JPH10172791A - シートプラズマ発生装置 - Google Patents
シートプラズマ発生装置Info
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- JPH10172791A JPH10172791A JP8324954A JP32495496A JPH10172791A JP H10172791 A JPH10172791 A JP H10172791A JP 8324954 A JP8324954 A JP 8324954A JP 32495496 A JP32495496 A JP 32495496A JP H10172791 A JPH10172791 A JP H10172791A
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- microwave
- tube
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- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】
【課題】 シートプラズマの幅をより広くしかもプラズ
マ密度を更に高くするようにしたシートプラズマ発生装
置を提供する。 【解決手段】 導波管３と同形状の入射窓５に接して導
波管３内に挿入したマイクロ波用誘電体レンズ１１と、
上記金属管６外部にこの金属管６を囲むように設置され
た小型コイル又は永久磁石７と、上記金属管６より下流
にあって誘電体管１３を囲んで設けたループ状アンテナ
８と、からなるうちの少なくとも二つの組合わせにて構
成した。
マ密度を更に高くするようにしたシートプラズマ発生装
置を提供する。 【解決手段】 導波管３と同形状の入射窓５に接して導
波管３内に挿入したマイクロ波用誘電体レンズ１１と、
上記金属管６外部にこの金属管６を囲むように設置され
た小型コイル又は永久磁石７と、上記金属管６より下流
にあって誘電体管１３を囲んで設けたループ状アンテナ
８と、からなるうちの少なくとも二つの組合わせにて構
成した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマ発生装置
に係り、例えば大面積プロセス用プラズマ発生装置、リ
ニア型イオン源、金属等の大面積酸化膜生成装置、フィ
ルム等の表面処理装置、プラズマ加速器等のプラズマを
利用する装置全般への適用に有用で、更にはエッチング
やスパッター装置、薄膜生成装置等、効率よく短時間で
処理を行う必要性のあるシートプラズマ発生装置として
好適なものに関する。
に係り、例えば大面積プロセス用プラズマ発生装置、リ
ニア型イオン源、金属等の大面積酸化膜生成装置、フィ
ルム等の表面処理装置、プラズマ加速器等のプラズマを
利用する装置全般への適用に有用で、更にはエッチング
やスパッター装置、薄膜生成装置等、効率よく短時間で
処理を行う必要性のあるシートプラズマ発生装置として
好適なものに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のマイクロ波及び磁場を利用したシ
ートプラズマ発生装置を図５に示す。図５の（ａ）は側
面構成図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ｂ断面図である。図５
において、マイクロ波１２を伝送する矩形断面導波管３
をテーパ管９にて幅を広げ、この広げた導波管１０と同
一形状断面を有する入射窓５を介して金属管６に入射さ
せ、この金属管６内ではマイクロ波１２の伝搬を制御し
つつプラズマをシート状に発生させている。
ートプラズマ発生装置を図５に示す。図５の（ａ）は側
面構成図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ｂ断面図である。図５
において、マイクロ波１２を伝送する矩形断面導波管３
をテーパ管９にて幅を広げ、この広げた導波管１０と同
