｃ，・・が同時にできるようにしたものである。

【００１２】また，請求項３に係る光メモリ板は，基板
１に設定したトラック２に沿ってパターン列を形成し，
該各パターン３にレーザ光を照射したとき，該照射され
たパターン３によりスクリーン上にホログラフィパター
ン１００ができるようにした光メモリ板１０であって，
特定の文字や数字あるいは記号に対応するようにした各
パターン形状を基板１のトラック２に沿って形成し，そ
れぞれに対応するスクリーン上のホログラフィパターン
１００から記録情報が得られるように，基板１の各パタ
ーン形状で情報を記録させるようにした光メモリ板にお
いて，前記基板１の各パターン３にレーザ光を照射した
とき，該各パターン３からの反射回折光によるホログラ
フィパターン１００ができるようにし，かつ，トラック
２に沿って形成したパターン列における各パターン３
が，一組の独立の２つ以上のパターン３Ａ，３Ｂ，３
Ｃ，・・の組み合わせからなり，該２つ以上のパターン
が近接配置または重ね配置してあり，該一組のパターン
３に，レーザ光を照射したとき，該各パターン３を構成
する各２つ以上のパターン３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・に対
応するホログラフィパターン１００Ａ，１００Ｂ，１０
０Ｃ，・・が同時にできるようにしたものである。

【００１３】また，請求項４に係る光メモリ板は，基板
１に設定したトラック２に沿ってパターン列を形成し，
該各パターン３にレーザ光を照射したとき，該照射され
たパターン３によりスクリーン上にホログラフィパター
ン１００ができるようにした光メモリ板１０であって，
特定の文字や数字あるいは記号に対応するようにした各
パターン形状を基板１のトラック２に沿って形成し，そ
れぞれに対応するスクリーン上のホログラフィパターン
１００から記録情報が得られるように，基板１の各パタ
ーン形状で情報を記録させるようにした光メモリ板にお
いて，前記基板１の各パターン３にレーザ光を照射した
とき，該各パターン３からの透過回折光によるホログラ
フィパターン１００ができるようにし，かつ，トラック
２に沿って形成したパターン列における各パターン３
が，一組の独立の２つ以上のパターン３Ａ，３Ｂ，３
Ｃ，・・の組み合わせからなり，該２つ以上のパターン
が近接配置または重ね配置してあり，該一組のパターン
３に，レーザ光を照射したとき，該各パターン３を構成
する各２つ以上のパターン３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・に対
応するホログラフィパターン１００Ａ，１００Ｂ，１０
０Ｃ，・・が同時にできるようにしたものである。

【００１４】また，請求項５に係る光メモリ板は，基板
１に設定したトラック２に沿ってパターン列を形成し，
該各パターン３にレーザ光を照射したとき，該照射され
たパターン３によりスクリーン上にホログラフィパター
ン１００ができるようにした光メモリ板１０であって，
特定の文字や数字あるいは記号に対応するようにした各
パターン形状を基板１のトラック２に沿って形成し，そ
れぞれに対応するスクリーン上のホログラフィパターン
１００から記録情報が得られるように，基板１の各パタ
ーン形状で情報を記録させるようにした光メモリ板にお
いて，前記トラック２に沿って形成したパターン列にお
ける各パターン３が，細長形状，十字形状，三角形状，
二個以上のドットの組み合わせ形状または，これらの各
パターンを所定の角度だけトラック２に対して回転させ
た形状であるか，あるいは，円形状であって，かつ，基
板１の各パターン３にレーザ光を照射したとき，該各パ
ターン３からの反射回折光によるホログラフィパターン
１００ができるようにし，かつ，トラック２に沿って形
成したパターン列における各パターン３が，一組の独立
の２つ以上のパターン３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・の組み合
わせからなり，該２つ以上のパターンが近接配置または
重ね配置してあり，該一組のパターン３に，レーザ光を
照射したとき，該各パターン３を構成する各２つ以上の
パターン３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・に対応するホログラフ
ィパターン１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ，・・が同時
にできるようにしたものである。

【００１５】また，請求項６に係る光メモリ板は，基板
１に設定したトラック２に沿ってパターン列を形成し，
該各パターン３にレーザ光を照射したとき，該照射され
たパターン３によりスクリーン上にホログラフィパター
ン１００ができるようにした光メモリ板１０であって，
特定の文字や数字あるいは記号に対応するようにした各
パターン形状を基板１のトラック２に沿って形成し，そ
れぞれに対応するスクリーン上のホログラフィパターン
１００から記録情報が得られるように，基板１の各パタ
ーン形状で情報を記録させるようにした光メモリ板にお
いて，前記トラック２に沿って形成したパターン列にお
ける各パターン３が，細長形状，十字形状，三角形状，
二個以上のドットの組み合わせ形状または，これらの各
パターンを所定の角度だけトラック２に対して回転させ
た形状であるか，あるいは，円形状であって，かつ，基
板１の各パターン３にレーザ光を照射したとき，該各パ
ターン３からの透過回折光によるホログラフィパターン
１００ができるようにし，かつ，トラック２に沿って形
成したパターン列における各パターン３が，一組の独立
の２つ以上のパターン３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・の組み合
わせからなり，該２つ以上のパターンが近接配置または
重ね配置してあり，該一組のパターン３に，レーザ光を
照射したとき，該各パターン３を構成する各２つ以上の
パターン３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・に対応するホログラフ
ィパターン１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ，・・が同時
にできるようにしたものである。

【００１６】また，請求項７に係る光メモリ板は，請求
項１〜６のいずれか一つに記載の近接配置した２つ以上
のパターンからなる一組のパターン３において，読み出
し時にそれぞれのパターンの組み合わせ順序が区別でき
るように配置したものである。

【００１７】すなわち，本発明に係る光メモリ板は，光
メモリ板となるべき基板に設定したトラックに沿ってパ
ターン列を形成し，これらの各パターンにレーザ光を照
射したとき，照射されたパターンによりスクリーン上に
ホログラフィパターンができるようにした光メモリ板
（光ディスク）において，特定の文字や数字あるいは記
号に対応するようにした各パターン形状を基板のトラッ
クに沿って形成し，それぞれに対応するスクリーン上の
ホログラフィパターンから記録情報が得られるように，
基板の各パターン形状で情報を記録させるようにしたも
のである。

