JPH10150058A - Device for manufacturing semiconductor device and its manufacture - Google Patents

Device for manufacturing semiconductor device and its manufacture

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JPH10150058A
JPH10150058A JP8308485A JP30848596A JPH10150058A JP H10150058 A JPH10150058 A JP H10150058A JP 8308485 A JP8308485 A JP 8308485A JP 30848596 A JP30848596 A JP 30848596A JP H10150058 A JPH10150058 A JP H10150058A
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package
semiconductor
solder material
semiconductor device
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    • B23K2101/40Semiconductor devices

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To join a semiconductor element to a package without deteriorating life characteristics of the semiconductor element. SOLUTION: When a package 1 is joined to a semiconductor element 2, under such a condition that low-melting-point solder material 3 is provided between the package and element, the element 2 is put in its temperature balanced state under actual operating temperature conditions. Under this condition, electrode pads 9 on pellets of the element 2 are compressed against electrode terminals 8 of a suction collet 5 electrically connected with an output side of a high-voltage pulse power supply 4, so that the pads are electrically connected with the terminals 8. Next, a high voltage pulse generated by the power supply 4 is applied to the pads 9 so that the solder material 3 melts, thereby realizing joint between the package 1 and element 2. Thereby the joint can be done under actual operating temperature conditions of the element 2, thermal stress to the element 2 can be suppressed, and life characteristics of the element can be improved.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置の製造装
置およびその製造方法に関し、特に半導体素子をパッケ
ージに接合する際に用いられる半導体装置の製造装置お
よびその製造方法に関する。
The present invention relates to an apparatus and a method for manufacturing a semiconductor device, and more particularly to an apparatus and a method for manufacturing a semiconductor device used for bonding a semiconductor element to a package.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の、半導体素子をパッケージに接合
する際に用いられる半導体装置の製造装置およびその製
造方法においては、図4に、その説明用としての、接合
時におけるパッケージ1、半導体素子2、低融点ソルダ
ー材3、側面メタライズ7およびヒーター10を含む断
面模式図の概要が示されるように、半導体素子2をパッ
ケージ1に対して載置し、低融点ソルダー材3、例えば
AuSn等の低融点ソルダー材を、ヒータ10により加
熱し、当該低融点ソルダー材3の融点(AuSnの場合
には、320°C)程度の一定温度条件下において一定
時間加熱した状態にて放置しておき、半導体素子2とパ
ッケージ1とを融解された低融点ソルダー材3により接
合する方法が一般的に良く知られている。
2. Description of the Related Art FIG. 4 shows a conventional semiconductor device manufacturing apparatus and a manufacturing method used for bonding a semiconductor element to a package. The semiconductor element 2 is mounted on the package 1 as shown in a schematic cross-sectional view including the low melting point solder material 3, the side metallization 7 and the heater 10, and the low melting point solder material 3, for example, AuSn or the like, is used. The melting point solder material is heated by the heater 10 and left for a certain time under a constant temperature condition of about the melting point (320 ° C. in the case of AuSn) of the low melting point solder material 3, and the semiconductor is left. A method of joining the element 2 and the package 1 with the melted low melting point solder material 3 is generally well known.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の、半導
体素子とパッケージを接合する半導体装置およびその製
造方法においては、図4における半導体素子2の実使用
温度、例えば1例としてFET等の場合には130程度
の温度となるが、このような実使用温度の半導体素子2
に対して、パッケージ1との接合点においては、低融点
ソルダー材3の融点320°C程度に加熱されたままの
状態で放置される。これにより、接合時における温度条
件と半導体素子2の実使用時の温度条件との差異、なら
びに関連する各部材における熱膨張係数の差異に起因し
て、半導体素子2に対しては、低融点ソルダー材3およ
びパッケージ1による応力が加えられる状態が現出し、
当該半導体素子2の寿命劣化の1要因になるという欠点
がある。
In the above-described conventional semiconductor device for bonding a semiconductor element and a package and a method of manufacturing the same, the actual use temperature of the semiconductor element 2 in FIG. Is about 130, but the semiconductor element 2 at such an actual operating temperature is
On the other hand, at the junction with the package 1, the low melting point solder material 3 is left to be heated to a melting point of about 320 ° C. As a result, due to the difference between the temperature condition at the time of bonding and the temperature condition at the time of actual use of the semiconductor element 2 and the difference of the thermal expansion coefficient of each related member, the low melting point solder is applied to the semiconductor element 2. A state in which stress is applied by the material 3 and the package 1 appears,
There is a drawback that it becomes one factor of the deterioration of the life of the semiconductor element 2.