一形状断面を有する入射窓５を介して金属管６に入射さ
せ、この金属管６内ではマイクロ波１２の伝搬を制御し
つつプラズマをシート状に発生させている。
【０００３】ここで、プラズマの発生は、真空容器１外
に配置されて磁場ＢO を作るコイル２により発生される
ＥＣＲゾーンＥO にて磁場ＢO に平行に入射されるマイ
クロ波１２が矩形断面の金属管６を伝播しつつＥＣＲ条
件にて効率よく吸収されることによりシートプラズマＰ
O が発生するものである。なお、ＥＣＲ条件及びＥＣＲ
ゾーンのＥＣＲは、Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｃｙｃｒｏｔｒ
ｏｎ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ（電子サイクロトロン共鳴）
のことであり、磁場中の電子はサイクロトロン周波数に
て回転運動を行うが、この周波数と同一周波数にて振動
する電磁波（本発明ではマイクロ波）をプラズマ中の電
子に作用させるとき、共鳴的にこの電磁波のエネルギを
電子の運動エネルギに変換できる、この共鳴現象のこと
である。こうして、発生したシートプラズマは同時に磁
場ＢO に沿って形状を保ちながら、真空中を輸送され
る。
に配置されて磁場ＢO を作るコイル２により発生される
ＥＣＲゾーンＥO にて磁場ＢO に平行に入射されるマイ
クロ波１２が矩形断面の金属管６を伝播しつつＥＣＲ条
件にて効率よく吸収されることによりシートプラズマＰ
O が発生するものである。なお、ＥＣＲ条件及びＥＣＲ
ゾーンのＥＣＲは、Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｃｙｃｒｏｔｒ
ｏｎ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ（電子サイクロトロン共鳴）
のことであり、磁場中の電子はサイクロトロン周波数に
て回転運動を行うが、この周波数と同一周波数にて振動
する電磁波（本発明ではマイクロ波）をプラズマ中の電
子に作用させるとき、共鳴的にこの電磁波のエネルギを
電子の運動エネルギに変換できる、この共鳴現象のこと
である。こうして、発生したシートプラズマは同時に磁
場ＢO に沿って形状を保ちながら、真空中を輸送され
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述の説明に係るシー
トプラズマ発生装置において、シートプラズマＰO をよ
り広幅に向けスケールアップする場合に、プラズマをシ
ート形状内で一様にするためマイクロ波パワーの吸収も
一様化する必要がある。従来の方法では、マイクロ波パ
ワーの吸収を一様化させるために必要なＥＣＲゾーン付
近の磁場強度や形状の調整ができないこと、また導波管
中マイクロ波のモードが決まっており入射前のマイクロ
波パワー分布が導波管中心でピークを持つ等のことに起
因してプラズマを一様に広幅化することに限界がある。
トプラズマ発生装置において、シートプラズマＰO をよ
り広幅に向けスケールアップする場合に、プラズマをシ
ート形状内で一様にするためマイクロ波パワーの吸収も
一様化する必要がある。従来の方法では、マイクロ波パ
ワーの吸収を一様化させるために必要なＥＣＲゾーン付
近の磁場強度や形状の調整ができないこと、また導波管
中マイクロ波のモードが決まっており入射前のマイクロ
波パワー分布が導波管中心でピークを持つ等のことに起
因してプラズマを一様に広幅化することに限界がある。
【０００５】また、プラズマの密度をより高くするため
には、マイクロ波の入射パワーを増加させる必要がある
が、プラズマ密度のマイクロ波パワーに対する増加率
は、パワーが一定値以上になると飽和する傾向にあっ
て、これも限界がある。
には、マイクロ波の入射パワーを増加させる必要がある
が、プラズマ密度のマイクロ波パワーに対する増加率
は、パワーが一定値以上になると飽和する傾向にあっ
て、これも限界がある。
【０００６】本発明は、上述の問題に鑑み、シートプラ
