JPH10150276A - Insulating material for wiring board - Google Patents

Insulating material for wiring board

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JPH10150276A
JPH10150276A JP30603396A JP30603396A JPH10150276A JP H10150276 A JPH10150276 A JP H10150276A JP 30603396 A JP30603396 A JP 30603396A JP 30603396 A JP30603396 A JP 30603396A JP H10150276 A JPH10150276 A JP H10150276A
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wiring board
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insulating material
thickness
insulating
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Kazuhisa Otsuka
和久 大塚
Akishi Nakaso
昭士 中祖
義之 ▲つる▼
Yoshiyuki Tsuru
Kazunori Yamamoto
和徳 山本
Kazuhito Kobayashi
和仁 小林
Yasushi Kamishiro
恭 神代
Atsushi Takahashi
敦之 高橋
Kouji Morita
高示 森田
Shigeharu Ariga
茂晴 有家
Naoyuki Urasaki
直之 浦崎
Daisuke Fujimoto
大輔 藤本
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To secure the high density, thinning material, high reliability, and low cost on a multiple layer printed-wiring board by specifying the length of a short fiber type filler not to exceed a specific times of the thickness of the wiring board. SOLUTION: A carrier base material is flowed with varnish comprising insulating resin 2 scattered with a short fiber type filler 1 for the shape holding so as to manufacture a sheetlike insulating material. At this time, short fiber type filler 1 is crushed down in its length not exceeding 35μm and the thickness 32μm of the insulating layer of the wiring board not exceeding about 1.1 times thereof. Through these procedures, the insulation reliability of the insulating material for wiring board can be improved. Besides, owing to the feasibility of thinning material and easy handling, the printed-substrate using the material can improve the circuit workability due to smooth surface thereof. Furthermore, owing to the high rigidity, the package reliability can be improved also owing to the high surface hardness, the wirebonding property can be improved and owing to the small thermal expansion coefficient, the dimensional stability can be improved.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、配線板用の絶縁材
料に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an insulating material for a wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント配線板は、通常、銅箔とプリプ
レグを積層、熱圧成形して得た銅張積層板に回路加工し
て得られる。また、多層プリント配線板は、通常、プリ
ント配線板同士をプリプレグを介して熱圧成形するか又
は、プリント配線板と銅箔とをプリプレグを介して、熱
圧成形して積層一体化して得た内層回路入り多層銅張積
層板の表面に、回路を形成して製造される。
2. Description of the Related Art A printed wiring board is usually obtained by laminating a copper foil and a prepreg, and performing circuit processing on a copper-clad laminate obtained by hot pressing. In addition, the multilayer printed wiring board is usually obtained by hot-pressing the printed wiring boards via a prepreg, or laminating and integrating the printed wiring boards and the copper foil by hot-pressing via a prepreg. It is manufactured by forming a circuit on the surface of a multilayer copper clad laminate containing an inner layer circuit.

【0003】このようなプリント配線板や多層プリント
配線板に用いるプリプレグには、ガラスクロスに樹脂を
含浸させ、加熱乾燥し、樹脂を半硬化状態にしたプリプ
レグを使用するのが一般的である。また、多層プリント
配線板の製造には、上記のようなプリプレグの他に、特
開平6−200216号公報や特開平6−242465
号公報に開示されているような、フィルム形成能を有す
る樹脂を半硬化状態にした接着フィルムや、特開平6−
196862号公報に開示されているような、接着フィ
ルムを銅箔の片面に形成した銅箔付き接着フィルムを使
用することもある。なお、ここでいうフィルム形成能と
は、プリプレグの搬送、切断及び積層等の工程におい
て、樹脂の割れや欠落等を生じにくい性能を意味し、こ
の性能を有することによって、その後の熱圧成形時に、
層間絶縁層が内層回路の箇所で異常に薄くなったり、層
間絶縁抵抗が低下したり、層間での回路のショートを生
じにくいという効果が現われるものである。
As a prepreg used for such a printed wiring board or a multilayer printed wiring board, a prepreg in which a glass cloth is impregnated with a resin, heated and dried, and the resin is semi-cured is generally used. For the production of a multilayer printed wiring board, in addition to the above-described prepreg, JP-A-6-200216 and JP-A-6-242465.
Japanese Patent Application Laid-Open Publication No.
An adhesive film with a copper foil formed by forming an adhesive film on one side of a copper foil as disclosed in 196,862 may be used. In addition, the film-forming ability referred to herein means a property that hardly causes cracking or chipping of the resin in the steps of transporting, cutting, laminating, etc. of the prepreg, and by having this property, during subsequent hot pressing. ,
This has the effect that the interlayer insulating layer becomes abnormally thin at the location of the inner layer circuit, the interlayer insulation resistance is reduced, and the short circuit between the layers is less likely to occur.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】近年、電子機器の小型
軽量化、高性能化、低コスト化が進行し、プリント配線
板及び多層プリント配線板には高密度化、薄型化、高信
頼性化、低コスト化が要求されている。このような高密
度化のためには、微細な配線が必要であり、そのために
は表面の平坦性が良好でかつ、寸法安定性が良好でなく
てはならず、さらには、微細なスルーホールやインター
ステーシャルバイアホール(以下、IVHという。)が
必要であり、ドリル加工性、レーザ穴加工性が、良好で
あることであることも要求されている。
In recent years, electronic devices have been reduced in size, weight, performance, and cost, and printed wiring boards and multilayer printed wiring boards have been increased in density, thickness, and reliability. Therefore, cost reduction is required. In order to achieve such high density, fine wiring is required, and for that purpose, the surface must have good flatness and good dimensional stability, and furthermore, fine through holes must be formed. And an interstitial via hole (hereinafter, referred to as IVH) are required, and it is also required that drill workability and laser hole workability be good.

【0005】表面の平坦性を良好にするためには、多層
化積層成形時の樹脂の流動性を高くする必要があり、こ
れにはエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂を用いることが好
ましい。このエポキシ樹脂は、成形前の段階で分子量が
低くければ高い流動性を示すが、樹脂のみでシート状の
絶縁材料を形成することはフィルム形成能を有していな
いので困難であり、従来では、ガラスクロス等の補強基
材に含浸させ半硬化状にしたプリプレグとして作製し、
これを絶縁層に用いてきた。
[0005] In order to improve the flatness of the surface, it is necessary to increase the fluidity of the resin during the multilayer lamination molding, and it is preferable to use a thermosetting resin such as an epoxy resin. This epoxy resin shows high fluidity if the molecular weight is low at the stage before molding, but it is difficult to form a sheet-like insulating material using only the resin because it does not have a film forming ability, and conventionally, , Made as a semi-cured prepreg impregnated with a reinforcing substrate such as glass cloth,
This has been used for the insulating layer.

【0006】しかし、このエポキシ樹脂を用いてプリン
ト配線板や多層プリント配線板の薄型化を行うのは困難
である。というのも、プリプレグ用に一般的に使用され
ているガラスクロスは、その厚みが薄くなるに従い、ヤ
ーン(ガラス繊維束)同士の間の隙間が大きくなるの
で、厚さが薄いクロスほど目曲がり(ヤーンが曲がった
り、本来直角に交差すべき縦糸と横糸が直角でなく交差
する現象)が発生しやすく、このことが原因で、熱圧成
形後に異常な寸法変化やそりを生じやすいという課題
や、プリプレグ内のクロスの体積分率が低くなって層間
絶縁層の剛性が低下し、外層の回路を加工した後に、た
わみが大きくなりやすいという課題があるからである。
However, it is difficult to reduce the thickness of a printed wiring board or a multilayer printed wiring board using this epoxy resin. This is because, as the thickness of a glass cloth generally used for prepreg decreases, the gap between the yarns (glass fiber bundles) increases as the thickness of the cloth decreases. The warp yarns and the weft yarns, which should intersect at right angles, do not intersect at right angles but intersect at right angles.), Which causes abnormal dimensional changes and warpage after hot pressing. This is because there is a problem that the volume fraction of the cloth in the prepreg decreases, the rigidity of the interlayer insulating layer decreases, and the deflection tends to increase after processing the circuit of the outer layer.

【0007】例えば、一般に使用されているガラスクロ
スで、最も薄いのは30μmのクロスであり、これを使
用したプリプレグの厚さは40μm程度になり、現在、
これよりプリプレグの厚さを薄くすることは困難であ
る。というのも、樹脂分を減らすと、内層回路の凹凸へ
の樹脂による穴埋め性が低下しボイドが発生すると共
に、内層回路の凹凸が表面に現われ易く、表面の平坦性
が悪いという課題があり、ガラスクロスを薄くするとク
ロス自体の強度が低下し、ガラスクロスに樹脂を含浸す
る工程で、ガラスクロスが破断しやすくなり、プリプレ
グの製造が困難になるという課題がある。さらに、この
ように薄くしたプリプレグを用いて、多層プリント配線
板を製造すると、小径ドリルで穴加工を行う時に、偏在
するガラスクロスによって芯ぶれがし易く、ドリルを折
りやすいという課題がある。また、ドリル穴加工に代え
て、レーザ穴加工を行うと、ガラス繊維の存在のため、
レーザー光の乱反射が起こり穴あけ性が低いという課題
がある。したがって、現状のガラスクロスを用いたプリ
プレグは、高まる多層プリント配線板の高密度化、及び
薄型化の要求に対応できない状況にある。
For example, among the generally used glass cloths, the thinnest is a cloth of 30 μm, and the thickness of a prepreg using this is about 40 μm.
Therefore, it is difficult to reduce the thickness of the prepreg. This is because, when the resin content is reduced, the filling property of the resin to the unevenness of the inner layer circuit is reduced by the resin and voids are generated, and the unevenness of the inner layer circuit easily appears on the surface, and there is a problem that the surface flatness is poor, When the glass cloth is made thinner, the strength of the cloth itself decreases, and in the step of impregnating the glass cloth with a resin, the glass cloth is easily broken, and there is a problem that the production of the prepreg becomes difficult. Further, when a multilayer printed wiring board is manufactured using such a thinned prepreg, there is a problem that when drilling with a small-diameter drill, the core is easily misaligned due to unevenly distributed glass cloth and the drill is easily folded. In addition, when laser drilling is performed instead of drilling, due to the presence of glass fiber,
There is a problem in that irregular reflection of laser light occurs and drilling properties are low. Therefore, the prepreg using the current glass cloth cannot meet the increasing demand for higher density and thinner multilayer printed wiring boards.