【0004】本発明の目的は、半導体素子とパッケージ
の接合時において、当該半導体素子に加えられる応力に
よる影響を緩和して、半導体素子の寿命延伸を改善させ
ることのできる半導体装置の製造装置およびその製造方
法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor device manufacturing apparatus and a semiconductor device manufacturing method capable of reducing the influence of stress applied to a semiconductor element and improving the life of the semiconductor element when the package is joined to the semiconductor element. It is to provide a manufacturing method.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】第1の発明の半導体装置
の製造装置は、吸着コレットを備えて、パッケージと半
導体素子とを接合する際に使用される半導体装置の製造
装置において、前記吸着コレットが、前記パッケージと
半導体素子との接合時に、前記半導体素子の電極パッド
に圧着され、前記吸着コレットに対し接合用ソルダーの
融解用として入力される特定の高電圧パルスを、前記電
極パッドに伝達印加する特定の電極端子を備えることを
特徴としている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a semiconductor device, comprising a suction collet, wherein the semiconductor device is used for bonding a package and a semiconductor element. When the package and the semiconductor element are joined, a specific high-voltage pulse that is pressed against the electrode pad of the semiconductor element and input to the suction collet for melting the joining solder is transmitted to the electrode pad. It is characterized by having a specific electrode terminal.

【0006】また、第2の発明の半導体装置の製造方法
は、半導体素子の接合対象とするパッケージの上部に、
低融点ソルダー材を間に挿入した状態で当該半導体素子
を載置し、当該半導体素子の実使用温度条件下において
温度平衡状態に保持する第1のステップと、前記温度平
衡状態において、前記吸着コレットの前記半導体素子に
対する対応面を当該半導体素子に圧着させ、当該半導体
素子の電極パッドと、吸着コレットの電極端子とを電気
的に接続状態に設定する第2のステップと、ソルダー融
解用の高電圧パルスを、前記吸着コレットの電極端子お
よび半導体素子の電極パッドを介して印加し、半導体素
子の側面メタライズ/バイアホールを介して、パッケー
ジと半導体素子との間の低融点ソルダー材を電気的に加
熱溶融して、パッケージと半導体素子とを接合する第3
のステップと、を有することを特徴としている。
Further, according to a second aspect of the invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising the steps of:
A first step of mounting the semiconductor element with the low melting point solder material interposed therebetween and maintaining the semiconductor element in a temperature equilibrium state under actual operating temperature conditions of the semiconductor element; A second step of pressing a corresponding surface of the semiconductor element against the semiconductor element to set the electrode pad of the semiconductor element and the electrode terminal of the suction collet in an electrically connected state; A pulse is applied through the electrode terminal of the suction collet and the electrode pad of the semiconductor element, and the low melting point solder material between the package and the semiconductor element is electrically heated through the metallization / via hole of the semiconductor element. 3rd to fuse package and semiconductor element
And the following steps.

