JPH10178149A - Lead frame member and its manufacturing method - Google Patents

Lead frame member and its manufacturing method

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JPH10178149A
JPH10178149A JP8352571A JP35257196A JPH10178149A JP H10178149 A JPH10178149 A JP H10178149A JP 8352571 A JP8352571 A JP 8352571A JP 35257196 A JP35257196 A JP 35257196A JP H10178149 A JPH10178149 A JP H10178149A
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Japan
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lead frame
lead
inner lead
fixing
frame member
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JP8352571A
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Japanese (ja)
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Shiyuubou Taya
周望 田谷
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lead frame member and its manufacturing method, wherein, by screen printing method and dispense method, an inner lead fixing resin layer is formed directly. SOLUTION: With the entirety of one surface of an inner lead 112 as a lead frame raw material surface 112S, a thin-wall part 112a which is thinner than a raw material is formed at a tip end of the inner lead 112. Plural number of inner lead fixing parts 120 and 125 of insulating resin, fix all inner leads 112 while bridging and are in train as far as a tab suspension bar 114, supported with the tab suspension bar 114, while being provided in such shape as to surround a die pad 111. At least the first inner lead fixing part 120 is provided on the recessed surface side below the lead frame raw material surface 112S of the thin-wall part 112a, so as to bridge the inner leads 112. The second inner lead-fixing part 125 is provided at a place of the same thickness as the lead frame raw material of the inner lead 112, so as to bridge the inner leads 112.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は,樹脂封止型半導体
装置の組立部材であるリードフレーム部材に関するもの
で、特に、微細なインナーリードピッチを有する半導体
装置用リードフレーム部材とその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lead frame member as an assembly member of a resin-sealed semiconductor device, and more particularly to a lead frame member for a semiconductor device having a fine inner lead pitch and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体装置は、電子機器の高性能
化と軽薄短小の傾向からLSIはASICに代表される
ように、ますます高集積化、高機能化の一途をたどって
きている。多端子IC、特にゲートアレイやスタンダー
ドセルに代表されるASICあるいは、マイコン、DS
P(Digital Signal Processo
r)等をコストパーフォーマンス高くユーザに提供する
パッケージとしてリードフレームを用いたプラスチック
QFP(Quad Flat Package)が主流
となり、現在では300ピンを超えるものまで実用化に
至ってきている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the trend toward higher performance of electronic devices and lighter, thinner and smaller electronic devices, LSIs, as typified by ASICs, have been increasingly integrated and functionalized. Multi-terminal ICs, especially ASICs represented by gate arrays and standard cells, microcomputers, DS
P (Digital Signal Processo)
As a package for providing a user with high cost performance such as r), a plastic QFP (Quad Flat Package) using a lead frame has become mainstream, and has now been put to practical use up to 300 pins or more.

【0003】QFPは、パッケージの4方向に外部回路
と電気的に接続するためのアウターリードを設けた構造
で多端子化に対応できるものとして開発されてきたが、
一般には図6(a)に示すリードフレーム630とイン
ナーリードの固定用テープ640からなるリードフレー
ム部材620を用いており、図6(b)に示すように、
ダイパッド631上に半導体素子610を搭載し、銀め
っき等の表面処理がなされたインナーリード632先端
部と半導体素子610の端子611とをワイヤ612に
て結線し、封止用樹脂613で全体を封止し、さらに、
ダムバー部634をカットし、アウターリード633を
ガルウイング状に成形している。 尚、図6(a)
(ロ)は、図6(a)(イ)のF1−F2における断面
の一部を拡大して示している。ここで用いられる単層リ
ードフレーム630は、通常、42合金(42%ニッケ
ル−鉄合金)あるいは銅合金などの電気伝導率が高く,
且つ機械的強度が大きい金属材を素材とし、フォトエッ
チング法かあるいはスタンピング法により、外形加工さ
れていた。
The QFP has been developed as a structure in which outer leads for electrically connecting to an external circuit are provided in four directions of a package and which can cope with multi-terminals.
Generally, a lead frame member 620 composed of a lead frame 630 and an inner lead fixing tape 640 shown in FIG. 6A is used. As shown in FIG.
The semiconductor element 610 is mounted on the die pad 631, and the tip of the inner lead 632, which has been subjected to a surface treatment such as silver plating, is connected to the terminal 611 of the semiconductor element 610 by a wire 612. The whole is sealed with a sealing resin 613. Stop, and
The dam bar portion 634 is cut, and the outer lead 633 is formed in a gull wing shape. FIG. 6 (a)
(B) is an enlarged view of a part of a cross section taken along line F1-F2 in FIGS. The single-layer lead frame 630 used here usually has a high electrical conductivity such as a 42 alloy (42% nickel-iron alloy) or a copper alloy.
In addition, a metal material having high mechanical strength is used as a material, and the outer shape is processed by a photo etching method or a stamping method.

【0004】そして、多端子の樹脂封止型半導体装置
(プラスチック封止型パッケージ)に用いられる図6
(a)に示すリードフレーム部材の作製は、図7に示す
工程で行われていた。以下、簡単に図7に示す工程を説
明しておく。先ず、薄い金属板からなるリードフレーム
素材をエッチングないしスタンピングにより外形加工す
る。(図7(a)) インナーリード632の先端に延設し、インナーリード
632同志を連結する連結部638を設けた状態にして
外形加工は行われる。連結部638は、半導体装置作製
の際には不要で、後述する工程にて除去される。この場
合にダイパッド631とも連結している。次いで、銀め
っき等の貴金属めっき650をインナーリード632先
端部に施す。(図7(b)) 尚、必要な場合は、ダイパッド631にも貴金属めっき
を施す。インナーリード632先端部の貴金属めっき6
50はワイヤボンディングのためのもので、ダイパッド
631の貴金属めっきはダイボンディングのためのもの
である。次に、インナーリードの固定用テープ640を
インナーリード632を跨ぐようにして貼り付けた後、
熱圧着によりインナーリード632に貼り付ける。(図
7(c)) インナーリード632の固定用テープ640は、接着剤
付きポリイミドテープが一般には用いられるが、インナ
ーリード632に貼り付ける前に金型にて所定の形状に
加工した後、熱圧着によりインナーリード632に貼り
付けられる。次いで、インナーリード632に延設さ
れ、インナーリード632同志を連結する連結部638
をプレスにて除去する。(図7(d)) この後、必要に応じ、ダイパッド631をダウンセット
加工する。(図7(e)) 尚、多端子を必要としない樹脂封止型半導体装置に用い
られるリードフレーム部材の場合は、上記連結部638
を設けないで、インナーリード固定用テープ640を貼
りつける場合もある。この場合は、図7に示す工程にお
いて図7(d)の工程を必要としない。
FIG. 6 shows a multi-terminal resin-encapsulated semiconductor device (plastic-encapsulated package).
The production of the lead frame member shown in (a) was performed in the process shown in FIG. Hereinafter, the process shown in FIG. 7 will be briefly described. First, a lead frame material made of a thin metal plate is externally processed by etching or stamping. (FIG. 7A) The outer shape processing is performed in a state where the connecting portion 638 is provided to extend to the tip of the inner lead 632 and connect the inner leads 632 to each other. The connecting portion 638 is unnecessary when manufacturing a semiconductor device, and is removed in a step described later. In this case, it is also connected to the die pad 631. Next, a noble metal plating 650 such as silver plating is applied to the tip of the inner lead 632. (FIG. 7B) If necessary, the die pad 631 is also plated with a noble metal. Noble metal plating 6 at the tip of inner lead 632
50 is for wire bonding, and the noble metal plating of the die pad 631 is for die bonding. Next, after attaching the inner lead fixing tape 640 so as to straddle the inner lead 632,
It is attached to the inner lead 632 by thermocompression bonding. (FIG. 7 (c)) As the fixing tape 640 for the inner lead 632, a polyimide tape with an adhesive is generally used. It is attached to the inner lead 632 by crimping. Next, a connecting portion 638 extending to the inner lead 632 and connecting the inner leads 632 to each other.
Is removed with a press. (FIG. 7D) Thereafter, if necessary, the die pad 631 is subjected to downset processing. (FIG. 7E) In the case of a lead frame member used for a resin-encapsulated semiconductor device that does not require multiple terminals, the connection portion 638 is used.
In some cases, the inner lead fixing tape 640 may be attached without providing the tape. In this case, the step shown in FIG. 7D is not required in the step shown in FIG.

