JPH10181233A - 平版印刷版用支持体の製造方法 - Google Patents
平版印刷版用支持体の製造方法Info
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Abstract
刷版を与えるアルミニウム支持体を低生産コストで製造
できる平版印刷版用支持体の製造方法を提供する。 【解決手段】 中心線平均表面粗さが0.15〜0.3
5μm、最大表面粗さが1〜3.5μmのアルミニウム
基材を粗面化した後、陽極酸化を施す。上記アルミニウ
ム基材の特性は、予備研磨によって施すことができる。
Description
の製造方法に関する、特に、アルミニウムまたはアルミ
ニウム合金を用いた平板印刷版用支持体の製造方法に関
するものである。
印刷版用支持体としては、アルミニウムまたはアルミニ
ウム合金が用いられている。一般に、アルミニウム板を
平版印刷版用基板として使用するためには、感光剤との
適度な密着性と保水性を有し、更に均一に粗面化されて
いることが必要である。均一に粗面化されているという
ことは、生成されたピットの大きさが適度に揃ってお
り、かつその様なピットが全面均一に生成していること
が必要である。また、このピットは、版材の印刷性能で
ある汚れ難さ、耐刷性等に著しい影響を及ぼし、その良
否は版材製造上重要な要素になっている。特開平6−9
2052号公報においては、機械的粗面化に引き続い
て、0.5〜30g/m2 の範囲でエッチングし、20
0〜600c/dm2 のパルス通電で行う工程で構成さ
れている発明が提案されている。また、特開平7−97
76号公報では、機械的粗面化後、エッチング処理を1
〜5g/m2 行い、交流電気量を300〜800c/d
m2 として電気化学的粗面化を行うことを提案してい
る。あるいは、特開平6−24166号公報では、機械
的粗面化に引き続いて、0.5〜30g/m2 の範囲で
エッチングし、200〜600c/dm2 の交流電解を
行う工程で構成されている発明が提案されている。ま
た、基板の粗面化方法としては、機械的粗面化、化学的
エッチング、電気化学的粗面化等あり、特開平6−24
166号公報でも、機械的粗面化、化学的エッチング、
電気化学的粗面化の諸条件を変化させた発明が公開され
ている。即ち、機械的に粗面化した後に、0.5〜30
g/m2 の化学エッチングし、適当な電流密度、電気量
を付与して電気化学的に粗面化を施し、その後0.1〜
10g/m2 の範囲でエッチングして角を滑らかに仕上
げ、陽極酸化を施すことを提案している。また、特公平
3−42196号公報では、基材を最大0.1μmの中
心線平均粗さに予備研磨することにより得られる粗面化
の形状を規定している。上記発明は、優れた発明である
が、最近の客先のニーズからより品質の高い印刷版が求
められており、そのニーズに合った平版印刷版用基板の
開発が求められている。また、生産コストを最大限に減
少させることが必要である。
平6−24166号公報では、予備研磨を行わないた
め、圧延後の粗さが粗く、突起状の筋がある元アルミニ
ウムに機械的粗面化、化学的エッチング、電気化学的粗
面化を施した場合、突起状の筋の部分や、粗さの粗い部
分で塗布後に凸部の感光層が薄くなり、その部分の耐刷
力の低下、外観不良等の不具合が発生していた。また、
特公平3−42196号公報では、基材を最大0.1μ
mの中心線平均粗さに予備研磨することが開示されてい
るが、これを実施する為には多大な労力とコストがかか
り、生産コストが非常に大きくなることがあった。
は、上記問題を解消し、均一な品質を得るとともに、生
産コストを最小限にするような、平版印刷版用支持体の
製造方法を提供することにある。
記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、以下に述べ
る本発明によって上記目的を達成できることを見出し、
本発明を完成した。即ち、本発明は;中心線平均表面粗
さを0.15〜0.35μm並びに最大表面粗さを1〜
3.5μmのアルミニウム基材を、機械的粗面化、化学
エッチング、電気科学的粗面化の少なくとも1つによっ
て粗面化を行った後、陽極酸化を施すことを特徴とする
平版印刷版用支持体の製造方法。上記アルミニウム基材
の中心線平均表面粗さ及び最大表面粗さは、予備研磨に
よって付与され、該予備研磨は、直流電解研磨または、
不織布に平均粒径1〜25μmの研磨材を含有させたロ
ーラによって行う事が好ましい。
ニウム板には、純アルミニウム、アルミニウム合金が含
まれる。アルミニウム合金としては、種々な物が使用出
来、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、鉛、ニッケル、ビスマス等の合金とアルミニ
ウムの合金が用いられる。アルミニウム合金は、種々あ
るが、オフセット印刷用版材として例えば、特公昭58
−6635号公報では、FeとSi成分を限定し、金属
間化合物を特定している。また、特公昭55−2887
4号公報では、冷間圧延率、中間鈍純を行い、電解粗面
化の電圧印加方法を限定している。特公昭62−413
04、特公平1−46577、特公平1−46578、
特公平1−47545、特公平1−35910、特公昭
63−60823、特公昭63−60824、特公平4
−13417、特公平4−19290、特公平4−19
291、特公平4−19293、特公昭62−5054
0、特開昭61−272357、特開昭62−7406
0、特開昭61−201747、特開昭63−1432
34、特開昭63−143235、特開昭63−255
338、特開平1−283350各号公報、EP272
528、米国特許4902353、同4818300、
EP394816、米国特許5019188、西ドイツ
特許3232810、米国特許435230、EP23
9995、米国特許4822715、西ドイツ特許35
07402、米国特許4715903、西ドイツ特許3
507402、EP289844、米国特許50097
22、同4945004、西ドイツ特許371405
9、米国特許4686083、同4861396、EP
158941各号明細書等に示されているアルミニウム
合金のみならず、一般的なものもすべて含まれる。板材
の製造方法としては、熱間圧延を使用した方法とともに
連続鋳造で行なう方法も最近出願されている。例えば東
ドイツ特許252799号明細書では、双ロール方式で
行なわれた板材が紹介されている。EP223737,
米国特許4802935,同4800950号各明細書
では、微量合金成分を限定した形で出願されている。E
P415238号明細書では、連鋳、連鋳+熱延を提案
している。本発明では、このようなアルミニウム板に各
種表面処理、転写等を行い、均一な凹凸を有する印刷原
板を得ることが出来、その上に、ジアゾ化合物等の感光
層を設けることにより、優れた感光性平版印刷版を得る
ことが出来る。何れにおいても、適切な材料を選ぶこと
が必要である。
もよい。脱脂処理を行う場合は、トリクレン等の溶剤、
界面活性材が用いられか、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等のアルカリエッチング剤を用いる方法が広く用
いられている。特開平2−026793号公報では、脱
脂処理について記載がされている。例えば、溶剤脱脂方
法としては、ガソリン、ケロシン、ベンジン、ソルベン
トナフサ、ノルマルヘキサン等の石油系溶剤を用いる方
法、トルクロルエチレン、メチレンクロライド、パーク
ロルエチレン、1,1,1−トリクロルエタン等の塩素
系溶剤を用いる方法がある。アルカリ脱脂方法として
は、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリ
ウム、硫酸ナトリウム等のソーダ塩の水溶液を用いる方
法、オルトケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、
二号ケイ酸ナトリウム、三号ケイ三ナトリウム等のケイ
酸塩の水溶液を用いる方法、第一燐酸ナトリウム、第三
燐酸ナトリウム、第二燐酸ナトリウム、トリポリリン酸
ナトリウム、ピロリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸
ナトリウム等の燐酸塩水溶液を用いる方法等がある。ア
ルカリ脱脂方法を用いる場合、処理時間、処理温度によ
って、アルミニウム表面が溶解する可能性があり得るの
で、脱脂処理については、溶解現象が伴わないようにす
る必要がある。界面活性剤による脱脂処理としては、ア
ニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、非イオン性界
面活性剤、及び両性活性剤の水溶液が用いられ、各種の
市販品等を用いることが出来る。脱脂方法としては、浸
漬法、吹き付け法、液を布等に含ませて擦る方法等用い
ることが出来る。また、浸漬や吹き付け法には、超音波
を用いてもよい。
溶液中で直流電解によっておこなう。この場合、硫酸濃
度としては、15%〜80%、温度としては、40〜8
0℃、電源としては、直流を用い、電流密度は、5A/
dm2 〜50A/dm2 、電気量としては、100〜3
000c/dm2 が適当である。また。機械的に行う場
合には、ポリアミド、ポリエステル、レーヨン等で構成
された不織布に、平均粒径1〜25μmの研磨材を含有
させて作ったローラによって予備研磨することが好まし