【0007】更に、第3の発明の半導体装置の製造方法
は、第1乃至第n(正整数)の半導体素子を含む複数の
半導体素子の接合対象とするパッケージの上部に、低融
点ソルダー材を間に挿入した状態で当該複数の半導体素
子を載置し、当該複数の半導体素子の実使用温度条件下
において温度平衡状態に保持する第1のステップと、前
記温度平衡状態において、前記吸着コレットの第1の半
導体素子に対する対応面を、当該第1の半導体素子に対
して圧着させ、当該半導体素子の電極パッドと、吸着コ
レットの電極端子とを、電気的に接続状態に設定する第
2のステップと、ソルダー融解用の高電圧パルスを、前
記吸着コレットの電極端子および半導体素子の電極パッ
ドを介して印加し、半導体素子の側面メタライズ/バイ
アホールを介して、パッケージと半導体素子との間の低
融点ソルダー材を電気的に加熱溶融して、パッケージと
半導体素子とを接合する第3のステップと、前記第3の
ステップに続いて、第2乃至第nの半導体素子を対象と
して、前記第1、第2および第3のステップを、各半導
体素子ごとに順次個別に行って前記パッケージに接合す
る手順を有することを特徴としている。
Further, in the method of manufacturing a semiconductor device according to the third invention, a low melting point solder material is provided on a package to be joined to a plurality of semiconductor elements including first to n-th (positive integer) semiconductor elements. A first step of placing the plurality of semiconductor elements in a state inserted between the plurality of semiconductor elements and maintaining the plurality of semiconductor elements in a temperature equilibrium state under actual use temperature conditions of the plurality of semiconductor elements; A second step of pressing a surface corresponding to the first semiconductor element against the first semiconductor element and setting an electrode pad of the semiconductor element and an electrode terminal of the suction collet in an electrically connected state; And applying a high voltage pulse for melting the solder through the electrode terminal of the adsorption collet and the electrode pad of the semiconductor element, and through the side metallization / via hole of the semiconductor element. A third step of electrically heating and melting the low melting point solder material between the package and the semiconductor element to join the package and the semiconductor element; and following the third step, a second to an n-th step The semiconductor device is characterized in that the first, second, and third steps are sequentially and individually performed for each semiconductor device, and the semiconductor device is bonded to the package.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】次に、本発明について図面を参照
して説明する。
Next, the present invention will be described with reference to the drawings.

【0009】図1は、本発明の第1の実施形態のパッケ
ージと半導体素子との接合時における構成の概要を、断
面様式の模式図により示した図であり、パッケージ1
と、半導体素子2と、当該半導体素子2に対応する低融
点ソルダー材3、バイアホール6、側面メタライズ7お
よび電極パッド9と、高電圧パルス電源4と、電極端子
8が設けられている吸着コレット5との関係が示されて
いる。以下においては、図1を参照して、本実施形態の
パッケージ1と半導体素子2との接合時における動作内
容および手順について説明する。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross section of the structure of the first embodiment of the present invention when the package and the semiconductor element are joined.
A semiconductor element 2, a low melting point solder material 3, a via hole 6, a side metallization 7, and an electrode pad 9 corresponding to the semiconductor element 2, an adsorption collet provided with a high voltage pulse power supply 4, and an electrode terminal 8 5 is shown. Hereinafter, with reference to FIG. 1, an operation content and a procedure when the package 1 and the semiconductor element 2 of the present embodiment are joined will be described.

【0010】図1において、半導体素子2は、低融点ソ
ルダー材3、例えば従来例の場合と同様にAuSn等の
低融点ソルダー材を間に挿入した状態で、パッケージ1
に載置される。この状態において、半導体素子2は、そ
の実使用温度条件において一定時間放置され、当該温度
条件において温度平衡状態に置かれる。半導体素子2に
は、バイアホール6または側面メタライズ7が形成され
ており(図1においては、バイアホール6および側面メ
タライズ7の双方が形成されている場合が示されてい
る)、ペレット表面の電極パッド9と、半導体素子2の
裏面とが電気的に接続されるように設定される。
Referring to FIG. 1, a semiconductor element 2 includes a package 1 with a low-melting-point solder material 3, for example, a low-melting-point solder material such as AuSn inserted in the same manner as in the conventional example.
Placed on In this state, the semiconductor element 2 is left for a certain time under the actual use temperature condition, and is in a temperature equilibrium state under the temperature condition. A via hole 6 or a side metallization 7 is formed in the semiconductor element 2 (FIG. 1 shows a case where both the via hole 6 and the side metallization 7 are formed), and an electrode on the surface of the pellet is formed. The pad 9 is set so as to be electrically connected to the back surface of the semiconductor element 2.