ズマの幅をより広くスケールアップし、同時にプラズマ
密度を更に高くするシートプラズマ発生装置の提供を目
的とする。
ズマの幅をより広くスケールアップし、同時にプラズマ
密度を更に高くするシートプラズマ発生装置の提供を目
的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成する本
発明は、次の発明特定事項を有する。 （１）マイクロ波を伝える導波管と、この導波管と同形
状の入射窓と、この入射窓に接して設けた金属管と、こ
の金属管の端が位置する真空容器とを有するシートプラ
ズマ発生装置において、上記入射窓に接して導波管内に
挿入したマイクロ波用誘電体レンズと、上記金属管外部
にこの金属管を囲むように設置された小型コイル又は永
久磁石と、上記金属管より下流にあって誘電体管を囲ん
で設けたループ状アンテナと、からなるうちの少なくと
も二つの組合わせにて構成したことを特徴とする。 （２）上記（１）において、上記金属管の断面形状を矩
形とし、しかも直管、及びテーパ状のいずれかとしたこ
とを特徴とする。 （３）上記（１）において、上記導波管は直管及びテー
パ管のいずれかとしたことを特徴とする。 （４）上記（１）、（２）又は（３）において、金属管
外部に小型コイル、又は永久磁石を対で同じ極を向き合
わせて補 助磁場としてカスプ型磁場を直流又は交流
で、形成するように設置することを特徴とする。 （５）上記（１）、（２）又は（３）において、金属管
よりも下流に設けられてこの金属管断面と同形状の断面
を有する 誘電体管と、この誘電体管を囲んで設けたル
ープ状アンテナを有することを特徴とする。
発明は、次の発明特定事項を有する。 （１）マイクロ波を伝える導波管と、この導波管と同形
状の入射窓と、この入射窓に接して設けた金属管と、こ
の金属管の端が位置する真空容器とを有するシートプラ
ズマ発生装置において、上記入射窓に接して導波管内に
挿入したマイクロ波用誘電体レンズと、上記金属管外部
にこの金属管を囲むように設置された小型コイル又は永
久磁石と、上記金属管より下流にあって誘電体管を囲ん
で設けたループ状アンテナと、からなるうちの少なくと
も二つの組合わせにて構成したことを特徴とする。 （２）上記（１）において、上記金属管の断面形状を矩
形とし、しかも直管、及びテーパ状のいずれかとしたこ
とを特徴とする。 （３）上記（１）において、上記導波管は直管及びテー
パ管のいずれかとしたことを特徴とする。 （４）上記（１）、（２）又は（３）において、金属管
外部に小型コイル、又は永久磁石を対で同じ極を向き合
わせて補 助磁場としてカスプ型磁場を直流又は交流
で、形成するように設置することを特徴とする。 （５）上記（１）、（２）又は（３）において、金属管
よりも下流に設けられてこの金属管断面と同形状の断面
を有する 誘電体管と、この誘電体管を囲んで設けたル
ープ状アンテナを有することを特徴とする。
【０００８】基本モード（ＴＥ10）で伝播してきたマイ
クロ波は、マイクロ波電力分布を幅方向に広げる働きを
有するマイクロ波用レンズにて予め幅方向にパワー分布
を広げられる。プラズマのシート化及び広幅化のために
必要なマイクロ波レンズ１１から金属管内に入射したマ
イクロ波は、プラズマ中を伝播し、シートプラズマを生
成する。
クロ波は、マイクロ波電力分布を幅方向に広げる働きを
有するマイクロ波用レンズにて予め幅方向にパワー分布
を広げられる。プラズマのシート化及び広幅化のために
必要なマイクロ波レンズ１１から金属管内に入射したマ
イクロ波は、プラズマ中を伝播し、シートプラズマを生
成する。
【０００９】このとき、永久磁石又は小型コイルにてマ
イクロ波がプラズマに吸収される位置での磁場形状を制
御してマイクロ波の伝播、吸収分布を調整しプラズマの
形状制御を行っており、換言すれば、永久磁石又は小型
コイルによるカプス型磁場により、幅方向に広がる形に
調整された磁場、またマイクロ波進行方向に凸でより大
きな曲率を持つＥＣＲゾーン形により幅方向へのマイク
ロ波伝播を増大させ、プラズマの広幅一様化が達成され