【0008】そこで、ガラスクロスを用いないプリプレ
グである接着フィルムや銅箔付き接着フィルムを用いれ
ば、厚さをより薄くでき、小径ドリル加工性、レーザー
穴加工性及び表面平坦性に優れるが、これらのプリプレ
グで作製した多層プリント配線板は、外層絶縁層にガラ
スクロスがないため、剛性が極めて低く、外層回路の加
工後にたわみを生じやすく、ワイヤーボンディング性も
極めて低いという課題がある。また、外層絶縁層にガラ
スクロスがないので熱膨張係数が大きくなり、実装部品
との熱膨張の差が大きく、加熱冷却の熱膨張収縮による
はんだ接続部にクラックや破断が起こり易く、実装部品
との接続信頼性が低いという課題がある。したがって、
現状のガラスクロスを用いないプリプレグである接着フ
ィルムや銅箔付き接着フィルムを使用しても、高まる多
層プリント配線板の高密度化、薄型化の要求に対応出来
ない状況にある。
Therefore, if an adhesive film which is a prepreg without using a glass cloth or an adhesive film with a copper foil can be used, the thickness can be reduced, and small-diameter drilling property, laser hole processing property and surface flatness are excellent. The multilayer printed wiring board manufactured by using the prepreg has problems that the rigidity is extremely low because the outer insulating layer does not have glass cloth, the deflection is easily generated after processing the outer layer circuit, and the wire bonding property is extremely low. In addition, since there is no glass cloth in the outer insulating layer, the coefficient of thermal expansion is large, the difference in thermal expansion with the mounted component is large, and cracks and breaks are likely to occur in the solder connection portion due to thermal expansion and contraction of heating and cooling. Has low connection reliability. Therefore,
Even if an adhesive film that is a prepreg that does not use a current glass cloth or an adhesive film with a copper foil is used, it cannot meet the increasing demand for higher density and thinner multilayer printed wiring boards.

【0009】本発明は、剛性が高く、かつ薄型化に優れ
た配線板用絶縁材料を提供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide an insulating material for a wiring board having high rigidity and excellent thickness reduction.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の配線板用絶縁材
料は、図1に模式的に示すように、短繊維形状の充填材
と樹脂とからなる配線板用絶縁材料であって、その短繊
維形状の充填材の長さが、その配線板用絶縁材料を層間
絶縁材料として配線板を製造した時の配線板の層間絶縁
層の厚さの1.1倍以下であることを特徴とする。
The insulating material for a wiring board according to the present invention is, as schematically shown in FIG. 1, an insulating material for a wiring board comprising a short fiber filler and a resin. The length of the short fiber filler is 1.1 times or less the thickness of the interlayer insulating layer of the wiring board when the wiring board is manufactured using the wiring board insulating material as an interlayer insulating material. I do.

【0011】本発明者らは、従来のプリプレグでは解決
できない多層プリント配線板における高密度化、薄型
化、高信頼性化、低コスト化という課題を解決するため
の新規絶縁材料として、ガラスクロスを含まず、形状保
持のための短繊維形状の充填材を絶縁樹脂中に分散させ
たワニスを、キャリア基材上に流延して得られるシート
状の絶縁材料が有効であることを見出してきた。この短
繊維形状の充填材には、例えば、電気絶縁性のウイスカ
ーを用いることができる。
The present inventors have proposed glass cloth as a new insulating material for solving the problems of high density, thinness, high reliability, and low cost in a multilayer printed wiring board that cannot be solved by a conventional prepreg. Not including, it has been found that a sheet-like insulating material obtained by casting a varnish obtained by dispersing a filler in the form of short fibers for maintaining shape in an insulating resin on a carrier substrate is effective. . For example, an electrically insulating whisker can be used as the short fiber filler.

【0012】多層プリント配線板に、直径が0.3〜
3.0μmで、長さが3〜60μmの分布を持つ、電気
絶縁性のウィスカーを充填材としたシート状の絶縁材料
を用いた場合、例えば50μmの長さのウィスカーが熱
圧成型時の樹脂流動等の影響で、絶縁層の厚さ方向に立
った状態に配向する場合があり、図2に示すように、表
層と内層の導体間にウィスカーが挟まる状態になる。こ
の時、ウイスカーは絶縁体であるから、短期的には層間
の絶縁は保たれているが、数年の通電を経た場合、絶縁
樹脂材料本来の信頼性は保てず、厚さ方向に配向したウ
ィスカーが挟まった導体間に、CAF(Conductive Ano
dic Filament)に類似した絶縁不良を起こすという課題
のあることが、信頼性評価試験で明らかになった。
The multilayer printed wiring board has a diameter of 0.3 to
When a sheet-shaped insulating material having a distribution of 3.0 μm and a length of 3 to 60 μm and having an electrically insulating whisker as a filler is used, for example, a whisker having a length of 50 μm is made of resin at the time of hot pressing. Due to the influence of the flow and the like, the insulating layer may be oriented in a state of standing in the thickness direction, and as shown in FIG. 2, whiskers are sandwiched between the conductors of the surface layer and the inner layer. At this time, since the whiskers are insulators, the insulation between the layers is maintained in the short term, but after several years of energization, the original reliability of the insulating resin material cannot be maintained and the whiskers are oriented in the thickness direction. CAF (Conductive Ano) between conductors between
dic Filament), a reliability evaluation test revealed that there was a problem of causing insulation failure.

【0013】そこで本発明者らは、ウィスカーの長さの
分布と信頼性試験による絶縁性劣化の関係を鋭意検討し
た結果、絶縁信頼性がウィスカーの長さに依存すること
を見出し、この発明に至った。すなわち、試料として公
称長さ30μmの硼酸アルミニウムウィスカーのウィス
カー長さを測定した結果、ウィスカーの長さの分布は3
〜60μmであり、ウィスカー1万個中の数十個は40
μm以上であった。機械的操作による粉砕では、より大
きい粒子径を持つ物が粉砕され易いことが一般に知られ
ていることから、転動型ボールミル、遊星型ボールミ
ル、ビーズミル等の粉砕機を用いて、この硼酸アルミニ
ウムウィスカーの長さを調整した。このようにして粉砕
したウィスカーを、絶縁樹脂中に分散させてワニスと
し、ナイフコータにより50μm厚のシートに形成し、
さらに導体厚18μmの内層回路板に熱圧成形し、最小
部分の絶縁層の厚さが32μm(=50μm−18μ
m)となるように多層配線板を作製し、その絶縁信頼性
を評価した結果、最大のウィスカー長さをおよそ35μ
m以下まで粉砕したとき、すなわち絶縁層の厚さ32μ
mの約1.1倍以下のときに、絶縁信頼性が向上するこ
とを見出した。ウィスカーが導体層間に完全に垂直に配
向することは、確率的に低く若干でも斜めに配向する場
合が多いこと、及び、最大の長さが35μmであって
も、長さが32μmを越える物が極僅かであることか
ら、ウィスカーが導体層間に接触する確率が非常に小さ
いものと考えられる。安全には、この絶縁層の厚さ未満
であることがより好ましいことはいうまでもない。した
がって、内層の導体厚さが35μmの場合には、樹脂層
厚さ70μmのシート状絶縁材料を用いることが多いの
であるが、この場合には、配線板の最小の層間絶縁層厚
さは70−35=35μmであり、この場合のウィスカ
ーの長さは、35μmの約1.1倍である39μm以下
である必要があり、さらに35μm未満であることが好
ましい。
The present inventors have conducted intensive studies on the relationship between the distribution of whisker lengths and the deterioration of insulation properties by a reliability test. As a result, they found that insulation reliability depends on the whisker lengths. Reached. That is, as a result of measuring the whisker length of an aluminum borate whisker having a nominal length of 30 μm as a sample, the distribution of the whisker length was 3 μm.
6060 μm, and dozens of 10,000 whiskers are 40
μm or more. Since it is generally known that a material having a larger particle size is easily pulverized by pulverization by mechanical operation, the aluminum borate whisker is used by using a pulverizer such as a rolling ball mill, a planetary ball mill, and a bead mill. The length of was adjusted. The whiskers thus crushed are dispersed in an insulating resin to form a varnish, and formed into a 50 μm thick sheet by a knife coater.
Further, the inner layer circuit board having a conductor thickness of 18 μm is hot-pressed, and the minimum thickness of the insulating layer is 32 μm (= 50 μm-18 μm).
m), and as a result of evaluating the insulation reliability thereof, the maximum whisker length was set to about 35 μm.
m, that is, the thickness of the insulating layer is 32 μm.
It has been found that the insulation reliability is improved when the value of m is about 1.1 times or less. The fact that the whiskers are completely vertically oriented between the conductor layers means that the whiskers are stochastically low and are often slightly obliquely oriented, and that even if the maximum length is 35 μm, the length exceeds 32 μm. Since it is very small, it is considered that the probability that the whisker contacts the conductive layer is very small. Needless to say, it is more preferable that the thickness be less than the thickness of the insulating layer for safety. Therefore, when the conductor thickness of the inner layer is 35 μm, a sheet-like insulating material having a resin layer thickness of 70 μm is often used. In this case, the minimum interlayer insulating layer thickness of the wiring board is 70 μm. −35 = 35 μm, and the whisker length in this case needs to be 39 μm or less, which is about 1.1 times 35 μm, and more preferably less than 35 μm.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

(ウィスカー)本発明に用いるウィスカーとしては、電
気絶縁性のセラッミクウィスカーであり、弾性率が20
0GPa以上であるものが好ましく、200GPa未満
では、多層プリント配線板としたときに、十分な剛性が
得られない。
(Whisker) The whisker used in the present invention is an electrically insulating ceramic whisker having an elastic modulus of 20.
It is preferably 0 GPa or more, and if it is less than 200 GPa, sufficient rigidity cannot be obtained when a multilayer printed wiring board is formed.