【0011】また一方において、高電圧パルス電源4の
パルス電圧出力側と電気的に接続されている吸着コレッ
ト5には、半導体素子2に対する対応面に、前記高電圧
パルス電源4のパルス電圧出力が電気的に接続されてい
る電極端子8が設けられており、当該吸着コレット5自
体も、同様に、半導体素子2の実使用温度に加熱された
温度条件において保持される。なお、この場合には、パ
ッケージ1は接地電位に保持される。
On the other hand, the suction collet 5 electrically connected to the pulse voltage output side of the high-voltage pulse power supply 4 has a pulse voltage output of the high-voltage pulse power supply 4 on a surface corresponding to the semiconductor element 2. An electrically connected electrode terminal 8 is provided, and the suction collet 5 itself is similarly maintained under the temperature condition heated to the actual use temperature of the semiconductor element 2. In this case, the package 1 is kept at the ground potential.

【0012】パッケージ1を半導体素子2に接合する手
順としては、先ず、吸着コレット5の半導体素子2に対
する対応面を当該半導体素子2に圧着させて、半導体素
子2の電極パッド9と、吸着コレット5の電極端子8と
は電気的に接続状態に設定される。次いで高電圧パルス
電源4を起動することにより、発生された高電圧パルス
(1例として、図2に示されるように、パルス電圧50
0V、電流20mA、パルス幅1.0μAの高電圧パル
ス電圧)は、吸着コレット5の電極端子8より半導体素
子2の電極パッド9に印加され、半導体素子2の側面メ
タライズ7またはバイアホール6等を介して、パッケー
ジ1と半導体素子2との間に挿入配置されている低融点
ソルダー材3に導通されて、当該低融点ソルダー材3は
電気的に加熱溶融される。これにより、当該低融点ソル
ダー材3の近傍領域のみが限定されて加熱温度上昇され
る状態において、パッケージ1と半導体素子2とは有効
に接合される。
The procedure for joining the package 1 to the semiconductor element 2 is as follows. First, the surface of the suction collet 5 corresponding to the semiconductor element 2 is pressed against the semiconductor element 2 so that the electrode pad 9 of the semiconductor element 2 and the suction collet 5 Is electrically connected to the electrode terminal 8. Then, the high-voltage pulse power supply 4 is activated to generate the generated high-voltage pulse (for example, as shown in FIG.
A voltage of 0 V, a current of 20 mA and a pulse width of 1.0 μA is applied to the electrode pad 9 of the semiconductor element 2 from the electrode terminal 8 of the suction collet 5, and the side metallization 7 or the via hole 6 of the semiconductor element 2 is applied. Through the low melting point solder material 3 inserted between the package 1 and the semiconductor element 2, the low melting point solder material 3 is electrically heated and melted. Thus, the package 1 and the semiconductor element 2 are effectively joined in a state where only the area near the low melting point solder material 3 is limited and the heating temperature is increased.