【００１８】基本的には，いわば従来の光メモリ板とし
ての光ディスクにおける各ピットや記録ビットの形状す
なわちピットや記録ビットのパターン形状を変えること
により，これらの各パターンにレーザ光を照射したと
き，この照射されたパターンからスクリーン上に光回折
により形成されるホログラフィパターンの形状から元の
ピットまたは記録ビットのパターン形状が解かるように
したもので，この元のピットまたは記録ビットのパター
ン形状を特定の文字や数字あるいは記号に対応するよう
にすることにより，１個のピットまたは記録ビットのス
ペースで多くの情報たとえば１バイトを記録できるよう
な光ディスクやカードとしての光メモリ板を提供するす
るものである。

【００１９】従来の光ディスクでは，単にピットまたは
記録ビットの存在が重要であるが，本発明の光メモリ板
においては，そのパターンの内部が反射面であるか，吸
収面や散乱面であるか，あるいは，透明であるか，また
は，パターンの内部と外部とがどちらも反射面である
が，それらに反射率の差があり，その回折パターンが認
識できる程度にあるか，さらには，パターンの内部と外
部とがどちらも反射面または透過面であるが，それらの
反射光または透過光に位相回転などの差が存在している
ために，その回折パターンが認識できる程度にあるか，
それとも従来のようにピットなどの凹凸を形成して全面
に反射膜を形成してあるものであってもよく，ただ重要
なことは光メモリ用のパターン形状であり，更にその形
態により反射形を使用するか透過形を使用したほうがよ
いかが選択されるが，いづれにせよ照射レーザ光が回折
される現象を利用したものであるので，必ずしも凹凸の
ピットである必要はない。

【００２０】また，光メモリ用のパターン形状として，
各パターンが，細長形状，十字形状，三角形状，二個以
上のドットの組み合わせ形状を特定しておき，これらの
各パターンを所定の角度だけトラックに対して回転させ
た形状も採用することにより，異なるパターンの数を増
やしたもので，このことにより記録密度が大幅に向上す
ることになる。

【００２１】なお，細長形状とは，細長矩形状を含み，
その他，細長矩形の角が丸い場合ももちろん含まれるも
のである。円形状パターンは回転させても変化しない
が，更に一個のパターンとして異なるパターンの数を増
やすのに役立つ。

【００２２】これらのホログラフィパターンの形状は比
較的単純で，かつ，これらのホログラフィパターンの形
状，従って元のパターンの形状が識別しやすい。また，
光メモリ用のパターンが存在しないときも，もちろん，
一つの情報として利用することができる。

【００２３】また，基板の各パターン３にレーザ光を照
射したとき，この各パターン３からの反射回折光による
ホログラフィパターン１００を利用するものである。

【００２４】また，基板の各パターン３にレーザ光を照
射したとき，この各パターンからの透過回折光によるホ
ログラフィパターン１００を利用するものである。

【００２５】光メモリ用のパターン３については，その
パターン３の内部の箇所だけに反射膜としてのアルミニ
ウム（Ａｌ）膜などが残るようにし，パターン３の周辺
は透過するようにしておいた場合には，回折光はパター
ン３からの反射回折光とパターン周辺からの透過回折光
の両方がホログラフィパターン１００として使用でき
る。

【００２６】また，パターン３の外周が透明で内部の箇
所だけ色素などにより吸収させたり散乱させるようにし
た場合は，透過回折光を利用したほうがコントラストが
良い。

【００２７】また，逆にパターン３の内部の箇所だけは
照射レーザ光が透過し，そのパターン３の周辺がＡｌ膜
などにより反射されるようにしておくと，反射回折光と
パターン周辺からの透過回折光の両方がホログラフィパ
ターン１００として使用できる。

【００２８】書き換え可能な相変化型光ディスク材料に
パターン３を結晶性かアモルファス性かの状態で形成し
たときには，結晶性かアモルファス性かにより反射率に
大小が生じ，コントラストは悪いが，これによる反射回
折パターンのホログラフィパターン１００が形成でき
る。

【００２９】さらに，やはり書き換え可能な光磁気ディ
スク材料を用い磁気カー効果やファラデ効果による反射
光や透過光の位相回転を利用した場合でも，パターン３
からの反射や透過回折光にもパターン特有の合成位相回
転パターンが現われ，偏光板を用いて光強度変化に直せ
るので，反射や透過回折光のホログラフィパターン１０
０として使用できる。

【００３０】また，従来のように回折用のピットを形成
するなどの凹凸を形成して全面にＡｌ膜などの反射膜を
形成した場合には，もちろん，反射回折光のホログラフ
ィパターン１００として使用することになる。

【００３１】また，光メモリ板からの記録情報の読み出
す（再生する）ための装置で，スクリーンとして光検出
素子アレイ２００を形成し，これらの光検出素子の相対
的光検出情報の位置関係から基板に形成された元の各パ
ターン形状を特定して，それに対応する文字や数字ある
いは記号を認識し，記録情報を読み出すようにしたもの
である。

【００３２】また，光検出素子アレイ２００として，フ
ォトダイオード２次元アレイ（イメージセンサ）とした
ものである。

【００３３】光検出素子アレイ２００は，透過回折光を
利用する時には，光メモリ板に対して，レーザ光を集光
し，光メモリ板に形成した各パターン３に照射するため
の光学系である光ヘッドと反対側に配置し，反射回折光
を利用する時には，光ヘッドと同じ側に配置すればよ
い。

【００３４】また，反射回折光を利用する時には，光検
出素子アレイと光ヘッドとが同一側に配置されるので，
たとえば，光検出素子アレイの中央部に小孔を開け，こ
の小孔を通して光ヘッドからの集光したレーザ光を光メ
モリ板に形成した各パターンに照射してもよい。

【００３５】また，光ヘッドと光検出素子アレイとを互
いに傾けて配置することもできるし，従来の光ディスク
装置の光学系のように，光ヘッドはハーフミラーを通し
て，横から照射するように，光ヘッドと光検出素子アレ
イとを互い直交配置させることもできる。

【００３６】本発明による光メモリ板１０からの記録情
報の読み出し装置は，従来の光ディスクからの記録情報
の読み出し装置と概略同様にできるが，上述のように光
検出素子として光検出素子アレイを使用すること，反射
形にするか，それとも透過形にするかにより光ヘッドと
光検出素子アレイとの光メモリ板に対する位置関係が定
まること，更に，光検出素子アレイに形成されるホログ
ラフィパターンから元の光メモリ用のパターンを判別す
るための光アドレス判別回路が必要になることなどが従
来と異なる。

【００３７】また，基板１に設定したトラックに沿っ
て，信号としての特定の文字や数字あるいは記号に対応
させた各特定のパターン形状のパターン列を順次形成
し，各パターンにレーザ光を照射したとき，この照射さ
れたパターン３によりスクリーン上にホログラフィパタ
ーン１００ができるようにした光メモリ板を作成するた
めの光学的な書き込み方式であるが，発光ダイオードか
らの光またはレーザ光を，必要とする該各パターンに対
応するパターン形状をもつ光学的フィルタに照射し，そ
の透過光または反射光を集光して，各特定のパターン形
状のパターン列を順次形成するようにする。

