JPH10156571A - Laser beam machine - Google Patents

Laser beam machine

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JPH10156571A
JPH10156571A JP8321711A JP32171196A JPH10156571A JP H10156571 A JPH10156571 A JP H10156571A JP 8321711 A JP8321711 A JP 8321711A JP 32171196 A JP32171196 A JP 32171196A JP H10156571 A JPH10156571 A JP H10156571A
Authority
JP
Japan
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laser
laser light
laser beam
reflected
oscillator
Prior art date
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Pending
Application number
JP8321711A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuya Koyanagi
柳 哲 也 小
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Mechatronics Co Ltd
Toshiba Development and Engineering Corp
Original Assignee
Toshiba Mechatronics Co Ltd
Toshiba Electronic Engineering Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Mechatronics Co Ltd, Toshiba Electronic Engineering Co Ltd filed Critical Toshiba Mechatronics Co Ltd
Priority to JP8321711A priority Critical patent/JPH10156571A/en
Publication of JPH10156571A publication Critical patent/JPH10156571A/en
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  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To practise stable and high efficient laser working even when an abject to be machined is irradiated with laser beams of different waveforms to each other on the same spot simultaneously for laser beam machining. SOLUTION: The laser beam machine is equipped with a pair of laser oscillators 1, 2 to generate laser beams 3, 8 of different waveforms to each other, a total reflection mirror 4 to reflect laser beam 3 emitted by a laser oscillator 1 on one side, and a half mirror 5 which reflects laser beam 8 emitted by the other laser oscillator 2 and at the same time allows the laser beam 3 reflected by the total reflection mirror 4 to pass through. By means of the half mirror 5, the laser beam 7 transmitted from the laser oscillator 1 on one side and the reflected laser beam 9 from the other laser oscillator 2 are synthesized on the same axis, and after transmission through a condensing lens 11, optical fibers 12 and a condensing lens 14, are irradiated on the object 15 to be machined in the vertical direction.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はレーザ光を用いて被
加工物を加工するレーザ加工装置に係り、とりわけ互い
に異なる波形を有するレーザ光を被加工物上の同一箇所
に同時に照射してレーザ加工を行うレーザ加工装置に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing apparatus for processing a workpiece using a laser beam, and more particularly to a laser processing apparatus in which laser beams having mutually different waveforms are simultaneously radiated to the same portion on the workpiece. The present invention relates to a laser processing apparatus for performing the above.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、互いに異なる波形を有するレ
ーザ光を被加工物上の同一箇所に同時に照射してレーザ
加工を行うレーザ加工装置が知られている。図3に示す
ように、このような従来のレーザ加工装置は、互いに異
なる波形を有するレーザ光を発生させる一対のレーザ発
振器31,43と、これら一対のレーザ発振器31,4
3から出射されたレーザ光32,44のそれぞれを分岐
させて被加工物40,42の近傍まで導く光学系とを備
えている。
2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known a laser processing apparatus which performs laser processing by simultaneously irradiating laser beams having mutually different waveforms to the same portion on a workpiece. As shown in FIG. 3, such a conventional laser processing apparatus includes a pair of laser oscillators 31 and 43 for generating laser beams having mutually different waveforms, and a pair of these laser oscillators 31 and 4.
And an optical system for branching each of the laser beams 32 and 44 emitted from 3 and guiding them to the vicinity of the workpieces 40 and 42.

【0003】ここで、レーザ光32を分岐させて被加工
物40,42の近傍まで導く光学系は、レーザ光32を
二分岐させるハーフミラー33および全反射ミラー34
と、これらハーフミラー33および全反射ミラー34の
後段に設けられ二分岐されたレーザ光の各々を集光させ
る集光レンズ35,36と、集光レンズ35,36によ
るレーザ光の集光位置に入射端が設けられた光ファイバ
37,38と、光ファイバ37,38の出射端から出射
されたレーザ光を被加工物40,42上に集光させる集
光レンズ39,41とから構成されている。
Here, an optical system that splits the laser beam 32 and guides it to the vicinity of the workpieces 40 and 42 includes a half mirror 33 and a total reflection mirror 34 that split the laser beam 32 into two.
And condenser lenses 35 and 36 provided after the half mirror 33 and the total reflection mirror 34 to condense each of the two branched laser lights. It comprises optical fibers 37 and 38 provided with incident ends, and condensing lenses 39 and 41 for condensing laser light emitted from the emitting ends of the optical fibers 37 and 38 onto workpieces 40 and 42. I have.