【0015】ウィスカーの種類としては、例えば、硼酸
アルミニウム、ウォラストナイト、チタン酸カリウム、
塩基性硫酸マグネシウム、窒化けい素、α−アルミナの
中から選ばれた1以上の物を用いることができる。その
中でも、硼酸アルミニウムウィスカーは、弾性率が約4
00GPaとガラスよりも遥かに高く、誘電率もガラス
よりも低く、熱膨張係数も小さく、しかも比較的安価で
ある。この硼酸アンモニウムウィスカーを用いた本発明
のプリプレグを使用して作製したプリント配線板は、従
来のガラスクロスを用いたプリント配線板よりも、常温
及び高温下における剛性が高く、ワイヤーボンディング
性に優れ、電気信号の伝達特性に優れ、熱膨張係数が小
さく、寸法安定性に優れる。したがって、本発明に用い
るウィスカーの材質としては、硼酸アルミニウムが最適
である。
Examples of whiskers include aluminum borate, wollastonite, potassium titanate,
One or more selected from basic magnesium sulfate, silicon nitride, and α-alumina can be used. Among them, aluminum borate whiskers have an elastic modulus of about 4
It is much higher than glass of 00 GPa, has a lower dielectric constant than glass, has a small coefficient of thermal expansion, and is relatively inexpensive. The printed wiring board manufactured using the prepreg of the present invention using the ammonium borate whisker has higher rigidity at room temperature and high temperature than the conventional printed wiring board using glass cloth, and has excellent wire bonding properties. Excellent electrical signal transmission characteristics, low thermal expansion coefficient, and excellent dimensional stability. Therefore, as the material of the whisker used in the present invention, aluminum borate is optimal.

【0016】ウィスカーの平均直径は、0.3μm未満
であると樹脂ワニスへの混合が難しくなると共に塗工性
が低下し、3μmを越えると表面の平坦性に悪影響が出
ると共にウィスカーの微視的な均一性が損なわれるの
で、ウィスカーの平均直径は、0.3μm〜3μmの範
囲が好ましい。さらに、0.5μm〜1μmの範囲が最
も好ましい。このような直径のウィスカーを選択するこ
とにより、従来のガラスクロスを基材としたプリプレグ
を使用するよりも、表面平坦性に優れたプリント配線板
を得ることができる。
If the average diameter of the whiskers is less than 0.3 μm, mixing with the resin varnish becomes difficult and the coatability decreases. If the average diameter exceeds 3 μm, the flatness of the surface is adversely affected and the whiskers are microscopically observed. The average diameter of the whiskers is preferably in the range of 0.3 μm to 3 μm, since such uniformity is impaired. Further, the range of 0.5 μm to 1 μm is most preferable. By selecting a whisker having such a diameter, a printed wiring board having better surface flatness can be obtained than using a prepreg using a conventional glass cloth as a base material.

【0017】また、ウィスカーの平均長さは、平均直径
の10倍以上であることが好ましく、10倍未満である
と、繊維としての補強効果が僅かになると同時に、後述
するウィスカーの樹脂層中での2次元配向が困難になる
ため、配線板にしたときに十分な剛性が得られないが、
ウィスカーが長すぎる場合は、ワニス中への均一分散が
難しくなり、塗工性が低下すると共に、上記の課題すな
わち繊維に沿って移動する傾向にある銅イオンのマイグ
レーションによる回路間の短絡事故を起こす可能性があ
るので、本発明の絶縁層の厚さの1.1倍以下である必
要がある。
The average length of the whisker is preferably at least 10 times the average diameter, and if it is less than 10 times, the reinforcing effect as a fiber becomes small and at the same time, the whisker in the resin layer described later However, it is difficult to obtain sufficient rigidity when it is used as a wiring board.
If the whiskers are too long, uniform dispersion in the varnish becomes difficult, the coatability is reduced, and the above-mentioned problem, that is, a short circuit between circuits due to migration of copper ions which tend to move along the fiber is caused. Because of the possibility, the thickness must be 1.1 times or less the thickness of the insulating layer of the present invention.

【0018】また、プリント配線板の剛性及び耐熱性を
さらに高めるのに、シランカップリング剤で表面処理し
たウィスカーを使用することも有効である。カップリン
グ剤表面処理したウィスカーは、樹脂との濡れ性、結合
性が優れ、剛性及び耐熱性を向上させることができる。
このとき使用するカップリング剤は、シリコン系、チタ
ン系、アルミニウム系、ジルコニウム系、ジルコアルミ
ニウム系、クロム系、ボロン系、リン系、アミノ酸系等
の公知のものを使用できる。
In order to further increase the rigidity and heat resistance of the printed wiring board, it is effective to use whiskers surface-treated with a silane coupling agent. The whisker that has been subjected to the surface treatment of the coupling agent has excellent wettability and bonding property with the resin, and can improve rigidity and heat resistance.
As the coupling agent used at this time, known compounds such as silicon-based, titanium-based, aluminum-based, zirconium-based, zirconaluminum-based, chromium-based, boron-based, phosphorus-based, and amino acid-based can be used.

【0019】(ウィスカーの長さの調整)一般に市販さ
れているウィスカーを利用する場合は、本明細書の実施
例に示すようにボールミル、ビーズミル等の各種ミルに
よって機械的粉砕することが簡単で便利である。これは
これらの機械的粉砕では、長い繊維長のウィスカーが粉
砕され易いことが一般に知られており、最大長さ付近を
短くすることに適するからである。またこれよりは難し
いが、ウィスカー結晶成長を制御して目的の長さのウィ
スカーを得ることや、分級操作によって目的の長さのウ
ィスカーを選別して用いることも利用できる。
(Adjustment of whisker length) When commercially available whiskers are used, it is easy and convenient to mechanically pulverize them by various mills such as a ball mill and a bead mill as shown in Examples of the present specification. It is. This is because it is generally known that whiskers having a long fiber length are easily crushed by such mechanical crushing, and are suitable for shortening the vicinity of the maximum length. Although it is more difficult than this, it is also possible to control the whisker crystal growth to obtain a whisker of a desired length, or to select and use a whisker of a desired length by a classification operation.

【0020】(樹脂)本発明で使用する樹脂は、従来の
ガラスクロスを基材としたプリプレグに使用されている
樹脂及びガラスクロス基材を含まない接着フィルムある
いは銅箔付き接着フィルムに使用されている熱硬化性樹
脂を使用することができる。ここでいう樹脂とは、樹
脂、硬化剤、硬化促進剤、カップリング剤(必要に応じ
て)、希釈剤(必要に応じて)を含むものを意味する。
従来のガラスクロスを基材としたプリプレグに使用され
ている樹脂は、それを単独では、フィルム形成能がない
ため、銅箔の片面に塗工により接着剤層として形成し、
加熱により溶剤除去し樹脂を半硬化した場合、搬送、切
断及び積層等の工程中において、樹脂の割れや欠落等の
トラブルを生じやすい又は、その後の熱圧成形時に層間
絶縁層が内層回路存在部等で異常に薄くなり、層間絶縁
抵抗低下やショートというトラブルを生じやすかったた
め、従来、銅箔付き接着フィルム用途に使用することが
困難であった。しかし、本発明では、樹脂中にはウィス
カーが分散され、該樹脂はウィスカーにより補強されて
いるため、本発明の樹脂とウィスカーからなるプリプレ
グ層にはフィルム形成能が発現し、搬送、切断及び積層
等の工程中において、樹脂の割れや欠落等のトラブルを
生じにくく、また、ウィスカーが存在するため熱圧成形
時の層間絶縁層が異常に薄くなる現象の発生も防止でき
る。また、従来の接着フィルムや銅箔付き接着フィルム
に使用されている樹脂中にウィスカーを分散させること
も効果的である。これらの樹脂は、高分子量成分等を含
むことにより、樹脂単独でもフィルム形成能力がある
が、本発明によりウィスカーをその樹脂中に分散するこ
とにより、いっそうフィルム形成能が高められ取扱性が
向上し、さらに絶縁信頼性もより高めることが可能とな
る。また、ウィスカーの分散によりフィルム形成能を高
めた分だけ高分子量成分の添加量を減らすことも可能で
あり、それによって樹脂の耐熱性や接着性等を改善でき
る場合もある。樹脂の種類としては、例えばエポキシ樹
脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、ポリイミド樹脂、
フェノール樹脂、メラミン樹脂、けい素樹脂、不飽和ポ
リエステル樹脂、シアン酸エステル樹脂、イソシアネー
ト樹脂、ポリイミド樹脂またはこれらの種々の変性樹脂
類が好適である。この中で、プリント配線板特性上、特
にビスマレイミドトリアジン樹脂、エポキシ樹脂が好適
である。そのエポキシ樹脂としては、ビスフェノールA
型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビ
スフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック
型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹
脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、サリ
チルアルデヒドノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノ
ールFノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹
脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルア
ミン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、イ
ソシアヌレート型エポキシ樹脂、脂肪族環状エポキシ樹
脂及びそれらのハロゲン化物、水素添加物、及び前記樹
脂の混合物が好適である。なかでも、ビスフェノールA
ノボラック型エポキシ樹脂または、サリチルアルデヒド
ノボラック型エポキシ樹脂は耐熱性に優れ好ましい。
(Resin) The resin used in the present invention is a resin used for a conventional prepreg based on a glass cloth and an adhesive film not containing a glass cloth substrate or an adhesive film with a copper foil. Any thermosetting resin can be used. The term “resin” as used herein means a resin containing a resin, a curing agent, a curing accelerator, a coupling agent (if necessary), and a diluent (if necessary).
The resin used for the prepreg based on the conventional glass cloth has no ability to form a film by itself, so it is formed as an adhesive layer by coating on one side of a copper foil,
When the solvent is removed by heating and the resin is semi-cured, troubles such as cracking or missing of the resin are likely to occur during the process of transporting, cutting, laminating, etc. For example, it was difficult to use it for an adhesive film with a copper foil because it became abnormally thin and easily caused a problem such as a decrease in interlayer insulation resistance or a short circuit. However, in the present invention, whiskers are dispersed in the resin, and the resin is reinforced by the whiskers. Therefore, the prepreg layer composed of the resin of the present invention and the whiskers exhibits film forming ability, and is transported, cut, and laminated. During the steps such as those described above, troubles such as cracking or chipping of the resin hardly occur, and the occurrence of an abnormal thinning of the interlayer insulating layer during hot pressing due to the presence of whiskers can be prevented. It is also effective to disperse whiskers in a resin used for a conventional adhesive film or an adhesive film with a copper foil. Although these resins have a film forming ability even when the resin alone contains a high molecular weight component, etc., by dispersing the whiskers in the resin according to the present invention, the film forming ability is further enhanced and the handleability is improved. In addition, the insulation reliability can be further improved. In addition, it is also possible to reduce the amount of the high molecular weight component to be added by the amount corresponding to the enhancement of the film forming ability by dispersing the whiskers, thereby improving the heat resistance and adhesiveness of the resin in some cases. As the type of resin, for example, epoxy resin, bismaleimide triazine resin, polyimide resin,
Phenol resins, melamine resins, silicon resins, unsaturated polyester resins, cyanate ester resins, isocyanate resins, polyimide resins and various modified resins thereof are preferred. Among them, bismaleimide triazine resin and epoxy resin are particularly preferable in terms of printed wiring board characteristics. As the epoxy resin, bisphenol A
Epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, bisphenol S epoxy resin, phenol novolak epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, bisphenol A novolak epoxy resin, salicylaldehyde novolak epoxy resin, bisphenol F novolak epoxy resin, fat Cyclic epoxy resins, glycidyl ester type epoxy resins, glycidylamine type epoxy resins, hydantoin type epoxy resins, isocyanurate type epoxy resins, aliphatic cyclic epoxy resins and their halides, hydrogenated products, and mixtures of the above resins are preferred. It is. Above all, bisphenol A
A novolak type epoxy resin or a salicylaldehyde novolak type epoxy resin is preferable because of its excellent heat resistance.