【0005】しかし、半導体装置のさらなる多端子化の
要求は強く、リードフレームの外形加工にますます微細
化が求められるようになってきた。そして、図6(a)
に示すリードフレーム部材620におけるリードフレー
ム素材の薄板化による微細化加工では、リード強度や実
装の際の必要な強度からくる制限があり、もはや限界を
超えるものとなってきた。この為、インナーリード先端
部のみをリードフレーム素材より薄肉化し、一層の微細
化加工を可能とし、リードおよびリードフレーム全体の
強度を確保したリードフレームが開発されるようになっ
てきた。
[0005] However, there is a strong demand for more terminals in a semiconductor device, and there is an increasing demand for miniaturization of the outer shape of a lead frame. Then, FIG.
In the miniaturization processing by thinning the lead frame material in the lead frame member 620 shown in (1), there are limitations due to the lead strength and the strength required for mounting, and the limit has been exceeded. For this reason, a lead frame has been developed in which only the tip of the inner lead is made thinner than the lead frame material, and further miniaturization is possible, and the strength of the lead and the entire lead frame is secured.

【0006】ここで、インナーリード先端部のみをリー
ドフレーム素材より薄肉化したリードフレームの外形加
工方法を分かり易く説明するため、リードフレーム素材
から一部を薄肉状に形成する1例を図5に挙げる。図5
は、インナーリード先端部を薄肉状に形成するインナー
リード先端部の各工程の断面図である。尚、リードフレ
ーム素材の厚さのままで外形加工する箇所については、
リードフレーム素材の両面にほぼ同じ形状、サイズのレ
ジストパターンを形成してエッチングを行う。図5中、
510はリードフレーム素材、510Aは薄肉部、52
0A、520Bはレジストパターン、530は第一の開
口部、540は第二の開口部、550は第一の凹部、5
60は第二の凹部、570は平坦状面、580はエッチ
ング抵抗層(充填材層)である。先ず、銅合金からな
り、厚さが0.15mmの帯び状板からなるリードフレ
ーム素材の両面を洗浄、脱脂処理等を行った後に、重ク
ロム酸カリウムを感光剤としたカゼイン水溶液の混合液
からなるレジストを両面に塗布し、レジストを乾燥後、
所定のパターン版を用いてリードフレーム素材の両面の
レジストの所定領域をそれぞれ露光し、現像処理を行
い、所定形状の第一の開口部530、第二の開口部54
0をもつレジストパターン520A、520Bを形成し
た。(図5(a)) 第一の開口部530は、後のエッチング加工においてリ
ードフレーム素材510をこの開口部からベタ状にリー
ドフレーム素材510よりも薄肉に腐蝕するためのもの
で、レジストの第二の開口部540は、インナーリード
先端部の形状を形成するためのものである。次いで、液
温50°C、比重46ボーメの塩化第二鉄溶液を用い
て、スプレー圧3.0kg/cm2 にて、レジストパタ
ーンが形成されたリードフレーム素材510の両面をエ
ッチングし、ベタ状(平坦状)に腐蝕された第一の凹部
550の深さhがリードフレーム部材の約2/3程度に
達した時点でエッチングを止めた。(図5(b)) 第1回目のエッチングにおいてリードフレーム素材51
0の両面から同時にエッチングする理由は、両面からエ
ッチングすることにより、後述する第2回目のエッチン
グ時間を短縮するためで、レジストパターン520B側
からのみの片面エッチングの場合と比べ、第1回目エッ
チングと第2回目エッチングのトータル時間が短縮され
る。
FIG. 5 shows an example in which a part of a lead frame material is formed to be thinner in order to easily explain a method of processing the outer shape of a lead frame in which only the tip of the inner lead is made thinner than the lead frame material. I will. FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view of each step of the inner lead tip portion for forming the inner lead tip portion into a thin shape. In addition, about the place to process the outer shape with the thickness of the lead frame material,
A resist pattern having substantially the same shape and size is formed on both sides of the lead frame material and etching is performed. In FIG.
510 is a lead frame material, 510A is a thin portion, 52
0A, 520B is a resist pattern, 530 is a first opening, 540 is a second opening, 550 is a first recess,
60 is a second concave portion, 570 is a flat surface, and 580 is an etching resistance layer (filler layer). First, after cleaning and degreasing both sides of a lead frame material made of a copper alloy and having a thickness of 0.15 mm and having a strip shape, a mixed solution of a casein aqueous solution using potassium dichromate as a photosensitive agent is used. Resist on both sides and after drying the resist,
Using a predetermined pattern plate, predetermined regions of the resist on both sides of the lead frame material are respectively exposed and developed, and a first opening 530 and a second opening 54 having a predetermined shape are formed.
The resist patterns 520A and 520B having 0 were formed. (FIG. 5 (a)) The first opening 530 is for etching the lead frame material 510 solidly from the opening and thinner than the lead frame material 510 in a later etching process. The second opening 540 is for forming the shape of the tip of the inner lead. Next, using a ferric chloride solution having a liquid temperature of 50 ° C. and a specific gravity of 46 Baume, the both surfaces of the lead frame material 510 on which the resist pattern was formed were etched at a spray pressure of 3.0 kg / cm 2 to form a solid state Etching was stopped when the depth h of the first recess 550 corroded (flat) reached about 2 of the lead frame member. (FIG. 5B) In the first etching, the lead frame material 51 is used.
The reason for simultaneous etching from both sides is to shorten the second etching time to be described later by etching from both sides. Compared to the case of single-side etching only from the resist pattern 520B side, the first etching and the The total time of the second etching is reduced.

【0007】次いで、第一の開口部530側の腐蝕され
た第一の凹部550にエッチング抵抗層580としての
耐エッチング性のあるホットメルト型ワックス(ザ・イ
ンクテック社製の酸ワックス、型番MR−WB6)を、
ダイコータを用いて、塗布し、ベタ状(平坦状)に腐蝕
された第一の凹部550に埋め込んだ。レジストパター
ン520B上も該エッチング抵抗層580に塗布された
状態とした。(図5(c)) エッチング抵抗層580を、レジストパターン520B
上全面に塗布する必要はないが、第一の凹部550を含
む一部にのみ塗布することは難しい為に、図5(c)に
示すように、第一の凹部550とともに、第一の開口部
530側全面にエッチング抵抗層580を塗布した。本
実施例で使用したエッチング抵抗層580は、アルカリ
溶解型のワックスであるが、基本的にエッチング液に耐
性があり、エッチング時にある程度の柔軟性のあるもの
が好ましく、特に上記ワックスに限定されず、UV硬化
型のものでも良い。このようにエッチング抵抗層580
をインナーリード先端部の形状を形成するためのパター
ンが形成された面側の腐蝕された第一の凹部550に埋
め込むことにより、後工程でのエッチング時に第一の凹
部550が腐蝕されて大きくならないようにしていると
ともに、高精細なエッチング加工に対しての機械的な強
度補強をしており、スプレー圧を高く(3.0kg/c
2 )することができ、これによりエッチングが深さ方
向に進行し易すくなる。この後、第2回目エッチングを
行い、ベタ状(平坦状)に腐蝕された第一の凹部550
形成面とは反対側の凹部560側からリードフレーム素
材510をエッチングし、貫通させ、インナーリード先
端薄肉部を形成した。(図5(d))第1回目のエッチ
ング加工にて作製された、リードフレーム面に平行なエ
ッチング形成面は平坦であるが、この面を挟む2面はイ
ンナーリード側にへこんだ凹状である。次いで、洗浄、
エッチング抵抗層580の除去、レジスト膜(レジスト
パターン520A、520B)の除去を行い、インナー
リード先端薄肉部が微細加工されたリードフレームを得
た。(図5(e)) エッチング抵抗層580とレジスト膜(レジストパター
ン520A、520B)の除去は水酸化ナトリウム水溶
液により溶解除去した。
Next, a hot-melt type wax (acid wax manufactured by The Inktec Co., Ltd., model No. MR) serving as an etching resistance layer 580 is formed in the corroded first concave portion 550 on the first opening 530 side. −WB6),
It was applied using a die coater and embedded in the first concave portion 550 which was corroded in a solid shape (flat shape). The resist pattern 520B was also applied to the etching resistance layer 580. (FIG. 5C) The etching resistance layer 580 is formed by using a resist pattern 520B.
Although it is not necessary to apply the coating to the entire upper surface, it is difficult to apply the coating to only a part including the first concave portion 550. Therefore, as shown in FIG. An etching resistance layer 580 was applied to the entire surface of the portion 530 side. The etching resistance layer 580 used in the present embodiment is an alkali-soluble wax, but it is basically preferable that it is resistant to an etchant and has some flexibility at the time of etching, and is not particularly limited to the above wax. , UV curing type may be used. Thus, the etching resistance layer 580
Is embedded in the corroded first concave portion 550 on the surface side on which the pattern for forming the shape of the inner lead tip portion is formed, so that the first concave portion 550 is not corroded and becomes large during etching in a later step. As well as mechanical strength reinforcement for high-definition etching, and high spray pressure (3.0 kg / c
m 2 ), which facilitates the progress of etching in the depth direction. Thereafter, a second etching is performed to remove the first concave portion 550 which has been corroded in a solid shape (flat shape).
The lead frame material 510 was etched from the concave portion 560 side opposite to the formation surface and penetrated to form a thin portion at the tip of the inner lead. (FIG. 5 (d)) The etched surface parallel to the lead frame surface produced by the first etching process is flat, but the two surfaces sandwiching this surface are concave toward the inner lead. . Then washing,
Removal of the etching resistance layer 580 and removal of the resist films (resist patterns 520A and 520B) were performed to obtain a lead frame in which the thin portion at the tip of the inner lead was finely processed. (FIG. 5E) The etching resistance layer 580 and the resist films (resist patterns 520A and 520B) were removed by dissolving with an aqueous sodium hydroxide solution.