【0004】また、レーザ光44を分岐させて被加工物
40,42の近傍まで導く光学系は、レーザ光44を二
分岐させるハーフミラー45および全反射ミラー46
と、これらハーフミラー45および全反射ミラー46の
後段に設けられ二分岐されたレーザ光の各々を集光させ
る集光レンズ47,48と、集光レンズ47,48によ
るレーザ光の集光位置に入射端が設けられた光ファイバ
49,50と、光ファイバ49,50の出射端から出射
されたレーザ光を被加工物40,42上に集光させる集
光レンズ51,52とから構成されている。
An optical system that splits the laser beam 44 and guides it to the vicinity of the workpieces 40 and 42 includes a half mirror 45 and a total reflection mirror 46 that split the laser beam 44 into two.
And condensing lenses 47 and 48 provided after the half mirror 45 and the total reflection mirror 46 to condense each of the bifurcated laser beams. It is composed of optical fibers 49 and 50 provided with incident ends, and condenser lenses 51 and 52 for condensing laser light emitted from the exit ends of the optical fibers 49 and 50 on the workpieces 40 and 42. I have.

【0005】図3において、一方のレーザ発振器31か
ら出射されたレーザ光32はハーフミラー33および全
反射ミラー34により二分岐される。二分岐されたレー
ザ光の各々は集光レンズ35,36により集光されて光
ファイバ37,38の入射端に入射される。入射された
レーザ光の各々は光ファイバ37,38により被加工物
40,42の近傍まで伝送された後、光ファイバ37,
38の出射端から出射される。そして、光ファイバ37
から出射されたレーザ光は集光レンズ39により集光さ
れて被加工物40上の所定箇所に照射され、光ファイバ
38から出射されたレーザ光は集光レンズ41により集
光されて被加工物42上の所定箇所に照射される。
In FIG. 3, a laser beam 32 emitted from one laser oscillator 31 is bifurcated by a half mirror 33 and a total reflection mirror 34. Each of the split laser beams is condensed by condensing lenses 35 and 36 and is incident on the incident ends of optical fibers 37 and 38. Each of the incident laser beams is transmitted to the vicinity of the workpieces 40 and 42 by the optical fibers 37 and 38, and then transmitted to the optical fibers 37 and 38.
The light exits from the exit end 38. And the optical fiber 37
The laser light emitted from the laser beam is condensed by a condenser lens 39 and irradiates a predetermined portion on a workpiece 40, and the laser light emitted from the optical fiber 38 is condensed by a condenser lens 41 to be processed. The light is irradiated on a predetermined portion on the reference numeral 42.

【0006】また同様に、他方のレーザ発振器43から
出射されたレーザ光44はハーフミラー45および全反
射ミラー46により二分岐される。二分岐されたレーザ
光の各々は集光レンズ47,48により集光されて光フ
ァイバ49,50の入射端に入射される。入射されたレ
ーザ光の各々は光ファイバ49,50により被加工物4
0,42の近傍まで伝送された後、光ファイバ49,5
0の出射端から出射される。そして、光ファイバ49か
ら出射されたレーザ光は集光レンズ51により集光され
て被加工物40上の所定箇所(光ファイバ37から出射
されたレーザ光の照射箇所)に照射され、光ファイバ5
0から出射されたレーザ光は集光レンズ52により集光
されて被加工物42上の所定箇所(光ファイバ38から
出射されたレーザ光の照射箇所)に照射される。
Similarly, a laser beam 44 emitted from the other laser oscillator 43 is split into two by a half mirror 45 and a total reflection mirror 46. Each of the bifurcated laser beams is condensed by condensing lenses 47 and 48 and is incident on the incident ends of optical fibers 49 and 50. Each of the incident laser beams is converted by the optical fibers 49 and 50 into the workpiece 4.
After being transmitted to the vicinity of 0,42, the optical fibers 49,5
0 is emitted from the exit end. Then, the laser light emitted from the optical fiber 49 is condensed by the condenser lens 51 and is irradiated on a predetermined position on the workpiece 40 (the irradiation position of the laser light emitted from the optical fiber 37).
The laser light emitted from 0 is condensed by the condenser lens 52 and is irradiated on a predetermined portion on the workpiece 42 (the irradiation position of the laser light emitted from the optical fiber 38).

