JPH10153554A - Icpによる形態別元素分析方法 - Google Patents
Icpによる形態別元素分析方法Info
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- JPH10153554A JPH10153554A JP32767696A JP32767696A JPH10153554A JP H10153554 A JPH10153554 A JP H10153554A JP 32767696 A JP32767696 A JP 32767696A JP 32767696 A JP32767696 A JP 32767696A JP H10153554 A JPH10153554 A JP H10153554A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 煩雑な試料処理を伴うことなく懸濁液を形態
別に元素分析できるICPによる形態別元素分析方法を
提供すること。 【解決手段】 誘導結合高周波プラズマ放電による発光
分光法を利用して、液体試料1中に溶存している測定成
分元素の量と、前記液体試料中に溶けずに存在している
固形物に含まれる測定成分元素の量とに形態別に分別定
量するためのICPによる形態別元素分析方法であっ
て、前記液体試料としての懸濁液をプラズマ炎6中で発
光させ、前記両形態の測定成分元素のスペクトル強度
a,b,c、d,e,fを時間分割法で同時に測定し、
測定されたスペクトル強度の大きさおよび発生頻度から
前記分別定量を行う。
別に元素分析できるICPによる形態別元素分析方法を
提供すること。 【解決手段】 誘導結合高周波プラズマ放電による発光
分光法を利用して、液体試料1中に溶存している測定成
分元素の量と、前記液体試料中に溶けずに存在している
固形物に含まれる測定成分元素の量とに形態別に分別定
量するためのICPによる形態別元素分析方法であっ
て、前記液体試料としての懸濁液をプラズマ炎6中で発
光させ、前記両形態の測定成分元素のスペクトル強度
a,b,c、d,e,fを時間分割法で同時に測定し、
測定されたスペクトル強度の大きさおよび発生頻度から
前記分別定量を行う。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、誘導結合高周波
プラズマ(Inductively Coupled Plasma、以下ICPと
いう。)放電による発光分光法を利用して、液体試料中
に溶存している測定成分元素(目的元素)の量と、前記
液体試料中に溶けずに存在している固形物に含まれる測
定成分元素の量を同時に分別定量できる新規なICPに
よる形態別元素分析方法に関する。
プラズマ(Inductively Coupled Plasma、以下ICPと
いう。)放電による発光分光法を利用して、液体試料中
に溶存している測定成分元素(目的元素)の量と、前記
液体試料中に溶けずに存在している固形物に含まれる測
定成分元素の量を同時に分別定量できる新規なICPに
よる形態別元素分析方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ICP発光分析装置では、溶液試料をプ
ラズマトーチに導入するために、図4に示すように、試
料50を吸い上げて噴霧するネブライザー(霧化器)5
1と噴霧された溶液ミストの液滴の大きさを選別するス
プレーチャンバー(噴霧室)52とよりなるアトマイザ
ー53が用いられる。
ラズマトーチに導入するために、図4に示すように、試
料50を吸い上げて噴霧するネブライザー(霧化器)5
1と噴霧された溶液ミストの液滴の大きさを選別するス
プレーチャンバー(噴霧室)52とよりなるアトマイザ
ー53が用いられる。
【0003】そして、スプレーチャンバー52の霧出口
には、プラズマ炎中に噴霧することで試料50をプラズ
マ発光させるためのプラズマトーチ54が接続され、ス
プレーチャンバー52では、粒子径の小さい液滴のみを
プラズマトーチ54に送り、径の大きい粒子はドレンと
して捨てられる。さらに、プラズマトーチ54には分光
器55が接続され、多数の発光線の中から目的とする測
定成分元素の分析線が正確に選び出された後、測定部5
6で測定成分元素の分析線位置での発光強度が測定さ
れ、その発光強度に基づいて、演算部57で試料50中
の測定対象成分の濃度が求められる。
には、プラズマ炎中に噴霧することで試料50をプラズ
マ発光させるためのプラズマトーチ54が接続され、ス
プレーチャンバー52では、粒子径の小さい液滴のみを
プラズマトーチ54に送り、径の大きい粒子はドレンと