【0008】尚、上記のように、エッチングを2段階に
わけて行うエッチング加工方法を、一般には2段エッチ
ング加工方法と言っており、特に、精度的に優れた加工
方法である。図5に示す、リードフレームの製造におい
ては、2段エッチング加工方法と、パターン形状を工夫
することにより部分的にリードフレーム素材を薄くしな
がら外形加工する方法とが伴行して採られている。尚、
リードフレームのインナーリード先端を薄肉に形成する
方法は、上記エッチング加工方法に限定されるものでは
ない。
As described above, the etching method in which etching is performed in two stages is generally referred to as a two-step etching method, and is a processing method excellent in accuracy in particular. In the manufacture of the lead frame shown in FIG. 5, a two-stage etching method and a method of externally forming the lead frame material while partially reducing the lead frame material by devising a pattern shape are employed. . still,
The method of forming the thinner end of the inner lead of the lead frame is not limited to the above etching method.

【0009】上記の方法によるインナーリード先端薄肉
部の微細化加工は、第二の凹部860の形状と、最終的
に得られるインナーリード先端部の厚さtに左右される
もので、例えば、板厚tを50μmまで薄くすると、図
5(e)に示す、平坦幅W1を100μmとして、イン
ナーリード先端部ピッチpが0.15mmまで微細加工
可能となる。板厚tを30μm程度まで薄くし、平坦幅
W1を70μm程度とすると、インナーリード先端部ピ
ッチpが0.12mm程度まで微細加工ができるが、板
厚t、平坦幅W1のとり方次第ではインナーリード先端
部ピッチpは更に狭いピッチまで作製が可能となる。
The fine processing of the thin portion at the tip of the inner lead by the above method depends on the shape of the second concave portion 860 and the thickness t of the tip of the inner lead finally obtained. When the thickness t is reduced to 50 μm, fine processing can be performed up to the inner lead tip pitch p of 0.15 mm, with the flat width W1 shown in FIG. When the plate thickness t is reduced to about 30 μm and the flat width W1 is set to about 70 μm, fine processing can be performed until the tip p of the inner lead is about 0.12 mm. However, depending on how the thickness t and the flat width W1 are set, the inner lead may be formed. The tip pitch p can be manufactured to a smaller pitch.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】ところが、このように
してインナーリード先端部のみを薄肉に形成したリード
フレームにおいては、前述のインナーリード固定用テー
プを用いた場合、薄肉部とリードフレーム素材の厚さの
部分とで段差があるため、段差部においては、固定用テ
ープの均一な貼り付けが難しく、場合によっては貼り付
けができないという問題があった。固定用テープの均一
な貼り付けができてない場合には、ワイヤボンディング
時におけるクランプが安定してできない。また、別に、
固定用テープのベースに用いられるポリイミドフィルム
は高価な上、その外形加工には金型を用いる必要がある
ため、少量生産品に対しては、コスト高となり、納期も
かかるという問題があり、その対応が求められていた。
However, in such a lead frame in which only the tip of the inner lead is formed thin, when the above-described tape for fixing the inner lead is used, the thickness of the thin portion and the thickness of the lead frame material are reduced. Since there is a step between the first and second portions, it is difficult to apply the fixing tape uniformly at the step, and in some cases, there is a problem that the fixing tape cannot be attached. If the fixing tape cannot be uniformly attached, the clamp during wire bonding cannot be stably performed. Also, separately
The polyimide film used as the base of the fixing tape is expensive, and since it is necessary to use a mold for its outer shape processing, there is a problem that for small-volume products, the cost is high and the delivery time is long. Response was required.

【0011】また、固定用テープを用いずに、リードフ
レームに直接スクリーン印刷によりインナーリード固定
用の樹脂層を形成する方法も知られている。このスクリ
ーン印刷による方法では、塗布量が少ない場合にはリー
ド上面にのみ樹脂が選択的に塗布され、リード間の橋渡
し構造が形成できず、塗布量が多い場合には、リードな
らびにステージ上まで樹脂が塗布されるため樹脂の清掃
を行う必要があり、塗布量を適切に設定できた場合にお
いても印刷用の比較的低粘度に設定され、硬化反応時に
リード間の橋渡し部に位置する樹脂がリード間に落ち込
み、且つリード上の樹脂の表面が曲面になってしまい、
ボンディング時のクランプが不十分となる場合が生じる
という問題がある。そしてまた、固定用テープを用いず
に、ディスペンス法により直接インナーリード固定用の
樹脂層を形成する方法も知られているが、この方法も、
基本的には、スクリーン印刷法と同じ問題を抱えてい
る。これら、スクリーン印刷法、ディスペンス法により
インナーリード固定用の樹脂層を形成した場合には、リ
ード上の樹脂の表面を平面形状としワイヤボンディング
時のクランプを十分なものとする為、樹脂の本硬化前
に、即ち半硬化の状態で熱圧着により樹脂を押し潰し、
表面の高さを揃えることが行われているが、押し潰し時
に樹脂のリード上面への滲みが生じ樹脂層形状精度を悪
くしている。更にディスペンス法では、ディスペンス開
始点と終了点において、塗布量が多くなる為、適用でき
るリードは、タブ吊りバーを開始点、終了点とするよう
な一定の制約があり、タブ吊りバーの幅広化が必要等、
適用できるリードの形状に制限がある。このように、固
定用テープを用いずに、スクリーン印刷法、ディスペン
ス法により直接インナーリード固定用の樹脂層を形成す
る場合にも種々問題があり、その対応が求められてい
た。本発明は、このような状況のもと、固定用テープを
用いた場合の問題や、固定用テープを用いずに、スクリ
ーン印刷法、ディスペンス法により直接インナーリード
固定用の樹脂層を形成する場合の問題を解決できる、リ
ードフレームとインナーリード固定部とを有するリード
フレーム部材を提供しようとするものである。同時に、
該リードフレーム部材の製造方法を提供しようとするも
のである。
There is also known a method of forming an inner lead fixing resin layer by screen printing directly on a lead frame without using a fixing tape. According to this screen printing method, when the coating amount is small, the resin is selectively applied only to the upper surface of the lead, and a bridge structure between the leads cannot be formed. When the coating amount is large, the resin extends to the lead and the stage. It is necessary to clean the resin because it is applied, and even if the application amount can be set appropriately, the viscosity is set to a relatively low viscosity for printing, and the resin located at the bridge between the leads during the curing reaction It falls between, and the surface of the resin on the lead becomes a curved surface,
There is a problem that the clamp at the time of bonding may be insufficient. In addition, a method of directly forming a resin layer for fixing the inner lead by a dispensing method without using a fixing tape is also known.
Basically, it has the same problems as screen printing. When a resin layer for fixing the inner lead is formed by the screen printing method or the dispensing method, the resin is completely cured in order to make the surface of the resin on the lead a planar shape and to sufficiently clamp the wire bonding. Before, that is, crush the resin by thermocompression bonding in a semi-cured state,
Although the height of the surface is made uniform, the resin bleeds to the upper surface of the lead when being crushed, thereby deteriorating the accuracy of the resin layer shape. Furthermore, in the dispensing method, since the amount of application is large at the dispense start point and the dispense point, applicable leads have certain restrictions such that the tab suspension bar is used as a start point and an end point, and the width of the tab suspension bar is increased. Is necessary,
There are restrictions on applicable lead shapes. As described above, even when the resin layer for fixing the inner leads is directly formed by the screen printing method or the dispensing method without using the fixing tape, there are various problems, and a measure has been required. Under such circumstances, the present invention is based on the problem of using a fixing tape and the case where the inner lead fixing resin layer is directly formed by a screen printing method and a dispensing method without using the fixing tape. It is an object of the present invention to provide a lead frame member having a lead frame and an inner lead fixing portion, which can solve the above problem. at the same time,
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing the lead frame member.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明のリードフレーム
部材は、樹脂封止型半導体装置に用いられる、リードフ
レームと複数のインナーリード固定部とを有するリード
フレーム部材であって、リードフレームは、ダイパッド
を設けたもので、インナーリードの一方の面全面をリー
ドフレーム素材面とし、インナーリード先端には素材の
板厚よりも薄肉の薄肉部を形成しており、前記複数のイ
ンナーリード固定部は、それぞれ、絶縁性樹脂からな
り、全インナーリードを橋かけ跨ぐようにして固定し、
且つ、タブ吊りバーまで連なり、タブ吊りバーにて支持
されるもので、略ダイパッドを囲む形状に設けられてお
り、少なくとも第一のインナーリード固定部は、薄肉部
のリードフレーム素材面より凹んだ面側を、インナーリ
ード間を橋かけ跨ぐように設けられ、第二のインナーリ
ード固定部は、インナーリードのリードフレーム素材と
同じ厚さの箇所において、インナーリード間を橋かけ跨
ぐように設けられていることを特徴とするものである。
そして、上記の第一のインナーリード固定部は、インナ
ーリードの薄肉部のリードフレーム素材面より凹んだ面
側の先端箇所において設けられていることを特徴とする
ものである。そしてまた、上記のインナーリード固定部
は単層の絶縁性樹脂からなることを特徴とするものであ
る。
A lead frame member according to the present invention is a lead frame member having a lead frame and a plurality of inner lead fixing portions, which is used for a resin-encapsulated semiconductor device. A die pad is provided, the entire surface of one surface of the inner lead is a lead frame material surface, a thin portion thinner than the thickness of the material is formed at the tip of the inner lead, and the plurality of inner lead fixing portions are , Each of which is made of insulating resin and fixed by bridging all inner leads,
Further, it is connected to the tab hanging bar and is supported by the tab hanging bar, and is provided in a shape substantially surrounding the die pad, and at least the first inner lead fixing portion is recessed from the lead frame material surface of the thin portion. The surface side is provided so as to bridge over the inner leads, and the second inner lead fixing portion is provided so as to bridge over the inner leads at the same thickness as the lead frame material of the inner leads. It is characterized by having.
The first inner lead fixing portion is provided at a distal end portion of the thin portion of the inner lead on a surface side recessed from the lead frame material surface. Further, the inner lead fixing portion is made of a single-layer insulating resin.

