JPH1018069A - 炭化水素系溶剤を用いた精密洗浄装置 - Google Patents
炭化水素系溶剤を用いた精密洗浄装置Info
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- JPH1018069A JPH1018069A JP18816996A JP18816996A JPH1018069A JP H1018069 A JPH1018069 A JP H1018069A JP 18816996 A JP18816996 A JP 18816996A JP 18816996 A JP18816996 A JP 18816996A JP H1018069 A JPH1018069 A JP H1018069A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 減圧下で蒸気洗浄し乾燥させるワークを更に
洗浄化させる。 【解決手段】 洗浄室２と蒸気洗浄乾燥室３とを上下気
密に分割する分割手段と、上記蒸気洗浄乾燥室３に紫外
線発生ランプ５３と紫外線発生ランプを起動する紫外線
発生用バラスト５４と、蒸気洗浄乾燥室に高濃度酸素を
供給する高濃度酸素発生装置５６とを備えている。
洗浄化させる。 【解決手段】 洗浄室２と蒸気洗浄乾燥室３とを上下気
密に分割する分割手段と、上記蒸気洗浄乾燥室３に紫外
線発生ランプ５３と紫外線発生ランプを起動する紫外線
発生用バラスト５４と、蒸気洗浄乾燥室に高濃度酸素を
供給する高濃度酸素発生装置５６とを備えている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は金属の機械加工、熱
処理加工分野における油脂類の洗浄をさらに清浄化する
炭化水素系溶剤を用いた精密機器装置に関する。
処理加工分野における油脂類の洗浄をさらに清浄化する
炭化水素系溶剤を用いた精密機器装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】金属の機械加工、熱処理加工分野におけ
る油脂類を洗浄する場合、炭化水素系の溶剤を用いて、
減圧下で洗浄されている。これには図２に示すような炭
化水素系溶剤を用いた洗浄装置がある。
る油脂類を洗浄する場合、炭化水素系の溶剤を用いて、
減圧下で洗浄されている。これには図２に示すような炭
化水素系溶剤を用いた洗浄装置がある。
【０００３】図２においては１は減圧洗浄乾燥装置本体
であり、下部に円筒状の浸漬洗浄室２、上部に円筒状の
蒸気洗浄乾燥室３が設けられている。５１は蒸気洗浄乾
燥室の密閉可能なスライド式のシャッタである。シャッ
タ５１の中央に後述する被洗浄物のワークが通過できる
開口部５１ａが設けられている。６は浸漬洗浄室２に収
納された炭化水素系溶剤の洗浄液で外部からバルブ３
４、給水管３３を介して供給可能となっている。４は被
洗浄物のワークで、搬送機構により洗浄液中に設置され
るようになっている。７は昇降台で上部が１つ又は複数
個の段差７ａ，７ｂを有している。８は昇降台７上に載
置された断熱台であり、この断熱台８上にワーク４が載
置される。
であり、下部に円筒状の浸漬洗浄室２、上部に円筒状の
蒸気洗浄乾燥室３が設けられている。５１は蒸気洗浄乾
燥室の密閉可能なスライド式のシャッタである。シャッ
タ５１の中央に後述する被洗浄物のワークが通過できる
開口部５１ａが設けられている。６は浸漬洗浄室２に収
納された炭化水素系溶剤の洗浄液で外部からバルブ３
４、給水管３３を介して供給可能となっている。４は被
洗浄物のワークで、搬送機構により洗浄液中に設置され
るようになっている。７は昇降台で上部が１つ又は複数
個の段差７ａ，７ｂを有している。８は昇降台７上に載
置された断熱台であり、この断熱台８上にワーク４が載
置される。
【０００４】１１は浸漬洗浄室２の天井で、中央部が開
孔して開口部１１ｃを有しており、縁端部には上記段差
７ａ，７ｂと係合できる段差１１ａ，１１ｂが設けられ
ている。１２，１３は段差１１ａ，１１ｂに設けられた
Ｏリングで、昇降台７が天井１１まで上昇したとき、昇
降台７の段差７ａ，７ｂと、Ｏリング１２，１３と、天
井の段差１１ａ，１１ｂとによって、浸漬洗浄室２と、
蒸気洗浄乾燥室３とが分割され、それぞれ浸漬洗浄室２
と蒸気洗浄乾燥室３とが密閉される。
孔して開口部１１ｃを有しており、縁端部には上記段差
７ａ，７ｂと係合できる段差１１ａ，１１ｂが設けられ
ている。１２，１３は段差１１ａ，１１ｂに設けられた
Ｏリングで、昇降台７が天井１１まで上昇したとき、昇
降台７の段差７ａ，７ｂと、Ｏリング１２，１３と、天
井の段差１１ａ，１１ｂとによって、浸漬洗浄室２と、