して捨てられる。さらに、プラズマトーチ54には分光
器55が接続され、多数の発光線の中から目的とする測
定成分元素の分析線が正確に選び出された後、測定部5
6で測定成分元素の分析線位置での発光強度が測定さ
れ、その発光強度に基づいて、演算部57で試料50中
の測定対象成分の濃度が求められる。
【0004】ところで、ICP測定を用いて採水した液
体試料の水質分析を行う場合、試料中に溶けずに存在し
ている固形物に含まれる測定成分元素の量と、溶存して
いる測定成分元素の量を求める必要があり、このため、
従来の水質分析では、工場排水試験方法(JIS K0
102)に基づいて、前記固形物を溶解させた上で、ろ
過または遠心分離を施した後ICP測定を行うようにし
ていた。
体試料の水質分析を行う場合、試料中に溶けずに存在し
ている固形物に含まれる測定成分元素の量と、溶存して
いる測定成分元素の量を求める必要があり、このため、
従来の水質分析では、工場排水試験方法(JIS K0
102)に基づいて、前記固形物を溶解させた上で、ろ
過または遠心分離を施した後ICP測定を行うようにし
ていた。
【0005】すなわち、採水した液体試料としての懸濁
液中の測定成分元素(例えばAl)の量を形態毎に求め
る従来の1つの方法は図5に示す通りであった。
液中の測定成分元素(例えばAl)の量を形態毎に求め
る従来の1つの方法は図5に示す通りであった。
【0006】図5において、まず、懸濁液61を、ろ紙
62でろ過(あるいは遠心分離機80で遠心分離)を行
って、液体と固体に分離する。
62でろ過(あるいは遠心分離機80で遠心分離)を行
って、液体と固体に分離する。
【0007】続いて、懸濁液61中に溶けずに存在して
いる固形物63に含まれるAlの量(不溶分)は、ろ紙
62を用いた場合、ろ紙62上に残った固形物63を加
熱状態で酸を用いて分解して得られた溶液試料64から
ICP発光分析装置65を用いて求まる。pはICP測
定で得られたスペクトル強度を示している。
いる固形物63に含まれるAlの量(不溶分)は、ろ紙
62を用いた場合、ろ紙62上に残った固形物63を加
熱状態で酸を用いて分解して得られた溶液試料64から
ICP発光分析装置65を用いて求まる。pはICP測
定で得られたスペクトル強度を示している。
【0008】一方、懸濁液61中に溶存しているAlの
量(溶存分)は、ろ紙62を通過した溶液試料66から
ICP発光分析装置65を用いて求まる。qはICP測
定で得られたスペクトル強度を示している。
量(溶存分)は、ろ紙62を通過した溶液試料66から
ICP発光分析装置65を用いて求まる。qはICP測
定で得られたスペクトル強度を示している。
【0009】また、採水した懸濁液61自体を加熱状態
で酸を用いて分解して得られた溶液試料67からICP
発光分析装置65を用いて全てのAl量を求め、この全
Al量から、上述した溶存分を差し引くことで、不溶分
を求める別の方法もある。tは、ICP測定で得られた
スペクトル強度を示している。
で酸を用いて分解して得られた溶液試料67からICP
発光分析装置65を用いて全てのAl量を求め、この全
Al量から、上述した溶存分を差し引くことで、不溶分
を求める別の方法もある。tは、ICP測定で得られた
スペクトル強度を示している。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】このように従来法で
は、形態毎の分析のために、ろ過(あるいは、遠心分離
機)を用いたり、固形物63を酸により分解するといっ
た煩雑な試料処理がICP測定を行う迄に必要である。
また、測定成分元素の溶存分と不溶分の含有率を一回の
ICP測定で同時測定できないという問題があった。
は、形態毎の分析のために、ろ過(あるいは、遠心分離
機)を用いたり、固形物63を酸により分解するといっ
た煩雑な試料処理がICP測定を行う迄に必要である。
また、測定成分元素の溶存分と不溶分の含有率を一回の
ICP測定で同時測定できないという問題があった。
【0011】さらに、上述した水質分析以外に適用され
る形態別元素分析、例えば、材料分析、肥料・土壌分
析、油分析で溶解したものと残存したものを区別して分
析する場合においても上記の水質分析と同様の問題があ
った。
る形態別元素分析、例えば、材料分析、肥料・土壌分
析、油分析で溶解したものと残存したものを区別して分
析する場合においても上記の水質分析と同様の問題があ
った。
【0012】この発明は、上述の事柄に留意してなされ
たもので、その目的は、煩雑な試料処理を伴うことなく
懸濁液を形態別に元素分析できるICPによる形態別元