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
のレーザ加工装置においては、例えば独立した光ファイ
バ37,49の各々により伝送されたレーザ光32,4
4の一部が被加工物40上の同一箇所に同時に照射され
る。しかしながら、光ファイバ37,49の出射端と被
加工物40との間に配置される集光レンズ39,51が
機構的に互いに干渉するため、光ファイバ37,49か
ら出射されたレーザ光は被加工物40に対して斜め方向
から照射されることになる。このような場合、被加工物
40上の加工点におけるエネルギー分布が不均一とな
り、また被加工物40上でのレーザ光の反射率が高くな
るので、安定した効率のよいレーザ加工を行うことがで
きないという問題がある。なお、この問題は被加工物4
2についても同様である。
As described above, in the conventional laser processing apparatus, for example, laser beams 32 and 4 transmitted by independent optical fibers 37 and 49, respectively.
A part of 4 is simultaneously irradiated on the same place on the workpiece 40. However, since the condenser lenses 39 and 51 disposed between the emission ends of the optical fibers 37 and 49 and the workpiece 40 mechanically interfere with each other, the laser light emitted from the optical fibers 37 and 49 is processed. The workpiece 40 is irradiated from an oblique direction. In such a case, the energy distribution at the processing point on the workpiece 40 becomes non-uniform, and the reflectance of the laser light on the workpiece 40 increases, so that stable and efficient laser processing can be performed. There is a problem that can not be. This problem is caused by the work 4
The same applies to No. 2.

【0008】本発明はこのような点を考慮してなされた
ものであり、互いに異なる波形を有するレーザ光を被加
工物上の同一箇所に同時に照射してレーザ加工を行う場
合でも、安定した高効率のレーザ加工を実現することが
できるレーザ加工装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such a point, and even when laser processing is performed by simultaneously irradiating the same portion on a workpiece with laser beams having different waveforms, a stable high laser beam can be obtained. An object of the present invention is to provide a laser processing apparatus capable of realizing efficient laser processing.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、互いに異なる
波形を有するレーザ光を発生させる一対のレーザ発振器
と、一方のレーザ発振器から出射されたレーザ光を反射
させる反射ミラーと、他方のレーザ発振器から出射され
たレーザ光を反射させるとともに前記反射ミラーで反射
されたレーザ光を透過させるハーフミラーとを備え、前
記ハーフミラーにおいて、前記一方のレーザ発振器から
の透過レーザ光と、前記他方のレーザ発振器からの反射
レーザ光とを同軸上で合成したことを特徴とするレーザ
加工装置を提供する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a pair of laser oscillators for generating laser beams having mutually different waveforms, a reflecting mirror for reflecting a laser beam emitted from one laser oscillator, and another laser oscillator. A half mirror that reflects the laser light emitted from the reflector and transmits the laser light reflected by the reflection mirror, wherein the transmitted laser light from the one laser oscillator and the other laser oscillator are provided in the half mirror. A laser processing apparatus characterized in that reflected laser light from the laser beam is coaxially combined.

【0010】また本発明は、互いに異なる波形を有する
レーザ光を発生させる一対のレーザ発振器と、一方のレ
ーザ発振器から出射されたレーザ光を反射させる反射ミ
ラーと、他方のレーザ発振器から出射されたレーザ光の
一部を反射させるとともに残りを透過させ、かつ前記反
射ミラーで反射されたレーザ光の一部を透過させるとと
もに残りを反射させるハーフミラーとを備え、前記ハー
フミラーにおいて、前記一方のレーザ発振器からの透過
レーザ光と、前記他方のレーザ発振器からの反射レーザ
光とを同軸上で合成するとともに、前記一方のレーザ発
振器からの反射レーザ光と、前記他方のレーザ発振器か
らの透過レーザ光とを同軸上で合成したことを特徴とす
るレーザ加工装置を提供する。
The present invention also provides a pair of laser oscillators for generating laser beams having mutually different waveforms, a reflecting mirror for reflecting a laser beam emitted from one laser oscillator, and a laser beam emitted from the other laser oscillator. A half mirror that reflects a part of the light and transmits the rest, and transmits a part of the laser light reflected by the reflection mirror and reflects the rest, wherein the half mirror has the one laser oscillator. And the reflected laser light from the other laser oscillator are coaxially combined, and the reflected laser light from the one laser oscillator and the transmitted laser light from the other laser oscillator are combined. A laser processing device characterized by being coaxially synthesized is provided.