蒸気洗浄乾燥室３とが分割され、それぞれ浸漬洗浄室２
と蒸気洗浄乾燥室３とが密閉される。
【０００５】１６は昇降台７を昇降される昇降機構、１
７は昇降リフトワイヤ、１８は昇降リフトワイヤの先端
が昇降台に固定する止金であり、昇降機構１６の回転等
の運動によって昇降台７が上昇又は下降する。
７は昇降リフトワイヤ、１８は昇降リフトワイヤの先端
が昇降台に固定する止金であり、昇降機構１６の回転等
の運動によって昇降台７が上昇又は下降する。
【０００６】２１は浸漬洗浄室２及び蒸気洗浄室３から
回収された洗浄液が加熱機２２で加熱され、蒸留されて
再生される蒸留機、２３は冷却器で蒸留機２１の洗浄液
が冷却されて、給水管２４を介して浸漬洗浄室２１に戻
される。蒸留機２１の洗浄液はバルブ２６、供給管２７
及びシャワノズル３１を介して蒸気洗浄乾燥室３に戻さ
れる。３０はヒータで蒸気洗浄乾燥室内を暖めるもので
ある。
回収された洗浄液が加熱機２２で加熱され、蒸留されて
再生される蒸留機、２３は冷却器で蒸留機２１の洗浄液
が冷却されて、給水管２４を介して浸漬洗浄室２１に戻
される。蒸留機２１の洗浄液はバルブ２６、供給管２７
及びシャワノズル３１を介して蒸気洗浄乾燥室３に戻さ
れる。３０はヒータで蒸気洗浄乾燥室内を暖めるもので
ある。
【０００７】浸漬洗浄室２内の洗浄液が不足したとき、
外部からバルブ３４、給水管３３を介して新しい洗浄液
が追加される。３７は排気管、３８はバルブ、３９は真
空ポンプであり、蒸気洗浄乾燥室３を減圧する。３６は
蒸気洗浄乾燥室３内の洗浄液を回収するための排水管で
ある。４０は排気管、４１はバルブで蒸気洗浄乾燥室３
を減圧後、復圧するために設けられている。
外部からバルブ３４、給水管３３を介して新しい洗浄液
が追加される。３７は排気管、３８はバルブ、３９は真
空ポンプであり、蒸気洗浄乾燥室３を減圧する。３６は
蒸気洗浄乾燥室３内の洗浄液を回収するための排水管で
ある。４０は排気管、４１はバルブで蒸気洗浄乾燥室３
を減圧後、復圧するために設けられている。
【０００８】４２は浸漬洗浄室２の底部に設けられた排
水管、４３はバルブ、４４はストレーナであり、浸漬洗
浄室２の汚れた洗浄液を回収し、蒸留機２１に送り再生
される。４５は浸漬洗浄室２の底部に設けられた排水
管、４６はバルブであり、浸漬洗浄室２内の廃液を取出
すために設けられている。
水管、４３はバルブ、４４はストレーナであり、浸漬洗
浄室２の汚れた洗浄液を回収し、蒸留機２１に送り再生
される。４５は浸漬洗浄室２の底部に設けられた排水
管、４６はバルブであり、浸漬洗浄室２内の廃液を取出
すために設けられている。
【０００９】まず、バルブ２６，３４，３８，４１，４
３，４６を閉じるとともに、シャッタ５１を閉じ、浸漬
洗浄室２、蒸気洗浄乾燥室３を密閉する。次にバルブ３
８を開き、真空ポンプ３９により浸漬洗浄室２、蒸気洗
浄乾燥室３を減圧するとともに、バルブ３４を開いて外
部から給水管を介して浸漬洗浄室２に洗浄液を注水し、
バルブ３４を閉じる。浸漬洗浄室２、蒸気洗浄乾燥室３
が１００トールに減圧されると、昇降機構１６を動作さ
せ、昇降台７を上昇させ、昇降台７が浸漬洗浄室２の最
上部にくると、昇降台７の段差７ａ，７ｂと浸漬洗浄室
２の天井１１の段差１１ａ，１１ｂとが係合し、Ｏリン
グ１２，１３により浸漬洗浄室２及び蒸気洗浄乾燥室３
が密閉され分離される。バルブ３８を閉じ、バルブ４１
を開いて蒸気洗浄乾燥室３を大気圧に復圧させバルブ４
１を閉じる。
３，４６を閉じるとともに、シャッタ５１を閉じ、浸漬
洗浄室２、蒸気洗浄乾燥室３を密閉する。次にバルブ３
８を開き、真空ポンプ３９により浸漬洗浄室２、蒸気洗
浄乾燥室３を減圧するとともに、バルブ３４を開いて外
部から給水管を介して浸漬洗浄室２に洗浄液を注水し、
バルブ３４を閉じる。浸漬洗浄室２、蒸気洗浄乾燥室３
が１００トールに減圧されると、昇降機構１６を動作さ
せ、昇降台７を上昇させ、昇降台７が浸漬洗浄室２の最
上部にくると、昇降台７の段差７ａ，７ｂと浸漬洗浄室
２の天井１１の段差１１ａ，１１ｂとが係合し、Ｏリン
グ１２，１３により浸漬洗浄室２及び蒸気洗浄乾燥室３
が密閉され分離される。バルブ３８を閉じ、バルブ４１
を開いて蒸気洗浄乾燥室３を大気圧に復圧させバルブ４
１を閉じる。
【００１０】蒸気洗浄乾燥室３を復圧後、シャッタ５１
を例えば図示する右方向に開いて昇降台７上の断熱台８
にワーク４を載置して、シャッタ５１を閉じる。このと
き蒸気洗浄乾燥室３の天井３ａとシャッタ５１はＯリン
グ１４によって密閉される。浸漬洗浄室２の方が蒸気洗
浄乾燥室３より減圧されているため、バルブ３８を開き
真空ポンプ３９を動作させて、蒸気洗浄乾燥室３を１０