い。予備研磨する条件としては、表面の粗さをある程度
維持することが可能な条件を選択することが必要であ
る。ローラ径は200〜1000mmで、均一な面質を
維持するため、原板の圧延方向と垂直方向に、連続処理
の場合は、ライン方向と垂直に、5〜2000回/分の
振動を与えることが好ましい。いずれにしても。予備研
磨により中心線表面粗さを0.15〜0.35μm並び
に最大表面粗さを1〜3.5μmにすることが重要であ
る。即ち、上記直流電解及び/又はローラによる予備研
磨に限らず中心線平均表面粗さ、最大表面粗さを所望の
粗さにすることが重要である。機械的粗面化には、ま
た、転写、ブラシ、液体ホーニング等種々の方法があ
り、生産性等を考慮して選択することが重要である。
法としては、種々の方法を使用することが出来る。即
ち、前述の特開昭55−74898号,特開昭60−3
6195号,特開昭60−203496号各公報の他、
転写を数回行うことを特徴とした特開平6−55871
号公報,表面が弾性であることを特徴とした特開平6−
24168号公報に開示の方法も適用可能である。ま
た、放電加工・ショットブラスト・レーザー・プラズマ
エッチングなどを用いて、微細な凹凸を食刻したローラ
を用いて繰り返し転写をおこなうことや、微細粒子を塗
布した凹凸のある面を、アルミニウム板に接面させ、そ
の上より複数回繰返し圧力を加え、アルミニウム板に微
細粒子の平均直径に相当する凹凸パターンを複数回繰り
返し転写させても良い。転写ローラへ微細な凹凸を付与
する方法としては、特開平3−08635号、特開平3
−066404号、特開昭63−065017号各公報
などが公知となっている。また、ローラ表面にダイス、
バイトまたはレーザーなどを使って2方向から微細な溝
を切り、表面に角形の凹凸をつけてもよい。このローラ
表面は、公知のエッチング処理などをおこなって、形成
した角形の凹凸が丸みを帯びるような処理をおこなって
もよい。表面の硬度を上げるために焼き入れ、ハードク
ロムメッキなどを行なってもよいことは勿論である。
ロンブラシによる粗面化の他、ワイヤーブラシによる粗
面化等も含まれる。また高圧水による粗面化としては特
開昭59−21469号公報,特開昭60−19595
号公報,特開昭60−18390号公報等に示されてい
る。
必要に応じて、アルミニウム板の平滑化、均斉化等を目
的として、アルミニウム表面を酸、アルカリで化学処理
する。特に、電気化学的粗面化を行なう場合には転写後
そのまま引き続いて行なう場合、粗面化が不均一にな
る。この様な化学処理に使用される酸、アルカリの具体
例としては、燐酸、硫酸、塩酸、硝酸、水酸化ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、硫酸ナトリウ
ム等のソーダ塩の水溶液を用いる方法、オルトケイ酸ナ
トリウム、メタケイ酸ナトリウム、二号ケイ酸ナトリウ
ム、三号ケイ酸ナトリウム等のケイ酸塩の水溶液を用い
る方法、第一燐酸ナトリウム、第三燐酸ナトリウム、第
二燐酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリ
ン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム等の燐酸
塩水溶液を用いる方法等がある。処理条件としては、濃
度0.01%〜50重量%、温度20℃〜90℃、時間
5秒〜5分間から適時選択される。エッチング量として
は、アルミニウムの材質や、求める品質により適時選択
される。特開昭54−65607、特開昭55−125
299各号公報では、電気化学的粗面化の前処理を提案
している。特開昭63−235500、特開昭63−3
07990、特開平1−127388、特開平1−16
0690、特開平1−136789、特開平1−136
788、特開平1−178497、特開平1−3086
89、特開平3−126871、特開平3−12690
0、特開平3−173800各号公報等に各種前処理が
含まれているが、本発明は、これらに限っているわけで
はない。しかしながら、この様に、酸、アルカリの水溶
液によりアルミニウム表面を化学処理すると、その表面
に不溶解残渣部すなわちスマットが生成する。このスマ
ットは、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸または、これらの
混合物により除去することが出来る。本発明に於いて、
電気化学的粗面化処理されるアルミニウム表面は、スマ
ットの無い清浄な面であることが望ましい。しかし、電
解液が酸であり、デスマット作用を持つ場合等これを省
くことができる。
に、電気化学的粗面化が行なわれ、電解粗面化の間に電
解液と同じ成分でスマット除去を行う。電気化学的粗面
化については、特公昭48−28123号公報、英国特
許896563号明細書に記載されている。上記電解グ
レイニングは、従来正弦波形の交流電流を用いるもので
あるが、特開昭52−58602号公報に記載されてい
るような特殊な波形を用いて行ってもよい。また、特開
昭55−158298、特開昭56−28898、特開
昭52−58602、特開昭52−152302、特開
昭54−85802、特開昭60−190392、特開
昭58−120531、特開昭63−176187各号
公報、特開平1−5889、特開平1−280590、
特開平1−118489、特開平1−148592、特
開平1−178496、特開平1−188315、特開
平1−154797、特開平2−235794、特開平
3−260100、特開平3−253600、特開平4
−72079、特開平4−72098、特開平3−26
7400、特開平1−141094各号公報に記載の方
法も適用できる。周波数としては、前述の他に、電解コ
ンデンサーにて提案されているものも使用できる。例え
ば、米国特許4276129,同4676879号明細
書等である。
米国特許4671859,同466576,同4661
219,同4618405,同462628,同460
0482,同4566960,同4566958,同4
566959,同4416972,同4374710,
同4336113,同4184932各号明細書等の電
解液も使用できる。電解槽、電源としては、色々提案さ
れているが、米国特許4203637号明細書、特開昭
56−123400、特開昭57−59770、特開昭
53−12738、特開昭53−32821、特開昭5
3−32822、特開昭53−32823、特開昭55
−122896、特開昭55−132884、特開昭6
2−127500各号公報、特開平1−52100号公
報、特開平1−52098号公報、特開昭60−677
00号公報、特開平1−230800号公報、特開平3
−257199号公報等がある。また、上述した特許以
外にも、色々提案されている。例えば、特開昭52−5
8602、特開昭52−152302、特開昭53−1
2738、特開昭53−12739、特開昭53−32
821、特開昭53−32822、特開昭53−328
33、特開昭53−32824、特開昭53−3282
5、特開昭54−85802、特開昭55−12289
6、特開昭55−132884、特公昭48−2812
3、特公昭51−7081、特開昭52−13383
8、特開昭52−133840、特開昭52−1338
44、特開昭52−133845、特開昭53−149
135、特開昭54−146234各号公報に記載のも
の等ももちろん適用できる。
同じ成分に液で行う。電解液と異なる成分の液でスマッ
ト除去を行うと、スマット除去工程後に水洗工程が必要
となり、コストアップの要因となるばかりか、電解グレ
イン性にも影響を及ぼす。また、同じ成分であれば、温
度や濃度が変化した系で行っても、電解粗面化工程で温
度・濃度管理や制御が可能である。スマット除去方法と
しては、化学的に溶解させる方法等があるが、スプレー
等で液を高速にウエブに衝突させ、強制的にスマット除
去させてもよい。いずれにしても、生産性、設備コス
ト、電解粗面化のセル形状等総合的に考慮して選択すれ
ばよい。いずれの方式についてもスマット量を5%〜7
0%除去することが大切である。電解粗面化で発生する
スマット量としては、電解条件で、0.2g/m2 〜5
g/m2 程度変化するので、目的とする品質性能で除去
すべくスマット量をこの範囲で変化させればよい。
応じて、アルカリまたは、酸にて処理を行なう。特開昭
56−51388号公報のようにアルカリ処理し、特開
昭53−12739号公報のように硫酸によってデスマ
ット処理を行なう。また、特開昭53−115302号
公報のように燐酸処理したり、特開昭60−8091、
特開昭63−176188、特開平1−38291、特
開平1−127389、特開平1−188699、特開
平3−177600、特開平3−126891、特開平
3−191100各号公報等も用いることが出来る。
面に、陽極酸化皮膜を形成させるのが好ましい。電解液
としては、硫酸、燐酸、クロム酸、しゅう酸、スルファ
ミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいは、これら2種類
以上組み合わせた水溶液または非水溶液中で、アルミニ
ウムを陽極として電流を流すと、アルミニウム表面に、
陽極酸化皮膜を形成させることが出来る。陽極酸化の処
理条件は、使用される電解液によって種々変化するの
で、一概にいえないが一般的には、電解液の濃度が、1