素分析方法を提供することを目的としている。
たもので、その目的は、煩雑な試料処理を伴うことなく
懸濁液を形態別に元素分析できるICPによる形態別元
素分析方法を提供することを目的としている。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明は、誘導結合高周波プラズマ放電による発
光分光法を利用して、液体試料中に溶存している測定成
分元素の量と、前記液体試料中に溶けずに存在している
固形物に含まれる測定成分元素の量とに形態別に分別定
量するためのICPによる形態別元素分析方法であっ
て、前記液体試料としての懸濁液をプラズマ炎中で発光
させ、前記両形態の測定成分元素のスペクトル強度を時
間分割法で同時に測定し、測定されたスペクトル強度の
大きさおよび発生頻度から前記分別定量を行うものであ
る。
め、この発明は、誘導結合高周波プラズマ放電による発
光分光法を利用して、液体試料中に溶存している測定成
分元素の量と、前記液体試料中に溶けずに存在している
固形物に含まれる測定成分元素の量とに形態別に分別定
量するためのICPによる形態別元素分析方法であっ
て、前記液体試料としての懸濁液をプラズマ炎中で発光
させ、前記両形態の測定成分元素のスペクトル強度を時
間分割法で同時に測定し、測定されたスペクトル強度の
大きさおよび発生頻度から前記分別定量を行うものであ
る。
【0014】この発明では、プラズマ炎中で発光させた
液体試料としての懸濁液から前記両形態の測定成分元素
のスペクトル強度を時間分割して同時測光し、測定され
た各形態のスペクトル強度、発生頻度から測定成分元素
の溶存分と固形物に含まれる測定成分元素の不溶分の含
有率を一回のICP測定で同時測定できる。すなわち、
この発明は、懸濁液の処理を行った後ICPで形態毎に
測定成分元素の含有率を得る従来法と異なり、試料処理
を施すことなくICPで懸濁液のまま測定し、測定成分
元素の濃度が、前記不溶分(測定成分元素がリッチに存
在している)では前記溶存分(測定成分元素が平均的に
存在している)より圧倒的に高くこれに対応して固形試
料の測定成分元素の発光強度(プラズマ強度)の方が大
きいことを利用して、測定成分元素の溶存分と測定成分
元素の不溶分の含有率を同時に分別定量できるものであ
って、水質分析のみならず、例えば、材料分析、肥料・
土壌分析、油分析等の形態別元素分析に有効に利用でき
る。
液体試料としての懸濁液から前記両形態の測定成分元素
のスペクトル強度を時間分割して同時測光し、測定され
た各形態のスペクトル強度、発生頻度から測定成分元素
の溶存分と固形物に含まれる測定成分元素の不溶分の含
有率を一回のICP測定で同時測定できる。すなわち、
この発明は、懸濁液の処理を行った後ICPで形態毎に
測定成分元素の含有率を得る従来法と異なり、試料処理
を施すことなくICPで懸濁液のまま測定し、測定成分
元素の濃度が、前記不溶分(測定成分元素がリッチに存
在している)では前記溶存分(測定成分元素が平均的に
存在している)より圧倒的に高くこれに対応して固形試
料の測定成分元素の発光強度(プラズマ強度)の方が大
きいことを利用して、測定成分元素の溶存分と測定成分
元素の不溶分の含有率を同時に分別定量できるものであ
って、水質分析のみならず、例えば、材料分析、肥料・
土壌分析、油分析等の形態別元素分析に有効に利用でき
る。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施形態を、図
面に基づいて説明する。図1は、この発明で用いるIC
P発光分析装置の全体を示し、このICP発光分析装置
で懸濁液中に溶けずに存在している固形物に含まれる測
定成分元素の量(以下、不溶分という)と、溶存してい
る測定成分元素の量(以下、溶存分という)を求めてい
る。なお、この実施形態では、水質分析に適用した場合
を示し、懸濁液中の測定成分元素としてAl(あるい
は、Mn等)を選出し、このスペクトル強度をICPで
測光している。
面に基づいて説明する。図1は、この発明で用いるIC
P発光分析装置の全体を示し、このICP発光分析装置
で懸濁液中に溶けずに存在している固形物に含まれる測
定成分元素の量(以下、不溶分という)と、溶存してい
る測定成分元素の量(以下、溶存分という)を求めてい
る。なお、この実施形態では、水質分析に適用した場合
を示し、懸濁液中の測定成分元素としてAl(あるい
は、Mn等)を選出し、このスペクトル強度をICPで
測光している。
【0016】図2および図3は、それぞれ、測定された
Alの両形態におけるスペクトル強度の大きさおよび発