０トールまで減圧し、浸漬乾燥室２と蒸気洗浄乾燥室３
とを同じ減圧下にして、バルブ３８を閉じる。
を例えば図示する右方向に開いて昇降台７上の断熱台８
にワーク４を載置して、シャッタ５１を閉じる。このと
き蒸気洗浄乾燥室３の天井３ａとシャッタ５１はＯリン
グ１４によって密閉される。浸漬洗浄室２の方が蒸気洗
浄乾燥室３より減圧されているため、バルブ３８を開き
真空ポンプ３９を動作させて、蒸気洗浄乾燥室３を１０
０トールまで減圧し、浸漬乾燥室２と蒸気洗浄乾燥室３
とを同じ減圧下にして、バルブ３８を閉じる。
【００１１】そして、昇降機構１６により昇降台７を降
下させ、ワーク４を洗浄液６内に浸漬させて洗浄させ
る。ワーク４の浸漬洗浄が終了すると、昇降機構１６を
動作させて昇降台７を上昇させる。
下させ、ワーク４を洗浄液６内に浸漬させて洗浄させ
る。ワーク４の浸漬洗浄が終了すると、昇降機構１６を
動作させて昇降台７を上昇させる。
【００１２】昇降台７が上昇し、浸漬洗浄室２の最上部
にくると、昇降台７の段差７ａ，７ｂと浸漬洗浄室２の
天井１１の段差１１ａ，１１ｂとが係合し、Ｏリング１
２，１３により浸漬洗浄室２と蒸気洗浄乾燥室３が分離
され両室が密閉される。
にくると、昇降台７の段差７ａ，７ｂと浸漬洗浄室２の
天井１１の段差１１ａ，１１ｂとが係合し、Ｏリング１
２，１３により浸漬洗浄室２と蒸気洗浄乾燥室３が分離
され両室が密閉される。
【００１３】次にバルブ２６を開くと、蒸留機２１で再
生され加熱機２２で加熱された洗浄液が、供給管２７、
シャワノズル３１を介して蒸気洗浄乾燥室３に供給され
る。このとき、蒸気洗浄乾燥室３内が約１００トールに
減圧されているために、洗浄液は蒸気となって噴出し供
給される。
生され加熱機２２で加熱された洗浄液が、供給管２７、
シャワノズル３１を介して蒸気洗浄乾燥室３に供給され
る。このとき、蒸気洗浄乾燥室３内が約１００トールに
減圧されているために、洗浄液は蒸気となって噴出し供
給される。
【００１４】ワーク４は浸漬洗浄時常温で洗浄されてお
り、浸漬洗浄後は常温となっている。一方シャワノズル
３１から噴出される蒸気は加熱されており、この蒸気が
ワーク４に付着すると、両者の温度差によって蒸気が液
化する。この液化された洗浄液によってワーク４が洗浄
される。この洗浄はワーク４が蒸気温度に達するまで行
われる。なお、洗浄した蒸気は蒸気洗浄乾燥室３の下部
に貯まり、排水管３６を介して蒸留室２１に回収され
る。
り、浸漬洗浄後は常温となっている。一方シャワノズル
３１から噴出される蒸気は加熱されており、この蒸気が
ワーク４に付着すると、両者の温度差によって蒸気が液
化する。この液化された洗浄液によってワーク４が洗浄
される。この洗浄はワーク４が蒸気温度に達するまで行
われる。なお、洗浄した蒸気は蒸気洗浄乾燥室３の下部
に貯まり、排水管３６を介して蒸留室２１に回収され
る。
【００１５】蒸気洗浄が終了すると、バルブ２６を閉じ
て、洗浄蒸気を停止させヒータ３０を動作させて蒸気洗
浄乾燥室３を加熱するとともに、真空ポンプ３９により
蒸気洗浄乾燥室３を数トール以下まで減圧する。この減
圧と加熱によってワーク４に付着洗浄液は蒸発して乾燥
が急速に行われる。
て、洗浄蒸気を停止させヒータ３０を動作させて蒸気洗
浄乾燥室３を加熱するとともに、真空ポンプ３９により
蒸気洗浄乾燥室３を数トール以下まで減圧する。この減
圧と加熱によってワーク４に付着洗浄液は蒸発して乾燥
が急速に行われる。
【００１６】ワーク４が乾燥されると、バルブ３８を閉
じ、バルブ４１を開いて蒸気洗浄乾燥室３を大気圧まで
復圧する。そして、シャッタ５１を開いてワーク４を蒸
気洗浄乾燥室３から取出す。
じ、バルブ４１を開いて蒸気洗浄乾燥室３を大気圧まで
復圧する。そして、シャッタ５１を開いてワーク４を蒸
気洗浄乾燥室３から取出す。
【００１７】第１回目の洗浄が終了すると、洗浄液６は
浸漬洗浄室２に入っており、また、浸漬洗浄室２の上部
は約１００トールに減圧されているので、シャッタ５１
を開いて断熱台８の上に次に洗浄されるワーク４を載置
させ以下上述と同じように洗浄・乾燥を行えばよい。
浸漬洗浄室２に入っており、また、浸漬洗浄室２の上部
は約１００トールに減圧されているので、シャッタ５１
を開いて断熱台８の上に次に洗浄されるワーク４を載置
させ以下上述と同じように洗浄・乾燥を行えばよい。
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】ところが、洗浄後のワ
ーク表面には、炭化水素系溶剤の洗浄液が蒸発し消滅す
る直前の炭化水素系溶剤を成分とする油性膜が染みとな