【0021】(硬化剤)このような樹脂の硬化剤として
は、従来使用しているものが使用でき、樹脂がエポキシ
樹脂の場合、例えばジシアンジアミド、ビスフェノール
A、ビスフェノールF、ポリビニルフェノール、フェノ
ールノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラック樹脂
及びこれらのフェノール樹脂のハロゲン化物、水素化物
等を使用できる。なかでも、ビスフェノールAノボラッ
ク樹脂は耐熱性に優れ好ましい。この硬化剤の前記樹脂
に対する割合は、従来使用している割合でよく、樹脂1
00重量部に対して、2〜100重量部の範囲が好まし
く、ジシアンジアミドでは、2〜5重量部、それ以外の
硬化剤では、30〜80重量部の範囲が好ましい。
(Curing Agent) As the curing agent for such a resin, those conventionally used can be used. When the resin is an epoxy resin, for example, dicyandiamide, bisphenol A, bisphenol F, polyvinyl phenol, phenol novolak resin, Bisphenol A novolak resins and halides and hydrides of these phenolic resins can be used. Among them, bisphenol A novolak resin is preferable because of its excellent heat resistance. The ratio of the curing agent to the resin may be a conventionally used ratio.
The range is preferably 2 to 100 parts by weight, more preferably 2 to 5 parts by weight for dicyandiamide, and 30 to 80 parts by weight for the other curing agents.

【0022】(硬化促進剤)硬化促進剤としては、樹脂
がエポキシ樹脂の場合、イミダゾール化合物、有機リン
化合物、第3級アミン、第4級アンモニウム塩等を使用
する。この硬化促進剤の前記樹脂に対する割合は、従来
使用している割合でよく、樹脂100重量部に対して、
0.01〜20重量部の範囲が好ましく、0.1〜1.
0重量部の範囲がより好ましい。
(Curing Accelerator) When the resin is an epoxy resin, an imidazole compound, an organic phosphorus compound, a tertiary amine, a quaternary ammonium salt, or the like is used as the curing accelerator. The ratio of the curing accelerator to the resin may be a conventionally used ratio, and is based on 100 parts by weight of the resin.
The range is preferably 0.01 to 20 parts by weight, and 0.1 to 1 part by weight.
A range of 0 parts by weight is more preferred.

【0023】(希釈剤)本発明の熱硬化性樹脂は、溶剤
にて希釈して樹脂ワニスとして使用することもできる。
溶剤には、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、
キシレン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、メタノール、エタ
ノール、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミド等を使用できる。この希釈剤の前記樹
脂に対する割合は、従来使用している割合でよく、樹脂
100重量部に対して、1〜200重量部の範囲が好ま
しく、30〜100重量部の範囲がさらに好ましい。
(Diluent) The thermosetting resin of the present invention can be diluted with a solvent and used as a resin varnish.
Solvents include acetone, methyl ethyl ketone, toluene,
Xylene, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether, methanol, ethanol, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and the like can be used. The ratio of the diluent to the resin may be a conventionally used ratio, and is preferably in the range of 1 to 200 parts by weight, more preferably 30 to 100 parts by weight, per 100 parts by weight of the resin.

【0024】(その他の配合剤)さらに本発明において
は、樹脂中に上記した各成分の他に、必要に応じて従来
より公知のカップリング剤、充填材等を適宜配合しても
よい。
(Other Compounding Agents) Further, in the present invention, conventionally known coupling agents, fillers and the like may be appropriately added to the resin, if necessary, in addition to the above-mentioned components.

【0025】(樹脂とウィスカーの割合)樹脂への電気
絶縁性ウィスカーの配合量は、樹脂固形分100重量部
に対し、5重量部未満であると、このプリプレグは切断
時に、樹脂が砕けて飛散しやすくなる等の取扱性が悪く
なると共に、配線板にしたときに十分な剛性が得られな
い。一方、ウィスカーの配合量が350重量部を越える
と、熱圧成形時の内層回路の穴埋め性や回路間への樹脂
充填性が損なわれ、熱圧成形後のウィスカー複合樹脂層
中にボイドかすれが発生し易くなり、配線板特性を損な
う恐れがある。したがって、ウィスカーの配合量は、樹
脂固形分100重量部に対し、5〜350重量部が好ま
しい。さらに、内層回路の穴埋め性や回路間への充填性
に優れ、なおかつ、製造した配線板が、従来のガラスク
ロス使用のプリプレグを用いて製造した配線板と比較
し、同等または同等以上の剛性と寸法安定性とワイヤボ
ンディング性を持つことができる理由から、ウィスカー
の配合量は、樹脂固形分100重量部に対し、30〜2
30重量部であることがより好ましい。
(Proportion of Resin and Whisker) If the compounding amount of the electrically insulating whisker to the resin is less than 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin solid content, the prepreg is crushed and scattered during cutting. In addition, the handleability is deteriorated, for example, and the sufficient rigidity cannot be obtained when the wiring board is used. On the other hand, if the compounding amount of the whisker exceeds 350 parts by weight, the filling property of the inner layer circuit at the time of hot pressing and the filling property of the resin between the circuits are impaired, and the void whiskers are formed in the whisker composite resin layer after the hot pressing. This easily occurs, and the characteristics of the wiring board may be impaired. Therefore, the amount of the whisker is preferably 5 to 350 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin solid content. In addition, the fillability of the inner layer circuit and the filling property between the circuits are excellent, and the manufactured wiring board has the same or higher rigidity than the wiring board manufactured using the prepreg using the conventional glass cloth. The whisker is added in an amount of 30 to 2 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin solid content, because it can have dimensional stability and wire bonding properties.
More preferably, it is 30 parts by weight.

【0026】(キャリヤフィルム)本発明において絶縁
層であるウィスカー複合樹脂層(Bステージ状態)を、
その片面に形成する対象であるキャリアフィルムとして
は、銅箔、アルミ箔等の金属箔、ポリエステルフィル
ム、ポリイミドフィルム、あるいは前記金属箔及びフィ
ルムの表面を離型剤により処理したものを使用する。
(Carrier Film) The whisker composite resin layer (B-stage state), which is an insulating layer in the present invention, comprises:
As a carrier film to be formed on one surface thereof, a metal foil such as a copper foil or an aluminum foil, a polyester film, a polyimide film, or a film obtained by treating the surfaces of the metal foil and the film with a release agent is used.

【0027】(プリプレグ層中のウィスカー配向)本発
明の電気絶縁性ウィスカーとBステージ状態の樹脂とか
ら構成される絶縁材料の中のウィスカーは、2次元配向
に近い状態(ウィスカーの軸方向が絶縁材料層の形成す
る面と平行に近い状態)にさせることが好ましい。具体
的には、半硬化状態の樹脂中にある全ウィスカーの70
%以上のウィスカーの繊維軸を、絶縁材料の面方向に対
して、±30度以内の方向に配向させることが好まし
い。このようにウィスカーを配向させることにより、本
発明の絶縁材料は良好な取扱性が得られると同時に、配
線板にしたときに高い剛性と良好な寸法安定性及び表面
平坦性が得られる。
(Whisker Orientation in Prepreg Layer) The whisker in the insulating material composed of the electrically insulating whisker of the present invention and the resin in the B-stage state is in a state close to two-dimensional orientation (whisker is in the axial direction). (A state close to parallel to the surface on which the material layer is formed). Specifically, 70% of all whiskers in the semi-cured resin
% Or more of the whiskers are preferably oriented in directions within ± 30 degrees with respect to the plane direction of the insulating material. By orienting the whiskers in this manner, the insulating material of the present invention can obtain good handleability, as well as high rigidity, good dimensional stability, and surface flatness when formed into a wiring board.

【0028】(塗工方式)上記のようにウィスカーを配
向させるには、前述した好ましい範囲の繊維長のウィス
カーを使用すると同時に、銅箔にウィスカーを配合した
樹脂ワニスを塗工する際に、ブレードコータ、ロッドコ
ータ、ナイフコータ、スクイズコータ、リバースロール
コータ、トランスファロールコータ等の銅箔と平行な面
方向にせん断力を負荷できるかあるいは、銅箔の面に垂
直な方向に、圧縮力を負荷できる塗工方式を採用すれば
よい。
(Coating method) In order to orient the whiskers as described above, a whisker having a fiber length in the above-described preferred range is used, and at the same time, when a resin varnish in which whiskers are mixed with a copper foil is coated, a blade is used. A shear force can be applied in the direction parallel to the copper foil such as a coater, rod coater, knife coater, squeeze coater, reverse roll coater, transfer roll coater, or a compressive force can be applied in a direction perpendicular to the copper foil surface. A coating method may be adopted.