【0013】また、本発明のリードフレーム部材の製造
方法は、本発明のリードフレーム部材の製造方法であっ
て、(A)インナーリード先端に一体的に連結し、且つ
インナーリード同志を連結する連結部を設けた状態でリ
ードフレームを外形加工する工程と、(B)インナーリ
ード固定部を作成するための絶縁性の樹脂部を、半硬化
状態で所定形状に形成する工程と、(C)半硬化状態で
所定形状に形成された絶縁性の樹脂部を、リードフレー
ムの所定の位置に熱圧着にて固定する絶縁性の樹脂部固
定工程と、(D)樹脂部固定工程にて固定された絶縁性
の樹脂部を、加熱手段およびまたは紫外線照射手段によ
りキュアするキュア工程と、(E)キュア工程後、リー
ドフレームの連結部を除去する工程とを有することを特
徴とするものである。そして、上記における絶縁性の樹
脂部固定工程が、複数の絶縁性の樹脂部を、全て、同時
に熱圧着にて固定するものであることを特徴とするもの
である。
Further, the method for manufacturing a lead frame member according to the present invention is a method for manufacturing a lead frame member according to the present invention, wherein (A) a connection for integrally connecting to the tip of the inner lead and for connecting the inner leads together. (B) forming an insulative resin part for forming an inner lead fixing part into a predetermined shape in a semi-cured state; The insulating resin portion formed in a predetermined shape in the cured state is fixed to a predetermined position of the lead frame by thermocompression bonding, and the insulating resin portion is fixed in a (D) resin portion fixing step. A curing step of curing the insulating resin portion by a heating unit and / or an ultraviolet irradiation unit; and (E) a step of removing a connection portion of the lead frame after the curing step. . Further, the insulating resin portion fixing step described above is characterized in that all of the plurality of insulating resin portions are simultaneously fixed by thermocompression bonding.

【0014】尚、ここでは、リードフレーム素材の厚さ
とは、エッチング加工等によりリードフレームを作成す
る場合の元厚で、エッチングが入らない箇所における厚
さを言い、図5に示すエッチング加工においては、図5
(e)に示すt0 の厚さを言う。また、インナーリード
先端とは、インナーリードのダイパッド側の先端部を言
っている。
Here, the thickness of the lead frame material is the original thickness when a lead frame is formed by etching or the like, and refers to the thickness at a location where etching does not enter. In the etching shown in FIG. , FIG.
This refers to the thickness of t 0 shown in (e). In addition, the tip of the inner lead means the tip of the inner lead on the die pad side.

【0015】[0015]

【作用】本発明のリードフレーム部材は、このような構
成にすることにより、固定用テープを用いた場合の問題
や、固定用テープを用いずに、スクリーン印刷法、ディ
スペンス法により直接インナーリード固定用の樹脂層を
形成する場合の問題を解決できる、リードフレームとイ
ンナーリード固定部とからなるリードフレーム部材の提
供を可能としている。この結果、リードフレーム部材を
用いた樹脂封止型半導体装置の一層の多端子化を可能と
している。具体的には、リードフレームは、ダイパッド
を設けたもので、インナーリードの一方の面全面をリー
ドフレーム素材面とし、インナーリード先端には素材の
板厚よりも薄肉の薄肉部を形成しており、前記複数のイ
ンナーリード固定部は、それぞれ、絶縁性樹脂からな
り、全インナーリードを橋かけ跨ぐようにして固定し、
且つ、タブ吊りバーまで連なり、タブ吊りバーにて支持
されるもので、略ダイパッドを囲む形状に設けられてお
り、少なくとも第一のインナーリード固定部は、薄肉部
のリードフレーム素材面より凹んだ面側を、インナーリ
ード間を橋かけ跨ぐように設けられ、第二のインナーリ
ード固定部は、インナーリードのリードフレーム素材と
同じ厚さの箇所において、インナーリード間を橋かけ跨
ぐように設けられていることにより、これを達成してい
る。即ち、リードフレームのインナーリード先端を薄肉
に形成していることにより、インナーリード先端での細
加工を可能とし、少なくとも、第一のインナーリード固
定部と第2のインナーリード固定部とを備えていること
により、インナーリードの固定を強固なものとしてい
る。特に、第一のインナーリード固定部が、インナーリ
ードの薄肉領域のダイパッド側の先端部において設けら
れていることにより、ワイヤボンディングにおけるクラ
ンプを一層安定的にできるものとしている。また、イン
ナーリード固定部を単層の絶縁性樹脂から形成すること
により、処理性の良いものとしている。
According to the lead frame member of the present invention having such a structure, the problem in the case of using the fixing tape or the direct fixing of the inner lead by the screen printing method or the dispensing method without using the fixing tape is adopted. It is possible to provide a lead frame member including a lead frame and an inner lead fixing portion, which can solve the problem when forming a resin layer for use. As a result, it is possible to further increase the number of terminals of the resin-encapsulated semiconductor device using the lead frame member. Specifically, the lead frame is provided with a die pad, the entire surface of one side of the inner lead is used as the lead frame material surface, and a thin portion thinner than the material thickness is formed at the tip of the inner lead. The plurality of inner lead fixing portions are each made of an insulating resin, and are fixed so as to bridge over all the inner leads,
Further, it is connected to the tab hanging bar and is supported by the tab hanging bar, and is provided in a shape substantially surrounding the die pad, and at least the first inner lead fixing portion is recessed from the lead frame material surface of the thin portion. The surface side is provided so as to bridge over the inner leads, and the second inner lead fixing portion is provided so as to bridge over the inner leads at the same thickness as the lead frame material of the inner leads. This has been achieved. That is, by forming the tip of the inner lead of the lead frame to be thin, fine processing at the tip of the inner lead is enabled, and at least the first inner lead fixing portion and the second inner lead fixing portion are provided. By doing so, the inner lead is firmly fixed. In particular, since the first inner lead fixing portion is provided at the tip portion on the die pad side of the thin region of the inner lead, it is possible to more stably clamp in wire bonding. Further, by forming the inner lead fixing portion from a single layer of insulating resin, good processability is achieved.