って残ることがあった。このようなワークは接着性など
に金属本来の性能を劣化させることがあった。
ーク表面には、炭化水素系溶剤の洗浄液が蒸発し消滅す
る直前の炭化水素系溶剤を成分とする油性膜が染みとな
って残ることがあった。このようなワークは接着性など
に金属本来の性能を劣化させることがあった。
【００１９】本発明は、炭化水素系溶剤の油性膜やその
染みを取り除き、ワーク表面をさらに清浄化しようとす
るものである。
染みを取り除き、ワーク表面をさらに清浄化しようとす
るものである。
【００２０】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明の炭
化水素系溶剤を用いた精密洗浄装置は、下部にワークを
炭化水素系溶剤の洗浄液により洗浄させる洗浄室と、上
部に洗浄後のワークを減圧下で上記炭化水素系溶剤を用
いた洗浄液の蒸気を噴出させて蒸気洗浄を行い、減圧下
で乾燥させさらに復圧機能を有する蒸気洗浄乾燥室と、
上記洗浄室と上記蒸気洗浄乾燥室とを上下に分割する分
割手段と、上記蒸気洗浄乾燥室に活性酸素及びオゾン生
成が可能な紫外線を発生する紫外線発生ランプと、上記
紫外線発生ランプを起動する紫外線発生用バラストとを
備えたものである。
化水素系溶剤を用いた精密洗浄装置は、下部にワークを
炭化水素系溶剤の洗浄液により洗浄させる洗浄室と、上
部に洗浄後のワークを減圧下で上記炭化水素系溶剤を用
いた洗浄液の蒸気を噴出させて蒸気洗浄を行い、減圧下
で乾燥させさらに復圧機能を有する蒸気洗浄乾燥室と、
上記洗浄室と上記蒸気洗浄乾燥室とを上下に分割する分
割手段と、上記蒸気洗浄乾燥室に活性酸素及びオゾン生
成が可能な紫外線を発生する紫外線発生ランプと、上記
紫外線発生ランプを起動する紫外線発生用バラストとを
備えたものである。
【００２１】すなわち、分割手段によりワークを炭化水
素系洗浄液で洗浄する洗浄室と、洗浄後のワークを減圧
下で炭化水素系洗浄剤の蒸気を噴出させ蒸気洗浄を行
い、さらに蒸気洗浄乾燥室とを上下気密に分割する。ワ
ークの乾燥後、蒸気洗浄乾燥室を復圧し、紫外線発生用
バラストを起動し、紫外線発生ランプを点灯させると、
ワークに紫外線が照射する。この紫外線によってワーク
に付着した油性膜成分のＣ−Ｈ結合が切断される。ま
た、紫外線によって蒸気洗浄乾燥室内の酸素が活性酸素
又はオゾンとなって、ＯＨ，ＣＯ，ＣＯＯ基が生成され
る。さらに炭酸ガスと水にまで酸化分解されて、ワーク
が清浄化される。
素系洗浄液で洗浄する洗浄室と、洗浄後のワークを減圧
下で炭化水素系洗浄剤の蒸気を噴出させ蒸気洗浄を行
い、さらに蒸気洗浄乾燥室とを上下気密に分割する。ワ
ークの乾燥後、蒸気洗浄乾燥室を復圧し、紫外線発生用
バラストを起動し、紫外線発生ランプを点灯させると、
ワークに紫外線が照射する。この紫外線によってワーク
に付着した油性膜成分のＣ−Ｈ結合が切断される。ま
た、紫外線によって蒸気洗浄乾燥室内の酸素が活性酸素
又はオゾンとなって、ＯＨ，ＣＯ，ＣＯＯ基が生成され
る。さらに炭酸ガスと水にまで酸化分解されて、ワーク
が清浄化される。
【００２２】また、請求項２の発明は、下部にワークを
炭化水素系溶剤の洗浄液により洗浄させる洗浄室と、上
部に洗浄後のワークを減圧下で上記炭化水素系溶剤を用
いた洗浄液の蒸気を噴出させて蒸気洗浄を行い、減圧下
で乾燥させさらに復圧機能を有する蒸気洗浄乾燥室と、
上記洗浄室と上記蒸気洗浄乾燥室とを上下に分割する分
割手段と、上記蒸気洗浄乾燥室に活性酸素及びオゾン生
成が可能な紫外線を発生する紫外線発生ランプと、上記
紫外線発生ランプを起動する紫外線発生用バラストと、
上記蒸気洗浄乾燥室に高濃度酸素供給する高濃度酸素発
生装置とを備えたものである。
炭化水素系溶剤の洗浄液により洗浄させる洗浄室と、上
部に洗浄後のワークを減圧下で上記炭化水素系溶剤を用
いた洗浄液の蒸気を噴出させて蒸気洗浄を行い、減圧下
で乾燥させさらに復圧機能を有する蒸気洗浄乾燥室と、
上記洗浄室と上記蒸気洗浄乾燥室とを上下に分割する分
割手段と、上記蒸気洗浄乾燥室に活性酸素及びオゾン生
成が可能な紫外線を発生する紫外線発生ランプと、上記
紫外線発生ランプを起動する紫外線発生用バラストと、
上記蒸気洗浄乾燥室に高濃度酸素供給する高濃度酸素発
生装置とを備えたものである。
【００２３】ワークの乾燥後、蒸気洗浄乾燥室を復圧せ
ずに高濃度酸素発生装置から高濃度酸素を供給する。そ
して、紫外線発生用バラストを起動し、紫外線発生ラン
プを点灯させると、ワークに紫外線が照射する。この紫
外線によってワークに付着した油性膜成分のＣ−Ｈ結合
が切断される。また、紫外線によって蒸気洗浄乾燥室の
酸素が活性酸素又はオゾンとなり、ＯＨ，ＣＯ，ＣＯＯ
