JPH10142402A - Antireflection film and display device arranged therewith - Google Patents
Antireflection film and display device arranged therewithInfo
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- JPH10142402A JPH10142402A JP8294240A JP29424096A JPH10142402A JP H10142402 A JPH10142402 A JP H10142402A JP 8294240 A JP8294240 A JP 8294240A JP 29424096 A JP29424096 A JP 29424096A JP H10142402 A JPH10142402 A JP H10142402A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、量産性、対汚染性
に優れ、同時に、高い膜強度を実現する反射防止膜およ
びそれを配置した表示装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an anti-reflection film which is excellent in mass productivity and anti-contamination properties, and at the same time, realizes high film strength, and a display device having the anti-reflection film.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、液晶表示装置の普及、大型化や野
外使用化に伴い、その使用条件下でのタフネス化、例え
ば、反射光耐性(視認性確保)、防汚性や耐熱性の向上
が求められている。表示装置の視認性向上は該装置の主
機能に関わる課題であり、当然その重要性も高く、活発
に視認性向上のための施策が検討されている。一般に視
認性を低下させるのは外光の表面反射による景色の写り
込みであり、これらに対する対処として最表面に反射防
止膜を設ける方法が一般的に行われる。しかしながら、
この反射防止膜はその機能発現のために最表面に設けら
れるため、必然的に反射防止膜の性能に対してタフネス
化の観点から多くの高品質化の課題が集中してくる。例
えば、極限までの反射率低下(反射率1%以下)、指紋
や油脂等の付着防止や易除去性、炎天下や自動車室内の
ような高温環境下での諸性能の維持などである。2. Description of the Related Art In recent years, with the spread of liquid crystal display devices, enlargement and outdoor use, toughness under use conditions, for example, improvement in resistance to reflected light (ensure visibility), antifouling property and heat resistance. Is required. Improving the visibility of a display device is an issue related to the main function of the device, and naturally has high importance, and measures for improving the visibility are being actively studied. Generally, visibility is reduced by the reflection of scenery due to surface reflection of external light, and as a countermeasure against this, a method of providing an antireflection film on the outermost surface is generally performed. However,
Since this antireflection film is provided on the outermost surface in order to exhibit its function, many issues of high quality are inevitably concentrated on the performance of the antireflection film from the viewpoint of toughness. For example, reduction of reflectance to the limit (reflectance of 1% or less), prevention of adhesion of fingerprints and fats and oils, easy removal, and maintenance of various performances in a high temperature environment such as under the sun or in a car interior.
【0003】従来、可視光の波長域を全てカバーできる
性能を有する広波長域/低反射率の反射防止膜として
は、金属酸化物等の透明薄膜を積層させた多層膜が用い
られてきた。単層膜では単色光に対しては有効であるも
ののある程度の波長域を有する光に対しては有効に反射
防止できないのに対し、このような多層膜においては、
積層数が多いほどに広い波長領域で有効な反射防止膜と
なるためである。しかしながら、物理蒸着法等の手段に
よって金属酸化物等を3層以上積層して形成するこのよ
うな反射防止膜は、予め最適に設計された各層の屈折率
と膜厚との関係に従い、その膜厚を高精度に制御した物
理蒸着を何回も行う必要があり、非常に高コストなもの
であり、かつ、広い面積の膜を得ることの非常に困難な
大量製造適性に乏しいものであった。また、これらの多
層蒸着型の反射防止膜では、表面の耐傷性あるいは指紋
付着性等の対汚染性に乏しく、この改善のためには例え
ば新たに含フッ素樹脂からなる層を塗設するなどの反射
防止を犠牲にしかねない加工が必須であった。Conventionally, as an antireflection film having a wide wavelength range and a low reflectance having a performance capable of covering the entire wavelength range of visible light, a multilayer film formed by laminating a transparent thin film such as a metal oxide has been used. While a single-layer film is effective for monochromatic light, it cannot be effectively prevented from reflecting light having a certain wavelength range.