【0016】本発明のリードフレーム部材の製造方法
は、このような構成にすることにより、リードフレーム
部材を用いた樹脂封止型半導体装置の一層の多端子化を
可能としている。特に、絶縁性の樹脂部固定工程が、該
複数の絶縁性の樹脂部を、全て、同時に熱圧着にて固定
するものであることにより、1組みの金型で、一度に、
全ての複数の絶縁性の樹脂部を同時に作成することを可
能としている。
In the method of manufacturing a lead frame member of the present invention, by adopting such a configuration, it is possible to further increase the number of terminals of the resin-encapsulated semiconductor device using the lead frame member. In particular, the insulating resin portion fixing step is to fix all of the plurality of insulating resin portions simultaneously by thermocompression bonding.
All the plurality of insulating resin portions can be simultaneously formed.

【0017】[0017]

【実施例】本発明のリードフレーム部材の実施例を挙
げ、図を用いて説明する。先ず、実施例1を挙げる。図
1(a)は実施例1のリードフレーム部材の平面図、図
1(b)はインナーリード部における断面図で、図1
(a)のA1−A2における断面の一部を示したもの
で、図1(c)(イ)は、図1(b)のA3−A4にお
ける断面を示したもので、図1(c)(ロ)は、図1
(b)のA5−A6における断面を示したものである。
また、図2(a)は、図1に示すリードフレーム部材の
タブ吊りバーを含むコーナー部を拡大した平面図で、図
2(b)は、図2(a)のB1−B2における断面の一
部を示した図で、図2(c)は、タブ吊りリード付近で
のインナーリード固定部の状態の一部を示した斜視図で
ある。図1中、100はリードフレーム部材、110は
リードフレーム、111はダイパッド、112はインナ
ーリード、112Aは薄肉部、112Bは厚肉部、11
2Cは切断面、112Eはエッチング面、112Sはリ
ードフレーム素材面、113はアウターリード、114
はダムバー、115はタブ吊りバー、116はフレーム
部、120は第一のインナーリード固定部、120Cは
切断面、125は第二のインナーリード固定部、150
は銀めっきである。本実施例のリードフレーム部材10
0は、リードフレーム110と、インナーリードを固定
するための第一のインナーリード固定部120、第二の
インナーリード固定部125とを有する、樹脂封止型半
導体装置用のリードフレーム部材であり、インナーリー
ドの固定を強固なものとしている。特に、第一のインナ
ーリード固定部120をインナーリード先端に設けてい
ることにより、ワイヤボンディング時におけるクランプ
を安定的にできるものとしている。そして、リードフレ
ーム110は、ダイパッド111を設けたもので、一方
の面全面をリードフレーム素材面とし、インナーリード
112の先端は素材の板厚よりも薄肉に形成されてお
り、インナーリードの微細化に対応できる構造である。
以下、本実施例リードフレーム部材100の各部を説明
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a lead frame member according to the present invention will be described with reference to the drawings. First, a first embodiment will be described. FIG. 1A is a plan view of a lead frame member according to the first embodiment, and FIG. 1B is a cross-sectional view of an inner lead portion.
1A shows a part of a cross section taken along line A1-A2, and FIGS. 1C and 1B show a cross section taken along line A3-A4 in FIG. 1B, and FIG. (B) Fig. 1
FIG. 6B shows a cross section taken along line A5-A6 of FIG.
2A is an enlarged plan view of a corner portion including a tab suspension bar of the lead frame member shown in FIG. 1, and FIG. 2B is a sectional view taken along line B1-B2 in FIG. FIG. 2C is a perspective view showing a part of the state of the inner lead fixing portion near the tab suspension lead. In FIG. 1, 100 is a lead frame member, 110 is a lead frame, 111 is a die pad, 112 is an inner lead, 112A is a thin portion, 112B is a thick portion, 11
2C is a cut surface, 112E is an etched surface, 112S is a lead frame material surface, 113 is an outer lead, 114
Is a dam bar, 115 is a tab hanging bar, 116 is a frame portion, 120 is a first inner lead fixing portion, 120C is a cut surface, 125 is a second inner lead fixing portion, 150
Is silver plating. Lead frame member 10 of the present embodiment
Reference numeral 0 denotes a lead frame member for a resin-encapsulated semiconductor device having a lead frame 110, a first inner lead fixing portion 120 for fixing inner leads, and a second inner lead fixing portion 125, The inner leads are firmly fixed. In particular, by providing the first inner lead fixing portion 120 at the tip of the inner lead, it is possible to stably clamp during wire bonding. The lead frame 110 is provided with a die pad 111. One surface of the lead frame 110 is a lead frame material surface, and the tip of the inner lead 112 is formed to be thinner than the thickness of the material. It is a structure that can handle.
Hereinafter, each part of the lead frame member 100 of this embodiment will be described.

【0018】リードフレーム110は0.15mm厚の
銅材を素材としたもので、アウターリードピッチは0.
4mmのもので、リードフレーム部材100は、パッケ
ージサイズ28mm角のQFP(Quad Flat
Package)に適用されるものである。リードフレ
ーム110は、図4に示すエッチング加工にて外形加工
されたもので、インナーリード111の先端部は、リー
ドフレーム素材の板厚よりも薄肉に形成された薄肉部1
12Aを設けており、一面をエッチング面112Eと
し、他面をリードフレーム素材面112Sとしている。
インナーリード111の先端部のみが50μm厚と薄肉
で、それ以外はリードフレーム素材の厚さ0.15mm
である。
The lead frame 110 is made of a copper material having a thickness of 0.15 mm and has an outer lead pitch of 0.1 mm.
4 mm, the lead frame member 100 is a QFP (Quad Flat) having a package size of 28 mm square.
Package). The outer shape of the lead frame 110 is formed by etching shown in FIG. 4, and the tip of the inner lead 111 has a thin portion 1 formed thinner than the thickness of the lead frame material.
12A, one surface is an etching surface 112E, and the other surface is a lead frame material surface 112S.
Only the tip of the inner lead 111 is 50 μm thick and thin, and other than that, the thickness of the lead frame material is 0.15 mm.
It is.

【0019】また、第一のインナーリード固定部120
と第二のインナーリード固定部125は、ともにエポキ
シ樹脂を主成分とする熱硬化型の絶縁性樹脂からなり、
それぞれ、全インナーリードを橋かけ跨ぐようにして固
定し、タブ吊りバー115まで連なり、タブ吊りバー1
15にて支持されており、略ダイパッドを囲む形状に設
けられている。第一のインナーリード固定部120は、
リードフレーム110の薄肉部形成面側において、イン
ナーリードの薄肉領域のダイパッド111側の先端部
を、インナーリード112間を橋かけ跨ぐように設けら
れ、第二のインナーリード固定部125は、インナーリ
ード112のリードフレーム素材と同じ厚さの箇所にお
いて、インナーリード112間を橋かけ跨ぐように設け
られている。図1(c)に示すように、インナーリード
固定部120に、インナーリード112の一部を埋め込
んだ状態でインナーリード同志を互いに固定している。
尚、インナーリード112のインナーリード固定部12
0への埋め込み量については、インナーリード同志を互
いに固定できる程度で良いが、インナーリードの埋め込
み量のバラツキは少ない程良く、埋め込み量のバラツキ
は平均値に対し10%以内が好ましい。また、インナー
リード固定部120の厚さは本実施例では25μmとし
たが、好ましくは30μm以下で、厚さのバラツキは、
平均値の5%以内が好ましい。本実施例においては、銀
めっき150をインナーリード固定部120の下には設
けていないが、銀めっき部150上にインナーリード固
定部120を設けても良い。
Also, the first inner lead fixing portion 120
And the second inner lead fixing portion 125 are both made of a thermosetting insulating resin mainly containing an epoxy resin,
Each of the inner leads is fixed so as to straddle the bridge, and is connected to the tab hanging bar 115.
15 and is provided in a shape substantially surrounding the die pad. The first inner lead fixing part 120 is
On the thin portion forming surface side of the lead frame 110, a tip portion of the thin region of the inner lead on the die pad 111 side is provided so as to bridge between the inner leads 112, and the second inner lead fixing portion 125 is provided with an inner lead. At a place having the same thickness as the lead frame material 112, the inner lead 112 is provided so as to bridge over it. As shown in FIG. 1C, the inner leads 112 are fixed to each other in a state where a part of the inner leads 112 is embedded in the inner lead fixing portion 120.
In addition, the inner lead fixing portion 12 of the inner lead 112
The amount of embedding to 0 may be such that the inner leads can be fixed to each other, but the variation in the amount of embedding of the inner leads is preferably as small as possible, and the variation in the embedding amount is preferably within 10% of the average value. In addition, the thickness of the inner lead fixing portion 120 is 25 μm in the present embodiment, but is preferably 30 μm or less.
It is preferably within 5% of the average value. In this embodiment, the silver plating 150 is not provided below the inner lead fixing portion 120, but the inner lead fixing portion 120 may be provided on the silver plating portion 150.

