JPH10144139A - ビアホール充填用導電性ペースト及びそれを用いたプリント配線板 - Google Patents
ビアホール充填用導電性ペースト及びそれを用いたプリント配線板Info
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Abstract
る導電性ペーストの導電性を高めながら低粘度化を図
る。この導電性ペーストをビアホールに充填することに
より、信頼性の高い導体層間の電気接続を有するプリン
ト配線板を提供する。 【解決手段】 導電性ペーストを構成する導体フィラの
全部又は一部として液体金属を含有している。好ましく
は、導電性ペーストが80〜95重量%の固体金属、
0.1〜20重量%の液体金属、残りの樹脂及び硬化剤
からなる。液体金属として、例えばGa−Sn、Ga−
In、Ga−Sn−In、Ga−Sn−Zn等の合金を
用いる。
Description
板や多層プリント配線板の導電層間の電気接続のために
ビアホールに充填される導電性ペーストと、それを用い
たプリント配線板に関する。
られるに伴って、電子機器を構成する電子部品及びプリ
ント配線板に対する軽薄短小化の要求が益々強くなって
きている。この要求に応えるために、高密度実装技術の
開発が重要視されている。実装技術の開発には、大きく
分けて実装部品からのアプローチと、プリント配線板及
び実装方式からのアプローチとががある。
半導体の端子ピッチをみると、現在では0.5mmから
0.3mmピッチまでの狭ピッチ化が進んでいる。また
チップ部品のサイズは現在では1005チップ(1.0
×0.5mm)が普通に使用されるに至っている。部品
サイズや端子ピッチをこれ以上小形化すると、実装方式
の観点からはかえって実装コストが高くなるという状況
にある。
プリント配線板および実装方式の開発が重要なポイント
である。現在、高密度実装用のプリント配線板として一
般的なものにガラスエポキシ基板がある。これは、ガラ
ス織布に耐熱性のエポキシ樹脂を含浸させたものを絶縁
層材料として用いたものである。このようなガラスエポ
キシ基板の導電層間の電気接続をドリリングと銅メッキ
によって行うスルーホール技術は長年の実績があり、確
立された技術である。
スルーホールは以下のような欠点を有し、さらなる高密
度化の要求に対して十分に応えることができない。つま
り、スルーホール(貫通穴)が配線スペースを減少させ
るので、配線長が長くなり高密度化が妨げられるととも
に、CAD(computer aided design)による自動配線が
困難になる。さらに、スルーホールが小径化するとドリ
リングによる孔明けが困難になり、加工コストの低減が
難しいといった問題もある。
ーホールと異なる方法として、導電性ペーストをビアホ
ールに充填することによって導体層間の電気接続をとる
方法が注目されている。この技術は、例えば特開平5−
175650号公報、特開平7−176846号公報等
に開示されている。この方法によれば、完全なインナー
ビアホール(IVH:interstitial Via Hole)によって内層
の導電層間の電気接続がとられた多層基板を製造するこ
とができる。
られる導電性ペーストは、通常、2000pa・s程度
以下の低粘度が要求される。低粘度化の方法として、従
来は、導体フィラ量を減らしたり、溶剤や反応性希釈剤
を添加する方法が用いられてきた。
ホールの小径化を図りながら、導電層間の電気接続の高
導電率(低電気抵抗)を実現するには、むしろ導体フィ
ラの含有率を上げて導電性ペーストの導電性を高める必
要があり、低粘度化との両立が困難になる。また溶剤や
反応性希釈剤を添加した場合は、加熱加圧時に揮発成分
のために基材に膨れが生じたり基材と導体層(配線銅
箔)との接着力が弱くなるといった問題がある。
を高めながら低粘度化を実現すること、そして、この導
電性ペーストを用いて導電層間の電気接続をとった信頼
性の高いプリント配線板を提供することを目的とする。
めの本発明による導電性ペーストは、導体フィラの全部
又は一部として液体金属を含有していることを特徴とす
る。これによって、導電性ペーストの粘度を上げること
なく導電性を上げることができる。
重量%の固体金属、0.1〜20重量%の液体金属、残
りの樹脂及び硬化剤からなる。樹脂及び硬化剤として、
例えば、従来から用いられている液状エポキシ樹脂と一
般的な硬化剤(アミン系、尿素系、酸無水物系、芳香族
アミン系等)を用いることができる。これによって、容
易に硬化でき、高い信頼性を得ながら、液体金属の使用
によって粘度を上げることなく導電性を上げることがで
きる。
り、印刷等の条件に合わせて導電性ペーストの粘性挙動
を制御することができる。液体金属として、Ga−Sn