This is because the larger the number of layers, the more effective the antireflection film in a wide wavelength range. However, such an anti-reflection film formed by laminating three or more layers of metal oxides or the like by means of physical vapor deposition or the like is formed in accordance with the relationship between the refractive index and the film thickness of each layer which is optimally designed in advance. It was necessary to perform physical vapor deposition with the thickness controlled with high precision many times, it was very expensive, and it was not suitable for mass production, which was very difficult to obtain a large area film. . In addition, these multilayer deposition type antireflection films have poor anti-staining properties such as scratch resistance or fingerprint adhesion on the surface, and for this improvement, for example, a new layer made of a fluorine-containing resin is applied. Processing that could sacrifice antireflection was essential.
【0004】一方、上述のような多層膜による方法の他
に、空気との界面において屈折率が徐々に変化する様な
膜によって有効な反射防止効果を得る方法が従来知られ
ている。例えば、特開平2−245702号公報には、
ガラス基板とMgF2 の中間の屈折率を持つSiO2 超
微粒子とMgF2 超微粒子を混合してガラス基板に塗布
し、ガラス基板面から塗布膜面に向かって徐々にSiO
2 の混合比を減少させてMgF2 の混合比を増加させる
事により、塗布面とガラス基板との界面における屈折率
変化が緩やかとなり、反射防止効果が得られる事が記載
されている。さらに、特開平5−13021号公報に
は、MgF2 、SiO2 等の低屈折率を有する超微粒子
を用いた反射防止膜において、この超微粒子が基板上に
規則正しく配列されたときに最も小さな反射率が得られ
ることが記載されている。On the other hand, in addition to the above-described method using a multilayer film, a method for obtaining an effective anti-reflection effect by a film whose refractive index gradually changes at the interface with air is conventionally known. For example, JP-A-2-245702 discloses that
The SiO 2 ultrafine particles and MgF 2 ultrafine particles having an intermediate refractive index of the glass substrate and the MgF 2 were mixed and applied to a glass substrate, gradually SiO toward the coating film surface from the glass substrate surface
It is described that when the mixing ratio of MgF 2 is increased by decreasing the mixing ratio of 2 , the change in the refractive index at the interface between the coating surface and the glass substrate becomes gentle, and an antireflection effect is obtained. Further, JP-A-5-13021 discloses an antireflection film using ultrafine particles having a low refractive index, such as MgF 2 or SiO 2, which has the smallest reflection when the ultrafine particles are regularly arranged on a substrate. It is stated that a rate is obtained.
【0005】上述の各方法では確かに低反射率の表面層
を設けることは可能であるが、前記特開平2−2457
02号公報に記載の反射防止膜は、混合比の異なる塗布
膜を積み重ねて得られるため、膜の形成の煩雑さと屈折
率のコントロールの困難さが問題であり、また、前記特
開平5−13021号公報の反射防止膜においては、最
表層の超微粒子がバインダで覆われているために屈折率
を緩やかに変化させる事が困難な事、焼き付け温度が高
温であるために用いられる基材が限定される、充分な反
射防止効果が得られない等の問題点を有していた。In each of the above-mentioned methods, it is possible to provide a surface layer having a low reflectance.