〜80重量%、液温5〜70℃、電流密度0.5〜60
A/cm2 、電圧1〜100V、電解時間15秒〜50
分が適当である。電解装置としては、特開昭48−26
638、特開昭47−18739、特公昭58−245
17各号公報等に紹介されている。また、特開昭54−
81133、特開昭57−47894、特開昭57−5
1289、特開昭57−51290、特開昭57−54
300、特開昭57−136596、特開昭58−10
7498、特開昭60−200256、特開昭62−1
36596、特開昭63−176494、特開平4−1
76897、特開平4−280997、特開平6−20
7299、特開平5−32083、特開平5−1255
97、特開平5−195291各号公報に記載されてい
る方法ももちろん使用できる。処理液としては、特開平
3−253596、特開昭62−82089、特開平1
−133794、特開昭54−32424、特開平5−
42783各号公報等の液ももちろん使用できる。
各支持体と感光組成物との密着を最適なものとするため
に、陽極酸化皮膜をエッチングした後、水蒸気並びに、
熱水で封孔処理をして、経時安定性の良い、現像性の良
好な、非画像部の汚れのない感光性印刷版を与える支持
体の封孔処理装置があり、(特公昭56−12518号
公報)この様な装置で皮膜生成後処理を行なっても良
い。また、特開平4−4194号、特開平5−2024
96、特開平5−179482各号公報等の装置、方法
で封孔処理を行なっても良い。
に記載されている弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米
国特許第3201247号明細書に記載されているホス
ホモリブデート処理英国特許第1108559号に記載
されているアルキルチタネート処理、独国特許第109
1433号明細書に記載されているポリアクリル酸処
理、独国特許第1134093号明細書や英国特許第1
230447号明細書に記載されているポリビニルホス
ホン酸処理、特公昭44−6409号公報に記載されて
いるホスホン酸処理、米国特許第3307951号明細
書に記載されているフィチン酸処理、特開昭58−16
893号や特開昭58−18291号の各公報に記載さ
れている親油性有機高分子化合物と2価の金属との塩に
よる処理や、米国特許第3860426号明細書に記載
されているように、水溶性金属塩(例えば酢酸亜鉛な
ど)を含む親水性セルロース(例えばカルボキシメチル
セルロースなど)の下塗り層を設けたり、特開昭59−
101651号公報に記載されているスルホン酸基を有
する水溶性重合体の下塗りによって親水化処理を行った
ものや、特開昭62−019494号公報に記載されて
いるリン酸塩、特開昭62−033692号公報に記載
されている水溶性エポキシ化合物、特開昭62−097
892号公報に記載のリン酸変性デンプン、特開昭63
−056498号公報に記載のジアミン化合物、特開昭
63−130391号公報記載のアミノ酸の無機または
有機酸、特開昭63−145092号公報に記載のカル
ボキシル基または水酸基を含む有機ホスホン酸、特開昭
63−165183号公報に記載のアミノ基とホスホン
酸基を有する化合物、特開平2−316290号公報に
記載の特定のカルボン酸誘導体、特開平1−27259
4号公報に記載のリン酸エステル、特開平3−2615
92号公報に記載の1個のアミノ基とリンの酸素酸基1
個を持つ化合物、特開平3−215095号公報に記載
のリン酸エステル、特開平5−246171号公報に記
載のフェニルホスホン酸などの脂肪族または芳香族ホス
ホン酸、特開平1−307745号公報に記載のチオサ
リチル酸のようなS原子を含む化合物、特開平4−28
2637号公報に記載のリンの酸素酸のグループを持つ
化合物などの下塗りや、特開昭60−64352号公報
に記載されている酸性染料による着色を行なう事もでき
る。また、中心線平均表面粗さ(Ra)はJIS−B0
601−1970に示され、また最大表面粗さ(Rma
x)は、断面曲線から基準長さだけ抜き取った部分の平
均線に平行な2直線で二期取り部分を挟んだとき、この
2直線の間隔を断面曲線の縦倍率方向に測定して、この
値をμm(マイクロメータ)で表したものである。
層を設けて感光性平板印刷板とすることができる。 〔I〕o−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルお
よびフェノール・クレゾール混合のノボラック樹脂を含
有する感光層を設ける場合。o−キノンジアジド化合物
はo−ナフトキノンジアジド化合物であり、例えば、米
国特許第2,766,118号、同第2,767,09
2号、同第2,772,972号、同第2,859,1
12号、同第3,102,809号、同第3,106,
465号、同第3,635,709号、同第3,64
7,443号の各明細書をはじめ、多数の刊行物に記さ
れており、これらは、好適に使用することができる。こ
れらの内でも、特に芳香族ヒドロキシ化合物のo−ナフ
トキノンジアジドスルホン酸エステルまたはo−ナフト
キノンジアジドカルボン酸エステル、及び芳香族アミノ
化合物のo−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドま
たはo−ナフトキノンジアジドカルボン酸アミドが好ま
しく、特に米国特許第3,635、709号明細書に記
されているピロガロールとアセトンとの縮合物にo−ナ
フトキノンジアジドスルホン酸をエステル反応させたも
の、米国特許第4,028,111号明細書に記されて
いる末端にヒドロキシ基を有するポリエステルにo−ナ
フトキノンジアジドスルホン酸、またはo−ナフトキノ
ンジアジドカルボン酸をエステル反応させたもの、英国
特許第1,494,043号明細書に記されているよう
なp−ヒドロキシスチレンのホモポリマーまたはこれと
他の共重合し得るモノマーとの共重合体にo−ナフトキ
ノンジアジドスルホン酸、またはo−ナフトキノンジア
ジドカルボン酸をエステル反応させたもの、米国特許第
3,759,711号明細書に記されているようなp−
アミノスチレンと他の共重合し得るモノマーとの共重合
体にo−ナフトキノンジアジドスルホン酸、またはo−
ナフトキノンジアジドカルボン酸をアミド反応させたも
のは非常に優れている。
独で使用することができるが、アルカリ可溶性樹脂と混
合して用いた方が好ましい。好適なアルカリ可溶性樹脂
には、ノボラック型フェノール樹脂が含まれ、具体的に
は、フェノールホルムアルデヒド樹脂、o−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂などが含まれる。さらに米国特許第4,028,
111号明細書に記されているように上記のようなフェ
ノール樹脂と共に、t−ブチルフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂のような炭素数3〜8のアルキル基で置換され
たフェノールまたはクレゾールとホルムアルデヒドとの
縮合物を併用すると、より一層好ましい。また、露光に
より可視像を形成するためにo−ナフトキノンジアジド
−4−スルホニルクロライド、p−ジアゾジフェニルア
ミンの無機アニオン塩、トリハロメチルオキサジアゾー
ル化合物、ベンゾフラン環を有するトリハロメチルオキ
サジアゾール化合物等の化合物などが添加される。一方
画像の着色剤としては、ビクトリアブル−BOH、クリ
スタルバイオレット、オイルブルー、等のトリフェニル
メタン染料が用いられる。また、特開昭62−2932
47号公報に記載されている染料は特に好ましい。さら
に、感脂化剤として特公昭57−23253号公報に記
載されているような炭素数3〜15のアルキル基で置換
されたフェノール、例えばt−ブチルフェノール、N−
オクチルフェノール、t−ブチルフェノールとホルムア
ルデヒドとを縮合させたノボラック樹脂、または、この
ようなノボラック樹脂のo−ナフトキノンジアジド−4
−または−5−スルホン酸エステル(例えば、特開昭6
1−242446号公報に記載されている)を含有させ
ることができる。また、現像性を良化させるためにさら
に特開昭62−251740号公報に記載されているよ
うな非イオン界面活性剤を含有させることができる。以
上の組成物は、上記各成分を溶解する溶媒に溶かして支
持体上に塗布する。ここで使用する溶媒としては、エチ
レンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケ
トン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチル
アセテート、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メ
トキシ−2−プロピルアセテート、乳酸メチル、乳酸エ
チル、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、
ジメチルホルムアミド、水、N−メチルピロリドン、テ
トラヒドロフルフリルアルコール、アセトン、ジアセト
ンアルコール、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどがあ
り、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用する。こ
れらの成分からなる感光性組成物が、固形分として0.