【0020】本実施例のインナーリード先端面は、後述
する図3に示す製造方法にて作成されるため、切断面1
12Cで、インナーリード固定部120のダイパッド側
も切断面120Cとなり、両切断面は同一面を形成す
る。
Since the tip surface of the inner lead of this embodiment is formed by a manufacturing method shown in FIG.
At 12C, the die pad side of the inner lead fixing portion 120 also becomes the cut surface 120C, and both cut surfaces form the same surface.

【0021】次に、本発明のリードフレーム部材の実施
例2を挙げ、図3に基づいて説明する。図3(a)は実
施例2のリードフレーム部材の平面図、図3(b)はイ
ンナーリード部における断面図で、図3(a)のD1−
D2における断面の一部を示したもので、図3(c)
(イ)は、図1(b)のD3−D4における断面を示し
たもので、図3(c)(ロ)は、図1(b)のD5−D
6における断面を示したものである。図3中、300は
リードフレーム部材、310はリードフレーム、311
はダイパッド、312はインナーリード、312Aは薄
肉部、312Bは厚肉部、312Cは切断面、312E
はエッチング面、312Sはリードフレーム素材面、3
13はアウターリード、314はダムバー、315はタ
ブ吊りバー、316はフレーム部、320は第一のイン
ナーリード固定部、320Cは切断面、325は第二の
インナーリード固定部、350は銀めっきである。本実
施例のリードフレーム部材300は、実施例1のリード
フレーム部材において、第一のインナーリード固定部3
20、第二のインナーリード固定部325は、吊りバー
350において、分離した状態で、ダイパッド311を
囲むようにして形成されるものである。
Next, a lead frame member according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3A is a plan view of the lead frame member according to the second embodiment, and FIG. 3B is a cross-sectional view of the inner lead portion.
FIG. 3C shows a part of a cross section at D2.
1A shows a cross section taken along line D3-D4 in FIG. 1B, and FIGS. 3C and 2B show D5-D in FIG. 1B.
6 shows a cross section of FIG. 3, reference numeral 300 denotes a lead frame member, 310 denotes a lead frame, 311
Is a die pad, 312 is an inner lead, 312A is a thin portion, 312B is a thick portion, 312C is a cut surface, 312E
Is the etched surface, 312S is the lead frame material surface, 3
13 is an outer lead, 314 is a dam bar, 315 is a tab hanging bar, 316 is a frame portion, 320 is a first inner lead fixing portion, 320C is a cut surface, 325 is a second inner lead fixing portion, and 350 is silver plating. is there. The lead frame member 300 of the present embodiment is different from the lead frame member of the first embodiment in that the first inner lead fixing portion 3
20, the second inner lead fixing portion 325 is formed in the hanging bar 350 so as to surround the die pad 311 in a separated state.

【0022】上記実施例1、実施例2においてはリード
フレーム素材としては銅合金を用いたが、特にこれに限
定されない。42合金(42%ニッケル−鉄合金)等で
も良い。インナーリード固定部としてエポキシ系の熱硬
化型樹脂を用いたが、他には、熱硬化性のポリイミド樹
脂など耐熱性を有する有機材料が挙げられる。
In the first and second embodiments, a copper alloy was used as a lead frame material, but the invention is not particularly limited to this. For example, a 42 alloy (42% nickel-iron alloy) may be used. Although an epoxy-based thermosetting resin is used as the inner lead fixing portion, an organic material having heat resistance such as a thermosetting polyimide resin may be used.

【0023】次に、本発明のリードフレーム部材の製造
方法の実施例を挙げ、図4を用いて説明する。本実施例
の製造方法は、図1に示す実施例1のリードフレーム部
材の製造方法である。先ず、図5に示すエッチング加工
方法により、インナーリード112の先端をリードフレ
ーム素材の板厚よりも薄肉に形成した薄肉部112Aを
もつリードフレーム110を用意した。(図4(a)) エッチング加工により外形加工されたリードフレーム1
10のインナーリード112先端は延設された連結部1
18によりダイパッド111と一体的に連結している。
この連結部118は半導体装置作製の際には不要である
ので後述する工程にてプレスにて除去する。次に、イン
ナーリード112のワイヤボンディング領域に銀めっき
150を通常の部分めっき法により施した。(図4
(b)) 必要に応じてダイパッド111にもダイボンディング用
の銀めっき等の貴金属めっきを施す。
Next, an embodiment of a method for manufacturing a lead frame member according to the present invention will be described with reference to FIG. The manufacturing method according to the present embodiment is a method for manufacturing the lead frame member according to the first embodiment shown in FIG. First, a lead frame 110 having a thin portion 112A in which the tip of the inner lead 112 was formed thinner than the thickness of the lead frame material was prepared by the etching method shown in FIG. (FIG. 4A) Lead frame 1 whose outer shape has been processed by etching
The tip of the inner lead 112 is connected to the extended connecting portion 1.
18 integrally connects with the die pad 111.
Since the connecting portion 118 is unnecessary when fabricating the semiconductor device, it is removed by a press in a step described later. Next, silver plating 150 was applied to the wire bonding area of the inner lead 112 by an ordinary partial plating method. (FIG. 4
(B) If necessary, the die pad 111 is also plated with a noble metal such as silver plating for die bonding.

【0024】一方、リードフレーム110におけるイン
ナーリード固定部120に対応する形状に、インナーリ
ード固定部120を作成するためのエポキシ樹脂を主成
分とする熱硬化性絶縁樹脂160を、厚さ100μmの
PET(ポリエチレンテレフタレート)からなる樹脂フ
ィルム基板170上にスクリーン印刷により40μmの
厚さに塗布形成した後、樹脂フィルム基板170上に塗
布形成されたエポキシ樹脂を主成分とする熱硬化性絶縁
樹脂に対し、溶剤分を揮発させる揮発処理を行った。
(図4(c)) 尚、図4(c)(ロ)は図4(c)(イ)のE1−E2
における拡大断面図である。エポキシ樹脂の粘度は樹脂
にフィラーを添加して200000cpsに調整したも
のを用いたが、30000cps〜300000cps
の範囲が好ましい。溶剤としては、スクリーン上での樹
脂の粘度変化を防ぐ為に、沸点120°C以上のものを
用いることが好ましく、本実施例では、沸点206°C
のN−メチル−2ピロリドンを用いた。フィラーは半導
体パッケージ用の低イオン性不純物、低放射性物質含有
物を用いる。本実施例では、日本エアロジル社製R−2
00(平均粒径0.5μm)をを用いた。必要に応じて
3〜30重量%添加する。樹脂フィルム基板170とし
ては、スクリーン印刷する熱硬化性樹脂であるエポキシ
樹脂の溶剤に対しての耐溶剤性を持ち、耐熱性があり、
且つエポキシ樹脂に剥離性のあるものが適する。PET
の他にはPPS(ポリフェニレンサルファイド)、ポリ
プロピレン、PI(ポリイミド)、アラミド繊維、PE
(ポリエチレン)等が使用できる。樹脂フィルム基板1
70の板厚としては、12.5μm〜120μmが望ま
しく、材料費や機械的強度の面から30μm〜100μ
mが好ましい。エポキシ樹脂の樹脂フィルム基板170
への印刷に用いるスクリーン版は、耐溶剤性のある乳剤
(村上スクリーン社製MSP−2)40μm#150メ
ッシュスクリーンを用いた。揮発処理は、80°Cに加
熱して、30分間行った。揮発条件は80°C、20分
間でも良く、温度を上げるに従い時間は短くて済む。1
00°Cの場合は1分間で良い。しかし、温度が高い場
合は作業効率は良くなるが、気泡が発生し易くなるた
め、温度としては60°C〜120°Cが好ましい。8
0°Cの場合は10分間、100°Cの場合は2分間は
必要である。
On the other hand, a thermosetting insulating resin 160 mainly composed of epoxy resin for forming the inner lead fixing portion 120 is formed in a shape corresponding to the inner lead fixing portion 120 of the lead frame 110 by a 100 μm thick PET. After coating and forming to a thickness of 40 μm on a resin film substrate 170 made of (polyethylene terephthalate) by screen printing, a thermosetting insulating resin mainly composed of an epoxy resin applied and formed on the resin film substrate 170 is A volatilization treatment for volatilizing the solvent was performed.
(FIG. 4C) Incidentally, FIG. 4C and FIG. 4B are E1-E2 in FIG. 4C and FIG.
FIG. The viscosity of the epoxy resin was adjusted to 200,000 cps by adding a filler to the resin, but the viscosity was from 30,000 cps to 300,000 cps.
Is preferable. It is preferable to use a solvent having a boiling point of 120 ° C. or higher in order to prevent a change in the viscosity of the resin on the screen.
N-methyl-2-pyrrolidone was used. As the filler, a low ionic impurity or a low radioactive substance containing material for a semiconductor package is used. In this embodiment, R-2 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. is used.
00 (average particle size: 0.5 μm) was used. If necessary, 3 to 30% by weight is added. The resin film substrate 170 has solvent resistance to a solvent of an epoxy resin which is a thermosetting resin to be screen-printed, and has heat resistance,
Also, an epoxy resin having releasability is suitable. PET
Besides, PPS (polyphenylene sulfide), polypropylene, PI (polyimide), aramid fiber, PE
(Polyethylene) and the like can be used. Resin film substrate 1
The thickness of 70 is desirably 12.5 μm to 120 μm, and 30 μm to 100 μm from the viewpoint of material cost and mechanical strength.
m is preferred. Epoxy resin film substrate 170
As a screen plate used for printing on the surface, a solvent-resistant emulsion (MSP-2 manufactured by Murakami Screen Co., Ltd.) 40 μm # 150 mesh screen was used. The volatilization treatment was performed by heating to 80 ° C. for 30 minutes. The volatilization condition may be 80 ° C. for 20 minutes, and the time is shorter as the temperature is increased. 1
In the case of 00 ° C., one minute is sufficient. However, when the temperature is high, the working efficiency is improved, but air bubbles are easily generated. Therefore, the temperature is preferably 60 ° C to 120 ° C. 8
It takes 10 minutes at 0 ° C and 2 minutes at 100 ° C.

