JPH1017957A - 微細な鋳造組織を有する銅合金インゴットの製造方法 - Google Patents

微細な鋳造組織を有する銅合金インゴットの製造方法

Info

Publication number
JPH1017957A
JPH1017957A JP17530596A JP17530596A JPH1017957A JP H1017957 A JPH1017957 A JP H1017957A JP 17530596 A JP17530596 A JP 17530596A JP 17530596 A JP17530596 A JP 17530596A JP H1017957 A JPH1017957 A JP H1017957A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
copper alloy
alloy
alloy ingot
copper
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17530596A
Other languages
English (en)
Inventor
Naoki Takuno
直毅 宅野
Kenji Yajima
健児 矢島
Yutaka Koshiba
豊 古柴
Tokukazu Ishida
徳和 石田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Materials Corp filed Critical Mitsubishi Materials Corp
Priority to JP17530596A priority Critical patent/JPH1017957A/ja
Publication of JPH1017957A publication Critical patent/JPH1017957A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体装置用リードフレームを製造すること
のできる微細な鋳造組織を有するCu−Fe−C系銅合
金インゴットの製造方法を提供する。 【解決手段】 純銅を溶解して得られた溶湯に、C:
0.005〜1.2重量%、Si:0.005〜1.0
重量%、Mn:0.1〜3.0重量%およびM(ただ
し、MはAl、Zr、Cr、P、Tiの内の1種または
2種以上を示す):0.01〜0.1重量%を含有し、
残りがFeおよび不可避不純物からなる組成のFe基母
合金を添加し鋳造することにより微細な鋳造組織を有す
るCu−Fe−C系銅合金インゴットを製造する方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、FeおよびCを
必須成分として含む組成の微細鋳造組織を有するCu−
Fe−C系銅合金インゴットの製造方法に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】一般に、ICやLSIなどの半導体装置
用リードフレームは主に銅合金薄帯をプレス加工、打抜
き加工、曲げ加工などしたのちメッキすることにより作
製されており、この時使用される銅合金薄帯として、F
e:1.5〜2.3重量%を必須成分とし、さらに必要
に応じてP、Znなどを含有する合金などが使用されて
いる。
【0003】さらに、近年、純銅溶湯にCを含むFe基
母合金を添加し、溶湯にCを10〜100ppm含有せ
しめることにより微細な鋳造組織を有する銅合金インゴ
ットを製造し、このインゴットを圧延してCu−Fe−
C系銅合金薄帯を製造する方法も提案されている(特開
平7−242965)。この方法では前記Cを10〜1
00ppm含有せしめたCu−Fe−C系銅合金薄帯を
圧延するための銅合金インゴットは、通常、電気銅、タ
フピッチ銅などを溶解して得られた純銅溶湯にFe−C
母合金を添加し、さらに必要に応じて、その他の添加成
分元素を添加して成分調整し、得られた溶湯を連続鋳造
または半連続鋳造することにより製造している。
【0004】このようにして製造されたインゴットは熱
間圧延して熱延板とし、ついで水冷した後、面削し、冷
間圧延ー時効処理ー表面研磨を繰り返した後、最終圧延
し、歪み取り焼鈍と酸洗を施すことにより銅合金薄帯と
し、この銅合金薄帯を前述のようにプレス加工、打抜き
加工、曲げ加工などの金属加工を施したのち、メッキす
ることによりICやLSIなどの半導体装置用リードフ
レームに成形していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前述のように、従来の
C:10〜100ppmを含有するCu−Fe−C系銅
合金は、電気銅、タフピッチ銅などを溶解して得られた
純銅溶湯にFe−C母合金を添加して作られるが、Fe
を1.5〜2.3重量%含有せしめることは簡単に成し
得るものの、Cu合金中に溶解しにくいCを10〜10
0ppm含有せしめることは容易ではない。
【0006】そのため純銅溶湯にFeが1.5〜2.3
重量%含有しても、Cは10〜100ppm含有されな
いことが多く、Cを10〜100ppm含有すべくFe
−C母合金を多めに添加すると、Fe含有量が:1.5
〜2.3重量%の範囲内を越えてしまい、鋳塊に鉄系の
晶出物や析出物が発生し、これが表面欠陥として現れる
ので好ましくない。
【0007】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
かかる観点から、Fe含有銅合金溶湯におけるCの含有
歩留まりを向上させ、効率良く目的とするC含有量を含
むCu−Fe−C系銅合金インゴットを得るべく研究を
行った結果、純銅溶湯に、C:0.005〜1.2重量
%、Si:0.005〜1.0重量%、Mn:0.1〜
3.0重量%およびM:0.01〜0.1重量%(ただ
し、Mは、Al、Zr、Cr、P、Tiの内の1種また
は2種以上を示す、以下同じ)を含有し、残りがFeお
よび不可避不純物からなる組成のFe基母合金を添加す
ると、Cが純銅溶湯中に容易に溶解し、所定のC含有量
のCu−Fe−C系銅合金インゴットを容易に得ること
ができる、という知見を得たのである。
【0008】この発明は、かかる知見にもとづいてなさ
れたものであって、純銅を溶解して得られた溶湯にFe
基母合金を添加し鋳造することにより微細な鋳造組織を
有するCu−Fe−C系銅合金インゴットを製造する方
法において、 前記溶湯に添加するFe基母合金は、
C:0.005〜1.2重量%、Si:0.005〜
1.0重量%、Mn:0.1〜3.0重量%およびM:
0.01〜0.1重量%を含有し、残りがFeおよび不
可避不純物からなる組成のFe系母合金である微細な鋳
造組織を有するCu−Fe−C系銅合金インゴットの製
造方法、に特徴を有するものである。
【0009】純銅を溶解して得られた溶湯にSi:0.
005〜1.0重量%、Mn:0.1〜3.0重量%お
よびM:0.01〜0.1重量%を含有するFe−C母
合金を添加することにより従来よりもCu溶湯中のCが
一層溶解しやすくなり、C含有量の調整を正確に行うこ
とができる。このようにしてC含有量を調整して得られ
たCu−Fe−C系銅合金インゴットは、温度:900
〜1000℃で熱間圧延したのち、水冷、面削、冷間圧
延を行い、ついで、温度:450〜650℃で1〜2時
間保持の時効処理したのち、表面研磨、最終圧延し、歪
み取り焼鈍などを施してCu−Fe−C系銅合金薄帯に
仕上げられる。
【0010】この発明の微細な鋳造組織を有する銅合金
インゴットを製造するには、純銅溶湯にFe、Si、M
n、CおよびMをそれぞれ単独で添加しても微細な鋳造
組織を作ることができない。C:0.005〜1.2重
量%、Si:0.005〜1.0重量%およびMn:
0.1〜3.0重量%を含有し、さらにMを0.01〜
0.1重量%を含有し、残りがFeおよび不可避不純物
からなる組成を有するFe基母合金を添加することが必
要である。
【0011】この発明のFe基母合金に含まれるCが
0.005重量%未満では効果がなく、Cが1.2重量
%を越えて含まれているとCが異物として析出するので
好ましくない。さらにSiが0.005重量%未満では
効果がなく、Siが1.0重量%を越えて含まれている
とSiが異物として析出するので好ましくない。また、
Mnが0.1重量%未満では効果がなく、Mnが3.0
重量%を越えて含まれていると導電率が低下するので好
ましくない。さらに、Fe基母合金に含まれるMが0.
01重量%未満では効果がなく、Mが0.1重量%を越
えて含まれていると導電率が低下するので好ましくな
い。
【0012】
【発明の実施の形態】表1に示される成分組成のMを含
むFe基母合金A〜Gおよび表2に示される成分組成の
Mを含まないFe基母合金a〜gを用意した。
【0013】
【表1】
【0014】
【表2】
【0015】実施例1〜7 電気銅をカーボンで覆うことにより大気から遮断し、通
常の溶解炉を用いて溶解し、得られた溶湯を取鍋に注入
した。取鍋に注入する際に、溶湯流に表1に示される成
分組成のFe基母合金を表3に示される溶湯全重量に対
する割合で添加して成分調整し、Cu−Fe−C系銅合
金溶湯を作製した。
【0016】得られたCu−Fe−C系銅合金溶湯を鋳
型に鋳造して、厚さ:180mm、幅:450mm、長
さ:2400mmの寸法を有するCu合金インゴットを
製造し、これらCu−Fe−C系銅合金インゴットに含
まれるC量を測定し、Cの歩留まり率を測定し、その結
果を表3に示した。
【0017】従来例1〜7 電気銅をカーボンで覆うことにより大気から遮断し、通
常の溶解炉を用いて溶解し、得られた溶湯を取鍋に注入
した。取鍋に注入する際に、溶湯流に表2に示される成
分組成のFe基母合金を表4に示される溶湯全重量に対
する割合で添加して成分調整し、さらに必要に応じてそ
の他の添加成分を添加して成分調整してCu−Fe−C
系銅合金溶湯を作製し、以下、実施例1〜7とまったく
同様にしてCu−Fe−C系銅合金溶湯を作製し、得ら
れたCu−Fe−C系銅合金溶湯を鋳型に鋳造して、厚
さ:180mm、幅:450mm、長さ:2400mm
の寸法を有するCu合金インゴットを製造し、これらC
u−Fe−C系銅合金インゴットに含まれるC量を測定
し、Cの歩留まり率を測定し、その結果を表4に示し
た。
【0018】
【表3】
【0019】
【表4】 表3および表4に示される結果から、溶湯にMを含有す
るFe基母合金A〜Gを添加する実施例1〜7は、Mを
含まないFe基母合金a〜gを添加する従来例1〜7よ
りもCu−Fe−C系銅合金インゴットに含まれるC含
有量が多いところから、Cの歩留まり率が向上している
ことがわかる。
【0020】
【発明の効果】上述のように、この発明の方法による
と、Cを歩留まり良く添加することができるので所定の
Cを効率良く添加して健全なCu−Fe−C系銅合金イ
ンゴットを得ることができ、このインゴットは熱間圧延
中に割れが発生することがなく、さらに圧延して得られ
たCu−Fe−C系銅合金薄帯には表面欠陥の発生がな
いころから、ICやLSIなどの半導体装置用リードフ
レームを歩留まり良く製造することができ、工業上優れ
た効果をもたらすものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石田 徳和 福島県いわき市小名浜字渚1−1 小名浜 製錬株式会社小名浜製錬所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 純銅を溶解して得られた溶湯にFe基母
    合金を添加し鋳造することにより微細な鋳造組織を有す
    るCu−Fe−C系銅合金インゴットを製造する方法に
    おいて、 前記Fe基母合金は、C:0.005〜1.2重量%、
    Si:0.005〜1.0重量%、Mn:0.1〜3.
    0重量%およびM(ただし、Mは、Al、Zr、Cr、
    P、Tiの内の1種または2種以上):0.01〜0.
    1重量%を含有し、残りがFeおよび不可避不純物から
    なる組成のFe基母合金であることを特徴とする微細な
    鋳造組織を有するCu−Fe−C系銅合金インゴットの
    製造方法。
JP17530596A 1996-07-05 1996-07-05 微細な鋳造組織を有する銅合金インゴットの製造方法 Pending JPH1017957A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17530596A JPH1017957A (ja) 1996-07-05 1996-07-05 微細な鋳造組織を有する銅合金インゴットの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17530596A JPH1017957A (ja) 1996-07-05 1996-07-05 微細な鋳造組織を有する銅合金インゴットの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1017957A true JPH1017957A (ja) 1998-01-20