【0029】本発明の配線板用絶縁材料及びそれを用い
た配線板では、電気絶縁性のウィスカーが、配線板の導
体層間に樹脂なしで挟まれることがなくなる。すなわ
ち、配線板の導体層間には少なくとも絶縁樹脂の層が形
成されるため、絶縁樹脂本来の絶縁信頼性が得られ、そ
の結果として配線板の絶縁信頼性を高めることができ
る。 また、本発明の絶縁材料を使用して作製した絶縁
層は、基材がガラスよりレーザに対し、被加工性が良好
でしかも微細なウィスカーであるため、従来のガラスク
ロスプリプレグを使用した絶縁層では、困難であったレ
ーザ穴明けが容易にできる。そのため、直径100μm
以下の小径のインターステーシャルバイアホール(IV
H)が容易に作製可能となり、プリント配線板の回路を
微細化でき、電気機器の高密度化、高性能化に大きく貢
献できる。以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
In the wiring board insulating material and the wiring board using the same according to the present invention, the electrically insulating whiskers are not sandwiched between the conductor layers of the wiring board without resin. That is, since at least the insulating resin layer is formed between the conductor layers of the wiring board, the insulation reliability inherent in the insulating resin is obtained, and as a result, the insulation reliability of the wiring board can be improved. In addition, the insulating layer manufactured using the insulating material of the present invention has a better workability to laser and a finer whisker than glass, so that the insulating layer using the conventional glass cloth prepreg is used. Then, laser drilling, which was difficult, can be easily performed. Therefore, a diameter of 100 μm
The following small interstitial via holes (IV
H) can be easily manufactured, the circuit of the printed wiring board can be miniaturized, and it can greatly contribute to higher density and higher performance of electric equipment. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

【0030】[0030]

【実施例】【Example】

実施例1 (配線板用絶縁材料の作製)公称長さ30μmで、長さ
の分布が3〜60μm、平均直径が1μmの硼酸アルミ
ニウムウィスカーをメチルエチルケトンで湿潤させ、直
径0.3mmのジルコニアボールと共に、遊星型ボール
ミルに入れ、2400回転/分で15分間粉砕した後、
ジルコニアボールを200メッシュのナイロン製網で篩
い分けて除去した。粉砕したウィスカーの中から、走査
型電子顕微鏡で約10,000個のウィスカーを撮影
し、長い方から100個のウィスカーの長さを測定し
た。粉砕したウィスカーの最大長は、約35μmであっ
た。ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂とビス
フェノールAノボラック樹脂を主成分とする熱硬化性樹
脂に粉砕したウィスカーを、樹脂固形分100重量部に
対し90重量部になるように配合し、硼酸アルミニウム
ウィスカーがワニス中に均一に分散するまで攪拌した。
これを、厚さ18μmの銅箔及び厚さ50μmのポリエ
チレンテレフタート(PET)フィルムにナイフコータ
にて塗工し、温度150℃で10分間加熱乾燥して、溶
剤を除去すると共に、樹脂を半硬化して、ウィスカー体
積分率が30%でウィスカーと半硬化状態にあるエポキ
シ樹脂からなる絶縁層の厚さが50μmの銅箔付き絶縁
材料及びPETを剥離により除去して、半硬化状態のエ
ポキシ樹脂からなる厚さが、30μm、50μm、10
0μmの接着フィルムを作製した。
Example 1 (Production of insulating material for wiring board) Aluminum borate whiskers having a nominal length of 30 μm, a length distribution of 3 to 60 μm, and an average diameter of 1 μm were wetted with methyl ethyl ketone, and together with zirconia balls having a diameter of 0.3 mm, After putting in a planetary ball mill and grinding at 2400 rpm for 15 minutes,
The zirconia balls were removed by sieving with a 200 mesh nylon net. From the crushed whiskers, about 10,000 whiskers were photographed with a scanning electron microscope, and the length of the 100 whiskers was measured from the longest. The maximum length of the crushed whiskers was about 35 μm. Whisker pulverized into a thermosetting resin containing bisphenol A novolak type epoxy resin and bisphenol A novolak resin as main components is blended so as to be 90 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin solid content, and aluminum borate whisker is added to the varnish. And stirred until homogeneously dispersed.
This is applied to a 18 μm-thick copper foil and a 50 μm-thick polyethylene terephthalate (PET) film by a knife coater, and heated and dried at a temperature of 150 ° C. for 10 minutes to remove the solvent and semi-cured the resin. Then, the insulating material with a copper foil having a whisker volume fraction of 30% and an insulating layer made of a whisker and an epoxy resin in a semi-cured state and a thickness of 50 μm and PET are removed by peeling, and the semi-cured epoxy resin is removed. Thickness of 30 μm, 50 μm, 10 μm
A 0 μm adhesive film was produced.

【0031】(作製した絶縁材料の取扱性)作製した銅
箔付き絶縁材料は、カッターナイフ及びシャーにより、
樹脂の飛散等なくきれいに切断でき、絶縁材料同士のブ
ロッキングも発生せず、良好な取扱性であった。また、
PETフィルムに塗工して作製した絶縁材料は、PET
フィルムの剥離時や通常の取り扱い時に割れる等のトラ
ブルはなく、またカッターナイフ及びシャーにより、樹
脂の飛散等なくきれいに切断でき、絶縁材料同士のブロ
ッキングも発生せず、良好な取扱性であった。
(Handling property of the produced insulating material) The produced insulating material with copper foil was treated with a cutter knife and a shear.
It could be cut cleanly without scattering of the resin, no blocking between insulating materials occurred, and the handling was good. Also,
The insulating material made by coating the PET film is PET
There was no trouble such as cracking during peeling of the film or during normal handling, and the film could be cut cleanly by a cutter knife and a shear without scattering of resin, and there was no blocking between insulating materials.

【0032】(絶縁信頼性)次に、全体の厚さ0.8m
mで銅箔厚さ18μmのガラスエポキシ両面銅張積層板
に、電食試験の内層面の電極となるパターンをエッチン
グにより作製し、この上下に上記で作製した絶縁層の厚
さ50μmの銅箔付き絶縁材料を、絶縁材料が電食試験
の内層面の電極となるパターンと接するように重ね合わ
せて積層し、熱圧成形した。得られた積層板の最小層間
絶縁層厚さは、およそ32μmであった。この積層板の
内層の電極となる電食試験パターンの位置に合わせた部
分に、外層の電極となるパターンをエッチングで作製
し、電食試験片を得た。この内層と外層の電極間に直流
50Vの電圧を印加し、85℃、85%RHの雰囲気下
で1000時間経過後の絶縁抵抗値を測定した結果、1
9Ω以上の良好な値を示し、絶縁材料が耐電食性に優
れていることを確認した。
(Insulation Reliability) Next, the entire thickness is 0.8 m.
A copper foil double-sided copper-clad laminate with a copper foil thickness of 18 μm and a pattern to be used as an electrode on the inner surface of the electrolytic corrosion test is formed by etching, and a copper foil with a thickness of 50 μm above and below the insulating layer prepared above The attached insulating material was laminated and laminated so that the insulating material was in contact with the pattern serving as the electrode on the inner layer surface of the electrolytic corrosion test, and was subjected to hot pressing. The minimum interlayer insulating layer thickness of the obtained laminate was about 32 μm. A pattern to be an electrode of an outer layer was formed by etching on a portion corresponding to the position of an electrolytic corrosion test pattern to be an electrode of an inner layer of the laminated plate to obtain an electrolytic corrosion test piece. A voltage of 50 V DC was applied between the electrodes of the inner layer and the outer layer, and the insulation resistance was measured after a lapse of 1000 hours in an atmosphere of 85 ° C. and 85% RH.
A good value of 09 Ω or more was shown, and it was confirmed that the insulating material was excellent in electric corrosion resistance.