【００３８】この場合，光学的フィルタとして，たとえ
ば，液晶パネルの光学シャッタアレイなどにより必要な
パターン形状を形成して用いることもできるし，もちろ
ん，金属膜に必要なパターン形状の窓を形成して用いる
こともできる。

【００３９】また，信号としての特定の文字や数字ある
いは記号に対応させるに必要な分の異なるパターンに対
応するそれぞれのパターン形状をもつ光学的フィルタを
用意し，光変調器を用いて，発光ダイオードの光または
レーザ光を信号に応じて，その特定のパターン形状をも
つ光学的フィルタに選択的に照射できるようにしたもの
である。

【００４０】この場合，光変調器の数を光学的フィルタ
の数だけ用意しておき，単一のレーザ光源からの光を光
スイッチなどにより分岐して各光変調器に導いておくよ
うにすれば好都合である。

【００４１】また，光変調器としては発光ダイオードや
レーザダイオードの駆動電流変化によるこれらのダイオ
ードからの出射光の強度変調を生じさせる駆動電流変調
器をも含むものであり，この場合は，発光ダイオードや
レーザダイオードの数を光学的フィルタの数だけ用意し
ておいた方が好都合である。

【００４２】また，信号としての特定の文字や数字ある
いは記号に対応させるに必要な分の異なるパターンに対
応するそれぞれのパターン形状をもつ光学的フィルタを
用意せずに，各特定のパターン形状を二個以上のドット
の組み合わせ形状で形成する場合の書き込み方式であ
り，ドットの組み合わせ形状を，複数のレーザ光を光強
度変調して二個以上の集光したレーザ光のスポットの組
み合わせで形成できるようにしたものである。

【００４３】たとえば，作成された２個のドットで細長
形状のパターンを近似することもできる。この場合，２
個のドットは離れずにむしろ一部重なり合った方がよ
い。

【００４４】また，メモリの記録密度を更に向上させる
ための手段として，各パターン３が，一組の独立の２つ
以上のパターン３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・の組み合わせか
らなるようにしたものである。

【００４５】さらに，一組のパターン３を構成する２つ
以上のパターンが近接配置または重ね配置により，それ
らに同時にレーザ光を照射したとき，これらの２つ以上
のパターンからのホログラフィパターン１００Ａ，１０
０Ｂ，１００Ｃ，・・は，ほぼ重なって同時にできる。

【００４６】また，２つ以上のパターンが重ね配置され
たときには，今のところ，それぞれのパターンの組み合
わせ順序が区別できない。たとえば，３つのパターン３
Ａ，３Ｂ，３Ｃが（３，４，５）を意味するとき，
（４，３，５）なのか，（３，５，４）なのかなど，そ
れらの組み合わせ順序の区別ができない。しかし，２つ
以上のパターンが近接配置のときには，読み出し時に用
いるレーザ光のスポットの移動時（推移時）に，近接配
置の一組のパターン３のうち，どのパターンから最初に
レーザ光のスポットが照射され読み出されていくかなど
の時間経過を調べることにより，すなわち，それらの時
系列の情報からそれぞれのパターンの組み合わせ順序を
区別することができる。

【００４７】

【発明の実施の形態】以下，本発明に係る光メモリ板の
実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。

【００４８】〔実施の形態１〕図１は，本発明の光メモ
リ板１０の一実施の形態の概略図で，従来の光ディスク
のような円盤形状をしている場合の例を示す。トラック
２に沿って，各種形状のパターン３の列があり，これら
の各パターン形状が，たとえば，１，２，３，４，・・
・の様な数字やａ，ｂ，ｃ，・・・などの文字や記号な
どに対応させることができる。

【００４９】これらの光メモリ用パターン形状として，
細長形状，十字形状，三角形状，二個以上のドットの組
み合わせ形状，または，これらの各パターンを所定の角
度だけトラック（２）に対して回転させた形状，あるい
は，回転させても同一形状である円形状にすると，レー
ザ光照射により形成されるホログラフィパターン形状が
単純であるので，この後で説明する光検出素子アレイ２
００での元の光メモリ用パターン形状の判別が容易であ
る。

【００５０】たとえば，細長形状のパターンをトラック
２に対して，たとえば１０度ずつ回転させたパターンの
１８種類を光メモリ用パターンとして採用することもで
きる。この場合は，図４に示すような細長形状の長手方
向と直角方向に長く輝点の列が伸びるホログラフィパタ
ーンが形成されるので，特に判別しやすい。

【００５１】本発明の光メモリ板１０の作成方法の一例
を説明すると次のようになる。先ず，従来の光ディスク
と同様な寸法の中央に円形の穴を有し，透明かつ耐熱性
（１５０℃ぐらいまで）の厚み１．０ｍｍの円盤状のプ
ラスチック基板２０に反射膜４０としてのアルミニウム
（Ａｌ）薄膜を０．１μｍ厚に真空蒸着し，この上にフ
ォトレジスト膜を塗布し，情報として必要なパターン３
をトラック２に沿って，所定の間隔，たとえば２．５μ
ｍ間隔で露光転写して行く。

【００５２】たとえば，光メモリ用パターン形状が図２
に示すような細長形状パターン３ａの場合，半導体レー
ザ光の波長を８３０ｎｍ程度としたときには，矩形の長
手方向の寸法を１．０μｍとし，幅方向を０．３μｍと
すればよい。十字形状の場合も細長形状を組み合わせた
寸法とすればよい。また，円形状３ｂや三角形状の場合
は，その直径または辺の大きさを０．５μｍ程度とする
とよい。

【００５３】フォトレジストがネガ形か，ポジ形かによ
り，Ａｌのフォトエッチングの際，光メモリ用パターン
３の内部に図２のようにＡｌ膜が残るか，それとも図３
のように光メモリ用パターン３の外部にＡｌ膜が残るか
決まる。パターン３の露光転写方法には，後述の書き込
み方式のほか電子ビームやエキシマレーザ光による直接
描画法や，パターン３のマスクを形成しておき，このマ
スクを超高圧水銀燈の光を通す投影露光や近接露光の方
法がある。

【００５４】投影露光法や近接露光法を用いたときに
は，たとえば，必要な各種のパターンを円盤状のマスク
乾板の円周上に規則的に配列しておき，回転させるとと
もに同期させて必要なパターンを順次露光するようにす
れば，高速に光メモリ用パターン３の露光転写ができ
る。