Since the antireflection film described in JP-A No. 02-302, can be obtained by stacking coating films having different mixing ratios, there is a problem that the film is complicated and difficult to control the refractive index. In the anti-reflection coating of JP-A No. 1993, it is difficult to change the refractive index slowly because the ultrafine particles of the outermost layer are covered with a binder, and the substrate used is limited because the baking temperature is high. And a sufficient anti-reflection effect cannot be obtained.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、広範
な波長領域において一様に低い反射率(反射率1%以
下)を示し、同時に膜強度、耐久性、対汚れ付着性、耐
熱性に優れた反射防止膜を低コストで、また、大量かつ
大面積製造の適性のある方法で提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to exhibit a uniformly low reflectance (reflectance of 1% or less) over a wide wavelength range, and at the same time, to obtain film strength, durability, adhesion to dirt, and heat resistance. An object of the present invention is to provide an antireflection film excellent in low cost at low cost and in a method suitable for large-scale and large-area production.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上述の課題は下記の反射
防止膜によって解決される。 (1)平均粒径が200nm以下の重合体微粒子を含む
層を有し、該微粒子の少なくとも1種の中空形状または
空隙構造を有する含フッ素重合体であることを特徴とす
る低屈折率層を有する反射防止膜。 (2)該微粒子の少なくとも一種が架橋性基を含有する
重合体から成ることを特徴とする上記(1)に記載の反
射防止膜。 (3)該微粒子の少なくとも一種がコア―シェル構造を
有することを特徴とする上記(1)または(2)に記載
の反射防止膜。 (4)形成された低屈折層が少なくとも0.3重量分率
以上のフッ素原子を含むことを特徴とする上記(1)に
記載の反射防止膜。 (5)該低屈折率層がそれよりも高い屈折率を有する層
の上に形成されたことを特徴とする上記(1)に記載の
反射防止膜。 (6)表面がアンチグレア処理されていることを特徴と
する上記(1)に記載の反射防止膜。 (7)上記(1)の反射防止膜を配置した表示装置。The above-mentioned problems are solved by the following antireflection film. (1) A low-refractive-index layer comprising a layer containing polymer fine particles having an average particle diameter of 200 nm or less, and being a fluoropolymer having at least one kind of hollow or void structure of the fine particles. Anti-reflection film. (2) The antireflection film according to the above (1), wherein at least one of the fine particles is made of a polymer containing a crosslinkable group. (3) The antireflection film according to the above (1) or (2), wherein at least one of the fine particles has a core-shell structure. (4) The antireflection film according to the above (1), wherein the formed low refractive layer contains at least 0.3% by weight or more of fluorine atoms. (5) The antireflection film according to (1), wherein the low refractive index layer is formed on a layer having a higher refractive index. (6) The antireflection film according to the above (1), wherein the surface is subjected to an anti-glare treatment. (7) A display device in which the antireflection film of (1) is arranged.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】本発明の反射防止膜によって得ら
れる優れた反射防止膜について以下に説明する。以下の
説明では本発明の「中空形状あるいは空隙構造を有する
微粒子」を「ボイド微粒子」、この「ボイド微粒子内の
空隙」を「粒子内ボイド」、このボイド粒子を製膜して
得られる反射防止膜中の空隙を「ミクロボイド」と称す
る。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The excellent antireflection film obtained by the antireflection film of the present invention will be described below. In the following description, the “fine particles having a hollow shape or void structure” of the present invention are referred to as “void fine particles”, the “voids in the void fine particles” are referred to as “voids in particles”, and the antireflection obtained by forming the void particles into a film. The voids in the film are called "microvoids".
【0009】一般に反射防止機能を選るには基材の最表
面に可能な限り屈折率の低い超薄層を設ける方法が知ら
れている。本発明ではこの最表面層(低屈折率層)にボ
イド微粒子を用いることが特徴である。図1に、ボイド
微粒子からなる反射防止膜を示す。図中で、1は粒子内
ボイドがもたらした空気が膜を形成する粒子形成ポリマ
ーやバインダー成分と混在している層(ミクロボイド含
有層)であり、3は基材である。ミクロボイドは1の層
中に均一に分散して存在する。また、このミクロボイド
層は、反射防止を行うべき透明基材の最表面に設けられ
る。In general, in order to select an anti-reflection function, a method of providing an ultra-thin layer having a refractive index as low as possible on the outermost surface of a substrate is known. The present invention is characterized in that void fine particles are used for the outermost layer (low refractive index layer). FIG. 1 shows an antireflection film made of void fine particles. In the figure, reference numeral 1 denotes a layer (microvoid-containing layer) in which air generated by intraparticle voids is mixed with a particle-forming polymer and a binder component forming a film, and 3 denotes a substrate. The microvoids are uniformly dispersed in one layer. The microvoid layer is provided on the outermost surface of the transparent substrate on which antireflection is to be performed.