【0033】(その他の特性)また、作製した厚さ10
0μmの絶縁材料の上下に、厚さ18μmの片面粗化銅
箔を該粗化面が絶縁材料に向き合うように積層し、熱圧
成形した。得られた銅張積層板の曲げ弾性率を三点曲げ
で測定したところ、20GPa(銅箔なし、たてよこ平
均)であった。また、JIS C 6486に準じて誘
電率を測定したところ、4.0(1MHz)であった。
また、直径0.3mmのドリルにて、この銅張積層板を
10枚重ねて穴明けしたときの最上板と最下板の穴位置
のずれ量を測定したところ、20μm以下であった。こ
の銅張積層板に回路加工を施し、その両面に先に作製し
た厚さ50μmの本発明の絶縁材料を、そのさらに外側
に厚さ18μmの片面粗化銅箔を粗化面が絶縁材料に向
き合うように積層し、熱圧成形し、内層回路入り多層銅
張積層板を作製した。この内層回路入り多層銅張積層板
の表面粗さを、触針式表面粗さ計にて測定した。測定箇
所は、その直下に内層回路のある部分とない部分とを含
む長さ25mmの一直線上の外層表面とした。内層回路
のある部分とない部分の段差の10点平均表面粗さは、
3μm以下であり、回路加工に支障のない良好な表面平
坦性であった。さらに、この内層回路入り多層銅張積層
板の表面銅箔の所定位置にエッチングにより直径75μ
mの穴を明け、その穴へ住友重機械工業(株)製インパ
クトレーザにて穴明けを行い、過マンガン酸処理による
デスミアを行い、無電解メッキを行った後、パターン焼
き付けエッチングにより回路形成した。この多層プリン
ト配線板の両面に、再び本発明の厚さ30μmの絶縁材
料を、そのさらに外側に厚さ18μmの片面粗化銅箔を
粗化面が絶縁材料に向き合うように積層し、熱圧成形し
内層回路入り多層銅張積層板を作製し、所定位置にエッ
チングにより直径75μmの穴を明け、その穴へ住友重
機械工業(株)製インパクトレーザにて穴明けを行い、
過マンガン酸処理によるデスミアを行い、無電解メッキ
を行った後、パターン焼き付けエッチングにより回路形
成した。以上の工程を繰り返して10層プリント配線板
を作製した。この多層プリント配線板の一部を切り取
り、その熱膨張率と曲げ弾性率を測定した。熱膨張率は
TMAにて、曲げ弾性率は、DMAの曲げモードにて測
定した。たてよこ方向の平均の熱膨張係数は、10pp
m/℃(常温下)であり、たてよこ方向の平均の曲げ弾
性率は常温下で60GPa、高温下(200℃)で40
GPaであった。また、バーコル硬度計による表面硬度
は、常温下で65、高温下(200℃)で50であっ
た。さらに、この10層プリント配線板の一部にベアチ
ップを実装し、ワイヤボンディングで表面回路と接続し
た。ワイヤボンディング条件は、超音波出力を1W、超
音波出力時間を50μs、ボンド荷重を100g、ワイ
ヤボンディング温度を180℃としたところ、良好にワ
イヤボンディングできた。また、この10層プリント配
線板に寸法8×20mmのTSOPをはんだを介して表
面回路と接続し、このTSOP実装基板を−65℃←→
150℃の熱サイクル試験で評価したところ、2000
サイクル後もはんだ接続部に断線等の不良は発生してい
なかった。また、この基板の内部のインターステーシャ
ルバイアホールを含む回路の導通試験を行ったが、断線
等のトラブルの発生はなかった。
(Other characteristics) The thickness 10
A single-sided roughened copper foil having a thickness of 18 μm was laminated on and under a 0 μm insulating material so that the roughened surface faced the insulating material, followed by hot pressing. When the bending elastic modulus of the obtained copper-clad laminate was measured by three-point bending, it was 20 GPa (no copper foil, average vertical length). Further, the dielectric constant was measured according to JIS C 6486, and it was 4.0 (1 MHz).
Further, when the displacement of the hole position between the uppermost plate and the lowermost plate when ten copper-clad laminates were drilled with a 0.3 mm diameter drill was measured, it was 20 μm or less. This copper-clad laminate is subjected to circuit processing, and the insulating material of the present invention having a thickness of 50 μm previously prepared on both surfaces thereof, and a single-sided roughened copper foil having a thickness of 18 μm on the outer surface thereof is further provided with a roughened surface as an insulating material. They were laminated so as to face each other, and were hot-pressed to produce a multilayer copper-clad laminate containing an inner layer circuit. The surface roughness of the multilayer copper-clad laminate containing the inner layer circuit was measured with a stylus type surface roughness meter. The measurement location was the outer layer surface on a straight line having a length of 25 mm including a portion with and without an inner layer circuit immediately below. The 10-point average surface roughness of the step between the part with and without the inner layer circuit is:
3 μm or less, and good surface flatness that did not hinder circuit processing. Further, a predetermined diameter of the surface copper foil of the multilayer copper-clad laminate containing the inner layer circuit was etched to a diameter of 75 μm by etching.
After drilling a hole with an impact laser manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd., performing desmearing by permanganate treatment, performing electroless plating, and forming a circuit by pattern baking etching. . The insulating material of the present invention having a thickness of 30 μm is again laminated on both sides of the multilayer printed wiring board, and a single-sided roughened copper foil having a thickness of 18 μm is further laminated on the outer side thereof so that the roughened surface faces the insulating material. A multi-layer copper-clad laminate with an inner layer circuit was formed, and a hole having a diameter of 75 μm was formed at a predetermined position by etching, and the hole was formed with an impact laser manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.
After desmearing by permanganate treatment and electroless plating, a circuit was formed by pattern baking etching. The above steps were repeated to produce a 10-layer printed wiring board. A part of this multilayer printed wiring board was cut out, and its coefficient of thermal expansion and flexural modulus were measured. The coefficient of thermal expansion was measured by TMA, and the flexural modulus was measured by a bending mode of DMA. The average thermal expansion coefficient in the vertical direction is 10 pp
m / ° C (at room temperature), and the average bending elastic modulus in the vertical direction is 60 GPa at room temperature and 40 at high temperature (200 ° C).
GPa. The surface hardness measured by a Barcol hardness meter was 65 at room temperature and 50 at high temperature (200 ° C.). Further, a bare chip was mounted on a part of the 10-layer printed wiring board, and connected to a surface circuit by wire bonding. As for the wire bonding conditions, the ultrasonic output was 1 W, the ultrasonic output time was 50 μs, the bond load was 100 g, and the wire bonding temperature was 180 ° C. As a result, the wire bonding was successfully performed. Also, a TSOP having a size of 8 × 20 mm is connected to the surface circuit via solder on the 10-layer printed wiring board, and the TSOP mounting board is heated to −65 ° C. →→
When evaluated by a heat cycle test at 150 ° C., 2000
No defect such as disconnection occurred in the solder connection even after the cycle. A continuity test was performed on a circuit including an interstitial via hole inside the substrate, and no trouble such as disconnection occurred.

【0034】実施例2 (配線板用絶縁材料の作製)サリチルアルデヒドノボラ
ック型エポキシ樹脂とビスフェノールAノボラック樹脂
を主成分とする熱硬化性樹脂に、公称長さ30μmで、
3〜60μmの長さ分布を持つ、平均直径が1μmの硼
酸アルミニウムウィスカーを樹脂固形分100重量部に
対し、硼酸アルミニウムウィスカーを90重量部配合
し、硼酸アルミニウムウィスカーがワニス中に均一に分
散するまで攪拌した。このウィスカー入りのワニスに、
アルミナボールを加えビーズミルに投入し、60分間の
粉砕を行った。このワニスを200メッシュのナイロン
製網で加圧濾過し、アルミナボールを分離した。これ
を、厚さ18μmの銅箔および厚さ50μmのポリエチ
レンテレフタレート(PET)フィルムにナイフコータ
にて塗工し、温度150℃で10min間加熱乾燥し
て、溶剤を除去すると共に、樹脂を半硬化して、ウィス
カー体積分率が30%でウィスカーと半硬化状態にある
エポキシ樹脂からなる絶縁層の厚さが、50μmと10
0μmの銅箔付き絶縁材料および、PETを剥離により
除去して、半硬化状態のエポキシ樹脂からなる厚さが、
50μmの接着フィルムを作製した。作製した50μm
の接着フィルムを電気炉において、摂氏600度で10
分間焼成し、樹脂を焼却除去してウィスカーを取り出し
た。この取り出したウィスカーを、走査型電子顕微鏡で
約10,000個のウィスカーを撮影し、長い方から1
00個のウィスカーの長さを測定した。粉砕したウィス
カーの最大長さは、約30μmであった。
Example 2 (Production of insulating material for wiring board) A thermosetting resin mainly composed of a salicylaldehyde novolak type epoxy resin and a bisphenol A novolak resin was added to a thermosetting resin having a nominal length of 30 μm.
Aluminum borate whiskers having a length distribution of 3 to 60 μm and an average diameter of 1 μm are mixed with 90 parts by weight of aluminum borate whiskers with respect to 100 parts by weight of the resin solid content until the aluminum borate whiskers are uniformly dispersed in the varnish. Stirred. In this varnish with whiskers,
Alumina balls were added, and the mixture was put into a bead mill and pulverized for 60 minutes. This varnish was filtered under pressure through a nylon mesh of 200 mesh to separate alumina balls. This was applied to a copper foil of 18 μm thickness and a polyethylene terephthalate (PET) film of 50 μm thickness using a knife coater, and was heated and dried at 150 ° C. for 10 minutes to remove the solvent and semi-cured the resin. The thickness of the insulating layer made of epoxy resin in a semi-cured state with whiskers having a whisker volume fraction of 30% is 50 μm and 10 μm.
The insulating material with a copper foil of 0 μm and the PET are removed by peeling, and the thickness of the semi-cured epoxy resin is
A 50 μm adhesive film was produced. 50 μm produced
In an electric furnace at 600 ° C.
After baking for minutes, the resin was incinerated and removed, and the whiskers were taken out. The extracted whiskers were photographed with a scanning electron microscope to photograph about 10,000 whiskers.
The length of 00 whiskers was measured. The maximum length of the crushed whiskers was about 30 μm.

【0035】(作製した絶縁材料の取扱性)作製した銅
箔付き絶縁材料は、カッターナイフ及びシャーにより、
樹脂の飛散等なくきれいに切断でき、絶縁材料同士のブ
ロッキングも発生せず、良好な取扱性であった。また、
PETフィルムに塗工して作製した絶縁材料は、PET
フィルムの剥離時や通常の取り扱い時に割れる等のトラ
ブルはなく、またカッターナイフ及びシャーにより、樹
脂の飛散等なくきれいに切断でき、絶縁材料同士のブロ
ッキングも発生せず、良好な取扱性であった。
(Handleability of Insulation Material Produced) The insulation material with copper foil thus produced was cut with a cutter knife and a shear.
It could be cut cleanly without scattering of the resin, no blocking between insulating materials occurred, and the handling was good. Also,
The insulating material made by coating the PET film is PET
There was no trouble such as cracking during peeling of the film or during normal handling, and the film could be cut cleanly by a cutter knife and a shear without scattering of resin, and there was no blocking between insulating materials.

【0036】(絶縁信頼性)次に、全体の厚さ0.8m
mで、銅箔の厚さ18μmのガラスエポキシ両面銅張積
層板に電食試験の内層面の電極となるパターンをエッチ
ングにより作製し、この上下に上記で作製した絶縁層の
厚さ50μmの銅箔付き絶縁材料を絶縁材料が電食試験
の内層面の電極となるパターンと接するように重ね合わ
せて積層し、熱圧成形した。得られた積層板の最小層間
絶縁層厚さは、およそ32μmであった。この積層板の
内層の電極となる電食試験パターンの位置に合わせた部
分に外層の電極となるパターンをエッチングで作製し、
電食試験片を得た。この内層と外層の電極間に直流50
Vの電圧を印加し、85℃、85%RHの雰囲気下で1
000時間経過後の絶縁抵抗値を測定した結果、109
Ω以上の良好な値を示し、絶縁材料が耐電食性に優れて
いることを確認した。
(Insulation Reliability) Next, the overall thickness is 0.8 m.
m, a pattern to be used as an electrode on the inner surface of the electrolytic corrosion test was formed on a glass epoxy double-sided copper-clad laminate having a copper foil thickness of 18 μm by etching. The insulating material with a foil was overlapped and laminated so that the insulating material was in contact with the pattern to be the electrode on the inner layer surface of the electrolytic corrosion test, and was hot-pressed. The minimum interlayer insulating layer thickness of the obtained laminate was about 32 μm. A pattern to be an outer layer electrode is formed by etching on a portion corresponding to the position of the electrolytic corrosion test pattern to be an inner layer electrode of this laminate,
An electrolytic corrosion test piece was obtained. DC 50 between the inner and outer layer electrodes
V under a 85 ° C., 85% RH atmosphere.
As a result of measuring the insulation resistance value after lapse of 000 hours, 10 9
It showed a good value of Ω or more, and it was confirmed that the insulating material was excellent in electric corrosion resistance.