生頻度を示す。
Alの両形態におけるスペクトル強度の大きさおよび発
生頻度を示す。
【0017】図1〜図3において、1は、採水した液体
試料としての懸濁液である。そして、ICP測定するに
あたり、懸濁液1のまま吸い上げて噴霧するネブライザ
ー(霧化器)3と、懸濁液1中に溶存した状態で噴霧さ
れる溶液ミストの液滴の大きさおよび前記溶液ミストと
ともに導入される固形物の大きさを選別するスプレーチ
ャンバー(噴霧室)4とよりなるアトマイザー5が用い
られる。
試料としての懸濁液である。そして、ICP測定するに
あたり、懸濁液1のまま吸い上げて噴霧するネブライザ
ー(霧化器)3と、懸濁液1中に溶存した状態で噴霧さ
れる溶液ミストの液滴の大きさおよび前記溶液ミストと
ともに導入される固形物の大きさを選別するスプレーチ
ャンバー(噴霧室)4とよりなるアトマイザー5が用い
られる。
【0018】前記スプレーチャンバー4の霧出口4aに
は、プラズマ炎6中に噴霧することで懸濁液1を形態別
にプラズマ発光させるためのプラズマトーチ2が接続さ
れ、スプレーチャンバー4では、粒子径の小さい液滴お
よび固形物のみをプラズマトーチ2に送り、径の大きい
粒子はドレンとして捨てられる。
は、プラズマ炎6中に噴霧することで懸濁液1を形態別
にプラズマ発光させるためのプラズマトーチ2が接続さ
れ、スプレーチャンバー4では、粒子径の小さい液滴お
よび固形物のみをプラズマトーチ2に送り、径の大きい
粒子はドレンとして捨てられる。
【0019】すなわち、この実施形態で用いる発光分光
法は、懸濁液1をネブライザー3で、例えば100μm
以下の霧状にしてスプレーチャンバー4からプラズマ炎
6中に導入し、これにより発光させる方法であって、懸
濁液1中に溶けずに存在している前記固形物も100μ
m程度迄の大きさのものは試料としてプラズマ炎6中に
導入できるものであり、この固形試料も溶液ミストとと
もに、プラズマの7000°K以上の高温と、プラズマ
炎6中での移動時間から充分に発光させることができ
る。
法は、懸濁液1をネブライザー3で、例えば100μm
以下の霧状にしてスプレーチャンバー4からプラズマ炎
6中に導入し、これにより発光させる方法であって、懸
濁液1中に溶けずに存在している前記固形物も100μ
m程度迄の大きさのものは試料としてプラズマ炎6中に
導入できるものであり、この固形試料も溶液ミストとと
もに、プラズマの7000°K以上の高温と、プラズマ
炎6中での移動時間から充分に発光させることができ
る。
【0020】7は、プラズマトーチ2に接続された分光
器で、多数の発光線の中から測定成分元素(例えばA
l)の分析線が正確に選び出される。この分光器7は、
一次スリット8、回折格子9、二次スリット10および
ホトマルチプライヤー11から構成される。
器で、多数の発光線の中から測定成分元素(例えばA
l)の分析線が正確に選び出される。この分光器7は、
一次スリット8、回折格子9、二次スリット10および
ホトマルチプライヤー11から構成される。
【0021】12は積分器で、ホトマルチプライヤー1
1から出力される電気信号としてのスペクトル強度信号
を1〜100μsecの単位で積分する。また、13は
A/D変換器で、前記スペクトル強度信号をデジタル信
号に変換する。14はメモリーで、送られてきたデータ
を時系列的に記憶する。15はマイクロコンピューター
で、16は高周波発生電源である。
1から出力される電気信号としてのスペクトル強度信号
を1〜100μsecの単位で積分する。また、13は
A/D変換器で、前記スペクトル強度信号をデジタル信
号に変換する。14はメモリーで、送られてきたデータ
を時系列的に記憶する。15はマイクロコンピューター
で、16は高周波発生電源である。
【0022】而して、懸濁液1は、ネブライザー3で霧
状にされ、スプレーチャンバー4を経てプラズマトーチ
2に導入され、プラズマ炎6によって霧成分の励起スペ
クトルを発する。このスペクトルは、分光器7の一次ス
リット8、回折格子9、二次スリット10によって特定
波長(例えばAlの波長)に選別され、ホトマルチプラ
イヤー11によって電気信号に変えられる。積分器12
は、ホトマルチプライヤー11のスペクトル強度信号
を、例えば1〜100μsecの単位で積分し、A/D
変換器13はこれをデジタル信号に変換し、この変換器
13から送られてきたプラズマ強度データはメモリー1
4に時系列的に記憶される。マイクロコンピューター1
5は、A/D変換器13、メモリー14を制御するとと
もに、メモリー14内の前記プラズマ強度データから測
定値を演算する。