【0011】本発明によれば、互いに異なる波形を有す
るレーザ光はハーフミラーにおいて同軸上で合成され
る。これにより、互いに異なる波形を有するレーザ光を
被加工物に対して同一方向から照射することが可能とな
り、被加工物上の加工点におけるエネルギー分布を均一
にすることができる。また、レーザ光が同軸上で合成さ
れているので、被加工物に対してレーザ光を垂直方向か
ら照射することが可能となり、被加工物に対するレーザ
光の吸収率の低減を抑えることができる。
According to the present invention, laser beams having mutually different waveforms are combined coaxially by the half mirror. This makes it possible to irradiate the workpiece with laser beams having mutually different waveforms from the same direction, thereby making the energy distribution at the processing point on the workpiece uniform. In addition, since the laser light is synthesized coaxially, the workpiece can be irradiated with the laser light from the vertical direction, and the reduction in the absorptivity of the laser light to the workpiece can be suppressed.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図1および図2は本発明に
よるレーザ加工装置の一実施の形態を示す図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 and 2 are views showing one embodiment of a laser processing apparatus according to the present invention.

【0013】図1に示すように、レーザ加工装置は、互
いに異なる波形を有するレーザ光3,8を発生させる一
対のレーザ発振器1,2と、一方のレーザ発振器1から
出射されたレーザ光3を反射させる全反射ミラー4と、
他方のレーザ発振器2から出射されたレーザ光8の一部
を反射させて反射レーザ光9とするとともに残りを透過
させて透過レーザ光10とし、かつ全反射ミラー4で反
射されたレーザ光3の一部を透過させて透過レーザ光7
とするとともに残りを反射させて反射レーザ光6とする
ハーフミラー5とを備えている。
As shown in FIG. 1, a laser processing apparatus includes a pair of laser oscillators 1 and 2 for generating laser beams 3 and 8 having different waveforms from each other and a laser beam 3 emitted from one of the laser oscillators 1. A total reflection mirror 4 for reflecting light,
A part of the laser light 8 emitted from the other laser oscillator 2 is reflected to be a reflected laser light 9, and the rest is transmitted to be a transmitted laser light 10, and a part of the laser light 3 reflected by the total reflection mirror 4. Partially transmitted and transmitted laser light 7
And a half mirror 5 that reflects the rest to produce a reflected laser beam 6.

【0014】一対のレーザ発振器1,2は、各々から出
射されるレーザ光3,8の光軸が互いに平行となるよう
に配置されている。また、全反射ミラー4は一方のレー
ザ発振器1から出射されたレーザ光3をその光軸と直交
する方向に反射させており、この反射光の光軸と、他方
のレーザ発振器2から出射されたレーザ光8の光軸とが
交差する位置にハーフミラー5が配置されている。
The pair of laser oscillators 1 and 2 are arranged such that the optical axes of the laser beams 3 and 8 emitted from the laser oscillators 1 and 2 are parallel to each other. The total reflection mirror 4 reflects the laser light 3 emitted from one of the laser oscillators 1 in a direction orthogonal to its optical axis, and the optical axis of this reflected light and the laser light 3 emitted from the other laser oscillator 2. The half mirror 5 is arranged at a position where the optical axis of the laser light 8 intersects.

【0015】また、全反射ミラー4とハーフミラー5と
は、一方のレーザ発振器1からの透過レーザ光7の光軸
と、他方のレーザ発振器2からの反射レーザ光9との光
軸が略一致し、また一方のレーザ発振器1からの反射レ
ーザ光6の光軸と、他方のレーザ発振器2からの透過レ
ーザ光10の光軸とが略一致するように互いの位置関係
および傾きが決められている。
The total reflection mirror 4 and the half mirror 5 have substantially the same optical axis of the transmitted laser light 7 from one laser oscillator 1 and the reflected laser light 9 from the other laser oscillator 2. The positional relationship and the inclination are determined so that the optical axis of the reflected laser light 6 from one laser oscillator 1 and the optical axis of the transmitted laser light 10 from the other laser oscillator 2 substantially coincide with each other. I have.