5〜3.0g/m2設けられる。
光分子化合物を含有する感光層を設け る場合。
ジアゾ樹脂としては、例えばp−ジアゾジフェニルアミ
ンとホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドの縮合物
と、ヘキサフルオロリン酸塩、テトラフルオロホウ酸塩
との有機溶媒可溶の反応生成物であるジアゾ樹脂無機
塩、また米国特許第3,300,309号明細書に記載
されているような、前記縮合物とスルホン酸類例えばP
−トルエンスルホン酸またはその塩、ホスフィン酸類例
えばベンゼンホスフィン酸またはその塩、ヒドロキシル
基含有化合物例えば、2,4−ジヒドロキシベンゾフェ
ノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−
5−スルホン酸またはその塩等の反応生成物である有機
溶媒可溶性ジアゾ樹脂有機酸塩等が挙げられる。本発明
において、好適に用いることができる他のジアゾ樹脂
は、カルボキシル基、スルホン酸基、スルフィン酸基、
リンの酸素酸基およびヒドロキシル基のうち少なくとも
一つの有機基を有する芳香族化合物と、ジアゾニウム化
合物、好ましくは芳香族ジアゾニウム化合物とを構造単
位として含む共縮合体である。そして上記の芳香族環と
しては、好ましくはフェニル基、ナフチル基をあげるこ
とができる。前述のカルボキシル基、スルホン酸基、ス
ルフィン酸基、リンの酸素酸基、及びヒドロキシル基の
うち少なくとも一つを含有する芳香族化合物としては種
々のものが挙げられるが、好ましいのは、4−メトキシ
安息香酸、3−クロロ安息香酸、2,4−ジメトキシ安
息香酸、p−フェノキシ安息香酸、4−アニリノ安息香
酸、フェノキシ酢酸、フェニル酢酸、p−ヒドロキシ安
息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、ベンゼンスル
ホン酸、p−トルエンスルフィン酸、1−ナフタレンス
ルホン酸、フェニルリン酸、フェニルホスホン酸であ
る。前述の共縮合ジアゾ樹脂の構成単位をなす芳香族ジ
アゾニウム化合物には、例えば特公昭49−48001
号公報に挙げられているようなジアゾニウム塩を用いる
ことができるが、特に、ジフェニルアミン−4−ジアゾ
ニウム塩類が好ましい。ジフェニルアミン−4−ジアゾ
ニウム塩類は、4−アミノ−ジフェニルアミン類から誘
導されるが、このような4−アミン−ジフェニルアミン
類としては、4−アミノジフェニルアミン、4−アミノ
−3−メトキシジフェニルアミン、4−アミノ−2−メ
トキシジフェニルアミン、4’−アミノ−2−メトキシ
ジフェニルアミン、4’−アミノ−4−メトキシジフェ
ニルアミン、4−アミノ−3−メチルジフェニルアミ
ン、4−アミノ−3−エトキシジフェニルアミン、4−
アミノ−3−β−ヒドロキシエトキシジフェニルアミ
ン、4−アミノ−ジフェニルアミン−2−スルホン酸、
4−アミノ−ジフ−ニルアミン−2−カルボン酸、4−
アミノ−ジフェニルアミン−2’−カルボン酸等が挙げ
られ、特に好ましくは、3−メトキシ−4−アミノ−4
−ジフェニルアミン、4−アミノジフェニルアミンであ
る。また、酸基を有する芳香族化合物との共縮合ジアゾ
樹脂以外のジアゾ樹脂として、特開平4−18559、
特開平3−163551、及び特開平3−253857
各号公報に記載された酸基を含有するアルデヒドまたは
そのアセタール化合物で縮合したジアゾ樹脂も好ましく
用いることができる。ジアゾ樹脂の対アニオンとして
は、ジアゾ樹脂と安定に塩を形成し、かつ該樹脂を有機
溶媒に可溶となすアニオンを含む。これらは、デカン酸
及び安息香酸等の有機カルボン酸、フェニルリン酸等の
有機リン酸及びスルホン酸を含み、典型的な例として
は、メタンスルホン酸、トルフルオロメタンスルホン酸
などのフルオロアルカンスルホン酸、ラウリルスルホン
酸、ジオクチルスルホコハク酸、ジシクロヘキシルスル
ホコハク酸、カンファースルホン酸、トリルオキシ−3
−プロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−3−プロパ
ンスルホン酸、ノニルフェノキシ−4−ブタンスルホン
酸、ジブチルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジ
アミルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジノニル
フェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジブチルフェノ
キシ−4−ブタンスルホン酸、ジノニルフェノキシ−4
−ブタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンス
ルホン酸、メシチレンスルホン酸、p−クロロベンゼン
スルホン酸、2,5−ジクロロベンゼンスルホン酸、ス
ルホサルチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン
酸、p−アセチルベンゼンスルホン酸、5−ニトロ−o
−トルエンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン
酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼ
ンスルホン酸、2−クロロ−5−ニトロベンゼンスルホ
ン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼンス
ルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸、ブトキシベンゼンスルホン酸、ドデシル
オキシベンゼンスルホン酸、2−ヒドロキシ−4−メト
キシベンゾフェノン−5−スルホン酸、イソプロピルナ
フヘタレンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、
ヘキシルナフタレンスルホン酸、オクチルナフタレンス
ルホン酸、ブトキシナフタレンスルホン酸、ドデシルオ
キシナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホ
ン酸、ジオクチルナフタレンスルホン酸、トリイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸、トリブチルナフタレンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、ナフタリン
−1−スルホン酸、ナフタリン−2−スルホン酸、1,
8−ジニトロ−ナフタレン−3,6−ジスルホン酸、ジ
メチル−5−スルホイソフタレート等の脂肪族並びに芳
香族スルホン酸、2,2’,4,4’−テトラヒドキシ
ベンゾフェノン、1,2,3−トリヒドロシキシベンゾ
フェノン、2,2’4−トリヒドロキシベンゾフェノン
等の水酸基含有芳香族化合物、ヘキサフルオロリン酸、
テトラフルオロホウ酸等のハロゲン化ルイス酸、HCl
O4 ,HIO4 等の過ハロゲン酸等が挙げられるが、こ
れに限られるものではない。これらの中で、特に好まし
いものは、ブチルナフタレンスルホン酸、ジブチルナフ
タレンスルホン酸、ヘキサフルオロリン酸、2−ヒドロ
キシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、
ドデシルベンゼンスルホン酸である。
のモル比及び縮合条件を種々変えることにより、その分
子量は任意の値として得ることができるが、本発明の目
的とする使途に有効に供するためには分子量が約400
〜100,000のもの、好ましくは、約800〜8,
000のものが適当である。水不溶性かつ親油性高分子
化合物としては、下記(1)〜(15)に示すモノマー
をその構造単位とする通常1〜20万の分子量をもつ共
重合体が挙げられる。(1)芳香族水酸基を有するアク
リルアミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステ
ル類、メタクリル酸エステル類及びヒドロキシスチレン
類、例えばN−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルア
ミドまたはN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリル
アミド、o−,m−,p−ヒドロキシスチレン、o−,
m−,p−ヒドロキシフェニル−アクリレートまたはメ
タクリレート、(2)脂肪族水酸基を有するアクリル酸
エステル類、及びメタクリル酸エステル類、例えば2−
ヒドロキシエチルアクリレートまたは2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレ
ート(3)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン
酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸、(4)アクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、ア
クリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシ
ル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸オクチル、
アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、
グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノエチルア
クリレート等の(置換)アルキルアクリレート、
クリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリ
レート、アミルメタクリレート、シクロヘキシルメタク
リレート、ベンジルメタクリレート、グリシジルメタク
リレート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等
の(置換)アルキルメタクリレート、(6)アクリルア
ミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミ
ド、N−メチロールメタクリルアミド、N−エチルアク
リルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シク
ロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアク
リルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロ
フェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルア
クリルアミド等のアクリルアミドもしくはメタクリルア
ミド類、(7)エチルビニルエーテル、2−クロロエチ
ルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、
プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オク
チルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニ
ルエーテル類、(8)ビニルアセテート、ビニルクロロ
アセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビ
ニルエステル類、(9)スチレン、α−メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類、(10)メ
チルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニ
ルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類、
レン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類、(1
2)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、
4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニ
トリル等 (13)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセケチルメタクルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド、(14)N(o−アミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−
(p−アミノ)スルホニルフェニルメタクリルアミド、
N−(1−(3−アミノスルホニル)ナフチル)メタク
リルアミド、N−(2−アミノスルホニルエチル)メタ
クリルアミド等のメタクリル酸アミド類、及び上記と同
様の置換基を有するアクリルアミド類、また、o−アミ
ノスルホニルフェニルフメタクリレート、m−アミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、p−アミノスルホニ
ルフェニルメタクリレート、1−(3−アミノスルホニ
ルナフチル)メタクリレート等のメタクリル酸エステル
類、及び上記と同様の置換基を有するアクリル酸エステ
ル類などの不飽和スルホンアミド (15)N−(2−(メタクリロイルオキシ)−エチ
ル)−2,3−ジメチルマレイミド、ビニルシンナメー
ト、などの、側鎖に、架橋性基を有する不飽和モノマ
ー。更に、上記モノマーと共重合し得るモノマーを共重
合させてもよい。(16)米国特許第3,751,25
7号明細書に記載されているフェノール樹脂および例え
ばポリビニルフォルマール樹脂、ポリビニルブチラール
樹脂のようなポリビニルアセタール樹脂。(17)ポリ
ウレタンをアルカリ可溶化した特公昭54−19773
号、特開昭57−904747号、同60−18243
7号、同62−58242号、同62−123452
号、同62−123453号、同63−113450
号、特開平2−146042号に記載された高分子化合
物。また上記共重合体には必要に応じて、ポリビニルブ
チラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、エ
ポキシ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等を添加しても
よい。
は、露光による可視画像と現像後の可視画像を得ること
を目的としてさらに色素を用いることができる。該色素
としては、例えば、ビクトリアピュアブル−BOH〔保
土ヶ谷化学社製〕、オイルブルー#603〔オリエント
化学工業社製〕,パテントピュアブルー〔住友三国化学
社製〕、クリスタルバイオレット、ブリリアントグリー
ン、エチルバイオレット、メチルバイオレット、メチル
グリーン、エリスロシンB、ベイシックフクシン、マラ
カイトグリーン、オイルレッド、m−クレゾールパープ
ル、ローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミ
ノフェニルイミナフトキノン、シアノ−p−ジエチルア
ミノフェニルアセトアニリド等に代表されるトリフェニ
ルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キサ
ンテン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系または
アントラキノン系の色素が有色から無色あるいは異なる
有色の色調へ変化する変色剤の例として挙げられる。一
方、無色から有色に変化する変色剤としては、ロイコ色
素及び、例えばトリフェニルアミン、ジフェニルアミ
ン、o−クロロアニリン、1,2,3−トリフェニルグ
アニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフェニルメタ
ン、p,p’−ビス−ジメチルアミノジフェニルアミ
ン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p’,p”−ト
リス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、p,p’−
ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミン、p,
p’,p”−トリアミノ−o−メチルトリフェニルメタ
ン、p,p’−ビス−ジメチルアミノジフェニル−4−
アニリノナフチルメタン、p,p’,p”−トリアミノ
トリフェニルメタンに代表される第1級または第2球ア
リールアミン系色素が挙げられる。特に好ましくは、ト
リフェニルメタン系、ジフェニルメタン系色素が有効に
用いられ、さらに好ましくはトリフェニルメタン系色素
であり、特にビクトリアピュアブルーBOHである。
には、更に種々の添加物を加えることができる。例え
ば、塗布性を改良するためのアルキルエーテル類(例え
ばエチルセルロース、メチルセルロース)、フッ素系界
面活性剤類や、ノニオン系界面活性剤(特にフッ素系界
面活性剤が好ましい)、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与
するための可塑剤(例えばブチルフタリル、ポリエチレ
ングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチ
ル、フタン酸ジブチル、フタン酸ジヘキシル、フタル酸
ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、
リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリ
ル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマー及びポ
リマー、この中で特にリン酸トリクレジルが好まし
い)、画像部の感脂性を向上させるための感脂化剤(例
えば特開昭55−527号公報記載のスチレン−無水マ
レイン酸共重合体のアルコールによるハーフエステル化
物、p−t−ブチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂
などのノボラック樹脂、p−ヒドロキシスチレンの50
%脂肪酸エステル等)、安定剤{例えば、リン酸、亜リ
ン酸、有機酸(クエン酸、シュウ酸、ジピコリン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、スルホサリ
チル酸、4−メトキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン
−5−スルホン酸、酒石酸等)}、現像促進剤(例えば
高級アルコール、酸無水物等)等が好ましく用いられ
る。
は、感光性ジアゾ樹脂、親油性高分子化合物、及び必要
に応じて種々の添加剤の所定量を適当な溶媒(メチルセ
ロソルブ、エチルセロソルブ、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノ
ール、メチルセロソルブアセテート、アセトン、メチル
エチルケトン、メタノール、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、シクロヘキサノン、ジオキサン、
テトラヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレ
ンジクロライド、ジメチルスルホキシド、水またはこれ
らの混合物等)中に溶解させ感光性組成物の塗布液を調
整し、これを支持体上に塗布、乾燥すればよい。用いら
れる溶媒は単独でもよいが、メチルセロソルブ、1−メ
トキシ−2−プロパノール、乳酸メチルのような高沸点
溶媒と、メタノール、メチルエチルケトンのような低沸
点溶媒との混合物とするとさらに好ましい。塗布する際
の感光性組成物の固形分濃度は1〜50重量%の範囲と
することが望ましい。この場合、感光性組成物の塗布量
は、おおむね、0.2〜10g/m2(乾燥重量)程度と
すればよくさらに好ましくは、0.5〜3g/m2 とす
るとよい。
重合性感光性組成物をふくむ感光層を設ける場合 光二量化型感光性組成物としてはマレイミド基やシンナ
ミル基、シンナモイル基、シンナミリデン基、シンナミ
リデンアセチル基やカルコン基などを側鎖、または主鎖
に有するポリマーが挙げられ、マレイミド基を側鎖に有
するポリマーとして、特開昭52−988号(対応米国
特許4,079,041号)公報や、独国特許第2,6
26,769号明細書、ヨーロッパ特許第21,019
号明細書、ヨーロッパ特許第3,552号明細書や、デ
ィー・アンゲバンドゥテ・マクロモレクラーレ・ケミー
(Die Angewandte Makromolekulare Chemie)115(1
983)の163〜181ページに記載されているポリ