基が生成される。蒸気洗浄乾燥室内が高濃度酸素であ
り、炭酸ガスと水への酸化分解が急速に行われ、ワーク
がさらに清浄化されるとともに、ワークの金属と活性酸
素によってワーク表面に酸化物が発生し、安定したワー
クとなる。
ずに高濃度酸素発生装置から高濃度酸素を供給する。そ
して、紫外線発生用バラストを起動し、紫外線発生ラン
プを点灯させると、ワークに紫外線が照射する。この紫
外線によってワークに付着した油性膜成分のＣ−Ｈ結合
が切断される。また、紫外線によって蒸気洗浄乾燥室の
酸素が活性酸素又はオゾンとなり、ＯＨ，ＣＯ，ＣＯＯ
基が生成される。蒸気洗浄乾燥室内が高濃度酸素であ
り、炭酸ガスと水への酸化分解が急速に行われ、ワーク
がさらに清浄化されるとともに、ワークの金属と活性酸
素によってワーク表面に酸化物が発生し、安定したワー
クとなる。
【００２４】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態を図１に
より説明する。本実施の形態における炭化水素系溶剤を
用いた精密洗浄装置は、図２に示す従来技術の減圧洗浄
乾燥装置における蒸気洗浄乾燥室３に紫外線発生ランプ
５３を設けている。この紫外線発生ランプ５３には紫外
線発生用バラスト５４が接続されている。また、５６は
高濃度酸素発生装置で、例えば右方向からバルブ５７を
介して空気５８を入れ、左方向から高濃度酸素を取り出
し、供給管５５を介して蒸気乾燥室３に注入する。この
高濃度酸素発生装置５６は、内部にダストを除くフィル
タと、窒素を除くゼオライト吸着剤が設けられている。
より説明する。本実施の形態における炭化水素系溶剤を
用いた精密洗浄装置は、図２に示す従来技術の減圧洗浄
乾燥装置における蒸気洗浄乾燥室３に紫外線発生ランプ
５３を設けている。この紫外線発生ランプ５３には紫外
線発生用バラスト５４が接続されている。また、５６は
高濃度酸素発生装置で、例えば右方向からバルブ５７を
介して空気５８を入れ、左方向から高濃度酸素を取り出
し、供給管５５を介して蒸気乾燥室３に注入する。この
高濃度酸素発生装置５６は、内部にダストを除くフィル
タと、窒素を除くゼオライト吸着剤が設けられている。
【００２５】従来と同じように浸漬洗浄を行い、ワーク
の浸漬洗浄が終了すると、昇降機構１６を動作させて昇
降台７を上昇させる。昇降台７が上昇し、浸透洗浄室２
の最上部にくると、昇降台７の段差７ａ，７ｂと浸透洗
浄室２の天井１１の段差１１ａ、１１ｂとが係合し、Ｏ
リング１２，１３とにより浸透洗浄室２と蒸気洗浄乾燥
室３が分離され、両室が密閉される。
の浸漬洗浄が終了すると、昇降機構１６を動作させて昇
降台７を上昇させる。昇降台７が上昇し、浸透洗浄室２
の最上部にくると、昇降台７の段差７ａ，７ｂと浸透洗
浄室２の天井１１の段差１１ａ、１１ｂとが係合し、Ｏ
リング１２，１３とにより浸透洗浄室２と蒸気洗浄乾燥
室３が分離され、両室が密閉される。
【００２６】次にバルブ２６を開き、蒸留機２１で再生
され加熱機２２で加熱された洗浄液が、供給管２７、シ
ャワノズル３１を介して蒸気洗浄室３に供給される。こ
のとき、蒸気洗浄乾燥室３内が約１００トールに減圧さ
れているため、洗浄液は蒸気となって噴出し、供給され
る。
され加熱機２２で加熱された洗浄液が、供給管２７、シ
ャワノズル３１を介して蒸気洗浄室３に供給される。こ
のとき、蒸気洗浄乾燥室３内が約１００トールに減圧さ
れているため、洗浄液は蒸気となって噴出し、供給され
る。
【００２７】ワーク４は浸漬洗浄時、常温で洗浄されて
おり、浸漬洗浄後は常温となっている。一方、シャワノ
ズル３１から噴出される蒸気は加熱されており、この蒸
気がワーク４に付着すると、両者の温度差によって蒸気
が液化する。この液化された洗浄液によってワーク４が
蒸気洗浄される。この洗浄は、ワーク４が蒸気温度に達
するまで行われる。
おり、浸漬洗浄後は常温となっている。一方、シャワノ
ズル３１から噴出される蒸気は加熱されており、この蒸
気がワーク４に付着すると、両者の温度差によって蒸気
が液化する。この液化された洗浄液によってワーク４が
蒸気洗浄される。この洗浄は、ワーク４が蒸気温度に達
するまで行われる。
【００２８】蒸気洗浄が終了すると、バルブ２６を閉じ
てヒータ３０を動作させて、蒸気洗浄乾燥室３を加熱す
るとともに、真空ポンプ３９により蒸気洗浄乾燥室３を
数トールまで減圧する。この減圧と加熱によってワーク
４に付着している洗浄液は蒸発して乾燥が急速に行われ
る。
てヒータ３０を動作させて、蒸気洗浄乾燥室３を加熱す
るとともに、真空ポンプ３９により蒸気洗浄乾燥室３を
数トールまで減圧する。この減圧と加熱によってワーク