【0016】さらに、ハーフミラー5と被加工物15と
の間の光路上には、ハーフミラー5において合成された
透過レーザ光7および反射レーザ光9を集光させる集光
レンズ11と、集光レンズ11によるレーザ光の集光位
置に入射端が設けられた光ファイバ12と、光ファイバ
12の出射端から出射されたレーザ光13を被加工物1
5上に集光させる集光レンズ14とが設けられている。
Further, on an optical path between the half mirror 5 and the workpiece 15, a condenser lens 11 for condensing the transmitted laser light 7 and the reflected laser light 9 synthesized by the half mirror 5, and a condenser lens 11 An optical fiber 12 having an incident end provided at a position where a laser beam is condensed by a lens 11 and a laser beam 13 emitted from an emission end of the optical fiber 12 are processed 1
And a condensing lens 14 for condensing light on the light source 5.

【0017】また、ハーフミラー5と被加工物21との
間の光路上には、ハーフミラー5において合成された反
射レーザ光6および透過レーザ光10を反射させる全反
射ミラー16と、全反射ミラー16で反射されたレーザ
光を集光させる集光レンズ17と、集光レンズ17によ
るレーザ光の集光位置に入射端が設けられた光ファイバ
18と、光ファイバ18の出射端から出射されたレーザ
光19を被加工物21上に集光させる集光レンズ20と
が設けられている。
On the optical path between the half mirror 5 and the workpiece 21, a total reflection mirror 16 for reflecting the reflected laser light 6 and the transmitted laser light 10 synthesized by the half mirror 5, and a total reflection mirror A condensing lens 17 for condensing the laser light reflected by 16, an optical fiber 18 provided with an incident end at a position where the laser light is condensed by the condensing lens 17, and an optical fiber 18 emitted from the emitting end. A condensing lens 20 for condensing the laser light 19 on the workpiece 21 is provided.

【0018】次に、このような構成からなる本実施の形
態の作用について説明する。
Next, the operation of the present embodiment having such a configuration will be described.

【0019】一方のレーザ発振器1から出射されたレー
ザ光3は、全反射ミラー4により反射された後、ハーフ
ミラー5においてその一部が透過されて透過レーザ光7
となるとともに残りが反射されて反射レーザ光6とな
る。
The laser light 3 emitted from one of the laser oscillators 1 is reflected by a total reflection mirror 4 and then partially transmitted through a half mirror 5 to transmit a transmitted laser light 7.
And the rest is reflected to become a reflected laser beam 6.

【0020】また、他方のレーザ発振器2から出射され
たレーザ光8は、ハーフミラー5においてその一部が反
射されて反射レーザ光9となるとともに残りが透過され
て透過レーザ光10となる。
A part of the laser light 8 emitted from the other laser oscillator 2 is reflected by the half mirror 5 to become a reflected laser light 9, and the rest is transmitted to become a transmitted laser light 10.

【0021】このようにしてレーザ光3,8がハーフミ
ラー5を通過することにより、一方のレーザ発振器1か
らの透過レーザ光7と、他方のレーザ発振器2からの反
射レーザ光9とが互いに同軸上で合成され、また一方の
レーザ発振器1からの反射レーザ光6と、他方のレーザ
発振器2からの透過レーザ光10とも互いに同軸上で合
成される。透過レーザ光7と反射レーザ光9の光軸、お
よび反射レーザ光6と透過レーザ光10の光軸はハーフ
ミラー5の厚みに起因する所定距離だけずれているが、
このずれ量は非常に小さく、しかも両光軸は互いに平行
であるために、光路上に設けられた集光レンズ11,1
4,17,20を介して結ばれる集光位置は同一箇所と
なる。
As described above, when the laser beams 3 and 8 pass through the half mirror 5, the transmitted laser beam 7 from one laser oscillator 1 and the reflected laser beam 9 from the other laser oscillator 2 are coaxial with each other. The reflected laser beam 6 from one laser oscillator 1 and the transmitted laser beam 10 from the other laser oscillator 2 are also coaxially combined. Although the optical axes of the transmitted laser light 7 and the reflected laser light 9 and the optical axes of the reflected laser light 6 and the transmitted laser light 10 are shifted by a predetermined distance due to the thickness of the half mirror 5,
Since this shift amount is very small and both optical axes are parallel to each other, the condensing lenses 11 and 1 provided on the optical path are provided.
The light condensing positions connected via 4, 17, and 20 are the same.