【0010】このような低屈折率を有する微粒子層は、
図1に示す単層膜だけでなく、多層膜の最上層として用
いる事もできる。図2に、基材フィルム上に基材の屈折
率よりも高い屈折率を有する層2を設け、さらにその上
に本発明の粒子内ボイドを有する含フッ素重合体微粒子
を含む層を設けた反射防止膜を示す。このように多層化
する事によってより広い波長領域において有効な反射防
止膜を得る事は、従来の技術と同様な原理に基づくもの
である。例えば、特開昭59−50401号公報に示さ
れているように、2層膜では、基材と接する第一層の膜
の屈折率n1 と膜厚d1 および第一層と接する第2層の
屈折率n2 と膜厚d2 が以下の関係を満たすようにする
事によって、反射防止膜としての作用が最適化される。
このような多層膜による反射防止条件については古くか
ら公知である。 第1層 mλ/4×0.7<n1 d1 <mλ/4×1.
3 第2層 nλ/4×0.7<n2 d2 <nλ/4×1.
3 ただし、mは正整数、nは奇の正整数である。The fine particle layer having such a low refractive index is
Not only the single-layer film shown in FIG. 1 but also the uppermost layer of the multilayer film can be used. FIG. 2 shows a reflection in which a layer 2 having a higher refractive index than the refractive index of the substrate is provided on the substrate film, and a layer containing the fluoropolymer fine particles having voids in the particles of the present invention is further provided thereon. 3 shows a protective film. Obtaining an effective antireflection film in a wider wavelength range by forming a multilayer in this way is based on the same principle as that of the prior art. For example, as disclosed in JP-A-59-50401, in a two-layer film, the refractive index n 1 and the film thickness d 1 of the first layer in contact with the substrate and the second layer in contact with the first layer By setting the refractive index n 2 of the layer and the thickness d 2 to satisfy the following relationship, the function as an antireflection film is optimized.
The antireflection conditions for such a multilayer film have been known for a long time. First layer mλ / 4 × 0.7 <n 1 d 1 <mλ / 4 × 1.
3 Second layer nλ / 4 × 0.7 <n 2 d 2 <nλ / 4 × 1.
3 where m is a positive integer and n is an odd positive integer.
【0011】本発明においては、このボイド微粒子によ
り持ち込まれ、膜内に保持されるミクロボイドが均一で
あること、およびミクロボイドが光を散乱しない大きさ
であることに特徴がある。言い換えれば、該低屈折率層
は微視的にはミクロボイド含有多孔質膜であるが、光学
的あるいは巨視的には均一な膜とみなすことができる。
このため、ミクロボイド含有膜の巨視的屈折率は、重合
体をミクロボイド微粒子にすることによって持ち込まれ
る空気の体積分率に相当する分だけ低くなる。すなわ
ち、この膜の屈折率は膜を形成しているバインダー成分
の屈折率(1より大きな値を有する)と持ち込まれた空
気の屈折率(1.00である)の体積平均で表されるこ
とになり、用いられたバインダー成分の屈折率より低い
値を示す結果となる。The present invention is characterized in that the microvoids carried by the void microparticles and held in the film are uniform, and that the microvoids have a size that does not scatter light. In other words, the low refractive index layer is microscopically a microvoid-containing porous film, but can be regarded as an optically or macroscopically uniform film.
For this reason, the macroscopic refractive index of the microvoided film becomes lower by an amount corresponding to the volume fraction of air introduced by converting the polymer into microvoided fine particles. That is, the refractive index of this film is represented by the volume average of the refractive index of the binder component forming the film (having a value larger than 1) and the refractive index of the introduced air (which is 1.00). , Resulting in a value lower than the refractive index of the binder component used.
【0012】本発明に用いられる微粒子の粒径は200
nm以下のものである。粒子径が増大すると前方散乱が
増加し、200nmを越えると散乱光に色付きが生じる
ため好ましくない。さらに、好ましくは、光学性能的観
点と膜質的観点から70nm以下のものであり、特に好
ましいのは50nm以下である。このような微粒子はポ
リマーラテックスとして製造、入手が可能である。The particle size of the fine particles used in the present invention is 200
nm or less. If the particle diameter increases, forward scattering increases, and if it exceeds 200 nm, the scattered light is undesirably colored. Further, the thickness is preferably 70 nm or less from the viewpoint of optical performance and film quality, and particularly preferably 50 nm or less. Such fine particles can be manufactured and obtained as a polymer latex.