【００５５】このようにして形成したトラック２に沿っ
て反射膜４０としてのＡｌ膜からなる各種形状のパター
ン３の列が図２のＡｌ膜がパターン３の内部に残存する
形または図３のＡｌ膜がパターン３の外部に残存する形
で形成される。

【００５６】更に，この上に保護膜および光屈折層とし
ての透明アクリル樹脂３０を１．２５ｍｍ厚に形成す
る。このようにして図１に示される光メモリ板１０が形
成される。

【００５７】〔実施の形態２〕従来の光ディスクのピッ
ト，たとえば幅０．４μｍ，長さ１．０μｍ，深さ０．
１１μｍのピットをフォトリソグラフィによりフォトレ
ジスト膜に形成し，このピットをトラック２に対して，
たとえば上記実施の形態１に記述したのと同様に１０度
ずつ回転させたパターンの１８種類を光メモリ用パター
ンとして採用することもできるし，もちろん，十字形状
や円形状なども採用できる。このようなピットを形成し
たときには，パターンを含む面の全面にＡｌ膜など反射
膜４０を形成しておくとよい。

【００５８】反射膜４０の上には，更に，たとえば透明
アクリル樹脂３０を１．２５ｍｍ厚に形成する。このよ
うにして凹凸のパターンをもつ光メモリ板１０が作成で
きる。

【００５９】この場合，ピットの深さは，使用レーザ光
の実効波長（プラスチックの屈折率を考慮）の４分の１
になるようにしておくと，回折光として好都合である。
この点は，従来の光ディスクのピットと同様で，光磁気
ディスクのプリフォーマットピットでも同様である。

【００６０】図６（Ａ）には，トラック２に沿って形成
された細長形状，十字形状，三角形状，互いに重なり合
った３個のドットからなる細長形状近似の各パターン３
の概略図を示してあり，これらのパターンは，レーザ光
を照射したときに各パターン３の輪郭の内と外に反射率
または透過率の差があるか，反射または透過光に位相差
が出現し，偏光板を使用することにより，光強度差が現
われるためホログラフィパターン１００が形成されるも
のであればよい。

【００６１】図６（Ｂ）は図６（Ａ）の各パターン３を
右回り３０度だけ回転させたパターンである。

【００６２】また，図７には，細長形状のパターン３ａ
をトラック２に対して，３０度，９０度，４５度，０度
だけ回転させた場合のパターンを示したものである。

【００６３】図８には，光メモリ板１０のパターンの記
録層が，たとえば有機染料で形成され，書き込み用のレ
ーザ光スポットにより熱のため窪みが形成されている場
合の例である。

【００６４】この窪みが各パターン３を形成するように
すればよい。この様な場合，たとえば，幅広のレーザス
ポットにより窪みの付近の凸凹を平にすれば，元に戻
り，繰り返し光メモリ板１０のパターンの書き換えが可
能である。

【００６５】〔実施の形態３〕上述の実施の形態１およ
び実施の形態２の光メモリ板１０のうち，基板１上に情
報としての光メモリ用のピットを持つパターン列をトラ
ック２に沿って形成した後，これを原板としてその複製
板をプラスチック板などで作成して光メモリ板１０とす
ることができる。

【００６６】たとえば，実施の形態１の光メモリ用パタ
ーンの内部の箇所又は外部に反射膜があるときには，基
板１に全面Ａｌ膜を形成し，フォトレシスト膜塗布後，
これに原板を重ね露光してフォトエッチングを行う。こ
うして光メモリ用パターン列が基板１の必要な箇所の全
面に形成された後，透明アクリル樹脂３０を１．２５ｍ
ｍ厚に形成する。

【００６７】このようにして，光メモリ板１０の複製板
ができる。また，実施の形態２の凹凸が主体の光メモリ
用パターン列の場合には，金型であるスタンバを作成
し，その複製板をプラスチック板などで作成して光メモ
リ板１０とすることができる。このやり方は，従来の光
ディスクのスタンバ作成および反射膜を内部にもつ光デ
ィスクの複製方法と同様にして作成されるので，ここで
は省略する。

【００６８】〔実施の形態４〕図９は，本発明の光メモ
リ板からの情報読み出し装置の一実施の形態をブロック
図で示した概略図で，レーザ光を集光して光メモリ板１
０の各パターン３に照射する光ヘッドと光検出素子アレ
イ２００とが光メモリ板１０に対して互いに反対の位置
に設置してある場合の例である。

【００６９】元の光メモリ板１０の各パターン３を判別
する形態として，この場合は，図１１に示すように光メ
モリ板１０の各パターン３からの透過回折光を利用する
ようにしてある。

【００７０】しかし，必要に応じて，図１２に示すよう
に光メモリ板１０の各パターン３からの反射回折光を利
用することもできる。

【００７１】反射回折光を利用した場合には，図１２に
示すように光検出素子アレイ２００であるフォトダイオ
ード２次元アレイの中央部に小孔を開け，この小孔を通
して光ヘッドからのレーザ光をパターン３に照射するよ
うにするか，あるいは，たとえば反射回折光を４５度に
配置したハーフミラーにより受け，光メモリ板１０と平
行に反射回折光を誘導した後，フォトダイオード２次元
アレイに導くようにするとよい。

【００７２】このような反射回折光を用いたときには，
ゴミの対策や片面のみを利用するので光メモリ板１０の
作成が楽であるなどの利点がある。

【００７３】光検出素子アレイ２００としてのフォトダ
イオード２次元アレイは，レーザ光を，たとえば波長８
３０ｎｍの光を使用する場合には，シリコン（Ｓｉ）チ
ップに，図１０に示したように，マトリックス状にに形
成したＳｉのｐｎ接合フォトダイオード２次元アレイと
するとよい。

【００７４】図１０には６×６の画素となるｐｎ接合フ
ォトダイオード２次元アレイの例を示し，この２次元ア
レイの各行と各列との配線は互いに絶縁性の膜を介して
絶縁され，独立に動作できるようになっている。

【００７５】各画素に対応する，たとえば２５×２５μ
ｍ角のｐｎ接合フォトダイオードの２次元アレイに，光
メモリ板１０のパターン３からのパターン３特有の回折
光であるホログラフィパターン１００が形成されたとき
に，そのホログラフィパターン１００の光強度に応じて
２次元アレイの特定の複数個のｐｎ接合フォトダイオー
ドが光励起されるので，２次元アレイのどのｐｎ接合フ
ォトダイオードが光励起されたかを判別することによ
り，元の光メモリ板１０のパターン３の形状が判別され
る。