る。さらに精度よく調整する際には、小型コイルによる
補助磁場を交流電流により時間的に変化させることでこ
まかくプラズマ形を整えることが可能である。
イクロ波がプラズマに吸収される位置での磁場形状を制
御してマイクロ波の伝播、吸収分布を調整しプラズマの
形状制御を行っており、換言すれば、永久磁石又は小型
コイルによるカプス型磁場により、幅方向に広がる形に
調整された磁場、またマイクロ波進行方向に凸でより大
きな曲率を持つＥＣＲゾーン形により幅方向へのマイク
ロ波伝播を増大させ、プラズマの広幅一様化が達成され
る。さらに精度よく調整する際には、小型コイルによる
補助磁場を交流電流により時間的に変化させることでこ
まかくプラズマ形を整えることが可能である。
【００１０】次に、金属管を通過したプラズマは、誘電
体を囲むループ状アンテナ内を通る。このときループ状
アンテナにＭＨZ オーダーの高周波電流を流すことでプ
ラズマ中にヘリコン波（プラズマ中を磁場に平行に伝播
する電磁波で、周波数または波長により位相速度が変化
する性質を持つホイッスラー波にて電子サイクロトン周
波数より充分低周波の部分をいう）を励起させ、密度ジ
ャンプ現象（ある一定パワー以上で密度が１ケタ程度急
激に増える現象）を利用して高密度化を図る。これによ
り莫大なマイクロ波パワーを必要とせず、プラズマ形状
を保持しながら高密度プラズマが得られる。
体を囲むループ状アンテナ内を通る。このときループ状
アンテナにＭＨZ オーダーの高周波電流を流すことでプ
ラズマ中にヘリコン波（プラズマ中を磁場に平行に伝播
する電磁波で、周波数または波長により位相速度が変化
する性質を持つホイッスラー波にて電子サイクロトン周
波数より充分低周波の部分をいう）を励起させ、密度ジ
ャンプ現象（ある一定パワー以上で密度が１ケタ程度急
激に増える現象）を利用して高密度化を図る。これによ
り莫大なマイクロ波パワーを必要とせず、プラズマ形状
を保持しながら高密度プラズマが得られる。
【００１１】上記はマイクロ波レンズ、永久磁石又は小
型コイル、更にはループ状アンテナそれぞれの機能であ
り、仮に例えばマイクロ波レンズ単独でもある程度の幅
のシートプラズマの生成が可能であり、また永久磁石又
は小型コイル単独でも形状制御により広幅、高精度のシ
ートプラズマの生成も可能であるが、マイクロ波レン
ズ、永久磁石又は小型コイル、ループ状アンテナによる
組合せにより、広幅の形状制御ができて高密度なシート
プラズマを得ることができる。
型コイル、更にはループ状アンテナそれぞれの機能であ
り、仮に例えばマイクロ波レンズ単独でもある程度の幅
のシートプラズマの生成が可能であり、また永久磁石又
は小型コイル単独でも形状制御により広幅、高精度のシ
ートプラズマの生成も可能であるが、マイクロ波レン
ズ、永久磁石又は小型コイル、ループ状アンテナによる
組合せにより、広幅の形状制御ができて高密度なシート
プラズマを得ることができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】ここで、図１〜４を参照して本発
明の実施の形態の一例を説明する。なお、図１〜４にお
いて図５と同一部分には同符号を付する。図１〜３は、
シートプラズマ発生装置一例である。１は真空容器、２
は軸方向の磁場ＢO 及びＥＣＲゾーンＥO 形成用の電磁
コイル、３は矩形断面のマイクロ波伝送用導波管、５は
マイクロ波入射窓、６は金属管である。
明の実施の形態の一例を説明する。なお、図１〜４にお
いて図５と同一部分には同符号を付する。図１〜３は、
シートプラズマ発生装置一例である。１は真空容器、２
は軸方向の磁場ＢO 及びＥＣＲゾーンＥO 形成用の電磁
コイル、３は矩形断面のマイクロ波伝送用導波管、５は
マイクロ波入射窓、６は金属管である。
【００１３】導波管３の端には、プラズマ広幅化のため
のテーパ管９が接続される。このテーパ管はマイクロ波
のモードを変えずマイクロ波のインピーダンスマッチン
グがとれるように長さを調整するものである。