マーや、特開昭49−128991号、同49−128
992号、同49−128993号、同50−5376
号、同50−5377号、同50−5379号、同50
−5378号、同50−5380号、同53−5298
号、同53−5299号、同53−5300号、同50
−50107号、同51−47940号、同52−13
907号、同50−45076号、同52−12170
0号、同50−10884号、同50−45087号各
公報、独国特許第2,349,948号、同第2,61
6,276号各明細書に記載されているポリマーなどを
挙げることができる。これらのポリマーを、アルカリ水
に可溶性または膨潤性とするためには、カルボン酸・ス
ルホン酸、リン酸、ホスホン酸、及びこれらのアルカル
金属塩やアンモニウム塩、及びアルカリ水に対し解離す
るpKaが6〜12の酸基などを、ポリマー中に含めた
ものが有用である。必要により上記酸基を有するモノマ
ー13種類と、マレイミド基を有するモノマーを共重合
させることもできる。
30〜300の範囲が好ましく、このような酸価を有す
るポリマーの中でも、ディー・アンゲバンドゥテ・マク
ロモレクラーレ・ケミー(Die Angewandte Makromoleku
lare Chemie)128(1984)の71〜91ページに
記載されているような、N−〔2−(メタクリロイルオ
キシ)エチル〕−2,3−ジメチルマレイミドとメタク
リル酸あるいはアクリル酸との共重合体が有用である。
更にこの共重合体の合成に際して第3成分のビニルモノ
マーを共重合することによって目的に応じた多元共重合
体を容易に合成することができる。例えば、第3成分の
ビニルモノマーとして、そのホモポリマーのガラス転移
点が室温以下のアルキルメタアクリレートやアルキルア
クリレートを用いることによって、共重合体に柔軟性を
与えることができる。
リデン基、シンナミリデンアセチル基やカルコン基など
を側鎖、または主鎖に有する光架僑性ポリマーとして
は、米国特許第3,030,208号、米国特許出願7
09,496号、同第828,455号の各明細書の記
載されている感光性ポリエステルがある。これらの光架
橋性ポリマーをアルカリ水可溶化したものとしては、次
のようなものがあげられる。即ち、特開昭60−191
244号公報中に記載されているような感光性ポリマー
を挙げることができる。更に、特開昭62−17572
9号、特開昭62−175730号、特開昭63−25
443号、特開昭63−218944号、特開昭63−
218945号の各公報に記載されている感光性ポリマ
ーなどを挙げることができる。また、これらを含む感光
層には増感剤を使用することが出来るが、そのような増
感剤としてはベンゾフェノン誘導体、ベンズアンスロン
誘導体、キノン類、芳香族ニトロ化合物、ナフトチアゾ
リン誘導体、ベンゾチアゾリン誘導体、チオキサントン
類、ナフトチアゾール誘導体、ケトクマリン化合物、ベ
ンゾチアゾール誘導体、ナフトフラノン化合物、ビリリ
ウム塩、チアビリリウム塩などを挙げることが出来る。
このような感光層には必要に応じて塩素化ポリエチレ
ン、塩素化ポリプロピレン、ポリアクリル酸アルキルエ
ステル、アクリル酸アルキルエステル、アクリロニトリ
ル、塩化ビニル、スチレン、ブタジェンなどのモノマー
の少なくとも一種との共重合体、ポリアミド、メチルセ
ルロース、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体などの結合剤や、ジブチルフタレート、
ジヘキシルフタレートなどのフタル酸ジアルキルエステ
ル、オリゴエチレングリコールアルキルエステル、リン
酸エステルなどの可塑剤などを使用することが出来る。
また、感光層の着色を目的として、染料もしくは顔料や
焼出し剤としてpH支持薬等を添加するものも好まし
い。
ルボン酸及びその塩、不飽和カルボン酸と脂肪族多価ア
ルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪
族多価アミン化合物とのアミドなどが挙げられる。光重
合開始剤としては、ビシナ−ルポリタケタルドニル化合
物、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−
位が炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、多
核キノン化合物、トリアリルイミダゾールダイマー/p
−アミノフェニルケトンの組み合わせ、ベンゾチアゾー
ル系化合物、トリハロメチル−s−トリアジン化合物、
アクリジン及びフェナジン化合物、オキサジアゾール化
合物などが含まれ、これらとともに、アルカリ水可溶性
または膨潤性で、かつフィルム形成可能な高分子重合体
としては、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)ア
クリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノ
マー共重合体、メタクリル酸/メタクリル酸メチル(ま
たはメタクリル酸エステル)共重合体、無水マレイン酸
共重合体にペンタエリスリトールトリアクリレートを半
エステル化で付加させたものや酸性ビニル共重合体など
が挙げられる。
さているZnO感光層を用いることもできる。また、特
開昭56−161550号、特開昭60−186847
号、特開昭61−238063号各公報などに記載され
ている電子写真感光体を用いた感光層を用いてもよい。
支持体上に設けられる感光層の量は、塗布後の乾燥重量
で、薬0.1〜約7g/m2 、好ましくは0.5〜4g
/m2 の範囲である。
方法において、支持体と感光層との密着性を高めるため
や、現像後に感光層が残らないようにするため、または
ハレーションを防止するなどの目的で、必要に応じて中
間層を設けてもよい。密着性向上のためには、一般に中
間層は、ジアゾ樹脂や、例えばアルミに吸着するリン酸
化合物、アミノ化合物、カルボン酸化合物などからなっ
ている。現像後に感光層が残存しないように溶解性の高
い物質からなる中間層は、一般に溶解性の良好なポリマ
ーや、水溶性ポリマーからなっている。更にハレーショ
ン防止のためには、中間層は一般に染料やUV吸収剤を
含む。中間層の厚さは任意であり、露光した時に、上層
の感光層と均一な結合形成反応を行い得る厚みでなけれ
ばならない。通常、乾燥固体で約1〜100mg/m2
の塗布割合がよく、5〜40mg/m2 が特に良好であ
る。
けられた突起物により構成されるマット層を設けること
もできる。マット層の目的は密着露光におけるネガ画像
フィルムと感光性平版印刷版との真空密着性を改良する
ことにより、真空引き時間を短縮し、さらに密着不良に
よる露光時の微小網点のつぶれを防止することである。
マット層の塗布方法としては、特開昭55−12974
号公報に記載されているパウダリングされた固体粉末を
熱融着する方法、特開昭58−182636号公報に記
載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥させる方
法などがあり、どの方法でもよいが、マット層自体が実
質的に有機溶剤を含まない水性アルカリ現像液に溶解す
るか、あるいはこれにより除去可能な物が望ましい。
刷版は、画像露光された後、常法により現像を含む処理
によって樹脂画像が形成される。例えば、前記〔I〕の
感光層を有する感光性平版印刷版の場合は、画像露光
後、米国特許第4,259,434号明細書に記載され
ているようなアルカリ水溶液で現像することにより露光
部分が除去されて、平版印刷版が得られ、〔II〕の感
光層を有する感光性平版印刷版の場合には、画像露光
後、米国特許第4,186,006号明細書に記載され
ているような現像液で、未露光部の感光層が現像により
除去されて平板印刷版が得られる。また、特開昭59−
84241号、特開昭57−192952号、及び特開
昭62−24263号の各公報に記載されているような
ポジ型平版印刷版を現像する際に用いられる水性アルカ
リ現像液組成物を使用することもできる。
硫酸50%、温度60℃の液で、直流電源を用い、電流
密度15A/dm2 、電気量800c/dm2 にて処理
を行った。その時の平均表面粗さは0.34μmであ
り、最大表面粗さは3.4μmであった。次いで、特公
昭50−40047号公報に記載の装置を用い、回転数
350rpmで機械的砂目立てを行った。苛性ソーダの
濃度を25%一定とし、温度は55℃で、処理時間は、
7g/m2 のエッチング量になるようにエッチング量を
調節した。その後、水洗を行い、25%・50℃の硫酸
液でスマット除去(デスマット)を行い、特開平3−7
9799号公報に記載の電源波形で、12g/リットル
の硝酸、4g/リットルのアルミニウムの濃度で、かつ
40℃の温度にて陽極電気量が250c/dm2 になる
ように粗面化を行い、水洗後、第2エッチングを行っ
た。苛性ソーダの濃度は第1エッチングと同じ条件と
し、温度は40℃、処理時間は0.8g/m2 のエッチ
ング量になるよう調節した。その後水洗を行い、25%
・50℃の硫酸液でデスマット処理を行い、硫酸120
g/リットル、液温45℃にて、陽極酸化皮膜量が3.
0g/m2 になるように皮膜を生成させた。
ニウム板を、硫酸50%、温度65℃の液で、直流電源
を用い、電流密度15A/dm2 、電気量1500c/
dm2 にて処理を行った。その時の平均表面粗さは0.
29μmであり、最大表面粗さは2.5μmであった。
次いで、特公昭50−40047号公報に記載の装置を
用い、回転数350rpmで機械的砂目立てを行った。
苛性ソーダの濃度を25%一定とし、温度は55℃で、
処理時間は、7g/m2 のエッチング量になるようにエ
ッチング量を調節した。その後、水洗を行い、25%・
50℃の硫酸液でスマット除去を行い、特開平3−79
799号公報に記載の電源波形で、12g/リットルの
硝酸、4g/リットルのアルミニウムの濃度で、かつ4
0℃の温度にて陽極電気量が250c/dm2 になるよ
うに粗面化を行い、水洗後、第2エッチングを行った。
苛性ソーダの濃度は第1エッチングと同じ条件とし、温
度は40℃、処理時間は0.8g/m2 のエッチング量
になるよう調節した。その後水洗を行い、25%・50
℃の硫酸液でデスマット処理を行い、硫酸120g/リ
ットル、液温45℃にて、陽極酸化皮膜量が3.0g/
m2 になるように皮膜を生成させた。
ニウム板を、硫酸60%、温度55℃の液で、直流電源
を用い、電流密度15A/dm2 、電気量1200c/
dm2 にて処理を行った。その時の平均表面粗さは0.