【0022】なお、一対のレーザ発振器1,2により発
生されるレーザ光3,8は、例えば図2(a)(b)に
示すような連続発振の波形22、パルス発振の波形23
を有しており、これらのレーザ光を合成した結果、図2
(c)に示すような波形24を有するレーザ光が得られ
る。なお、合成されるレーザ光の波形としては図2
(a)(b)に示したもの以外の各種の波形を用いるこ
とができ、これにより多種多様な加工に対応することが
できる。
The laser beams 3 and 8 generated by the pair of laser oscillators 1 and 2 have a continuous oscillation waveform 22 and a pulse oscillation waveform 23 as shown in FIGS.
As a result of combining these laser beams, FIG.
A laser beam having a waveform 24 as shown in FIG. Note that the waveform of the combined laser beam is shown in FIG.
Various types of waveforms other than those shown in (a) and (b) can be used, so that various types of processing can be supported.

【0023】ハーフミラー5において同軸上で合成され
た透過レーザ光7および反射レーザ光9は、集光レンズ
11により集光されて光ファイバ12の入射端に入射さ
れる。入射されたレーザ光は光ファイバ12により被加
工物15の近傍まで伝送された後、光ファイバ12の出
射端から出射される。そして、光ファイバ12から出射
された異なる波形が組み合わされたレーザ光13は集光
レンズ14により集光され、被加工物15に対して垂直
方向から照射される。
The transmitted laser light 7 and the reflected laser light 9 that are coaxially combined in the half mirror 5 are condensed by a condenser lens 11 and are incident on an incident end of an optical fiber 12. The incident laser light is transmitted to the vicinity of the workpiece 15 by the optical fiber 12, and then emitted from the emission end of the optical fiber 12. Then, the laser light 13 combined with different waveforms emitted from the optical fiber 12 is condensed by the condensing lens 14 and irradiates the workpiece 15 from the vertical direction.

【0024】また、ハーフミラー5において同軸上で合
成された反射レーザ光6および透過レーザ光10は、全
反射ミラー16により反射された後、集光レンズ17に
より集光されて光ファイバ18の入射端に入射される。
入射されたレーザ光は光ファイバ18により被加工物2
1の近傍まで伝送された後、光ファイバ18の出射端か
ら出射される。そして、光ファイバ18から出射された
異なる波形が組み合わされたレーザ光19は集光レンズ
20により集光され、被加工物21に対して垂直方向か
ら照射される。
The reflected laser beam 6 and the transmitted laser beam 10 coaxially combined in the half mirror 5 are reflected by a total reflection mirror 16 and then condensed by a condenser lens 17 to be incident on an optical fiber 18. It is incident on the edge.
The incident laser beam is applied to the workpiece 2 by the optical fiber 18.
After being transmitted to the vicinity of 1, the light is emitted from the emission end of the optical fiber 18. Then, the laser light 19 combined with different waveforms emitted from the optical fiber 18 is condensed by the condensing lens 20 and irradiates the workpiece 21 from the vertical direction.

【0025】このように本実施の形態によれば、互いに
異なる波形を有するレーザ光3,8はハーフミラー5に
おいて同軸上で合成され、被加工物15,21に対して
垂直方向から同時に照射されるので、被加工物15,2
1上の加工点における2種類のレーザ光3,8のエネル
ギー分布を均一にするとともに被加工物15,21に対
するレーザ光3,8の吸収率の低減を抑えることがで
き、このため安定した高効率のレーザ加工を実現するこ
とができる。
As described above, according to the present embodiment, the laser beams 3 and 8 having different waveforms from each other are coaxially combined in the half mirror 5 and are simultaneously irradiated on the workpieces 15 and 21 from the vertical direction. Therefore, the workpieces 15 and 2
The energy distribution of the two types of laser beams 3 and 8 at the processing point on 1 can be made uniform and the reduction in the absorptivity of the laser beams 3 and 8 to the workpieces 15 and 21 can be suppressed. Efficient laser processing can be realized.

【0026】また、必要とされる光ファイバや集光レン
ズ等の光学部品の点数が図3に示す従来のレーザ加工装
置と比較して約半分で済むので、安価でかつコンパクト
なレーザ加工装置を実現することができる。
Further, the number of required optical components such as an optical fiber and a condensing lens is about half that of the conventional laser processing apparatus shown in FIG. 3, so that an inexpensive and compact laser processing apparatus can be used. Can be realized.