状にされ、スプレーチャンバー4を経てプラズマトーチ
2に導入され、プラズマ炎6によって霧成分の励起スペ
クトルを発する。このスペクトルは、分光器7の一次ス
リット8、回折格子9、二次スリット10によって特定
波長(例えばAlの波長)に選別され、ホトマルチプラ
イヤー11によって電気信号に変えられる。積分器12
は、ホトマルチプライヤー11のスペクトル強度信号
を、例えば1〜100μsecの単位で積分し、A/D
変換器13はこれをデジタル信号に変換し、この変換器
13から送られてきたプラズマ強度データはメモリー1
4に時系列的に記憶される。マイクロコンピューター1
5は、A/D変換器13、メモリー14を制御するとと
もに、メモリー14内の前記プラズマ強度データから測
定値を演算する。
【0023】つまり、この実施形態では、懸濁液1を、
例えば1〜20秒間ネブライザー3に通し、例えば1〜
100μsec毎に時間分割したプラズマ強度を測定す
ることによって、図2の如き時間的経過を示すプラズマ
強度データRを得ることができる。すなわち、図2の各
スペクトル強度(a,b,c)、(d,e,f)が積分
器12の出力信号に対応する、時間分割単位時間におけ
る強度を表している。そして、得られた前記プラズマ強
度データRは、時系列的にメモリー14に記憶させる。
例えば1〜20秒間ネブライザー3に通し、例えば1〜
100μsec毎に時間分割したプラズマ強度を測定す
ることによって、図2の如き時間的経過を示すプラズマ
強度データRを得ることができる。すなわち、図2の各
スペクトル強度(a,b,c)、(d,e,f)が積分
器12の出力信号に対応する、時間分割単位時間におけ
る強度を表している。そして、得られた前記プラズマ強
度データRは、時系列的にメモリー14に記憶させる。
【0024】上述したように、100μm程度迄の大き
さを有する前記固形試料も前記溶液ミストとともに、プ
ラズマ炎6に導入でき、プラズマの7000°K以上の
高温と、プラズマ炎6中での移動時間から充分に発光す
る。この場合、Al濃度が前記固形試料中では前記溶液
ミスト中より圧倒的に高いことにより、前記固形試料か
らのAl発光強度の方が大きい。したがって、Al発光
強度を時間分割法で求めた前記プラズマ強度データRに
おいて、スペクトル強度が大であるもの、すなわち、図
2の(a,b,c)は、前記固形試料に含まれるAlか
ら得られた各スペクトル強度を示し、図2の(d,e,
f)は、前記懸濁液1中に溶存しているAlから得られ
た各スペクトル強度を示していることが分かる。
さを有する前記固形試料も前記溶液ミストとともに、プ
ラズマ炎6に導入でき、プラズマの7000°K以上の
高温と、プラズマ炎6中での移動時間から充分に発光す
る。この場合、Al濃度が前記固形試料中では前記溶液
ミスト中より圧倒的に高いことにより、前記固形試料か
らのAl発光強度の方が大きい。したがって、Al発光
強度を時間分割法で求めた前記プラズマ強度データRに
おいて、スペクトル強度が大であるもの、すなわち、図
2の(a,b,c)は、前記固形試料に含まれるAlか
ら得られた各スペクトル強度を示し、図2の(d,e,
f)は、前記懸濁液1中に溶存しているAlから得られ
た各スペクトル強度を示していることが分かる。
【0025】そして、メモリー14に時系列的に送られ
てきた前記プラズマ強度データRは、マイクロコンピュ
ーター15でスペクトル強度毎、つまり、形態別に
(a,b,c)のグループと(d,e,f)のグループ
でそれぞれ数値処理される。例えば、1つの例として
は、最頻度の強度を平均強度とし、これより一定強度の
範囲内の合計強度が溶液中に存在したAl量に相当し、
それ以外の合計強度が前記固形試料中に含まれているA
l量に相当するように数値処理される。
てきた前記プラズマ強度データRは、マイクロコンピュ
ーター15でスペクトル強度毎、つまり、形態別に
(a,b,c)のグループと(d,e,f)のグループ
でそれぞれ数値処理される。例えば、1つの例として
は、最頻度の強度を平均強度とし、これより一定強度の
範囲内の合計強度が溶液中に存在したAl量に相当し、
それ以外の合計強度が前記固形試料中に含まれているA
l量に相当するように数値処理される。
【0026】すなわち、図3中のAは、図2のスペクト
ル強度a,b,cのそれぞれの発生頻度を示す頻度
(r)対スペクトル強度(I)特性図を示す。そして、
発生頻度の最も多いスペクトル強度を求めてこれを平均
強度iとする。例えば、スペクトル強度b,cよりスペ
クトル強度aの発生頻度が多い場合は、スペクトル強度
aを平均強度iとして採用する。また、前記Aの面積S