24μmであり、最大表面粗さは2.2μmであった。
次いで、特公昭50−40047号公報に記載の装置を
用い、回転数350rpmで機械的砂目立てを行った。
苛性ソーダの濃度を25%一定とし、温度は55℃で、
処理時間は、7g/m2 のエッチング量になるようにエ
ッチング量を調節した。その後、水洗を行い、25%・
50℃の硫酸液でスマット除去を行い、特開平3−79
799号公報に記載の電源波形で、12g/リットルの
硝酸、4g/リットルのアルミニウムの濃度で、かつ4
0℃の温度にて陽極電気量が250c/dm2 になるよ
うに粗面化を行い、水洗後、第2エッチングを行った。
苛性ソーダの濃度は第1エッチングと同じ条件とし、温
度は40℃、処理時間は0.8g/m2 のエッチング量
になるよう調節した。その後水洗を行い、25%・50
℃の硫酸液でデスマット処理を行い、硫酸120g/リ
ットル、液温45℃にて、陽極酸化皮膜量が3.0g/
m2 になるように皮膜を生成させた。
ニウム板を、硫酸50%、温度70℃の液で、直流電源
を用い、電流密度15A/dm2 、電気量1200c/
dm2 にて処理を行った。その時の平均表面粗さは0.
24μmであり、最大表面粗さは2.2μmであった。
次いで、特公昭50−40047号公報に記載の装置を
用い、回転数350rpmで機械的砂目立てを行った。
苛性ソーダの濃度を25%一定とし、温度は55℃で、
処理時間は、2g/m2 のエッチング量になるようにエ
ッチング量を調節した。その後、水洗を行い、25%・
50℃の硫酸液でスマット除去を行い、特開平3−79
799号公報に記載の電源波形で、12g/リットルの
硝酸、4g/リットルのアルミニウムの濃度で、かつ4
0℃の温度にて陽極電気量が260c/dm2 になるよ
うに粗面化を行い、水洗後、第2エッチングを行った。
苛性ソーダの濃度は第1エッチングと同じ条件とし、温
度は40℃、処理時間は0.1g/m2 のエッチング量
になるよう調節した。その後水洗を行い、25%・50
℃の硫酸液でデスマット処理を行い、硫酸120g/リ
ットル、液温45℃にて、陽極酸化皮膜量が3.0g/
m2 になるように皮膜を生成させた。
ニウム板を、平均1.5μmに粒度のアルミナ研磨剤を
含有させた直径600mmの不織布ローラを用い、周速
500m/分、振動数200回/分で研磨を行った。そ
の時の平均表面粗さは0.33μmであり、最大表面粗
さは3.2μmであった。次いで、特公昭50−400
47号公報に記載の装置を用い、回転数350rpmで
機械的砂目立てを行った。苛性ソーダの濃度を25%一
定とし、温度は55℃で、処理時間は、7g/m2 のエ
ッチング量になるようにエッチング量を調節した。その
後、水洗を行い、25%・50℃の硫酸液でスマット除
去を行い、特開平3−79799号公報に記載の電源波
形で、12g/リットルの硝酸、4g/リットルのアル
ミニウムの濃度で、かつ40℃の温度にて陽極電気量が
250c/dm2 になるように粗面化を行い、水洗後第
2エッチングを行った。苛性ソーダの濃度は第1エッチ
ングと同じ条件とし、温度は40℃、処理時間は0.8
g/m2 のエッチング量になるよう調節した。その後水
洗を行い、25%・50℃の硫酸液でデスマット処理を
行い、硫酸120g/リットル、液温45℃にて、陽極
酸化皮膜量が3.0g/m2 になるように皮膜を生成さ
せた。
ニウム板を、平均5.5μmの粒度のアルミナ研磨剤を
含有させた直径600mmの不織布ローラを用い、周速
500m/分、振動数400回/分で研磨を行った。そ
の時の平均表面粗さは0.25μmであり、最大表面粗
さは2.1μmであった。次いで、特公昭50−400
47号公報に記載の装置を用い、回転数350rpmで
機械的砂目立てを行った。苛性ソーダの濃度を25%一
定とし、温度は55℃で、処理時間は、7g/m2 のエ
ッチング量になるようにエッチング量を調節した。その
後、水洗を行い、25%・50℃の硫酸液でスマット除
去を行い、特開平3−79799号公報に記載の電源波
形で、12g/リットルの硝酸、4g/リットルのアル
ミニウムの濃度で、かつ40℃の温度にて陽極電気量が
250c/dm2 になるように粗面化を行い、水洗後、
第2エッチングを行った。苛性ソーダの濃度は第1エッ
チングと同じ条件とし、温度は40℃、処理時間は0.
8g/m2 のエッチング量になるよう調節した。その後
水洗を行い、25%・50℃の硫酸液でデスマット処理
を行い、硫酸120g/リットル、液温45℃にて、陽
極酸化皮膜量が3.0g/m2 になるように皮膜を生成
させた。
ニウム板を、平均7.5μmの粒度のアルミナ研磨剤を
含有させた直径500mmの不織布ローラを用い、周速
800m/分、振動数500回/分で研磨を行った。そ
の時の平均表面粗さは0.21μmであり、最大表面粗
さは1.8μmであった。次いで、特公昭50−400
47号公報に記載の装置を用い、回転数350rpmで
機械的砂目立てを行った。苛性ソーダの濃度を25%一
定とし、温度は55℃で、処理時間は、7g/m2 のエ
ッチング量になるようにエッチング量を調節した。その
後、水洗を行い、25%・50℃の硫酸液でスマット除
去を行い、特開平3−79799号公報に記載の電源波
形で、12g/リットルの硝酸、4g/リットルのアル
ミニウムの濃度で、かつ40℃の温度にて陽極電気量が
250c/dm2 になるように粗面化を行い、水洗後、
第2エッチングを行った。苛性ソーダの濃度は第1エッ
チングと同じ条件とし、温度は40℃、処理時間は0.
8g/m2 のエッチング量になるよう調節した。その後
水洗を行い、25%・50℃の硫酸液でデスマット処理
を行い、硫酸120g/リットル、液温45℃にて、陽
極酸化皮膜量が3.0g/m2 になるように皮膜を生成
させた。
ニウム板を、平均22μmの粒度のアルミナ研磨剤を含
有させた直径500mmの不織布ローラを用い、周速5
00m/分、振動数200回/分で研磨を行った。その
時の平均表面粗さは0.24μmであり、最大表面粗さ
は2.2μmであった。苛性ソーダの濃度を25%一定
とし、温度は55℃で、処理時間は、2g/m2 のエッ
チング量になるようにエッチング量を調節した。その
後、水洗を行い、25%・50℃の硫酸液でスマット除
去を行い、特開平3−79799号公報に記載の電源波
形で、12g/リットルの硝酸、4g/リットルのアル
ミニウムの濃度で、かつ40℃の温度にて陽極電気量が
260c/dm2 になるように粗面化を行い、水洗後第
2エッチングを行った。苛性ソーダの濃度は第1エッチ
ングと同じ条件とし、温度は40℃、処理時間は0.1
g/m2 のエッチング量になるよう調節した。その後水
洗を行い、25%・50℃の硫酸液でデスマット処理を
行い、硫酸120g/リットル、液温45℃にて、陽極
酸化皮膜量が3.0g/m2 になるように皮膜を生成さ
せた。
ニウム板を、平均2μmの粒度のアルミナ研磨剤を含有
させた直径600mmの不織布ローラを用い、周速10
00m/分、振動数800回/分で研磨を行った。その
時の平均表面粗さは0.16μmであり、最大表面粗さ
は1.2μmであった。次いで、特公昭50−4004
7号公報に記載の装置を用い、回転数350rpmで機
械的砂目立てを行った。苛性ソーダの濃度を25%一定
とし、温度は55℃で、処理時間は、7g/m2 のエッ
チング量になるようにエッチング量を調節した。その
後、水洗を行い、25%・50℃の硫酸液でスマット除
去を行い、特開平3−79799号公報に記載の電源波
形で、12g/リットルの硝酸、4g/リットルのアル
ミニウムの濃度で、かつ40℃の温度にて陽極電気量が
250c/dm2 になるように粗面化を行い、水洗後第
2エッチングを行った。苛性ソーダの濃度は第1エッチ
ングと同じ条件とし、温度は40℃、処理時間は0.8
g/m2 のエッチング量になるよう調節した。その後水
洗を行い、25%・50℃の硫酸液でデスマット処理を
行い、硫酸120g/リットル、液温45℃にて、陽極
酸化皮膜量が3.0g/m2 になるように皮膜を生成さ
せた。
m、最大表面粗さが3.8μmのJIS−1050のア
ルミニウム板をそのまま用いた。このアルミニウム板
に、特公昭50−40047号公報に記載の装置を用
い、回転数350rpmで機械的砂目立てを行った。苛
性ソーダの濃度を25%一定とし、温度は55℃で、処
理時間は、7g/m2 のエッチング量になるようにエッ
チング量を調節した。その後、水洗を行い、25%・5
0℃の硫酸液でスマット除去を行い、特開平3−797
99号公報に記載の電源波形で、12g/リットルの硝
酸、4g/リットルのアルミニウムの濃度で、かつ40
℃の温度にて陽極電気量が250c/dm2 になるよう
に粗面化を行い、水洗後、第2エッチングを行った。苛
性ソーダの濃度は第1エッチングと同じ条件とし、温度
は40℃、処理時間は0.8g/m2 のエッチング量に
なるよう調節した。その後水洗を行い、25%・50℃
の硫酸液でデスマット処理を行い、硫酸120g/リッ
トル、液温45℃にて、陽極酸化皮膜量が3.0g/m
2 になるように皮膜を生成させた。
ニウム板を、硫酸50%、温度65℃の液で、直流電源
を用い、電流密度15A/dm2 、電気量10、000
c/dm2 にて処理を行った。その時の平均表面粗さは
0.13μmであり、最大表面粗さは0.9μmであっ
た。次いで、特公昭50−40047号公報に記載の装
置を用い、回転数350rpmで機械的砂目立てを行っ
た。苛性ソーダの濃度を25%一定とし、温度は55℃
で、処理時間は、7g/m2 のエッチング量になるよう
にエッチング量を調節した。その後、水洗を行い、25
%・50℃の硫酸液でスマット除去を行い、特開平3−
79799号公報に記載の電源波形で、12g/リット
ルの硝酸、4g/リットルのアルミニウムの濃度で、か
つ40℃の温度にて陽極電気量が260c/dm2 にな
るように粗面化を行い、水洗後第2エッチングを行っ
た。苛性ソーダの濃度は第1エッチングと同じ条件と
し、温度は40℃、処理時間は0.8g/m2 のエッチ
ング量になるよう調節した。その後水洗を行い、25%
・50℃の硫酸液でデスマット処理を行い、硫酸120
g/リットル、液温45℃にて、陽極酸化皮膜量が3.