【0025】次に、図4(b)に示す工程により得られ
た銀めっき後のリードフレームに対し、図4(c)に示
す工程で得られた揮発処理を行った樹脂フィルム基板1
70上に塗布形成されたエポキシ樹脂を主成分とする熱
硬化性絶縁樹脂160を、位置合わせしながら、リード
フレーム110のインナーリード112の薄肉部120
Aと厚肉部120Bに跨がる位置に治具180、181
を用いてリードフレームの両側から加熱圧着した。(図
4(d)) 圧着した熱硬化性絶縁樹脂160が平坦状になるよう
に、熱硬化性絶縁樹脂160をリードフレーム110と
挟む治具181のリードフレーム110側にリードフレ
ーム110の形状に合った突起181Aを設けている。
本実施例では、熱圧着条件は160°C、0.3秒間行
ったが、熱圧着条件は40〜260°C、圧着時間は温
度に対応するが0.1〜60秒程度が好ましい。
Next, the resin film substrate 1 subjected to the volatilization process obtained in the step shown in FIG. 4C is applied to the lead frame after the silver plating obtained in the step shown in FIG.
The thin portion 120 of the inner lead 112 of the lead frame 110 is aligned with the thermosetting insulating resin 160 mainly composed of an epoxy resin applied and formed on the
Jigs 180 and 181 at positions straddling A and thick portion 120B.
And heat-pressed from both sides of the lead frame. (FIG. 4D) The jig 181 sandwiching the thermosetting insulating resin 160 with the lead frame 110 is formed in the shape of the lead frame 110 so that the thermosetting insulating resin 160 that has been crimped becomes flat. A matching projection 181A is provided.
In this embodiment, the thermocompression bonding was performed at 160 ° C. for 0.3 seconds, but the thermocompression bonding was performed at 40 to 260 ° C., and the compression time corresponds to the temperature, but is preferably about 0.1 to 60 seconds.

【0026】次に、樹脂フィルム基板170をリードフ
レーム110に熱硬化性絶縁樹脂160を付けたままの
状態でリードフレーム110から剥離した後、130°
C、3分間熱硬化性絶縁樹脂160を加熱して硬化させ
る硬化処理を行った。(図4(e))
Next, the resin film substrate 170 is peeled off from the lead frame 110 while the thermosetting insulating resin 160 is still attached to the lead frame 110,
C, a curing treatment of heating and curing the thermosetting insulating resin 160 for 3 minutes was performed. (FIG. 4 (e))

【0027】この後、半導体装置作製の際には不要であ
る連結部118をプレスにて除去し、図1に示す実施例
1のリードフレーム部材100を作製した。(図4
(f))さらに、必要に応じて、ダイパッド111のダ
ウンセット加工を行う。
Thereafter, the connecting portion 118, which is unnecessary when the semiconductor device is manufactured, is removed by pressing, and the lead frame member 100 of Example 1 shown in FIG. 1 is manufactured. (FIG. 4
(F)) Further, if necessary, down-set processing of the die pad 111 is performed.

【0028】尚、図4に示す本実施例のリードフレーム
部材の製造方法においては、スクリーン印刷による熱硬
化性絶縁樹脂の塗布形成に替え、タコ印刷、ディスペン
ス法等を用いても良い。また、図4に示す本実施例のリ
ードフレーム部材の製造方法においては、樹脂フィルム
基板170をリードフレーム110から剥離した後に、
熱硬化性絶縁樹脂160を硬化させる硬化処理を行って
いるが、熱硬化性絶縁樹脂160を硬化させる硬化処理
を行った後に、樹脂フィルム基板170をリードフレー
ム110から剥離しても良い。
In the method of manufacturing the lead frame member according to the present embodiment shown in FIG. 4, an octopus printing, a dispensing method or the like may be used instead of the application of the thermosetting insulating resin by screen printing. In the method for manufacturing a lead frame member of the present embodiment shown in FIG. 4, after the resin film substrate 170 is peeled off from the lead frame 110,
Although the hardening process for hardening the thermosetting insulating resin 160 is performed, the resin film substrate 170 may be separated from the lead frame 110 after the hardening process for hardening the thermosetting insulating resin 160 is performed.

【0029】本発明のリードフレーム部材の製造方法と
しては、上記実施例のリードフレーム部材の製造方法に
限定はされない。例えば、ワニス状の溶剤を含有しない
無溶剤型熱硬化性樹脂を、該熱硬化性樹脂に対して剥離
性を有するフィルム上に所定形状に形成した後、室温放
置、加熱ないし減圧により、熱硬化性樹脂の粘度を増加
させる粘度増加処理を行い、図4(e)の工程と同じよ
うに治具を用い、熱圧着により、熱硬化性樹脂をリード
フレームのインナーリードの所定部分に貼り付け、フイ
ルムをリードフレームから剥離除去し、熱硬化性樹脂を
硬化させる熱処理を行っても良い。この方法において
も、熱硬化性絶縁樹脂を硬化させる硬化処理を行った後
に、樹脂フィルム基板をリードフレームから剥離しても
良い。
The method for manufacturing the lead frame member of the present invention is not limited to the method for manufacturing the lead frame member of the above embodiment. For example, after forming a solvent-free thermosetting resin containing no varnish-like solvent in a predetermined shape on a film having releasability from the thermosetting resin, the mixture is left at room temperature and heated or depressurized to be thermoset. A viscosity increasing process for increasing the viscosity of the thermosetting resin is performed, and a thermosetting resin is attached to a predetermined portion of the inner lead of the lead frame by thermocompression bonding using a jig in the same manner as in the step of FIG. A heat treatment for peeling and removing the film from the lead frame and curing the thermosetting resin may be performed. Also in this method, the resin film substrate may be peeled off from the lead frame after performing a curing treatment for curing the thermosetting insulating resin.

【0030】尚、図3に示す実施例2のリードフレーム
部材300の作製方法も基本的には、図4に示す、上記
実施例のリードフレーム部材の製造方法の工程で行われ
るが、図4(c)における熱硬化型絶縁性樹脂160の
形状が異なる。図3に示す実施例2のリードフレーム部
材300の作製には、図4(c)における熱硬化型絶縁
性樹脂160の形状を図3に示すように、タブ吊りバー
において、分離した形.に作製するが、このような形状
であるため、実施例1のリードフレーム部材の場合と異
なり、メタルマスクによる印刷法を採ることができる。
The method of manufacturing the lead frame member 300 of the second embodiment shown in FIG. 3 is basically performed in the steps of the method of manufacturing the lead frame member of the above embodiment shown in FIG. The shape of the thermosetting insulating resin 160 in (c) is different. In manufacturing the lead frame member 300 according to the second embodiment shown in FIG. 3, the shape of the thermosetting insulating resin 160 in FIG. 4C is separated by a tab hanging bar as shown in FIG. However, unlike the case of the lead frame member according to the first embodiment, a printing method using a metal mask can be employed because of such a shape.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明は、上記のように、インナーリー
ド固定部として、高価で金型による切断加工が必要な固
定用テープを用いずに、スクリーン印刷法、ディスペン
ス法により直接インナーリード固定用の樹脂層を形成す
る場合の問題点を解決できる、リードフレームと複数の
インナーリード固定部とからなるリードフレーム部材の
提供を可能としている。同時に、本発明のリードフレー
ム部材の製造方法の提供を可能としている。結局、本発
明は、半導体素子の高集積化に伴う、樹脂封止型半導体
装置における多端子化に対応できる樹脂封止型半導体装
置の提供を可能とするものである。
As described above, according to the present invention, the inner lead fixing portion is directly fixed by the screen printing method and the dispensing method without using an expensive fixing tape requiring cutting by a mold as the inner lead fixing portion. In this case, it is possible to provide a lead frame member including a lead frame and a plurality of inner lead fixing portions, which can solve the problem when the resin layer is formed. At the same time, it is possible to provide a method for manufacturing a lead frame member of the present invention. As a result, the present invention makes it possible to provide a resin-encapsulated semiconductor device that can cope with the increase in the number of terminals in a resin-encapsulated semiconductor device accompanying the high integration of semiconductor elements.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1のリードフレーム部材の平面図および
要部断面図
FIG. 1 is a plan view and a sectional view of a main part of a lead frame member according to a first embodiment.