【0037】(その他の特性)また、作製した厚さ10
0μmの絶縁材料の上下に、厚さ18μmの片面粗化銅
箔を該粗化面が絶縁材料に向き合うように積層し、熱圧
成形した。得られた銅張積層板の曲げ弾性率を三点曲げ
で測定したところ、20GPa(銅箔なし、たてよこ平
均)であった。また、JIS C 6486に準じて誘
電率を測定したところ、4.0(1MHz)であった。
また、直径0.3mmのドリルにて、この銅張積層板を
10枚重ねて穴明けしたときの最上板と最下板の穴位置
のずれ量を測定したところ、20μm以下であった。こ
の銅張積層板に回路加工を施し、その両面に先に作製し
た厚さ50μmの本発明の絶縁材料を、そのさらに外側
に、厚さ18μmの片面粗化銅箔を粗化面が絶縁材料に
向き合うように積層し、熱圧成形し内層回路入り多層銅
張積層板を作製した。この内層回路入り多層銅張積層板
の表面粗さを、触針式表面粗さ計にて測定した。測定箇
所は、その直下に内層回路のある部分とない部分とを含
む長さ25mmの一直線上の外層表面とした。内層回路
のある部分とない部分の段差の10点平均表面粗さは、
3μm以下であり、回路加工に支障のない良好な表面平
坦性であった。 さらに、この内層回路入り多層銅張積
層板の表面銅箔の所定位置に、エッチングにより直径7
5μmの穴を明け、その穴へ住友重機械工業(株)製イ
ンパクトレーザにて穴明けを行い、過マンガン酸処理に
よるデスミアを行い、無電解メッキを行った後、パター
ン焼き付けエッチングにより回路形成した。この多層プ
リント配線板の両面に、再び本発明の厚さ50μmの絶
縁材料を、そのさらに外側に厚さ18μmの片面粗化銅
箔を、粗化面が絶縁材料に向き合うように積層し、熱圧
成形し内層回路入り多層銅張積層板を作製し、所定位置
にエッチングにより直径75μmの穴を明け、その穴へ
住友重機械工業(株)製インパクトレーザにて穴明けを
行い、過マンガン酸処理によるデスミアを行い、無電解
メッキを行った後、パターン焼き付けエッチングにより
回路形成した。以上の工程を繰り返して、10層プリン
ト配線板を作製した。この多層プリント配線板の一部を
切り取り、その熱膨張率と曲げ弾性率を測定した。熱膨
張率はTMAにて、曲げ弾性率は、DMAの曲げモード
にて測定した。たてよこ方向の平均の熱膨張係数は、1
0ppm/℃(常温下)であり、たてよこ方向の平均の
曲げ弾性率は常温下で60GPa、高温下(200℃)
で50GPaであった。また、バーコル硬度計による表
面硬度は、常温下で65、高温下(200℃)で55で
あった。さらに、この10層プリント配線板の一部にベ
アチップを実装し、ワイヤボンディングで表面回路と接
続した。ワイヤボンディング条件は、超音波出力を1
W、超音波出力時間を50μs、ボンド荷重を100
g、ワイヤボンディング温度を180℃としたところ、
良好にワイヤボンディングできた。また、この10層プ
リント配線板に8×20mmのTSOPをはんだを介し
て表面回路とし接続し、このTSOP実装基板を−65
℃←→150℃の熱サイクル試験で評価したところ、2
000サイクル後もはんだ接続部に断線等の不良は発生
していなかった。また、この基板の内部のインターステ
ーシャルバイアホールを含む回路の導通試験を行った
が、断線等のトラブルの発生はなかった。次に、これら
の実施例の効果を確認するための比較例を示す。
(Other Characteristics) The thickness 10
A single-sided roughened copper foil having a thickness of 18 μm was laminated on and under a 0 μm insulating material so that the roughened surface faced the insulating material, followed by hot pressing. When the bending elastic modulus of the obtained copper-clad laminate was measured by three-point bending, it was 20 GPa (no copper foil, average vertical length). Further, the dielectric constant was measured according to JIS C 6486, and it was 4.0 (1 MHz).
Further, when the displacement of the hole position between the uppermost plate and the lowermost plate when ten copper-clad laminates were drilled with a 0.3 mm diameter drill was measured, it was 20 μm or less. This copper clad laminate is subjected to circuit processing, and the insulating material of the present invention having a thickness of 50 μm previously prepared on both surfaces thereof, and a 18 μm-thick roughened copper foil having a thickness of 18 μm on the outer surface thereof is further provided with an insulating material having a roughened surface. And a hot-press molding to produce a multilayer copper-clad laminate with an inner layer circuit. The surface roughness of the multilayer copper-clad laminate containing the inner layer circuit was measured with a stylus type surface roughness meter. The measurement location was the outer layer surface on a straight line having a length of 25 mm including a portion with and without an inner layer circuit immediately below. The 10-point average surface roughness of the step between the part with and without the inner layer circuit is:
3 μm or less, and good surface flatness that did not hinder circuit processing. Furthermore, a predetermined diameter of the surface copper foil of the multilayer copper-clad laminate containing the inner layer circuit is etched to a diameter of 7 mm.
A hole of 5 μm was drilled, the hole was drilled by an impact laser manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd., desmearing was performed by permanganic acid treatment, electroless plating was performed, and a circuit was formed by pattern baking etching. . The insulating material of the present invention having a thickness of 50 μm is again laminated on both sides of the multilayer printed wiring board, and a single-side roughened copper foil having a thickness of 18 μm is further laminated on the outer side thereof so that the roughened surface faces the insulating material. A multi-layer copper-clad laminate with an inner layer circuit is formed by pressure molding, a hole having a diameter of 75 μm is formed at a predetermined position by etching, and the hole is formed with an impact laser manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd. After performing desmearing and electroless plating, a circuit was formed by pattern baking etching. The above steps were repeated to produce a 10-layer printed wiring board. A part of this multilayer printed wiring board was cut out, and its coefficient of thermal expansion and flexural modulus were measured. The coefficient of thermal expansion was measured by TMA, and the flexural modulus was measured by a bending mode of DMA. The average thermal expansion coefficient in the vertical direction is 1
0 ppm / ° C (at room temperature), the average bending elastic modulus in the vertical direction is 60 GPa at room temperature, and high temperature (200 ° C)
Was 50 GPa. The surface hardness measured by a Barcol hardness meter was 65 at room temperature and 55 at high temperature (200 ° C.). Further, a bare chip was mounted on a part of the 10-layer printed wiring board, and connected to a surface circuit by wire bonding. The condition of wire bonding is as follows.
W, ultrasonic output time 50 μs, bond load 100
g, when the wire bonding temperature is 180 ° C.,
Good wire bonding was achieved. An 8 × 20 mm TSOP is connected to this 10-layer printed wiring board as a surface circuit via solder, and the TSOP mounting board is connected to a −65 mm.
When evaluated in a heat cycle test at 150 ° C
Even after 000 cycles, no defect such as disconnection occurred in the solder connection part. A continuity test was performed on a circuit including an interstitial via hole inside the substrate, and no trouble such as disconnection occurred. Next, comparative examples for confirming the effects of these examples will be described.

【0038】比較例1 (絶縁材料の作製)実施例1のボールミルによる粉砕を
行わない以外は、実施例1と同様の操作をした。ボール
ミル粉砕を行わないホウ酸アルミニウムウィスカーを、
走査型電子顕微鏡で約10,000個撮影し、長い方か
ら100個の長さを測定した。粉砕しないウィスカーの
最大の長さは、およそ60μmであった。
Comparative Example 1 (Preparation of Insulating Material) The same operation as in Example 1 was performed except that pulverization by the ball mill of Example 1 was not performed. Aluminum borate whiskers without ball mill grinding
About 10,000 pieces were photographed with a scanning electron microscope, and the length of 100 pieces was measured from the longest one. The maximum length of the unmilled whiskers was approximately 60 μm.

【0039】(作製した絶縁材料の取扱性)作製した銅
箔付き絶縁材料は、カッターナイフ及びシャーにより、
樹脂の飛散等なくきれいに切断でき、絶縁材料同士のブ
ロッキングも発生せず、良好な取扱性であった。また、
PETフィルムに塗工して作製した絶縁材料は、PET
フィルムの剥離時や通常の取り扱い時に割れる等のトラ
ブルはなく、またカッターナイフ及びシャーにより、樹
脂の飛散等なくきれいに切断でき、絶縁材料同士のブロ
ッキングも発生せず、良好な取扱性であった。
(Handling property of the produced insulating material) The produced insulating material with a copper foil was prepared using a cutter knife and a shear.
It could be cut cleanly without scattering of the resin, no blocking between insulating materials occurred, and the handling was good. Also,
The insulating material made by coating the PET film is PET
There was no trouble such as cracking during peeling of the film or during normal handling, and the film could be cut cleanly by a cutter knife and a shear without scattering of resin, and there was no blocking between insulating materials.