を求め、平均強度iと面積Sを乗算(i×S)したもの
が前記固形試料中に含まれているAl量に相当する。ま
た、図3のBは、図2のスペクトル強度d,e,fのそ
れぞれの発生頻度を示す頻度(r)対スペクトル強度
(I)特性図を示d、前記と同様にして溶液中に存在し
たAl量が求まる。
ル強度a,b,cのそれぞれの発生頻度を示す頻度
(r)対スペクトル強度(I)特性図を示す。そして、
発生頻度の最も多いスペクトル強度を求めてこれを平均
強度iとする。例えば、スペクトル強度b,cよりスペ
クトル強度aの発生頻度が多い場合は、スペクトル強度
aを平均強度iとして採用する。また、前記Aの面積S
を求め、平均強度iと面積Sを乗算(i×S)したもの
が前記固形試料中に含まれているAl量に相当する。ま
た、図3のBは、図2のスペクトル強度d,e,fのそ
れぞれの発生頻度を示す頻度(r)対スペクトル強度
(I)特性図を示d、前記と同様にして溶液中に存在し
たAl量が求まる。
【0027】このように、プラズマ炎中で発光させたス
ペクトルを時間分割して測光し、ソフト的に処理して、
液体試料中に溶存している測定成分元素の量と、液体試
料中に溶けずに存在している固形物に含まれる測定成分
元素の量とに分別し、それぞれのスペクトル強度、発生
頻度から含有率を得ることができる。
ペクトルを時間分割して測光し、ソフト的に処理して、
液体試料中に溶存している測定成分元素の量と、液体試
料中に溶けずに存在している固形物に含まれる測定成分
元素の量とに分別し、それぞれのスペクトル強度、発生
頻度から含有率を得ることができる。
【0028】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明において
は、プラズマ炎中で発光させた液体試料としての懸濁液
から両形態の測定成分元素のスペクトル強度を時間分割
して同時測光し、測定された各形態のスペクトル強度、
発生頻度から測定成分元素の溶存分と固形物に含まれる
測定成分元素の不溶分の含有率を一回のICP測定で同
時測定できるものであって、水質分析のみならず、例え
ば、材料分析、肥料・土壌分析、油分析等の形態別元素
分析に有効に利用できる。
は、プラズマ炎中で発光させた液体試料としての懸濁液
から両形態の測定成分元素のスペクトル強度を時間分割
して同時測光し、測定された各形態のスペクトル強度、
発生頻度から測定成分元素の溶存分と固形物に含まれる
測定成分元素の不溶分の含有率を一回のICP測定で同
時測定できるものであって、水質分析のみならず、例え
ば、材料分析、肥料・土壌分析、油分析等の形態別元素
分析に有効に利用できる。
【図1】この発明の一実施形態で用いたICP発光分析
装置を示す全体構成説明図である。
装置を示す全体構成説明図である。
【図2】上記実施形態において測定された測定成分元素
の各スペクトル強度を時系列的に配置してあるプラズマ
強度データを示す図である。
の各スペクトル強度を時系列的に配置してあるプラズマ
強度データを示す図である。
【図3】上記実施形態において溶液中に存在した測定成
分元素と固形試料中に含まれている測定成分元素の含有
率を数値処理するために形態別に使用される頻度(r)
対スペクトル強度(I)特性図である。
分元素と固形試料中に含まれている測定成分元素の含有
率を数値処理するために形態別に使用される頻度(r)
対スペクトル強度(I)特性図である。
【図4】一般的なICP測定方法を説明するための図で
ある。
ある。
【図5】従来のICPを用いた水質分析方法を説明する
ための図である。
ための図である。
1…懸濁液、2…プラズマトーチ、3…ネブライザー、
4…スプレーチャンバー、6…プラズマ炎、7…分光
器、11…ホトマルチプライヤー、12…積分器、13
…A/D変換器、14…メモリー、15…マイクロコン
ピューター、R…プラズマ強度データ、a,b,c、
d,e,f…スペクトル強度。
4…スプレーチャンバー、6…プラズマ炎、7…分光
器、11…ホトマルチプライヤー、12…積分器、13
…A/D変換器、14…メモリー、15…マイクロコン
ピューター、R…プラズマ強度データ、a,b,c、
d,e,f…スペクトル強度。
Claims (2)
- 【請求項1】 誘導結合高周波プラズマ放電による発光
分光法を利用して、液体試料中に溶存している測定成分
元素の量と、前記液体試料中に溶けずに存在している固
形物に含まれる測定成分元素の量とに形態別に分別定量
するためのICPによる形態別元素分析方法であって、
前記液体試料としての懸濁液をプラズマ炎中で発光さ
せ、前記両形態の測定成分元素のスペクトル強度を時間