0g/m2 になるように皮膜を生成させた。
ニウム板を、平均28μmの粒度のアルミナ研磨剤を含
有させた直径500mmの不織布ローラを用い、周速5
00m/分、振動数10回/分で研磨を行った。その時
の平均表面粗さは0.4μmであり、最大表面粗さは
4.2μmであった。次いで、特公昭50−40047
号公報に記載の装置を用い、回転数350rpmで機械
的砂目立てを行った。苛性ソーダの濃度を25%一定と
し、温度は55℃で、処理時間は、7g/m2 のエッチ
ング量になるようにエッチング量を調節した。その後、
水洗を行い、25%・50℃の硫酸液でスマット除去を
行い、特開平3−79799号公報に記載の電源波形
で、12g/リットルの硝酸、4g/リットルのアルミ
ニウムの濃度で、かつ40℃の温度にて陽極電気量が2
50c/dm2 になるように粗面化を行い、水洗後、第
2エッチングを行った。苛性ソーダの濃度は第1エッチ
ングと同じ条件とし、温度は40℃、処理時間は0.8
g/m2 のエッチング量になるよう調節した。その後水
洗を行い、25%・50℃の硫酸液でデスマット処理を
行い、硫酸120g/リットル、液温45℃にて、陽極
酸化皮膜量が3.0g/m2 になるように皮膜を生成さ
せた。
ニウム板を、平均0.8μmの粒度のアルミナ研磨剤を
含有させた直径500mmの不織布ローラを用い、周速
500m/分、振動数1000回/分で研磨を行った。
その時の平均表面粗さは0.09μmであり、最大表面
粗さは0.7μmであった。苛性ソーダの濃度を25%
一定とし、温度は55℃で、処理時間は、2g/m2 の
エッチング量になるようにエッチング量を調節した。そ
の後、水洗を行い、25%・50℃の硫酸液でスマット
除去を行い、特開平3−79799号公報に記載の電源
波形で、12g/リットルの硝酸、4g/リットルのア
ルミニウムの濃度で、かつ40℃の温度にて陽極電気量
が260c/dm2 になるように粗面化を行い、水洗
後、第2エッチングを行った。苛性ソーダの濃度は第1
エッチングと同じ条件とし、温度は40℃、処理時間は
0.1g/m2 のエッチング量になるよう調節した。そ
の後水洗を行い、25%・50℃の硫酸液でデスマット
処理を行い、硫酸120g/リットル、液温45℃に
て、陽極酸化皮膜量が3.0g/m2 になるように皮膜
を生成させた。
で得られたアルミニウム支持体について、連続生産の検
討を行う為、パイロットプラントで検討を行った結果、
比較例−2及び−4で得られてアルミニウム支持体につ
いては、予備研磨に多大のコストがかかり、かつ表面粗
さが非常に小さい為、スリップを生じ、連続生産に必要
なアルミニウムウエブのハンドリングが安定して出来な
かった。その為、比較例−2及び−4以外、即ち、実施
例−1〜9、比較例−1及び−3で得られたアルミニウ
ム支持体について、各支持体に下記組成物を乾燥後の塗
布重量が2.0g/m2 になるように塗布して感光層を
設け、マットコーティングした。 感光層組成 ナフトキノン−1、2−ジアジド−5−スルホニルクロライドと ピロガロール、アセトン樹脂とのエステル化合物 (米国特許第3635709号、実施例−1に記載のもの) 0.75g クレゾールノボラック樹脂 2.00g オイルブルー603(オリエント化学) 0.04g エチレンジクロライド 16g 2−メトキシエチルアセテート 12g 得られた各サンプルを用いて印刷したところ、本発明の
実施例によりえられたアルミニウム支持体を用いた場合
には、すべて7万枚印刷しても良好な印刷物が得られた
のに対し、比較例−1及び−3で得られたアルミニウム
支持体を用いた場合には、塗布面から筋状のムラが発生
し、2万枚で筋状に印刷不良
トで、均一な品質を有する平版印刷版用アルミニウム支
持体を得ることができ、この支持体を用いると、耐刷性
に優れた平版印刷版を得ることができる。
Claims (4)
- 【請求項1】 中心線平均表面粗さを0.15〜0.3
5μm並びに最大表面粗さを1〜3.5μmのアルミニ
ウム基材を、機械的粗面化、化学エッチング、電気科学
的粗面化の少なくとも1つによって粗面化を行った後、
陽極酸化を施すことを特徴とする平版印刷版用支持体の
製造方法。 - 【請求項2】 上記特性を有するアルミニウム基材は、
予備研磨によって付与された請求項1に記載の平版印刷
版用支持体の製造方法。 - 【請求項3】 該予備研磨を直流電解研磨で行う、請求
項2に記載の平版印刷版用支持体の製造方法。 - 【請求項4】 該予備研磨を、不織布に平均粒径1〜2
5μmの研磨材を含有させたローラによっ行う、請求項
2に記載の平版印刷版用支持体の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34580596A JP3613496B2 (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
DE69718590T DE69718590T2 (de) | 1996-10-11 | 1997-10-10 | Lithographische Druckplatte, Verfahren für deren Herstellung, und Verfahren zur Herstellung eines Aluminiumträgers für die lithographische Druckplatte |
EP97117607A EP0835764B1 (en) | 1996-10-11 | 1997-10-10 | Lithographic printing plate, method for producing lithographic printing plate, and method for producing support for lithographic printing plate |
US08/948,669 US6232037B1 (en) | 1996-10-11 | 1997-10-10 | Lithographic printing plate, method for producing lithographic printing plate, and method for producing support for lithographic printing plate |
US09/814,973 US6551760B2 (en) | 1996-10-11 | 2001-03-23 | Lithographic printing plate, method for producing lithographic printing plate, and method for producing support for lithographic printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
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Cited By (2)
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JP2006142720A (ja) * | 2004-11-22 | 2006-06-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用のアルミニウム支持体及び平版印刷版 |
JP2013542327A (ja) * | 2010-10-22 | 2013-11-21 | ハイドロ アルミニウム ロールド プロダクツ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 電気化学的粗面化のためのリソグラフィーストリップ及びその製造方法 |
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1996
- 1996-12-25 JP JP34580596A patent/JP3613496B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2006142720A (ja) * | 2004-11-22 | 2006-06-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用のアルミニウム支持体及び平版印刷版 |
JP2013542327A (ja) * | 2010-10-22 | 2013-11-21 | ハイドロ アルミニウム ロールド プロダクツ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 電気化学的粗面化のためのリソグラフィーストリップ及びその製造方法 |
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JP3613496B2 (ja) | 2005-01-26 |
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