【００７６】図４（Ａ）は，光メモリ板１０のパターン
３として，細長形状パターン３ａを用いたときの例で，
図４（Ｂ）には，その時のホログラフィパターン１００
ａの概略図を示している。

【００７７】このホログラフィパターン１００ａでは，
細長形状パターン３ａの長手方向と直角方向に間隔の離
れた光スポットが現われ，長手方向には幅の狭い光の縞
が現われる。

【００７８】しかし，光メモリ板１０と光検出素子アレ
イ２００とが近接しているときには，細長形状パターン
３ａの長手方向と直角方向に間隔の離れた光スポットは
接近し，一本の輝線として観測される。

【００７９】実施の形態１および実施の形態２における
細長形状のパターンをトラック２に対して，たとえば１
０度ずつ回転させたパターンの１８種類を光メモリ用パ
ターンとして採用したときには，光検出素子アレイ２０
０としてのフォトダイオード２次元アレイは，その中央
よりもむしろ円周上にこれらの１０度ずつずれる輝線が
十分検出できるように配置すればよい。

【００８０】この場合，反射回折光を利用し，図１２に
示すように光検出素子アレイ２００であるフォトダイオ
ード２次元アレイの中央部に小孔を開け，この小孔を通
して光ヘッドからのレーザ光をパターン３に照射するよ
うにするやり方に好適である。

【００８１】図５には，円形状パターン３ｂを用いたと
きのホログラフィパターン１００ｂの概略図を示してい
る。

【００８２】円形状パターン３ｂのホログラフィパター
ン１００ｂは同心円状の光の縞となり，それぞれ特有の
ホログラフィパターン１００が出現する。このホログラ
フィパターン１００の光強度から光励起された複数個の
ｐｎ接合フォトダイオードを同時に判別する回路を光ア
ドレス判別回路として，集積化してフォトダイオード２
次元アレイを形成してあるシリコン（Ｓｉ）チップにモ
ノリシックに設けた例を図１０に示してある。

【００８３】２次元アレイの光が照射されたｐｎ接合フ
ォトダイオードは，逆方向電圧を印加しておくと光電流
が流れるので，その時の光強度もその電流値から判断で
きる。

【００８４】また，光アドレス判別回路内には各アドレ
ス毎にＭＯＳＦＥＴを形成して，ｐｎ接合フォトダイオ
ードからの光電流の変化で駆動するようにした公知のア
ドレス判別回路が使用でき，この信号を図９に示した公
知の信号処理回路に送り，マイクロプロセッサと組み合
わせて，情報を映像や音声に変換する。また，ディスク
駆動やサーボ回路など従来の公知の光ディスクの駆動回
路などが適用できる。

【００８５】〔実施の形態５〕図１３は，本発明の光メ
モリ板からの情報読み出し装置の光学系の他の一実施の
形態を示した概略図で，レーザダイオードからのレーザ
光を集光して４５度傾けたハーフミラーを介して光メモ
リ板１０の各パターン３に照射する従来形の光学系で，
光検出素子アレイ２００とが光メモリ板１０に対して互
いに反対の位置に設置してある場合の例である。

【００８６】たとえば，図１４（Ａ）に示すような３０
度傾斜させた細長形状のパターン３にレーザ光スポット
を照射させると図１４（Ｂ）に示すような細長形状のパ
ターン３の長手方向に直交するような方向に長く延びた
ホログラフィパターン１００が発生する。

【００８７】これが，図１４（Ｂ）に示すような中心と
その周囲の円周上に配置をしたフォトダイオード２次元
アレイからなる光検出素子アレイ２００でホログラフィ
パターン１００を検出するとき，時計の文字盤のように
円周上に等間隔に１２個のフォトダイオードが存在する
と，中心のフォトダイオードと４番目と１０番目のフォ
トダイオードが光励起されることになる。

【００８８】ホログラフィパターン１００がぼやけた場
合や位置ずれが生じた場合には，円周上のフォトダイオ
ードは４番目と１０番目以外も励起されることがある
が，先ず，中心のフォトダイオードが必ず励起されるこ
とを条件とし，対称位置のもっとも強く励起されている
フォトダイオード（たとえば，４番目と１０番目）を検
出して，元のパターンを判定すればよい。

【００８９】このようにして元の細長形状のパターン３
の回転角度が判明するので，細長形状の回転角度だけを
異にしたパターン３は，単純で光メモリ板１０のパター
ン３として好都合である。もちろん，細長形状の代わり
に２個または３個のドットを近似的に利用してもよい。

【００９０】上記の実施の形態では，光検出素子アレイ
２００として６×６の画素または中心および円周上の画
素となるｐｎ接合フォトダイオード２次元アレイを用い
た場合であったが，電荷結合素子（ＣＣＤ）を用いても
よい。しかし，この場合は，光励起された箇所の光検出
素子に対応する画素を順次読みだすので，高速応答が望
めないという問題がある。

【００９１】〔実施の形態６〕図１５は，本発明に係る
光メモリ板への情報書き込み装置のうちの光学的書き込
み（記録）方式の一実施の形態をブロック図で示した概
略図で，５個の発光ダイオードからの光をそれぞれパタ
ーン３を形成するための光学フィルタを介して，固定し
た５角錐ミラーのそれぞれに対応する面に照射できるよ
うにしており，この面での反射後，レンズで集光して焦
点面ににある作成予定の光メモリ板１０に各パターン３
が記録されるように構成してある場合の例である。

【００９２】信号源からの信号により必要なパターン３
に対応する光学フィルタを選択するために，その光学フ
ィルタに照射する発光ダイオードを電流駆動変調器によ
り選択する。

【００９３】図１５に示すように，同一形状の光学フィ
ルタを互いに同等に配置したとき，このような奇数の多
角錐ミラーを用いると１８０度をこの多角の角数で除し
た分の角度だけ回転した多角の角数のパターン３が光メ
モリ板１０上に得られる。

【００９４】作成予定の光メモリ板１０は，前述したよ
うに，従来技術である基板１に感光膜を塗布しておき，
パターン３の露光後現像してピットを形成し，これを原
板としてスタンバを作成して，多数のプラスチックレプ
リカ版を作成することができる。

【００９５】上述の実施の形態では，発光ダイオードを
用いた例であるが，光学フィルタのパターン形状が使用
波長に比べて十分大きければ，パターン周辺からの光干
渉効果が小さくできるので，レーザダイオードを使用し
てもよい。

【００９６】また，ここに図示しないが上述の図１５の
実施の形態で光学フィルタをそのままの配置にしてお
き，発光ダイオードによる個別発光ではなく，従来技術
による光ファイバなどで光スイッチなどの光分配器と光
変調器の組み合わせを通して，各光学フィルタに一個の
発光ダイオードまたは一個のレーザ光源からの光を信号
に応じて選択照射できるようにしてもよい。