４に付着している洗浄液は蒸発して乾燥が急速に行われ
る。
【００２９】乾燥後、バルブ５７を開くと、真空ポンプ
３９により蒸気洗浄乾燥室が減圧されているため、空気
５８は高濃度酸素発生装置５６内に引かれる。空気から
高濃度酸素発生装置５６の内部のフィルタによりダスト
が除かれ、さらに内部のゼオライト吸着剤によって窒素
が除かれて、空気は高濃度酸素となる。この高濃度酸素
は、供給管５５を介して蒸気洗浄乾燥室３に注入され
る。この時、紫外線発生用バラスト５４を起動し、紫外
線発生ランプ５３を点灯させる。紫外線発生ランプ５３
からの紫外線により、高濃度酸素が照射されて、高濃度
酸素が活性酸素及びオゾンとなる。
３９により蒸気洗浄乾燥室が減圧されているため、空気
５８は高濃度酸素発生装置５６内に引かれる。空気から
高濃度酸素発生装置５６の内部のフィルタによりダスト
が除かれ、さらに内部のゼオライト吸着剤によって窒素
が除かれて、空気は高濃度酸素となる。この高濃度酸素
は、供給管５５を介して蒸気洗浄乾燥室３に注入され
る。この時、紫外線発生用バラスト５４を起動し、紫外
線発生ランプ５３を点灯させる。紫外線発生ランプ５３
からの紫外線により、高濃度酸素が照射されて、高濃度
酸素が活性酸素及びオゾンとなる。
【００３０】蒸気洗浄後のワーク４に紫外線が照射され
ると、ワーク４の表面に形成された油性膜成分のＣ−Ｈ
結合が切断され、Ｈ原子が抜けて蒸気洗浄乾燥室３内の
酸素と結合し、親水性のＯＨ，ＣＯ，ＣＯＯ基が生成さ
れる。さらに活性酸素とオゾンにより炭酸ガスと水にま
で酸化分解され、ワークは完全に清浄化される。
ると、ワーク４の表面に形成された油性膜成分のＣ−Ｈ
結合が切断され、Ｈ原子が抜けて蒸気洗浄乾燥室３内の
酸素と結合し、親水性のＯＨ，ＣＯ，ＣＯＯ基が生成さ
れる。さらに活性酸素とオゾンにより炭酸ガスと水にま
で酸化分解され、ワークは完全に清浄化される。
【００３１】これを定量的に説明する。例えば紫外線発
生ランプに低圧水銀灯を用いると、低圧水銀灯から発生
する紫外線の波長は、１８５ｎｍ、２５４ｎｍを占め、
エネルギはそれぞれ６４７ｋＪ／ｍｏｌ，４７２ｋＪ／
ｍｏｌで、ほとんどの洗浄液の炭化水素系油性膜の構成
分子結合エネルギより大きいため、直接Ｃ−Ｈ結合（エ
ネルギ４１３．６ｋＪ／ｍｏｌ）及びＣ−Ｃ結合（エネ
ルギ３４７．９ｋＪ／ｍｏｌ）を切断する他、Ｏ＝Ｏ結
合（エネルギ４９０．６ｋＪ／ｍｏｌ）よりも大きいの
で、酸素を解離しオゾンを生成し、オゾンを分解し活性
酸素を生成する。これらが炭化水素性油性膜の酸化分
解、除去作用を発揮する。なお、他の紫外線発生ランプ
としては、エキシマランプが軽量小型、長寿命であるう
え、充填された放電ガスの組成に応じて任意の単一波長
の紫外線を高力率で発生させることができ好ましい。
生ランプに低圧水銀灯を用いると、低圧水銀灯から発生
する紫外線の波長は、１８５ｎｍ、２５４ｎｍを占め、
エネルギはそれぞれ６４７ｋＪ／ｍｏｌ，４７２ｋＪ／
ｍｏｌで、ほとんどの洗浄液の炭化水素系油性膜の構成
分子結合エネルギより大きいため、直接Ｃ−Ｈ結合（エ
ネルギ４１３．６ｋＪ／ｍｏｌ）及びＣ−Ｃ結合（エネ
ルギ３４７．９ｋＪ／ｍｏｌ）を切断する他、Ｏ＝Ｏ結
合（エネルギ４９０．６ｋＪ／ｍｏｌ）よりも大きいの
で、酸素を解離しオゾンを生成し、オゾンを分解し活性
酸素を生成する。これらが炭化水素性油性膜の酸化分
解、除去作用を発揮する。なお、他の紫外線発生ランプ
としては、エキシマランプが軽量小型、長寿命であるう
え、充填された放電ガスの組成に応じて任意の単一波長
の紫外線を高力率で発生させることができ好ましい。
【００３２】ワーク４が清浄化されると、紫外線発生用
バラスト５４を停止させて、さらにバルブ３８，５７を
閉じ、バルブ４１を開いて蒸気洗浄乾燥室３を大気圧ま
で復圧する。そして、シャッタ５１を開いてワーク４を
蒸気洗浄乾燥室３から取り出す。
バラスト５４を停止させて、さらにバルブ３８，５７を
閉じ、バルブ４１を開いて蒸気洗浄乾燥室３を大気圧ま
で復圧する。そして、シャッタ５１を開いてワーク４を
蒸気洗浄乾燥室３から取り出す。
【００３３】上記実施の形態では、蒸気洗浄乾燥室内に
紫外線発生ランプを設けているが、他の箱体にワークを
移してこの箱体に紫外線発生ランプを設けてワークに紫
外線を照射してもよい。また、ワークを大気中におき、
高濃度酸素でシールし、紫外線発生ランプをワークに照
射してもよい。
紫外線発生ランプを設けているが、他の箱体にワークを
移してこの箱体に紫外線発生ランプを設けてワークに紫
外線を照射してもよい。また、ワークを大気中におき、
高濃度酸素でシールし、紫外線発生ランプをワークに照