分割法で同時に測定し、測定されたスペクトル強度の大
きさおよび発生頻度から前記分別定量を行うことを特徴
とするICPによる形態別元素分析方法。 - 【請求項2】 前記固形物に含まれる測定成分元素の量
は、前記液体試料中に溶けずに存在している固形物の
内、プラズマトーチに導入可能な大きさの固形物に含ま
れる測定成分元素の量である請求項1に記載のICPに
よる形態別元素分析方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32767696A JPH10153554A (ja) | 1996-11-22 | 1996-11-22 | Icpによる形態別元素分析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32767696A JPH10153554A (ja) | 1996-11-22 | 1996-11-22 | Icpによる形態別元素分析方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10153554A true JPH10153554A (ja) | 1998-06-09 |
Family
ID=18201735
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32767696A Pending JPH10153554A (ja) | 1996-11-22 | 1996-11-22 | Icpによる形態別元素分析方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10153554A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2836621A1 (fr) * | 2002-02-28 | 2003-08-29 | Snecma Services | Instrument de projection thermique |
FR2836619A1 (fr) * | 2002-02-28 | 2003-08-29 | Snecma Services | Instrument de projection thermique |
FR2836618A1 (fr) * | 2002-02-28 | 2003-08-29 | Snecma Services | Instrument de projection thermique |
JP2009229387A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Kobelco Kaken:Kk | 非定常発光体の分光解析方法およびその装置 |
JP2010025869A (ja) * | 2008-07-23 | 2010-02-04 | Imagineering Inc | 物質分析装置 |
KR20180115786A (ko) | 2016-03-31 | 2018-10-23 | 후지필름 가부시키가이샤 | 전자 재료 제조용 약액의 제조 방법, 패턴 형성 방법, 반도체 디바이스의 제조 방법, 전자 재료 제조용 약액, 용기, 및 품질 검사 방법 |
-
1996
- 1996-11-22 JP JP32767696A patent/JPH10153554A/ja active Pending
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2836621A1 (fr) * | 2002-02-28 | 2003-08-29 | Snecma Services | Instrument de projection thermique |
FR2836619A1 (fr) * | 2002-02-28 | 2003-08-29 | Snecma Services | Instrument de projection thermique |
FR2836618A1 (fr) * | 2002-02-28 | 2003-08-29 | Snecma Services | Instrument de projection thermique |
FR2836620A1 (fr) * | 2002-02-28 | 2003-08-29 | Snecma Services | Instrument de projection thermique |
EP1340578A2 (fr) * | 2002-02-28 | 2003-09-03 | Snecma Services | Instrument de projection thermique |