【0013】本発明のボイド微粒子を形成する含フッ素
重合体のモノマー単位はモノマーがフッ素原子を含有し
ているものであれば特に制限はない。これらのモノマー
の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例え
ばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラ
フルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフ
ルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソールな
ど)、下記一般式で表されるアクリル、メタクリル酸の
部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類、完
全または部分フッ素化ビニルエーテル類などであり、こ
れらの任意のモノマーを任意の比率で組み合わせて共重
合により目的のポリマーを得ることができる。The monomer unit of the fluoropolymer forming the void fine particles of the present invention is not particularly limited as long as the monomer contains a fluorine atom. Specific examples of these monomers include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc.), and the following general formula: Acrylic, partially or fully fluorinated alkyl ester derivatives of methacrylic acid, fully or partially fluorinated vinyl ethers, and the like, and the desired polymer is obtained by copolymerizing any of these monomers in any ratio. be able to.
【0014】[0014]
【化1】 Embedded image
【0015】本発明のボイド微粒子を形成するポリマー
には上記の含フッ素モノマーの他にフッ素原子を含有し
ないモノマーを併用しても良い。併用可能なモノマー単
位には特に限定はなく、例えば、オレフィン類(エチレ
ン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デンなど)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル
など)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレ
ングリコールジメタクリレートなど)、スチレン誘導体
(スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−
メチルスチレンなど)、ビニリエーテル類(メチルビニ
ルエーテルなど)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プ
ロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニルなど)、アクリルアミ
ド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロ
ヘキシルアクリルアミドなど)、メタクリルアミド類、
アクリロニトリル誘導体などを挙げることができる。In the polymer forming the void fine particles of the present invention, a monomer containing no fluorine atom may be used in addition to the above-mentioned fluorine-containing monomer. There is no particular limitation on the monomer units that can be used in combination, and for example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylates (methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, etc.) ), Methacrylates (eg, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyltoluene, α-
Methyl styrene), vinylyl ethers (methyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), acrylamides (N-tert-butyl acrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, etc.), methacrylamides,
Acrylonitrile derivatives and the like can be mentioned.
【0016】上記に記載した含フッ素モノマーを用いた
場合に得られる重合体の屈折率は用いた全モノマー中の
フッ素原子の含有量の増加に伴い低下する。本発明の目
的の反射防止膜の屈折率を充分に低くするためには、ポ
リマーが35重量%ないし80重量%のフッ素原子を含
むことが好ましく、特に好ましくは45重量%ないし7
5重量%である。When the above-mentioned fluorine-containing monomer is used, the refractive index of the polymer obtained decreases as the content of fluorine atoms in all the monomers used increases. In order to sufficiently lower the refractive index of the antireflection film for the purpose of the present invention, the polymer preferably contains 35% by weight to 80% by weight of fluorine atoms, particularly preferably 45% by weight to 7% by weight.
5% by weight.
【0017】本発明に用いられる粒子内空隙または中空
構造を有する粒子においてその空隙の量は特に制限はな
いが、粒子の形状保持の観点と膜内への有効な空隙導入
の観点から3体積%以上、50体積%以下であり、特に
好ましいのは5体積%以上35体積%以下のものであ
る。これらの粒子は通常の乳化重合によって容易に合成
可能である。中空形状の粒子は特開平1−185311
号、特開平6−248012号、特開平8−20604
号に記載の方法およびこれらに同等の方法で得られる。
また、粒子内空隙を有する粒子は一般に多孔質イオン交
換樹脂の製造工程で実施される様に分子内に2つ以上の
重合性不飽和基を有するモノマーを全量の15ないし5
0重量%程度用いて乳化重合して容易に合成可能であ
る。The amount of the voids in the particles or hollow particles having a hollow structure used in the present invention is not particularly limited. However, from the viewpoint of maintaining the shape of the particles and introducing effective voids into the film, 3% by volume is preferred. As described above, the content is 50% by volume or less, and particularly preferably 5% by volume or more and 35% by volume or less. These particles can be easily synthesized by ordinary emulsion polymerization. The hollow particles are described in JP-A-1-1853111.