【００９７】また，上述の図１５の実施の形態の配置
で，光学フィルタと発光ダイオードの代わりにそれぞれ
の位置にレーザダイオードまたはレーザ光源からの出射
光を配置し，光メモリ板１０上にレーザ光スポットが形
成されるようにして，指定した形状の２個またはそれ以
上のドットパターン（細長ドットの組み合わせでもよ
い）が形成できるようにしてもよい。

【００９８】この場合，レーザ光スポットは波長程度の
微小なスポットになるので，非常に小さな疑似的な細長
形状を形成できる。もちろん，一個のレーザ光スポット
形状を細長に形成し，それだけで細長形状の多角錐ミラ
ーの多角の角数分に相当する回転したパターンを形成し
てもよい。

【００９９】また，図示しないが，１個の光学フィルタ
と１個の発光ダイオードまたはレーザ光源を用い，その
代わり光学フィルタとして，信号に合わせて高速に必要
なパターン形状の窓が形成できるようにする装置，たと
えば，液晶パネルを用いて発光ダイオードまたはレーザ
光源からの光を照射するようにしてもよい。もちろん，
光学フィルタは透過形でも反射形でもよい。

【０１００】また，高速にレーザビームをスキャンさせ
て細長形状の任意回転角のパターンを形成してもよい。

【０１０１】以上の実施の形態では，円盤状の光メモリ
板についてであったが，たとえば，カード状の光メモリ
板であってもよく，この場合のトラックは直線状とな
り，光検出素子アレイも直線状トラックに沿った形とな
る。また，複数の直線状のトラックを形成して，同時又
は順次に読み出ししてもよい。

【０１０２】上述の実施の形態は本発明の一実施の形態
にすぎず，本発明の主旨および作用，効果が同一であり
ながら，本発明の多くの変形があることは明らかであ
る。

【０１０３】また，上記各実施の形態では，回折パター
ンの次数については触れていないが，実際には，図１６
（Ａ）に示すように０次光および１次回折光などがあ
り，その出射パターンが得られる。したがって，図１６
（Ｂ）に示すようにフォトダイオード２次元アレイ上で
のホログラフィパターンは０次光および１次回折光など
の組み合わせとなる。

【０１０４】〔実施の形態７〕図１７は，３つの細長形
状のパターン３Ａ，３Ｂ，３Ｃがその中心を一致させ
て，重ね合わせた場合，すなわち，重ね配置した場合の
例である。これらの各パターンがそれぞれの成す角度の
違いにより，種々の組み合わせが存在し，光ディスクの
トラック上の一つの領域に一つの細長形状のパターンが
存在する場合に比べて，多くの情報量を与えることがで
きる。

【０１０５】この重ね配置のパターンは，それぞれの細
長形状パターンを同時に，例えば，図１５に示すような
それぞれに対応する光変調器を通し，一個の多角錐ミラ
ーを利用して，光ディスクのトラック上の一カ所に照射
し，形成することができる。もちろん，電子ビーム露光
などにより，極めて微小で正確な重ね配置のパターンを
形成しても良い。

【０１０６】図１８は，３つの細長形状のパターン３
Ａ，３Ｂ，３Ｃを近接配置し，それらの位置関係を，読
み出し用のレーザビームスポットが時間的に推移したと
き，パターン３Ａ，３Ｂ，３Ｃが順次読み出されて行く
ようにした状態を示したものである。

【０１０７】読み出し用のレーザビームスポットが時間
的に推移して行くと，ついにはこれらのパターン３Ａ，
３Ｂ，３Ｃの全部を同時に照射するようになり，図１９
に示すような時計の文字盤上のフォトダイオードアレイ
上に，これらのパターンに対応するホログラフィパタ−
ン（１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ）が同時にできるよ
うになる。このような２つ以上のパタ−ンを近接配置す
れば，書き込み面積は増えるが，それぞれのパタ−ンを
区別でき，それらの組み合わせが増大するので，それだ
け情報量を多く記録することができる。

【０１０８】これらの書き込みは，光露光や電子ビーム
露光を利用して行うことができる。特に，電子ビーム露
光や紫外線露光のように波長が短いビームを用いると，
それだけ微細なパターンが形成できる。例えば，幅が
０．０５μｍ程度で長さが０．３μｍ程度の細長パター
ンも形成できる。しかし，読み出しに用いるビームは，
一般に半導体レーザ光を用いるので，波長が長く，現在
の技術では直径が１μｍ程度のスポットにしか集光でき
ない。

【０１０９】したがって，例えば，一組の２つ以上のパ
タ−ンである３つの細長形状のパターン３Ａ，３Ｂ，３
Ｃを，読み出すのに用いるレーザビームスポット径以内
の近接配置にしておき，読み出し用のレーザビームスポ
ットがこれらのパターン３Ａ，３Ｂ，３Ｃの上を時間的
に推移して行くとき，図１９に示すような光検出素子ア
レイ２００である時計の文字盤状のフォトダイオードア
レイ上を，パターン３Ａ，３Ｂ，３Ｃのうち照射された
分に対応するホログラフィパタ−ン（１００Ａ，１００
Ｂ，１００Ｃ）が順次移動し，検出される。

【０１１０】これらの時間的経過からそれぞれのパター
ン３Ａ，３Ｂ，３Ｃの組み合わせ順序を識別することが
でき，また，その後，一度に複数の微細なパターンから
なる一組のパターン３Ａ，３Ｂ，３Ｃに照射されるの
で，これらのそれぞれのパターンからのホログラフィパ
タ−ンは重ね合わされて，図１９に示すような光検出素
子アレイ２００である時計の文字盤状のフォトダイオー
ドアレイに照射されるので，これらの一組のパターン３
Ａ，３Ｂ，３Ｃが分離検出される。

【０１１１】

【発明の効果】以上説明したように，従来の光ディスク
やカードの情報が，光の有無という２進法であるのに対
して，本発明の光メモリ板では，従来の光ディスクやカ
ードのほぼ１個のピットの位置に形状の異なるパターン
を配置し，パターン認識を行うので，１個のパターンか
らの情報が多く，従って高記録密度の光メモリ板が達成
できる。

【０１１２】たとえば，従来の光ディスクの８個のピッ
ト分を，本発明の光メモリ板の１個のパターンに対応さ
せることができるので，この場合は，約８倍の記録密度
となる。

【０１１３】また，３つの細長形状のパターンがその中
心を一致させて，重ね合わせた場合，すなわち，重ね配
置された場合，これらの各パターンがそれぞれの成す角
度の違いにより，種々の組み合わせが存在し，光ディス
クのトラック上の一つの領域に一つの細長形状のパター
ンが存在する場合に比べて，より多くの情報量を得るこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る光メモリ板１０の一実施の形態を
示す概略図である。