【0027】なお、本実施の形態では、2つはの被加工
物15,21にレーザ光が照射されるものとしたが、例
えば1つの被加工物15のみにレーザ光が照射されるよ
うにしてもよく、この場合には全反射ミラー16やその
後段に設けられる光学部材17,18,20を省略する
ことができる。
In this embodiment, the two workpieces 15 and 21 are irradiated with laser light. However, for example, only one workpiece 15 is irradiated with laser light. In this case, the total reflection mirror 16 and the optical members 17, 18, and 20 provided at the subsequent stage can be omitted.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、互
いに異なる波形を有するレーザ光が同軸上で合成され、
このようにして合成されたレーザ光を被加工物に対して
同一方向、好ましくは垂直方向から照射することができ
るので、安定した高効率のレーザ加工を実現することが
できる。
As described above, according to the present invention, laser beams having mutually different waveforms are synthesized coaxially,
The laser beam synthesized in this manner can be applied to the workpiece from the same direction, preferably the vertical direction, so that stable and efficient laser processing can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるレーザ加工装置の一実施の形態を
示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing one embodiment of a laser processing apparatus according to the present invention.

【図2】図1に示すレーザ加工装置における合成前およ
び合成後のレーザ光の波形を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing waveforms of laser light before and after combination in the laser processing apparatus shown in FIG.

【図3】従来のレーザ加工装置を示す図である。FIG. 3 is a view showing a conventional laser processing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2 レーザ発振器 3,8 レーザ光 4,16 全反射ミラー 5 ハーフミラー 6,9 反射レーザ光 7,10 透過レーザ光 11,14,17,20 集光レンズ 12,18 光ファイバ 13,19 (合成された)レーザ光 15,21 被加工物 1,2 laser oscillator 3,8 laser light 4,16 total reflection mirror 5 half mirror 6,9 reflected laser light 7,10 transmitted laser light 11,14,17,20 condensing lens 12,18 optical fiber 13,19 ( Synthesized laser light 15,21 Workpiece

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】互いに異なる波形を有するレーザ光を発生
させる一対のレーザ発振器と、 一方のレーザ発振器から出射されたレーザ光を反射させ
る反射ミラーと、 他方のレーザ発振器から出射されたレーザ光を反射させ
るとともに前記反射ミラーで反射されたレーザ光を透過
させるハーフミラーとを備え、 前記ハーフミラーにおいて、前記一方のレーザ発振器か
らの透過レーザ光と、前記他方のレーザ発振器からの反
射レーザ光とを同軸上で合成したことを特徴とするレー
ザ加工装置。
1. A pair of laser oscillators for generating laser light having different waveforms from each other, a reflecting mirror for reflecting laser light emitted from one laser oscillator, and reflecting a laser light emitted from the other laser oscillator. And a half mirror for transmitting the laser light reflected by the reflection mirror, wherein the transmitted laser light from the one laser oscillator and the reflected laser light from the other laser oscillator are coaxial with each other. A laser processing apparatus characterized by being synthesized above.
【請求項2】互いに異なる波形を有するレーザ光を発生
させる一対のレーザ発振器と、 一方のレーザ発振器から出射されたレーザ光を反射させ
る反射ミラーと、 他方のレーザ発振器から出射されたレーザ光の一部を反
射させるとともに残りを透過させ、かつ前記反射ミラー
で反射されたレーザ光の一部を透過させるとともに残り
を反射させるハーフミラーとを備え、 前記ハーフミラーにおいて、前記一方のレーザ発振器か
らの透過レーザ光と、前記他方のレーザ発振器からの反
射レーザ光とを同軸上で合成するとともに、前記一方の
レーザ発振器からの反射レーザ光と、前記他方のレーザ
発振器からの透過レーザ光とを同軸上で合成したことを
特徴とするレーザ加工装置。
A pair of laser oscillators for generating laser beams having different waveforms from each other; a reflection mirror for reflecting the laser beam emitted from one of the laser oscillators; and a laser beam emitted from the other laser oscillator. A half mirror that reflects a portion while transmitting the remainder, and transmits a part of the laser light reflected by the reflection mirror and reflects the remainder, wherein the half mirror transmits the laser light from the one laser oscillator. The laser light and the reflected laser light from the other laser oscillator are coaxially combined, and the reflected laser light from the one laser oscillator and the transmitted laser light from the other laser oscillator are coaxially combined. A laser processing device characterized by being synthesized.
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