JP-A-6-248012, JP-A-8-20604
And methods equivalent thereto.
Further, the particles having voids in the particles generally contain a monomer having two or more polymerizable unsaturated groups in the molecule in an amount of 15 to 5 as in the production process of the porous ion exchange resin.
It can be easily synthesized by emulsion polymerization using about 0% by weight.
【0018】層としての屈折率は前述のようにミクロボ
イドの含有量の増加に伴い低下する。このため、本発明
の反射防止膜が充分な低屈折率を有するには、含フッ素
重合体微粒子からなる層が含有するミクロボイドの量は
3体積%ないし50体積%が好ましく、特に好ましいの
は5体積%ないし35体積%である。As described above, the refractive index of the layer decreases as the content of microvoids increases. For this reason, in order for the antireflection film of the present invention to have a sufficiently low refractive index, the amount of microvoids contained in the layer made of the fluoropolymer fine particles is preferably 3% by volume to 50% by volume, and particularly preferably 5% by volume. % By volume to 35% by volume.
【0019】本発明における反射防止膜の重合体粒子に
は結晶性、非晶性のいずれのものも用いる事ができる。
また、本発明に用いる重合体粒子のガラス転移点(T
g)は特に制限が無く製膜時のボイド保持の観点から、
Tgが製膜温度以上であることが好ましい。しかしなが
ら、Tgが製膜温度より高いと粒子の融着が妨げられ連
続膜が形成されず、膜強度が悪化する懸念があるため後
述の併用バインダーの使用の実態に応じて融着効果とボ
イド保持効果をTgで最適な領域に調製したものを用い
ることが望ましい。The polymer particles of the antireflection film in the present invention can be either crystalline or amorphous.
In addition, the glass transition point (T
g) is not particularly limited, and from the viewpoint of maintaining voids during film formation,
It is preferable that Tg is equal to or higher than the film forming temperature. However, if the Tg is higher than the film forming temperature, the fusion of the particles is hindered, a continuous film is not formed, and there is a concern that the film strength is deteriorated. It is desirable to use a material whose effect is adjusted to an optimum region by Tg.
【0020】本発明に用いられるミクロボイド微粒子は
一つの反射防止膜内に任意の2種以上の粒子を任意の割
合で混合して用いても良い。また、本発明のミクロボイ
ド微粒子と本発明外の空隙または中空構造を有していな
い微粒子を併用しても良い。この場合、併用する本発明
外のポリマー微粒子に特に制限はないが通常の乳化重合
で得られる粒子でも良いし、別途に調製した有機溶媒系
の溶液重合により得られる水不溶性ポリマーの乳化物で
も、水溶性ポリマーであっても良い(以下バインダーと
称す)。本発明のミクロボイド微粒子と併用するバイン
ダーの混合比率は特に制限はないが、膜質強化の観点と
膜内への有効な空隙導入の観点から本発明の微粒子が3
0重量%ないし90重量%が好ましく、50重量%ない
し80重量%が特に好ましい。The microvoided fine particles used in the present invention may be used by mixing arbitrary two or more kinds of particles in an arbitrary ratio in one antireflection film. Further, the microvoided fine particles of the present invention may be used in combination with fine particles having no void or hollow structure outside the present invention. In this case, the polymer fine particles outside the present invention to be used in combination are not particularly limited, but may be particles obtained by ordinary emulsion polymerization, or may be an emulsion of a water-insoluble polymer obtained by separately prepared organic solvent-based solution polymerization, It may be a water-soluble polymer (hereinafter referred to as a binder). The mixing ratio of the binder used in combination with the microvoided fine particles of the present invention is not particularly limited, but from the viewpoint of enhancing the film quality and introducing effective voids into the film, the mixing ratio of the fine particles of the present invention is 3%.