射してもよい。
【００３４】
【発明の効果】請求項１の発明は、炭化水素系溶剤を用
いた精密洗浄装置によれば、洗浄室と蒸気洗浄乾燥室と
が上下に気密に分割され、減圧下で可燃性の溶剤で洗浄
されるので、溶剤が燃えることがない。ワークの乾燥
後、蒸気洗浄乾燥室を復圧し、紫外線発生用バラストを
起動し紫外線発生ランプを点灯させ、ワークに紫外線を
照射することにより、この紫外線によってワークに付着
した油性膜成分のＣ−Ｈ結合が切断され、また、蒸気洗
浄乾燥室内の酸素が活性化酸素又はオゾンとなり、最終
炭酸ガスと水になって油性膜成分が酸化分解されて、ワ
ークが清浄化される。そして、ワークの金属と活性酸素
によりワーク表面に酸化膜が生じ、安定した金属本来の
性能を得ることができる。
いた精密洗浄装置によれば、洗浄室と蒸気洗浄乾燥室と
が上下に気密に分割され、減圧下で可燃性の溶剤で洗浄
されるので、溶剤が燃えることがない。ワークの乾燥
後、蒸気洗浄乾燥室を復圧し、紫外線発生用バラストを
起動し紫外線発生ランプを点灯させ、ワークに紫外線を
照射することにより、この紫外線によってワークに付着
した油性膜成分のＣ−Ｈ結合が切断され、また、蒸気洗
浄乾燥室内の酸素が活性化酸素又はオゾンとなり、最終
炭酸ガスと水になって油性膜成分が酸化分解されて、ワ
ークが清浄化される。そして、ワークの金属と活性酸素
によりワーク表面に酸化膜が生じ、安定した金属本来の
性能を得ることができる。
【００３５】また、油性膜成分を酸化分解するのに、蒸
気洗浄乾燥室を用いているので、蒸気洗浄乾燥室の復圧
及び他のガスへの置換が容易に行うことができ、別に精
密洗浄用の箱体を設ける必要もない。
気洗浄乾燥室を用いているので、蒸気洗浄乾燥室の復圧
及び他のガスへの置換が容易に行うことができ、別に精
密洗浄用の箱体を設ける必要もない。
【００３６】請求項２記載の発明によれば、ワークの乾
燥後、蒸気洗浄乾燥室を復圧せずに高濃度酸素を供給し
て、紫外線発生ランプを点灯させ、ワークに紫外線を照
射することにより、ワークに付着した油性膜成分のＣ−
Ｈ供給が切断される。また、紫外線によって蒸気洗浄乾
燥室内の酸素が活性酸素又はオゾンとなり、ワークの油
性膜成分が最終炭酸ガスと水にまで酸化分解が急速に行
われ、ワークがさらに清浄化されるとともに、ワークの
金属と活性酸素によりワーク表面に酸化膜が生じ、安定
したワークとなり、金属本来の性能を得ることができ
る。
燥後、蒸気洗浄乾燥室を復圧せずに高濃度酸素を供給し
て、紫外線発生ランプを点灯させ、ワークに紫外線を照
射することにより、ワークに付着した油性膜成分のＣ−
Ｈ供給が切断される。また、紫外線によって蒸気洗浄乾
燥室内の酸素が活性酸素又はオゾンとなり、ワークの油
性膜成分が最終炭酸ガスと水にまで酸化分解が急速に行
われ、ワークがさらに清浄化されるとともに、ワークの
金属と活性酸素によりワーク表面に酸化膜が生じ、安定
したワークとなり、金属本来の性能を得ることができ
る。
【図１】本発明の炭化水素系溶剤を用いた精密洗浄装置
の一実施の形態の概略構成図である。
の一実施の形態の概略構成図である。
【図２】従来の炭化水素溶剤を用いた洗浄装置の概略構
成図である。
成図である。
１ 減圧洗浄乾燥装置本体 ２ 浸漬洗浄室 ３ 蒸気洗浄乾燥室 ３ａ （蒸気洗浄乾燥室の）天井 ３ｂ 開口部 ４ ワーク ６ 洗浄液 ７ 昇降台 ７ａ，７ｂ 段差 ８ 断熱台 １１ （浸漬洗浄室の）天井 １１ａ，１１ｂ 段差 １１ｃ 開口部 １２，１３，１４ Ｏリング １６ 昇降機構 １７ 昇降リフトワイヤ １８ 止金 ２１ 蒸留機 ２２ 加熱機 ２３ 冷却器 ２４，３３ 給水管 ２７ 供給管 ３０ ヒータ ３１ シャワノズル ２６，３４，３８，４１，４３，４６，５７ バルブ ３６，４２，４５ 排水管 ３７，４０ 排気管 ３９ 真空ポンプ ４４ ストレーナ ５１ シャッタ ５３ 紫外線発生ランプ ５４ 紫外線発生用バラスト ５６ 高濃度酸素発生装置 ５８ 空気
フロントページの続き (72)発明者 伊藤 達規 大阪府大阪市東淀川区淡路２丁目14番３号 株式会社三社電機製作所内
Claims (2)
- 【請求項１】 下部にワークを炭化水素系溶剤の洗浄液
により洗浄させる洗浄室と、上部に洗浄後のワークを減
圧下上記で炭化水素系溶剤を用いた洗浄液の蒸気を噴出
させて蒸気洗浄を行い、減圧下で乾燥させさらに復圧機
能を有する蒸気洗浄乾燥室と、上記洗浄室と上記蒸気洗
浄乾燥室とを上下に分割する分割手段と、上記蒸気洗浄
乾燥室に活性酸素及びオゾン生成が可能な紫外線を発生
する紫外線発生ランプと、上記紫外線発生ランプを起動
する紫外線発生用バラストとを備えた炭化水素系溶剤を