のテーパ管９が接続される。このテーパ管はマイクロ波
のモードを変えずマイクロ波のインピーダンスマッチン
グがとれるように長さを調整するものである。
【００１４】テーパ管９に連通する導波管１０内には、
マイクロ波入射窓５に接しており、図２（ｂ）に示すよ
うに厚み方向ｗには一定形状であり、幅方向に図２
（ａ）にも示すよう調整された形を持つマイクロ波用誘
電体レンズ１１が備えられ、マイクロ波１２のパワー分
布が幅ｔ方向に広げられる。この場合、幅方向の形状ｆ
は誘電体の誘電率や導波管サイズから光の軸跡計算を用
いて決定される。
マイクロ波入射窓５に接しており、図２（ｂ）に示すよ
うに厚み方向ｗには一定形状であり、幅方向に図２
（ａ）にも示すよう調整された形を持つマイクロ波用誘
電体レンズ１１が備えられ、マイクロ波１２のパワー分
布が幅ｔ方向に広げられる。この場合、幅方向の形状ｆ
は誘電体の誘電率や導波管サイズから光の軸跡計算を用
いて決定される。
【００１５】更に、マイクロ波入射窓５に接して、プラ
ズマ形状制御用金属管６が接続される。この金属管６は
直管でも幅方向にテーパー状でもよい。また、本例で
は、金属管６の幅方向に小型コイル又は永久磁石７をカ
スプ状に、またそれに垂直に小型コイル又は永久磁石７
をＢO の向きに合わせてカスプ状に設置する。図３に示
すように極性をあわせるとこれらのコイル、又は磁石に
より磁力線をより幅方向に広げ、ＥＣＲゾーンの曲率を
大きくすることができる。図３のＢO、ＥO は調整前、
Ｂ1 、Ｅ1 は調整後の磁場、及びＥＣＲゾーンである。
これによりマイクロ波は金属管内をより幅方向の外に向
かって進向し、広幅一様なシートプラズマを得ることが
できる。小型コイルを用いた例では、プラズマ状態に応
じた磁場調整が可能である。この磁場を小型コイルへ交
流電流を印加して変動させてやることで、磁気圧変動に
よるプラズマ形状の微調が可能となる。ここで、振動
数、電流値はプラズマガス種、密度、金属管サイズによ
り決められる。
ズマ形状制御用金属管６が接続される。この金属管６は
直管でも幅方向にテーパー状でもよい。また、本例で
は、金属管６の幅方向に小型コイル又は永久磁石７をカ
スプ状に、またそれに垂直に小型コイル又は永久磁石７
をＢO の向きに合わせてカスプ状に設置する。図３に示
すように極性をあわせるとこれらのコイル、又は磁石に
より磁力線をより幅方向に広げ、ＥＣＲゾーンの曲率を
大きくすることができる。図３のＢO、ＥO は調整前、
Ｂ1 、Ｅ1 は調整後の磁場、及びＥＣＲゾーンである。
これによりマイクロ波は金属管内をより幅方向の外に向
かって進向し、広幅一様なシートプラズマを得ることが
できる。小型コイルを用いた例では、プラズマ状態に応
じた磁場調整が可能である。この磁場を小型コイルへ交
流電流を印加して変動させてやることで、磁気圧変動に
よるプラズマ形状の微調が可能となる。ここで、振動
数、電流値はプラズマガス種、密度、金属管サイズによ
り決められる。
【００１６】また、金属管６の端の真空容器１との間に
あって、形状の調整及び高密度化のために備えられた誘
電体管１３の周囲にはリング状の金属アンテナ８が設け
られる。ここでは金属管６の端と誘電体管１３とは同一
断面形状を有する。また、アンテナ８は誘電体管１３全
体を囲む断面形状を有し、更にはこのアンテナ８を磁場
の向きと平行に複数個設置してもよく、この場合、電気
的に直列又は並列に接続でき、更に並列の場合アンテナ
相互の印加高周波の位相をずらした設置でも状況に応じ
た調整が可能である。ここでは、プラズマ中のヘリコン
波の励起により、密度ジャンプ現象を生じさせ、高密度
プラズマを得るものである。
あって、形状の調整及び高密度化のために備えられた誘
電体管１３の周囲にはリング状の金属アンテナ８が設け
られる。ここでは金属管６の端と誘電体管１３とは同一
断面形状を有する。また、アンテナ８は誘電体管１３全
体を囲む断面形状を有し、更にはこのアンテナ８を磁場
の向きと平行に複数個設置してもよく、この場合、電気
的に直列又は並列に接続でき、更に並列の場合アンテナ