Family

ID=15993781

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17530596A Pending JPH1017957A (ja) 1996-07-05 1996-07-05 微細な鋳造組織を有する銅合金インゴットの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1017957A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109868388A (zh) * 2019-04-15 2019-06-11 太原科技大学 一种新型Cu-Fe-C合金及其制备方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109868388A (zh) * 2019-04-15 2019-06-11 太原科技大学 一种新型Cu-Fe-C合金及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3999676B2 (ja) 銅基合金およびその製造方法
JP4677505B1 (ja) 電子材料用Cu−Ni−Si−Co系銅合金及びその製造方法
JP4708485B2 (ja) 電子材料用Cu−Co−Si系銅合金及びその製造方法
JP4799701B1 (ja) 電子材料用Cu−Co−Si系銅合金条及びその製造方法
JP5451674B2 (ja) 電子材料用Cu−Si−Co系銅合金及びその製造方法
JP2012072470A (ja) 電子材料用Cu−Co−Si系銅合金及びその製造方法
JP2009007625A (ja) 電気・電子部品用高強度銅合金の製造方法
CN111575528A (zh) 含Zr铜合金材料的制造方法及其铜合金材料
JP2962139B2 (ja) メッキ性および導電性に優れた銅合金およびこの銅合金からなる薄板または条
JPH10287939A (ja) 打抜加工性に優れた電気電子機器用銅合金
JP3763234B2 (ja) 高強度高導電率高耐熱性銅基合金の製造方法
JPH1017957A (ja) 微細な鋳造組織を有する銅合金インゴットの製造方法
JP3519863B2 (ja) 表面割れ感受性の低いりん青銅及びその製造方法
JPH07113133B2 (ja) 連続鋳造鋳型用Cu合金
JPH0243811B2 (ja) Riidofureemuyodogokinoyobisonoseizoho
JP3317179B2 (ja) Fe、C含有銅合金の製造方法
JP3344687B2 (ja) リードフレーム用銅合金
JP5623960B2 (ja) 電子材料用Cu−Ni−Si系銅合金条及びその製造方法
JP3317145B2 (ja) Fe含有銅合金溶湯にCを接種する方法
JP2000017354A (ja) 熱間加工性に優れた高力銅合金
JP2991319B2 (ja) 高強度・高導電性銅合金及び製造方法(2)
JP4329065B2 (ja) 含Ti銅合金板または条の製造方法
JPH08193231A (ja) 微細な鋳造組織を有する銅合金インゴットの製造方法
JPH08283856A (ja) Fe−Cu−Co基合金半硬質磁性材料の製造方法
CN116987928A (zh) 一种无磁蚀刻框架用铜合金及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20020702