用いた精密洗浄装置。 - 【請求項２】 下部にワークを炭化水素系溶剤の洗浄液
により洗浄させる洗浄室と、上部に洗浄後のワークを減
圧下で上記炭化水素系溶剤を用いた洗浄液の蒸気を噴出
させて蒸気洗浄を行い、減圧下で乾燥させさらに復圧機
能を有する蒸気洗浄乾燥室と、上記洗浄室と上記蒸気洗
浄乾燥室とを上下に分割する分割手段と、上記蒸気洗浄
乾燥室に活性酸素及びオゾン生成が可能な紫外線を発生
する紫外線発生ランプと、上記紫外線発生ランプを起動
する紫外線発生用バラストと、上記蒸気洗浄乾燥室に高
濃度酸素供給する高濃度酸素発生装置とを備えた精密洗
浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18816996A JP3210864B2 (ja) | 1996-06-27 | 1996-06-27 | 炭化水素系溶剤を用いた精密洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18816996A JP3210864B2 (ja) | 1996-06-27 | 1996-06-27 | 炭化水素系溶剤を用いた精密洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1018069A true JPH1018069A (ja) | 1998-01-20 |
| JP3210864B2 JP3210864B2 (ja) | 2001-09-25 |
Family
ID=16218969
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18816996A Expired - Fee Related JP3210864B2 (ja) | 1996-06-27 | 1996-06-27 | 炭化水素系溶剤を用いた精密洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3210864B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1190370A (ja) * | 1997-09-22 | 1999-04-06 | Iwasaki Electric Co Ltd | 表面処理装置及びその処理方法 |
| JP2001181874A (ja) * | 1999-12-20 | 2001-07-03 | Mitsubishi Electric Corp | 脱脂洗浄方法及び洗浄装置 |
| JP2003236479A (ja) * | 2001-12-14 | 2003-08-26 | Jh Corp | 真空脱脂洗浄方法と装置 |
| JP2019042683A (ja) * | 2017-09-04 | 2019-03-22 | ジャパン・フィールド株式会社 | 被洗浄物の減圧乾燥及び洗浄移送装置 |
| DE112017006165B4 (de) | 2016-12-07 | 2024-06-06 | Ihi Corporation | Reinigungsverfahren und Reinigungsvorrichtung |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4575513B1 (ja) * | 2009-08-26 | 2010-11-04 | ジャパン・フィールド株式会社 | 被乾燥物の乾燥方法及びその装置 |
-
1996
- 1996-06-27 JP JP18816996A patent/JP3210864B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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| JP2003236479A (ja) * | 2001-12-14 | 2003-08-26 | Jh Corp | 真空脱脂洗浄方法と装置 |
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| JP2019042683A (ja) * | 2017-09-04 | 2019-03-22 | ジャパン・フィールド株式会社 | 被洗浄物の減圧乾燥及び洗浄移送装置 |
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| JP3210864B2 (ja) | 2001-09-25 |
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