【0013】従って、本実施形態によるパッケージ1と
半導体素子2との接合方法によれば、パルス幅の極めて
短かい高電圧パルスにより低融点ソルダー材3を融解さ
せて接合を行うために、従来行われているように、低融
点ソルダー材3の融点温度条件下において、パッケージ
1と半導体素子2との接合を行うことの必要性はなくな
り、当該低融点ソルダー材3の近傍領域のみの加熱処理
により、両者の接合を有効に行うことが可能となって、
接合温度条件と半導体素子2の実使用温度条件との差異
による部材間の応力の発生が抑制され、半導体素子2の
寿命特性が改善される。また、高電圧パルスにより低融
点ソルダー材3を融解させて接合を行うために、接合さ
れるパッケージ1と半導体素子2とは、任意の温度条件
下において、温度平衡を保持されたままの状態において
接合が行われ、これにより、低融点ソルダー材3の融点
温度に制約されることなく、融点温度よりも低い温度条
件下において半導体素子2をパッケージ1に接合するこ
とも可能となる。
Therefore, according to the bonding method of the package 1 and the semiconductor element 2 according to the present embodiment, the bonding is performed by melting the low melting point solder material 3 by a high voltage pulse having a very short pulse width. As described above, it is no longer necessary to join the package 1 and the semiconductor element 2 under the melting point temperature condition of the low melting point solder material 3, and the heat treatment only in the area near the low melting point solder material 3 is performed. , It is possible to effectively join the two,
Generation of stress between members due to the difference between the bonding temperature condition and the actual use temperature condition of the semiconductor element 2 is suppressed, and the life characteristics of the semiconductor element 2 are improved. In addition, since the low melting point solder material 3 is melted by a high voltage pulse to perform the bonding, the package 1 and the semiconductor element 2 to be bonded are kept under an arbitrary temperature condition while maintaining the temperature equilibrium. Bonding is performed, whereby the semiconductor element 2 can be bonded to the package 1 under a temperature condition lower than the melting point temperature without being restricted by the melting point temperature of the low melting point solder material 3.

【0014】次に、本発明の第2の実施形態について説
明する。図3は、第1の実施形態の場合と同様に、本実
施形態のパッケージと半導体素子との接合時における構
成の概要を、断面様式の模式図により示した図であり、
パッケージ1と、複数の半導体素子2と、これらの個々
の半導体素子2に対応する低融点ソルダー材3、バイア
ホール6、側面メタライズ7および電極パッド9と、高
電圧パルス電源4と、電極端子8が設けられている吸着
コレット5との関係が示されている。本実施形態の第1
の実施形態と異なる点は、本実施形態においては、複数
個の半導体素子2が、吸着コレット5により、それぞれ
個別に、順次パッケージ1に接合されてゆく手順が用い
られていることであり、パッケージ1と個々の半導体素
子2との接合手順については、第1の実施形態の場合の
接合手順と全く同様である。本実施形態においては、複
数個の半導体素子2が、順次個別に接合されてゆく手順
が採用されているために、或る半導体素子2をパッケー
ジ1に接合する際には、熱的に、他の半導体素子2より
独立した状態において接合処理が行われており、これに
よって、既にパッケージ1に接合されている他の半導体
素子2に対して、接合処理に伴なう新たな熱的ストレス
が加えられるという事態は完全に回避され、円滑にパッ
ケージ1と複数個の半導体素子2との接合が行われる。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 is a diagram schematically illustrating a configuration of the package and the semiconductor element of the present embodiment at the time of bonding, as in the case of the first embodiment, in a schematic view in cross-section.
A package 1, a plurality of semiconductor elements 2, a low melting point solder material 3, via holes 6, side metallizations 7 and electrode pads 9 corresponding to these individual semiconductor elements 2, a high voltage pulse power supply 4, and an electrode terminal 8 The relationship with the suction collet 5 provided with is shown. First of this embodiment
This embodiment is different from the first embodiment in that a procedure is used in which a plurality of semiconductor elements 2 are individually and sequentially joined to a package 1 by a suction collet 5 in the present embodiment. The joining procedure between the semiconductor device 1 and the individual semiconductor elements 2 is exactly the same as the joining procedure in the first embodiment. In the present embodiment, since a procedure in which a plurality of semiconductor elements 2 are sequentially and individually bonded is adopted, when a certain semiconductor element 2 is bonded to the package 1, other semiconductor elements 2 are thermally connected to each other. The bonding process is performed in a state independent of the semiconductor device 2 of this example, whereby a new thermal stress accompanying the bonding process is applied to the other semiconductor devices 2 already bonded to the package 1. Is completely avoided, and the package 1 and the plurality of semiconductor elements 2 are smoothly joined.