【図２】本発明に係る光メモリ板１０におけるトラック
２に沿うＡｌ膜からなる反射膜４０を内部に残すパター
ン３の例および光メモリ板１０の構造を示す拡大外略図
である。

【図３】本発明に係る光メモリ板１０におけるトラック
２に沿うＡｌ膜からなる反射膜４０を外部に残すパター
ン３の例および光メモリ板１０の構造を示す拡大外略図
である。

【図４】本発明に係る光メモリ板１０のパターン３とし
ての（Ａ）細長形状パターン３ａと（Ｂ）そのホログラ
フィパターン１００ａを示す概略図である。

【図５】本発明に係る光メモリ板１０のパターン３とし
ての（Ａ）円形状パターン３ｂと（Ｂ）そのホログラフ
ィパターン１００ｂを示す概略図である。

【図６】図６（Ａ）は，トラック２に沿って形成された
細長形状，十字形状，三角形状，互いに重なり合った３
個のドットからなる細長形状近似の各パターン３の概略
図，図６（Ｂ）は図６（Ａ）の各パターン３を右回り３
０度だけ回転させたパターンを示す説明図である。

【図７】細長形状のパターン３ａをトラック２に対し
て，３０度，９０度，４５度，０度だけ回転させた場合
のパターンを示す説明図である。

【図８】光メモリ板１０のパターンの記録層が，たとえ
ば有機染料で形成され，書き込み用のレーザスポットに
より熱のため窪みが形成されている場合の例を示す説明
図である。

【図９】本発明に係る光メモリ板１０からの情報読み出
し装置の一実施の形態をブロック図で示す概略図であ
る。

【図１０】本発明に係る光メモリ板１０からの情報読み
出し装置における光検出素子アレイ２００としてのマト
リックス状に形成したフォトダイオード２次元アレイと
光アドレス回路とを集積化したときの一実施の形態を示
す概略図である。

【図１１】本発明に係る光メモリ板１０からの情報読み
出し装置における透過回折光を利用する場合の光ヘッ
ド，光メモリ板１０および光検出素子アレイ２００とし
てのフォトダイオード２次元アレイの位置関係を示す一
実施の形態の概略図である。

【図１２】本発明に係る光メモリ板１０からの情報読み
出し装置における反射回折光を利用する場合の光ヘッ
ド，光メモリ板１０および光検出素子アレイ２００とし
てのフォトダイオード２次元アレイの位置関係を示す一
実施の形態の概略図である。

【図１３】本発明に係る光メモリ板からの情報読み出し
装置の光学系の他の一実施の形態を示した概略図であ
る。

【図１４】図１４（Ａ）は３０度傾斜させた細長形状の
パターンと照射したレーザ光スポットの概略図である。
図１４（Ｂ）はこの３０度傾斜させた細長形状のパター
ンからのホログラフィパターン１００と，中心とその周
囲の円周上に配置をしたフォトダイオード２次元アレイ
からなる光検出素子アレイ２００でホログラフィパター
ン１００を検出する様子を示した概略図である。

【図１５】本発明に係る光メモリ板への情報書き込み装
置のうちの光学的な部分の書き込み方式の一実施の形態
をブロック図で示す概略図である。

【図１６】（Ａ）本発明の光メモリ板に従来の光ディス
クと同様にレーザ光を細長いピットに集光照射したとき
の回折光分布の概略図である。（Ｂ）（Ａ）に示した回
折光を本発明のフォトダイオード２次元アレイで受光す
る様子を示した概略図である。

【図１７】３つの細長形状のパターン３Ａ，３Ｂ，３Ｃ
がその中心を一致させて，重ね合わせた場合，すなわ
ち，重ね配置された場合の例を示す説明図である。

【図１８】３つの細長形状のパターン３Ａ，３Ｂ，３Ｃ
を近接配置し，それらの位置関係を，読み出し用のレー
ザビームスポットが時間的に推移したとき，パターン３
Ａ，３Ｂ，３Ｃが順次読み出されて行くようにした状態
を示す説明図である。

【図１９】光検出素子アレイである時計の文字盤状のフ
ォトダイオードアレイ上を，パターン３Ａ，３Ｂ，３Ｃ
のうち照射された分に対応するホログラフィパタ−ン
（１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ）が順次移動し，検出
される状態を示す説明図である。