EP1340579A2 (fr) * | 2002-02-28 | 2003-09-03 | Snecma Services | Instrument de projection thermique |
EP1340579A3 (fr) * | 2002-02-28 | 2003-12-17 | Snecma Services | Instrument de projection thermique |
EP1340578A3 (fr) * | 2002-02-28 | 2004-03-03 | Snecma Services | Instrument de projection thermique |
WO2003072292A3 (fr) * | 2002-02-28 | 2004-03-04 | Snecma Services | Instrument de projection thermique |
WO2003072291A3 (fr) * | 2002-02-28 | 2004-03-04 | Snecma Services | Instrument de projection thermique |
WO2003073804A3 (fr) * | 2002-02-28 | 2004-03-04 | Snecma Services | Instrument de projection thermique |
EP1340580A3 (fr) * | 2002-02-28 | 2004-03-10 | Snecma Services | Instrument de projection thermique |
WO2003072290A3 (fr) * | 2002-02-28 | 2004-05-06 | Snecma Services | Instrument de projection thermique |
EP1340577A3 (fr) * | 2002-02-28 | 2004-05-12 | Snecma Services | Instrument de projection thermique |
US7323061B2 (en) | 2002-02-28 | 2008-01-29 | Snecma Services | Thermal spraying instrument |
US7323062B2 (en) | 2002-02-28 | 2008-01-29 | Snecma Services | Thermal projection device |
US7332036B2 (en) | 2002-02-28 | 2008-02-19 | Snecma Services | Thermal projection device |
US7404860B2 (en) | 2002-02-28 | 2008-07-29 | Snecma Services | Thermal spraying instrument |
JP2009229387A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Kobelco Kaken:Kk | 非定常発光体の分光解析方法およびその装置 |
JP2010025869A (ja) * | 2008-07-23 | 2010-02-04 | Imagineering Inc | 物質分析装置 |
KR20180115786A (ko) | 2016-03-31 | 2018-10-23 | 후지필름 가부시키가이샤 | 전자 재료 제조용 약액의 제조 방법, 패턴 형성 방법, 반도체 디바이스의 제조 방법, 전자 재료 제조용 약액, 용기, 및 품질 검사 방법 |
US11429018B2 (en) | 2016-03-31 | 2022-08-30 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing chemical fluid for manufacturing electronic material, pattern forming method, method of manufacturing semiconductor device, chemical fluid for manufacturing electronic material, container, and quality inspection method |
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