【0040】(絶縁信頼性)次に、全体の厚さ0.8m
mで、銅箔の厚さ18μmのガラスエポキシ両面銅張積
層板に電食試験の内層面の電極となるパターンをエッチ
ングにより作製し、この上下に上記で作製した絶縁層の
厚さ50μmの銅箔付き絶縁材料を、絶縁材料が電食試
験の内層面の電極となるパターンと接するように重ね合
わせて積層し、熱圧成形した。得られた積層板の最小層
間絶縁層厚さは、およそ32μmであった。この積層板
の内層の電極となる電食試験パターンの位置に合わせた
部分に、外層の電極となるパターンをエッチングで作製
し、電食試験片を得た。この内層と外層の電極間に直流
50Vの電圧を印加し、85℃、85%RHの雰囲気下
で1000時間経過後の絶縁抵抗値を測定した結果、1
9Ω未満となり、絶縁信頼性が低下していることを確
認した。
(Insulation Reliability) Next, the overall thickness is 0.8 m.
m, a pattern to be used as an electrode on the inner surface of the electrolytic corrosion test was formed on a glass epoxy double-sided copper-clad laminate having a copper foil thickness of 18 μm by etching. The insulating material with a foil was laminated and laminated so that the insulating material was in contact with the pattern to be the electrode on the inner layer surface of the electrolytic corrosion test, and was subjected to hot pressing. The minimum interlayer insulating layer thickness of the obtained laminate was about 32 μm. A pattern to be an electrode of an outer layer was formed by etching on a portion corresponding to the position of an electrolytic corrosion test pattern to be an electrode of an inner layer of the laminated plate to obtain an electrolytic corrosion test piece. A voltage of 50 V DC was applied between the electrodes of the inner layer and the outer layer, and the insulation resistance was measured after a lapse of 1000 hours in an atmosphere of 85 ° C. and 85% RH.
Becomes less than 0 9 Omega, insulation reliability was confirmed that reduced.

【0041】比較例2 (絶縁材料の作製)実施例2におけるビーズミルでの粉
砕時間を5分間とした以外は、実施例2と同様の操作を
した。ここでの5分間の粉砕操作は、ウィスカーとワニ
スとを均一に混合するが、ウィスカーの粉砕効果は、殆
ど見られない程度に設定した時間である。作製した50
μmの接着フィルムを電気炉において、摂氏600度で
10分間焼成し、樹脂を焼却除去してウィスカーを取り
出した。この取り出したウィスカーのうち、走査型電子
顕微鏡で約10,000個のウィスカーを撮影し、長い
方から100個のウィスカーの長さを測定した。5分間
粉砕したウィスカーの最大長は、約50μmであった。
Comparative Example 2 (Preparation of insulating material) The same operation as in Example 2 was performed except that the pulverizing time in the bead mill in Example 2 was changed to 5 minutes. The crushing operation for 5 minutes here uniformly mixes the whisker and the varnish, but the whisker crushing effect is a time set to such an extent that it is hardly observed. 50 made
The μm adhesive film was baked in an electric furnace at 600 degrees Celsius for 10 minutes, the resin was incinerated and removed, and the whiskers were taken out. Of the whiskers taken out, about 10,000 whiskers were photographed with a scanning electron microscope, and the length of the 100 whiskers was measured from the longest. The maximum length of the whiskers milled for 5 minutes was about 50 μm.

【0042】(作製した絶縁材料の取扱性)作製した銅
箔付き絶縁材料は、カッターナイフ及びシャーにより、
樹脂の飛散等なくきれいに切断でき、絶縁材料同士のブ
ロッキングも発生せず、良好な取扱性であった。また、
PETフィルムに塗工して作製した絶縁材料は、PET
フィルムの剥離時や通常の取り扱い時に割れる等のトラ
ブルはなく、またカッターナイフ及びシャーにより、樹
脂の飛散等なくきれいに切断でき、絶縁材料同士のブロ
ッキングも発生せず、良好な取扱性であった。
(Handling property of the produced insulating material) The produced insulating material with a copper foil was treated with a cutter knife and a shear.
It could be cut cleanly without scattering of the resin, no blocking between insulating materials occurred, and the handling was good. Also,
The insulating material made by coating the PET film is PET
There was no trouble such as cracking during peeling of the film or during normal handling, and the film could be cut cleanly by a cutter knife and a shear without scattering of resin, and there was no blocking between insulating materials.

【0043】(絶縁信頼性)次に、全体の厚さ0.8m
mで、銅箔の長さ18μmのガラスエポキシ両面銅張積
層板に、電食試験の内層面の電極となるパターンをエッ
チングにより作製し、この上下に上記で作製した絶縁層
の厚さ50μmの銅箔付き絶縁材料を、絶縁材料が電食
試験の内層面の電極となるパターンと接するように重ね
合わせて積層し、熱圧成形した。得られた積層板の最小
層間絶縁層厚さは、およそ32μmであった。この積層
板の内層の電極となる電食試験パターンの位置に合わせ
た部分に、外層の電極となるパターンをエッチングで作
製し、電食試験片を得た。この内層と外層の電極間に直
流50Vの電圧を印加し、85℃、85%RHの雰囲気
下で1000時間経過後の絶縁抵抗値を測定した結果、
109Ω未満となり絶縁信頼性が低下していることを確
認した。
(Insulation Reliability) Next, the overall thickness is 0.8 m.
On a glass epoxy double-sided copper-clad laminate having a copper foil length of 18 μm, a pattern to be an electrode on the inner surface of the electrolytic corrosion test was prepared by etching, and the upper and lower insulating layers having a thickness of 50 μm were formed. The insulating material with a copper foil was laminated and laminated so that the insulating material was in contact with the pattern to be the electrode on the inner layer surface in the electrolytic corrosion test, and was hot-pressed. The minimum interlayer insulating layer thickness of the obtained laminate was about 32 μm. A pattern to be an electrode of an outer layer was formed by etching on a portion corresponding to the position of an electrolytic corrosion test pattern to be an electrode of an inner layer of the laminated plate to obtain an electrolytic corrosion test piece. As a result of applying a voltage of 50 V DC between the electrodes of the inner layer and the outer layer and measuring an insulation resistance value after a lapse of 1000 hours in an atmosphere of 85 ° C. and 85% RH,
It was less than 10 9 Ω, confirming that the insulation reliability was reduced.

【0044】[0044]

【発明の効果】本発明の配線板用絶縁材料は、極薄化が
可能でかつ取扱性が良好である。しかもこれを使用した
プリント配線板は、表面が平滑で回路加工性が良く、剛
性が高いため実装信頼性が高く、表面硬度が高いためワ
イヤボンド性が良く、熱膨張係数が小さいため寸法安定
性が良くなる。したがって、本発明のプリプレグは、多
層プリント配線板の薄型化、高密度化、高生産性化、高
信頼性化、高速度化、低コスト化に多大の貢献をする。
The insulating material for wiring boards of the present invention can be made extremely thin and has good handleability. Moreover, the printed wiring board using this has a smooth surface, good circuit workability, high rigidity, high mounting reliability, high surface hardness, good wire bondability, and small thermal expansion coefficient, dimensional stability. Will be better. Therefore, the prepreg of the present invention greatly contributes to thinning, high density, high productivity, high reliability, high speed, and low cost of a multilayer printed wiring board.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例を模式的示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view schematically showing one embodiment of the present invention.

【図2】本発明の原理を説明するための模式的断面図で
ある。
FIG. 2 is a schematic sectional view for explaining the principle of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1.短繊維形状の充填材 2.樹脂 3.外層回路 4.内層回路 5.内層基板 6.層間絶縁層の
厚さ
1. Short fiber filler 2. Resin 3. Outer layer circuit 4. Inner layer circuit 5. Inner layer substrate 6. Interlayer insulation layer thickness

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 和徳 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 小林 和仁 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 神代 恭 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 高橋 敦之 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 森田 高示 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 有家 茂晴 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 浦崎 直之 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 藤本 大輔 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 ──────────────────────────────────────────────────の Continuing on the front page (72) Inventor Kazunori Yamamoto 1500 Oji Ogawa, Shimodate City, Ibaraki Prefecture Inside the Shimodate Research Laboratory, Hitachi Chemical Co., Ltd. (72) Kazuhito Kobayashi 1500 1500 Oji Ogawa Shimodate City, Ibaraki Prefecture Hitachi Chemical Co., Ltd. Inside the Shimodate Research Laboratory (72) Inventor: Kyo Daishiro 1500, Oji Ogawa, Shimodate City, Ibaraki Pref.Hitachi Chemical Industry Co., Ltd. 72) Inventor: Takata Morita, 1500 Ogawa, Oji, Shimodate, Ibaraki Pref., Shimodate Research Laboratory, Hitachi Chemical Co., Ltd. (72) Inventor: Shigeharu Ariya 1500, Oji, Oji, Shimodate, Ibaraki Pref., Shimodate Research Laboratory, Hitachi Chemical (72) Inventor Naoyuki Urasaki 1500 Ogawa Oji, Shimodate-shi, Ibaraki Pref.Hitachi Chemical Industry Co., Ltd. (72) Inventor Daisuke Fujimoto 1500 Ogawa, Oji, Shimodate-shi, Ibaraki Pref.Hitachi Chemical Industry Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】短繊維形状の充填材と樹脂とからなる配線
板用絶縁材料であって、その短繊維形状の充填材の長さ
が、その配線板用絶縁材料を層間絶縁材料として配線板
を製造した時の配線板の層間絶縁層の厚さの1.1倍以
下であることを特徴とする配線板用絶縁材料。
An insulating material for a wiring board comprising a filler in the form of short fibers and a resin, wherein the length of the filler in the form of short fibers is determined by using the insulating material for a wiring board as an interlayer insulating material. Characterized in that the thickness is not more than 1.1 times the thickness of the interlayer insulating layer of the wiring board when manufactured.
【請求項2】短繊維形状の充填材が、電気絶縁性のウィ
スカーであり、その平均直径が0.3〜3.0μmの範
囲にあり、長さが3μm以上であることを特徴とする請
求項1に記載の配線板用絶縁材料。
2. The short fiber-shaped filler is an electrically insulating whisker having an average diameter in the range of 0.3 to 3.0 μm and a length of 3 μm or more. Item 2. The insulating material for a wiring board according to Item 1.
【請求項3】樹脂が、絶縁性の熱硬化性樹脂であること
を特徴とする請求項1または2に記載の配線板用絶縁材
料。
3. The insulating material for a wiring board according to claim 1, wherein the resin is an insulating thermosetting resin.
【請求項4】電気絶縁性のウイスカーが、セラミックウ
ィスカーであることを特徴とする請求項2または3に記
載の配線板用絶縁材料。
4. The insulating material for a wiring board according to claim 2, wherein the electrically insulating whisker is a ceramic whisker.
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