【0015】云うまでもなく、本実施形態においても、
第1の実施形態の場合と同様に、接合温度条件と半導体
素子2の実使用温度条件との差異による部材間の応力の
発生が抑制され、半導体素子2の寿命特性を改善される
とともに、低融点ソルダー材3の融点温度に制約される
ことなく、当該融点温度よりも低い温度条件下において
半導体素子2をパッケージ1に接合することが可能とな
る。
Needless to say, in this embodiment,
As in the case of the first embodiment, the generation of stress between members due to the difference between the bonding temperature condition and the actual use temperature condition of the semiconductor element 2 is suppressed, the life characteristics of the semiconductor element 2 are improved, and The semiconductor element 2 can be joined to the package 1 under a temperature condition lower than the melting point temperature without being restricted by the melting point temperature of the melting point solder material 3.

【0016】[0016]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、パルス
幅の極めて短かい高電圧パルスにより低融点ソルダー材
を融解させて接合を行うことにより、低融点ソルダー材
の融点温度条件下にて接合を行うことが不要となり、低
融点ソルダー材の近傍領域のみの加熱処理により接合を
行うことが可能となって、接合温度条件と実使用温度条
件との差異による部材間の応力が抑制され、半導体素子
の寿命特性を改善することができるという効果がある。
As described above, according to the present invention, a low-melting-point solder material is melted and joined by a high-voltage pulse having a very short pulse width, whereby the low-melting-point solder material is melted under the melting temperature condition. Bonding becomes unnecessary, and bonding can be performed by heat treatment only in the vicinity of the low-melting-point solder material. Stress between members due to the difference between the bonding temperature condition and the actual use temperature condition is suppressed, There is an effect that the life characteristics of the semiconductor element can be improved.

【0017】また、高電圧パルスにより低融点ソルダー
材を融解することにより、接合するパッケージと半導体
素子は、低融点ソルダー材の融点温度に制約されること
なく、当該融点温度よりも低い温度条件下において接合
することができるという効果がある。
Further, by melting the low melting point solder material by the high voltage pulse, the package and the semiconductor element to be joined are not restricted by the melting point temperature of the low melting point solder material, but under a temperature condition lower than the melting point temperature. There is an effect that it can be joined in.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態における、半導体素
子、関連部材および関連機材等を示す断面様式の模式図
である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a semiconductor element, related members, related equipment, and the like according to a first embodiment of the present invention.

【図2】高電圧パルスの動作波形例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an operation waveform example of a high voltage pulse.

【図3】本発明の第2の実施形態における、半導体素
子、関連部材および関連機材等を示す断面様式の模式図
である。
FIG. 3 is a schematic diagram of a cross section showing a semiconductor element, related members, related equipment, and the like in a second embodiment of the present invention.

【図4】従来例における、半導体素子、関連部材および
関連機材等を示す断面様式の模式図である。
FIG. 4 is a schematic view of a cross section showing a semiconductor device, related members, related devices and the like in a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 パッケージ 2 半導体素子 3 低融点ソルダー材 4 高電圧パルス電源 5 吸着コレット 6 バイアホール 7 側面メタライズ 8 電極端子 9 電極パッド 10 ヒーター DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Package 2 Semiconductor element 3 Low melting point solder material 4 High voltage pulse power supply 5 Suction collet 6 Via hole 7 Side metallization 8 Electrode terminal 9 Electrode pad 10 Heater