相互の印加高周波の位相をずらした設置でも状況に応じ
た調整が可能である。ここでは、プラズマ中のヘリコン
波の励起により、密度ジャンプ現象を生じさせ、高密度
プラズマを得るものである。
【００１７】上述の説明では、マイクロ波レンズ１１、
永久磁石又は小型コイル７、ループ状アンテナ８を全て
備えた例を示しているが、前述したようにマイクロ波レ
ンズ１１、永久磁石又は小型コイル７、ループ状アンテ
ナ８の機能からすれば、マイクロ波レンズ１１と永久磁
石又は小型コイル７だけの組合せ、永久磁石又は小型コ
イル７とループ状アンテナ８だけの組合せ、更には数十
ｃｍ程の幅におけるマイクロ波レンズ１１とループ状ア
ンテナ８とだけの組合せも可能である。なお、かかる組
合せによってもマイクロ波がプラズマに吸収される部分
に永久磁石又は小型コイル７が配置され、誘電体管１３
にループ状アンテナ８を配置することには変わりがな
い。また、図１では、テーパ管９の存在を前提としてい
るが、テーパ管に限らず直管でもシート化は充分図れ
る。なお、図１においては真空容器１の形は問わない。
またコイル２の形状も真空容器内に一様な軸方向磁場が
形成されることを条件として任意のものでよい。図４
は、大型化した例を示したものである。同図に示すよう
に、マイクロ波１２を誘電レンズを通して真空容器１に
並列に導入し、金属管６、及び高周波アンテナ８を長辺
に長い共通のものにすることで、任意の幅を持ったシー
トプラズマ生成が可能である。
永久磁石又は小型コイル７、ループ状アンテナ８を全て
備えた例を示しているが、前述したようにマイクロ波レ
ンズ１１、永久磁石又は小型コイル７、ループ状アンテ
ナ８の機能からすれば、マイクロ波レンズ１１と永久磁
石又は小型コイル７だけの組合せ、永久磁石又は小型コ
イル７とループ状アンテナ８だけの組合せ、更には数十
ｃｍ程の幅におけるマイクロ波レンズ１１とループ状ア
ンテナ８とだけの組合せも可能である。なお、かかる組
合せによってもマイクロ波がプラズマに吸収される部分
に永久磁石又は小型コイル７が配置され、誘電体管１３
にループ状アンテナ８を配置することには変わりがな
い。また、図１では、テーパ管９の存在を前提としてい
るが、テーパ管に限らず直管でもシート化は充分図れ
る。なお、図１においては真空容器１の形は問わない。
またコイル２の形状も真空容器内に一様な軸方向磁場が
形成されることを条件として任意のものでよい。図４
は、大型化した例を示したものである。同図に示すよう
に、マイクロ波１２を誘電レンズを通して真空容器１に
並列に導入し、金属管６、及び高周波アンテナ８を長辺
に長い共通のものにすることで、任意の幅を持ったシー
トプラズマ生成が可能である。
【００１８】
【発明の効果】以上のように本発明は、マイクロ波と一
様磁場、及び広幅化を目的としたテーパー管、マイクロ
波パワー分布を調整する誘電体レンズ、形状を設定すべ
くマイクロ波伝播を調整する金属管、磁場調整用小型コ
イル又は永久磁石、さらに高密度化用高周波アンテナの
組合せを用いることで、効率よく高い精度で一様なシト
プラズマを生成する装置である。従って、従来における
シートプラズマを生成する運転領域の拡大化とシートプ
ラズマの一様性の向上、さらに比較的小さなパワーでの
高密度化が行うことができ、自由度が大きく経済的なシ
ートプラズマ生成を可能とする。
様磁場、及び広幅化を目的としたテーパー管、マイクロ
波パワー分布を調整する誘電体レンズ、形状を設定すべ
くマイクロ波伝播を調整する金属管、磁場調整用小型コ
イル又は永久磁石、さらに高密度化用高周波アンテナの
組合せを用いることで、効率よく高い精度で一様なシト
プラズマを生成する装置である。従って、従来における
シートプラズマを生成する運転領域の拡大化とシートプ
ラズマの一様性の向上、さらに比較的小さなパワーでの
高密度化が行うことができ、自由度が大きく経済的なシ
ートプラズマ生成を可能とする。
【図１】本発明の実施の形態の一例の構成図。
【図２】誘導体レンズ部の構成図。
【図３】補助磁場発生部の構成図。