【符号の説明】

１基板２トラック３，３ａ，３ｂパターン１０光メモリ板２０プラスチック基板３０透明アクリル樹脂４０反射膜１００，１００ａ，１００ｂホログラフィパターン２００光検出素子アレイ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板（１）に設定したトラック（２）に
沿ってパターン列を形成し，該各パターン（３）にレー
ザ光を照射したとき，該照射されたパターン（３）によ
りスクリーン上にホログラフィパターン（１００）がで
きるようにした光メモリ板（１０）であって，特定の文
字や数字あるいは記号に対応するようにした各パターン
形状を基板（１）のトラック（２）に沿って形成し，そ
れぞれに対応するスクリーン上のホログラフィパターン
（１００）から記録情報が得られるように，基板（１）
の各パターン形状で情報を記録させるようにした光メモ
リ板において，トラック（２）に沿って形成したパター
ン列における各パターン（３）が，一組の独立の２つ以
上のパターン（３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・）の組み合わせ
からなり，該２つ以上のパターンが近接配置または重ね
配置してあり，該一組のパターン（３）に，レーザ光を
照射したとき，該各パターン（３）を構成する各２つ以
上のパターン（３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・）に対応するホ
ログラフィパターン（１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ，
・・）が同時にできるようにしたことを特徴とする光メ
モリ板。
【請求項２】基板（１）に設定したトラック（２）に
沿ってパターン列を形成し，該各パターン（３）にレー
ザ光を照射したとき，該照射されたパターン（３）によ
りスクリーン上にホログラフィパターン（１００）がで
きるようにした光メモリ板（１０）であって，特定の文
字や数字あるいは記号に対応するようにした各パターン
形状を基板（１）のトラック（２）に沿って形成し，そ
れぞれに対応するスクリーン上のホログラフィパターン
（１００）から記録情報が得られるように，基板（１）
の各パターン形状で情報を記録させるようにした光メモ
リ板において，前記トラック（２）に沿って形成したパ
ターン列における各パターン（３）が，細長形状，十字
形状，三角形状，二個以上のドットの組み合わせ形状ま
たは，これらの各パターンを所定の角度だけトラック
（２）に対して回転させた形状であるか，あるいは，円
形状であって，かつ，トラック（２）に沿って形成した
パターン列における各パターン（３）が，一組の独立の
２つ以上のパターン（３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・）の組み
合わせからなり，該２つ以上のパターンが近接配置また
は重ね配置してあり，該一組のパターン（３）に，レー
ザ光を照射したとき，該各パターン（３）を構成する各
２つ以上のパターン（３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・）に対応
するホログラフィパターン（１００Ａ，１００Ｂ，１０
０Ｃ，・・）が同時にできるようにしたことを特徴とす
る光メモリ板。
【請求項３】基板（１）に設定したトラック（２）に
沿ってパターン列を形成し，該各パターン（３）にレー
ザ光を照射したとき，該照射されたパターン（３）によ
りスクリーン上にホログラフィパターン（１００）がで
きるようにした光メモリ板（１０）であって，特定の文
字や数字あるいは記号に対応するようにした各パターン
形状を基板（１）のトラック（２）に沿って形成し，そ
れぞれに対応するスクリーン上のホログラフィパターン
（１００）から記録情報が得られるように，基板（１）
の各パターン形状で情報を記録させるようにした光メモ
リ板において，前記基板（１）の各パターン（３）にレ
ーザ光を照射したとき，該各パターン（３）からの反射
回折光によるホログラフィパターン（１００）ができる
ようにし，かつ，トラック（２）に沿って形成したパタ
ーン列における各パターン（３）が，一組の独立の２つ
以上のパターン（３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・）の組み合わ
せからなり，該２つ以上のパターンが近接配置または重
ね配置してあり，該一組のパターン（３）に，レーザ光
を照射したとき，該各パターン（３）を構成する各２つ
以上のパターン（３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・）に対応する
ホログラフィパターン（１００Ａ，１００Ｂ，１００
Ｃ，・・）が同時にできるようにしたことを特徴とする
光メモリ板。
【請求項４】基板（１）に設定したトラック（２）に
沿ってパターン列を形成し，該各パターン（３）にレー
ザ光を照射したとき，該照射されたパターン（３）によ
りスクリーン上にホログラフィパターン（１００）がで
きるようにした光メモリ板（１０）であって，特定の文
字や数字あるいは記号に対応するようにした各パターン
形状を基板（１）のトラック（２）に沿って形成し，そ
れぞれに対応するスクリーン上のホログラフィパターン
（１００）から記録情報が得られるように，基板（１）
の各パターン形状で情報を記録させるようにした光メモ
リ板において，前記基板（１）の各パターン（３）にレ
ーザ光を照射したとき，該各パターン（３）からの透過
回折光によるホログラフィパターン（１００）ができる
ようにし，かつ，トラック（２）に沿って形成したパタ
ーン列における各パターン（３）が，一組の独立の２つ
以上のパターン（３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・）の組み合わ
せからなり，該２つ以上のパターンが近接配置または重
ね配置してあり，該一組のパターン（３）に，レーザ光
を照射したとき，該各パターン（３）を構成する各２つ
以上のパターン（３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・）に対応する
ホログラフィパターン（１００Ａ，１００Ｂ，１００
Ｃ，・・）が同時にできるようにしたことを特徴とする
光メモリ板。
【請求項５】基板（１）に設定したトラック（２）に
沿ってパターン列を形成し，該各パターン（３）にレー
ザ光を照射したとき，該照射されたパターン（３）によ
りスクリーン上にホログラフィパターン（１００）がで
きるようにした光メモリ板（１０）であって，特定の文
字や数字あるいは記号に対応するようにした各パターン
形状を基板（１）のトラック（２）に沿って形成し，そ
れぞれに対応するスクリーン上のホログラフィパターン
（１００）から記録情報が得られるように，基板（１）
の各パターン形状で情報を記録させるようにした光メモ
リ板において，前記トラック（２）に沿って形成したパ
ターン列における各パターン（３）が，細長形状，十字
形状，三角形状，二個以上のドットの組み合わせ形状ま
たは，これらの各パターンを所定の角度だけトラック
（２）に対して回転させた形状であるか，あるいは，円
形状であって，かつ，基板（１）の各パターン（３）に
レーザ光を照射したとき，該各パターン（３）からの反
射回折光によるホログラフィパターン（１００）ができ
るようにし，かつ，トラック（２）に沿って形成したパ
ターン列における各パターン（３）が，一組の独立の２
つ以上のパターン（３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・）の組み合
わせからなり，該２つ以上のパターンが近接配置または
重ね配置してあり，該一組のパターン（３）に，レーザ
光を照射したとき，該各パターン（３）を構成する各２
つ以上のパターン（３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・）に対応す
るホログラフィパターン（１００Ａ，１００Ｂ，１００
Ｃ，・・）が同時にできるようにしたことを特徴とする
光メモリ板。
【請求項６】基板（１）に設定したトラック（２）に
沿ってパターン列を形成し，該各パターン（３）にレー
ザ光を照射したとき，該照射されたパターン（３）によ
りスクリーン上にホログラフィパターン（１００）がで
きるようにした光メモリ板（１０）であって，特定の文
字や数字あるいは記号に対応するようにした各パターン
形状を基板（１）のトラック（２）に沿って形成し，そ
れぞれに対応するスクリーン上のホログラフィパターン
（１００）から記録情報が得られるように，基板（１）
の各パターン形状で情報を記録させるようにした光メモ
リ板において，前記トラック（２）に沿って形成したパ
ターン列における各パターン（３）が，細長形状，十字
形状，三角形状，二個以上のドットの組み合わせ形状ま
たは，これらの各パターンを所定の角度だけトラック
（２）に対して回転させた形状であるか，あるいは，円
形状であって，かつ，基板（１）の各パターン（３）に
レーザ光を照射したとき，該各パターン（３）からの透
過回折光によるホログラフィパターン（１００）ができ
るようにし，かつ，トラック（２）に沿って形成したパ
ターン列における各パターン（３）が，一組の独立の２
つ以上のパターン（３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・）の組み合
わせからなり，該２つ以上のパターンが近接配置または
重ね配置してあり，該一組のパターン（３）に，レーザ
光を照射したとき，該各パターン（３）を構成する各２
つ以上のパターン（３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，・・）に対応す
るホログラフィパターン（１００Ａ，１００Ｂ，１００
Ｃ，・・）が同時にできるようにしたことを特徴とする
光メモリ板。
【請求項７】請求項１〜６のいずれか一つに記載の近
接配置した２つ以上のパターンからなる一組のパターン
（３）において，読み出し時にそれぞれのパターンの組
み合わせ順序が区別できるように配置したことを特徴と
する光メモリ板。