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 吸着コレットを備えて、パッケージと半
導体素子とを接合する際に使用される半導体装置の製造
装置において、 前記吸着コレットが、前記パッケージと半導体素子との
接合時に、前記半導体素子の電極パッドに圧着され、前
記吸着コレットに対し接合用ソルダーの融解用として入
力される特定の高電圧パルスを、前記電極パッドに伝達
印加する特定の電極端子を備えることを特徴とする半導
体装置の製造装置。
1. An apparatus for manufacturing a semiconductor device comprising a suction collet and used when bonding a package and a semiconductor element, wherein the suction collet is used for bonding the semiconductor element when the package and the semiconductor element are bonded. A manufacturing method of a semiconductor device, comprising: a specific electrode terminal that is pressed against an electrode pad and transmits a specific high-voltage pulse input to the adsorption collet for melting a bonding solder to the electrode pad. apparatus.
【請求項2】 半導体素子の接合対象とするパッケージ
の上部に、低融点ソルダー材を間に挿入した状態で当該
半導体素子を載置し、当該半導体素子の実使用温度条件
下において温度平衡状態に保持する第1のステップと、 前記温度平衡状態において、前記吸着コレットの前記半
導体素子に対する対応面を当該半導体素子に圧着させ、
当該半導体素子の電極パッドと、吸着コレットの電極端
子とを電気的に接続状態に設定する第2のステップと、 ソルダー融解用の高電圧パルスを、前記吸着コレットの
電極端子および半導体素子の電極パッドを介して印加
し、半導体素子の側面メタライズ/バイアホールを介し
て、パッケージと半導体素子との間の低融点ソルダー材
を電気的に加熱溶融して、パッケージと半導体素子とを
接合する第3のステップと、 を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
2. The semiconductor device is mounted on a package to be joined to the semiconductor device with a low-melting-point solder material interposed therebetween, and the semiconductor device is brought into a temperature equilibrium state under actual operating temperature conditions of the semiconductor device. A first step of holding, and in the temperature equilibrium state, a surface of the suction collet corresponding to the semiconductor element is pressed against the semiconductor element;
A second step of electrically connecting the electrode pad of the semiconductor element and the electrode terminal of the suction collet; and applying a high voltage pulse for solder melting to the electrode terminal of the suction collet and the electrode pad of the semiconductor element. And electrically heating and melting the low melting point solder material between the package and the semiconductor element through the side metallization / via hole of the semiconductor element to join the package and the semiconductor element. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising:
【請求項3】 第1乃至第n(正整数)の半導体素子を
含む複数の半導体素子の接合対象とするパッケージの上
部に、低融点ソルダー材を間に挿入した状態で当該複数
の半導体素子を載置し、当該複数の半導体素子の実使用
温度条件下において温度平衡状態に保持する第1のステ
ップと、 前記温度平衡状態において、前記吸着コレットの第1の
半導体素子に対する対応面を、当該第1の半導体素子に
対して圧着させ、当該半導体素子の電極パッドと、吸着
コレットの電極端子とを、電気的に接続状態に設定する
第2のステップと、 ソルダー融解用の高電圧パルスを、前記吸着コレットの
電極端子および半導体素子の電極パッドを介して印加
し、半導体素子の側面メタライズ/バイアホールを介し
て、パッケージと半導体素子との間の低融点ソルダー材
を電気的に加熱溶融して、パッケージと半導体素子とを
接合する第3のステップと、 前記第3のステップに続いて、第2乃至第nの半導体素
子を対象として、前記第1、第2および第3のステップ
を、各半導体素子ごとに順次個別に行って前記パッケー
ジに接合する手順を有することを特徴とする半導体装置
の製造方法。
3. A plurality of semiconductor elements including a first to n-th (positive integer) semiconductor elements, the plurality of semiconductor elements being bonded to each other with a low melting point solder material inserted therebetween. A first step of mounting and maintaining a temperature equilibrium state under actual use temperature conditions of the plurality of semiconductor elements; and, in the temperature equilibrium state, a corresponding surface of the adsorption collet with respect to the first semiconductor element, A second step of crimping against one semiconductor element and setting an electrode pad of the semiconductor element and an electrode terminal of the suction collet to an electrically connected state; and applying a high-voltage pulse for melting the solder, It is applied through the electrode terminal of the suction collet and the electrode pad of the semiconductor element, and through the side metallization / via hole of the semiconductor element, the low melting point between the package and the semiconductor element. A third step of electrically heating and melting the solder material to join the package and the semiconductor element; and following the third step, the first, second, and n-th semiconductor elements are targeted. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising a step of performing the second and third steps sequentially and individually for each semiconductor element and joining the semiconductor element to the package.
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