からなる合金、Ga−Inからなる合金、Ga−Sn−
Inからなる合金、又はGa−Sn−Znからなる合金
を用いることが好ましい。
リント配線板のビアホールに充填して導電層間の電気接
続をとることにより、信頼性の高い高密度実装に適した
プリント配線板を得ることができる。
発明を詳しく説明する。本発明による導電性ペースト
は、例えば以下のようにして作られる。まず、固体の導
体フィラとしての銅、及び樹脂成分としてのエポキシ樹
脂にチクソ性を付与するための分散剤として0.3μm
程度の粒径のSiO2 を加えて三本ロールミルで混練す
る。次にこのペーストに硬化剤としてのアミン系の硬化
剤と、液体金属としてGa−Sn、Ga−In、Ga−
Sn−In、又はGa−Sn−Znを加えてシンプソン
ミルで混練し、揮発性の溶剤を加えない導電性ペースト
を作る。
2:8)、Ga−In(75.5:24.5)、Ga−
In−Sn(62:25:13)、Ga−In−Zn
(67:29:4)では融点が常温以下となる。融点以
上の温度では液体金属の粘度は高々数mpa・sであ
り、液体金属を0.1〜20重量%含有させることによ
って容易にペーストの粘度を下げることができ、かつ導
電性も向上する。実験によると、液体金属の含有量が
0.1重量%以下では粘度を下げる効果がほとんど得ら
れず、逆に20重量%以上になると経時的な粘度変化の
ために、ビアホール充填用導電性ペーストとして使用で
きる時間が限られてしまう。つまり、時間の経過に伴っ
て液体金属と固体金属成分との合金化が生じ、これによ
って粘度が高くなってしまう。
て、液体金属の含有率1.0重量%と2.0重量%との
二種類、さらに液体金属の含有率が2.0重量%のもの
については分散剤を添加した場合としなかった場合との
二通りについて、合計12通りの組み合わせの導電性ペ
ーストを作製した。これらの組成及び粘度を表1に導電
性ペースト番号5から16として示す。また、表1にお
いて、導電性ペースト番号1から4は、液体金属を含ま
ない導電性ペーストで固体金属、樹脂及び硬化剤の含有
率を変えた比較例である。
中の導体フィラ(固体金属)の含有量を増やしても、液
体金属を添加することにより導電性ペーストの粘度を低
く抑えることができる。
織布を用いたプリプレグに孔径200μmのビアホール
をあけた基材を用意し、このビアホールに表1の各ペー
ストを充填し、加熱加圧したプリント配線板を作製し
た。各ペースト(番号1〜16)について得られたプリ
ント配線板のビアホール抵抗値と、はんだリフロー(2
60℃、10秒)に3回通したときの抵抗値変化率、及
びオイルディップ(20℃〜240℃)を200サイク
ル行った場合の抵抗値変化率を表2に示す。
16)に示すように、ビアホールによる電気接続の抵抗
値が低く、抵抗値変化が少ない高信頼性のプリント配線
板が得られた。
導電性ペーストの導電性を高めるとともに低粘度化を図
ることができ、この導電性ペーストを導体層間を接続す
るためのビアホールに充填することにより、導体層間の
電気接続の信頼性が高いプリント配線板を提供すること
ができる。
Claims (8)
- 【請求項1】 プリント配線板の導電層間の電気接続の
ためにビアホールに充填される導電性ペーストであっ
て、導体フィラの全部又は一部として液体金属を含有し
ていることを特徴とする導電性ペースト。 - 【請求項2】 80〜95重量%の固体金属、0.1〜
20重量%の液体金属、残りの樹脂及び硬化剤からなる
請求項1記載の導電性ペースト。 - 【請求項3】 さらに分散剤が添加されている請求項1
又は2記載の導電性ペースト。 - 【請求項4】 前記液体金属がGa−Snからなる合金
である請求項1、2又は3記載の導電性ペースト。 - 【請求項5】 前記液体金属がGa−Inからなる合金
である請求項1、2又は3記載の導電性ペースト。 - 【請求項6】 前記液体金属がGa−Sn−Inからな
る合金である請求項1、2又は3記載の導電性ペース
ト。 - 【請求項7】 前記液体金属がGa−Sn−Znからな
る合金である請求項1、2又は3記載の導電性ペース
ト。 - 【請求項8】 請求項1から7のいずれか1項記載の導
電性ペーストをビアホールに充填することによって導電
層間の電気接続がとられているプリント配線板。
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- 1996-11-12 JP JP30036296A patent/JP3592006B2/ja not_active Expired - Fee Related
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