【図2】実施例1のリードフレーム部材の部分拡大平面
FIG. 2 is a partially enlarged plan view of the lead frame member according to the first embodiment.

【図3】実施例2のリードフレーム部材の平面図および
要部断面図
FIG. 3 is a plan view and a cross-sectional view of a main part of a lead frame member according to a second embodiment.

【図4】実施例1のリードフレーム部材の製造工程図FIG. 4 is a manufacturing process diagram of the lead frame member according to the first embodiment.

【図5】実施例のリードフレーム部材に使用されるリー
ドフレームの製造工程図
FIG. 5 is a manufacturing process diagram of a lead frame used for the lead frame member of the embodiment.

【図6】従来のリードフレーム部材とそれを用いた樹脂
封止型半導体装置を説明するための図
FIG. 6 is a view for explaining a conventional lead frame member and a resin-sealed semiconductor device using the same.

【図7】従来のリードフレーム部材の製造工程図FIG. 7 is a manufacturing process diagram of a conventional lead frame member.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100、300 リードフレーム部材 110、310 リードフレーム 111、311 ダイパッド(タブ) 112,312 インナーリード 112A、312A 薄肉部 112B、312B 厚肉部 112C、312C 切断面 112E、312E エッチング面 112S、312S リードフレーム素材面 113、313 アウターリード 114、314 ダムバー 115、315 タブ吊りリード 116、316 フレーム部 118 連結部 120、320 第一のインナーリード固定部 125、325 第二のインナーリード固定部 120C 切断面 150、350 銀めっき 160 熱硬化性絶縁樹脂 170 樹脂フィルム基板 180、181 治具 181A 突起部 510 リードフレーム素材 510A 410Aは薄肉部 520A、520B レジストパターン 530 第一の開口部 540 第二の開口部 550 第一の凹部 560 第二の凹部 570 平坦状面 580 エッチング抵抗層(充填材層) 600 半導体装置 610 半導体素子 611 半導体素子のパッド 612 ワイヤ 613 樹脂部 620 リードフレーム部材 630 リードフレーム 631 ダイパッド部 632 インナーリード部 633 アウターリード部 634 ダムバー 635 ダム吊りバー 636 フレーム(枠)部 638 連結部 640 固定用テープ 650 銀めっき 100, 300 Lead frame member 110, 310 Lead frame 111, 311 Die pad (tab) 112, 312 Inner lead 112A, 312A Thin portion 112B, 312B Thick portion 112C, 312C Cut surface 112E, 312E Etched surface 112S, 312S Lead frame material Surface 113, 313 Outer lead 114, 314 Dam bar 115, 315 Tab suspension lead 116, 316 Frame part 118 Connecting part 120, 320 First inner lead fixing part 125, 325 Second inner lead fixing part 120C Cutting surface 150, 350 Silver plating 160 Thermosetting insulating resin 170 Resin film substrate 180, 181 Jig 181A Projection 510 Lead frame material 510A 410A has thin portion 520A, 520B Dist pattern 530 First opening 540 Second opening 550 First recess 560 Second recess 570 Flat surface 580 Etching resistance layer (filler layer) 600 Semiconductor device 610 Semiconductor element 611 Pad of semiconductor element 612 Wire 613 Resin section 620 Lead frame member 630 Lead frame 631 Die pad section 632 Inner lead section 633 Outer lead section 634 Dam bar 635 Dam suspension bar 636 Frame (frame) section 638 Connecting section 640 Fixing tape 650 Silver plating

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 樹脂封止型半導体装置に用いられる、リ
ードフレームと複数のインナーリード固定部とを有する
リードフレーム部材であって、リードフレームは、ダイ
パッドを設けたもので、インナーリードの一方の面全面
をリードフレーム素材面とし、インナーリード先端には
素材の板厚よりも薄肉の薄肉部を形成しており、前記複
数のインナーリード固定部は、それぞれ、絶縁性樹脂か
らなり、全インナーリードを橋かけ跨ぐようにして固定
し、且つ、タブ吊りバーまで連なり、タブ吊りバーにて
支持されるもので、略ダイパッドを囲む形状に設けられ
ており、少なくとも第一のインナーリード固定部は、薄
肉部のリードフレーム素材面より凹んだ面側を、インナ
ーリード間を橋かけ跨ぐように設けられ、第二のインナ
ーリード固定部は、インナーリードのリードフレーム素
材と同じ厚さの箇所において、インナーリード間を橋か
け跨ぐように設けられていることを特徴とするリードフ
レーム部材。
1. A lead frame member having a lead frame and a plurality of inner lead fixing portions for use in a resin-sealed semiconductor device, wherein the lead frame is provided with a die pad, and one of the inner leads is provided. The entire surface is a lead frame material surface, a thin portion thinner than the thickness of the material is formed at the tip of the inner lead, and the plurality of inner lead fixing portions are each made of insulating resin, and all inner leads are formed. Is fixed so as to straddle the bridge, and is connected to the tab hanging bar, is supported by the tab hanging bar, is provided in a shape substantially surrounding the die pad, at least the first inner lead fixing portion, The side of the thin portion recessed from the lead frame material surface is provided so as to bridge over the inner leads, and the second inner lead fixing portion is A lead frame member characterized in that it is provided so as to bridge over the inner leads at the same thickness as the lead frame material of the inner leads.
【請求項2】 請求項1記載の第一のインナーリード固
定部は、インナーリードの薄肉部のリードフレーム素材
面より凹んだ面側の先端箇所において設けられているこ
とを特徴とするリードフレーム部材。
2. The lead frame member according to claim 1, wherein the first inner lead fixing portion is provided at a distal end of a thin portion of the inner lead on a surface side recessed from a lead frame material surface. .
【請求項3】 請求項1ないし2記載のインナーリード
固定部は単層の絶縁性樹脂からなることを特徴とするリ
ードフレーム部材。
3. The lead frame member according to claim 1, wherein the inner lead fixing portion is made of a single-layer insulating resin.
【請求項4】 請求項1ないし3記載のリードフレーム
部材の製造方法であって、(A)インナーリード先端に
一体的に連結し、且つインナーリード同志を連結する連
結部を設けた状態でリードフレームを外形加工する工程
と、(B)インナーリード固定部を作成するための絶縁
性の樹脂部を、半硬化状態で所定形状に形成する工程
と、(C)半硬化状態で所定形状に形成された絶縁性の
樹脂部を、リードフレームの所定の位置に熱圧着にて固
定する絶縁性の樹脂部固定工程と、(D)樹脂部固定工
程にて固定された絶縁性の樹脂部を、加熱手段およびま
たは紫外線照射手段によりキュアするキュア工程と、
(E)キュア工程後、リードフレームの連結部を除去す
る工程とを有することを特徴とするリードフレーム部材
の製造方法。
4. The method of manufacturing a lead frame member according to claim 1, wherein (A) the lead is provided in a state where a connecting portion is integrally provided at the tip of the inner lead and a connecting portion connecting the inner leads is provided. Externally processing the frame, (B) forming an insulating resin portion for forming an inner lead fixing portion into a predetermined shape in a semi-cured state, and (C) forming a predetermined shape in a semi-cured state. (D) fixing the insulating resin part to the predetermined position of the lead frame by thermocompression bonding, and (D) fixing the insulating resin part fixed in the resin part fixing step. Curing step of curing by heating means and or ultraviolet irradiation means,
(E) removing the connecting portion of the lead frame after the curing step.
【請求項5】 請求項4の絶縁性の樹脂部固定工程が、
複数の絶縁性の樹脂部を、全て、同時に熱圧着にて固定
するものであることを特徴とするリードフレーム部材の
製造方法。
5. The insulating resin portion fixing step according to claim 4,
A method for manufacturing a lead frame member, wherein a plurality of insulating resin portions are all fixed simultaneously by thermocompression bonding.
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Cited By (2)

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