【図４】大型化した一例の構成図。
【図５】従来例の構成図。
１ 真空容器 ３ 導波管 ５ 入射窓 ６ 金属管 ７ 小型コイル又は永久磁石 ８ アンテナ １１ 誘電体レンズ １３ 誘電体管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/205 Ｈ０１Ｌ 21/205 21/3065 21/302 Ｂ
Claims (5)
- 【請求項１】 マイクロ波を伝える導波管と、この導波
管と同形状の入射窓と、この入射窓に接して設けた金属
管と、この金属管の端が位置する真空容器とを有するシ
ートプラズマ発生装置において、 上記入射窓に接して導波管内に挿入したマイクロ波用誘
電体レンズと、上記金属管外部にこの金属管を囲むよう
に設置された小型コイル又は永久磁石と、上記金属管よ
り下流にあって誘電体管を囲んで設けたループ状アンテ
ナと、からなるうちの少なくとも二つの組合わせにて構
成したことを特徴とするシートプラズマ発生装置。 - 【請求項２】 上記金属管の断面形状を矩形とし、しか
も直管、及びテーパ状のいずれかとしたことを特徴とす
る請求項１記載のシートプラズマ発生装置。 - 【請求項３】 上記導波管は直管及びテーパ管のいずれ
かとしたことを特徴とする請求項１記載のシートプラズ
マ発生装置。 - 【請求項４】 金属管外部に小型コイル、又は永久磁石
を対で同じ極を向き合わせて補助磁場としてカスプ型磁
場を直流又は交流で、形成するように設置することを特
徴とする請求項１、２又は３記載のシートプラズマ発生
装置。 - 【請求項５】 金属管よりも下流に設けられてこの金属
管断面と同形状の断面を有する誘電体管と、この誘電体
管を囲んで設けたループ状アンテナを有することを特徴
とする請求項１、２又は３記載のシートプラズマ発生装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8324954A JPH10172791A (ja) | 1996-12-05 | 1996-12-05 | シートプラズマ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8324954A JPH10172791A (ja) | 1996-12-05 | 1996-12-05 | シートプラズマ発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10172791A true JPH10172791A (ja) | 1998-06-26 |
Family
ID=18171491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8324954A Pending JPH10172791A (ja) | 1996-12-05 | 1996-12-05 | シートプラズマ発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10172791A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009224269A (ja) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Chube Univ | プラズマ装置、プラズマ処理ユニット及びプラズマ処理方法 |
-
1996
- 1996-12-05 JP JP8324954A patent/JPH10172791A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009224269A (ja) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Chube Univ | プラズマ装置、プラズマ処理ユニット及びプラズマ処理方法 |
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