0% to 90% by weight is preferred, and 50% to 80% by weight is particularly preferred.
【0021】また、併用されるバインダーのTgは本発
明の微粒子を形成するポリマー成分のTgよりも低いこ
とが好ましい。これにより、併用するバインダーが製膜
時に変形し本発明の微粒子間の結着剤の役目を果たし、
充分な膜強度が期待できる。ただし、併用するバインダ
ーのTgが本発明の微粒子を形成するポリマー成分のT
gに極めて近いと本発明の微粒子が変形してミクロボイ
ドが減少してしまうため、併用するバインダーのTgは
本発明の粒子に比べて5# C 以上低いことが好ましく、
Tgの幅や製膜温度のゆらぎを考慮して20# C 以上低
いことが特に好ましい。The Tg of the binder used in combination is preferably lower than the Tg of the polymer component forming the fine particles of the present invention. Thereby, the binder used together is deformed at the time of film formation and serves as a binder between the fine particles of the present invention,
Sufficient film strength can be expected. However, the Tg of the binder used in combination is the Tg of the polymer component forming the fine particles of the present invention.
When the particle size is very close to g, the fine particles of the present invention are deformed and microvoids are reduced. Therefore, the Tg of the binder used in combination is preferably 5 # C or more lower than the particles of the present invention,
Considering the width of Tg and the fluctuation of the film forming temperature, it is particularly preferable that the temperature is lower by 20 # C or more.
【0022】また、上記の併用バインダーが光や電子線
の様な放射線エネルギーあるいは加熱や電磁波の様な熱
エネルギーで相互に反応して架橋可能な官能基を導入す
ることによっても粒子間の共有結合生成による膜強度向
上ができる。架橋性基として好適に使用できるものとし
ては、放射線や熱により反応する官能基であれば特に限
定はなく、例えば、イソシアナート基、ブロックイソシ
アナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン
基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カル
ボキシル基、メチロール基、活性メチレン基を有する化
合物のほか、ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアク
リレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エ
ステル、ウレタンなどから選ばれる官能基を含む粒子を
挙げることができる。また、本発明において架橋基と
は、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応
性を示すものであってもよい。使用する架橋性化合物は
相互反応可能な基を導入した2種以上の化合物を併用し
ても良いし、ビニル基、活性メチレン基など自己架橋が
可能な基を分子内に複数個有する化合物を用いても良
い。The co-bonding between the particles can also be achieved by introducing the crosslinkable functional group by the above-mentioned combined binder mutually reacting with radiation energy such as light or electron beam or heat energy such as heating or electromagnetic wave. The film strength can be improved by the generation. The thing which can be suitably used as a crosslinkable group is not particularly limited as long as it is a functional group which reacts by radiation or heat, and examples thereof include an isocyanate group, a block isocyanate group, an epoxy group, an aziridine group, an oxazoline group, and an aldehyde group. , Carbonyl group, hydrazine group, carboxyl group, methylol group, in addition to compounds having an active methylene group, vinyl sulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester, functional group selected from urethane and the like Including particles. Further, in the present invention, the cross-linking group is not limited to the above-mentioned compound, but may be one which shows reactivity as a result of decomposition of the above-mentioned functional group. The crosslinkable compound to be used may be a combination of two or more compounds having a group capable of reacting with each other, or a compound having a plurality of self-crosslinkable groups such as a vinyl group and an active methylene group in a molecule. May be.
【0023】本発明の反射防止膜を形成する基材として
は、各種のプラスチックフィルムが使用でき、セルロー
ス誘導体(例えば、トリアセチル−(TAC)、ジアセ
チル−、プロピオニル−、ブタノイル−、アセチルプロ
ピオニル−アセテート、ニトロ−など)、ポリアミド、
ポリカーボネート、特公昭48−40414号に記載の
ポリエステル(特にポリエチレンテレフタレート、ポリ
−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、
ポリエチレン1,2−ジフェノキシエタン−4,4−ジ
カルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレートなど)、ポリスチレン、ポリプロ
ピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン、ポリスル
フォン、ポリエーテルスルフォン、ポリアリレート、ポ
リエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート等のよう
な各種透明樹脂が好ましく用いられる。As the substrate on which the antireflection film of the present invention is formed, various plastic films can be used, and cellulose derivatives (for example, triacetyl- (TAC), diacetyl-, propionyl-, butanoyl-, acetylpropionyl-acetate) can be used. , Nitro-, etc.), polyamides,
Polycarbonate, polyester described in JP-B-48-40414 (especially polyethylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate,
Polyethylene 1,2-diphenoxyethane-4,4-dicarboxylate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polystyrene, polypropylene, polyethylene, polymethylpentene, polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyetherimide Various transparent resins such as polymethyl methacrylate and the like are preferably used.
【0024】また、多層膜として用いる場合には、低屈
折率層の下方に設けられる高屈折率層の素材として、以
下の様なものを用いることができる。When used as a multilayer film, the following materials can be used as the material of the high refractive index layer provided below the low refractive index layer.
【0025】有機材料としては比較的屈折率の高い被膜
形成性物質、たとえばポリスチレン、ポリスチレン共重
合体、ポリカーボネート、ポリスチレン以外の芳香環、
複素環、脂環式環状基、またはフッ素以外のハロゲン基
を有する各種重合体組成物、メラミン樹脂、フェノール
樹脂、ないしエポキシ樹脂などを硬化剤とする各種熱硬
化性樹脂形成性組成物、脂環式ないしは芳香族イソシア
ネートおよびまたはこれらとポリオールからなるウレタ
ン形成性組成物、および上記の化合物に2重結合を導入
することにより、ラジカル硬化を可能にした各種変性樹
脂またはプレポリマを含む組成物などが好ましく用いら
れる。また無機系微粒子を分散させた有機材料としては
一般に無機系微粒子が高屈折率を有するため有機材料単
独で用いられる場合よりも低屈折率ものも用いられる。
上記に述べた有機材料の他、アクリル系を含むビニル系
共重合体、ポリエステル(アルキドを含む)系重合体、
繊維素系重合体、ウレタン系重合体、およびこれらを硬
化せしめる各種の硬化剤、硬化性官能基を有する組成物
など透明性があり無機系微粒子を安定に分散せしめる各
種の有機材料が使用可能である。さらに有機置換された
ケイ素系化合物をこれに含めることができる。As the organic material, a film-forming substance having a relatively high refractive index, for example, polystyrene, a polystyrene copolymer, polycarbonate, an aromatic ring other than polystyrene,
Various polymer compositions having a heterocyclic ring, an alicyclic cyclic group, or a halogen group other than fluorine, various thermosetting resin-forming compositions using a melamine resin, a phenol resin, or an epoxy resin as a curing agent, an alicyclic ring A urethane-forming composition comprising a formula or an aromatic isocyanate and / or a polyol thereof and a polyol, and a composition containing various modified resins or prepolymers capable of radical curing by introducing a double bond into the above compound are preferable. Used. In addition, as the organic material in which the inorganic fine particles are dispersed, a material having a lower refractive index than that in the case where the organic material is used alone is generally used because the inorganic fine particles have a high refractive index.
In addition to the organic materials described above, vinyl copolymers including acrylics, polyester (including alkyd) polymers,
Various organic materials that can stably disperse inorganic fine particles such as cellulose polymer, urethane polymer, and various curing agents that cure them, and compositions having curable functional groups can be used. is there. Further, an organic-substituted silicon-based compound can be included therein.
【0026】これらのケイ素系化合物は一般式 R1 a R2 b SiX4-(a+b) (ここでR1 、R2 は各々アルキル基、アルケニル基、
アリル基、またはハロゲン基、エポキシ基、アミノ基、
メルカプト基、メタクリルオキシ基ないしシアノ基を有
する炭化水素基。Xはアルコキシル、アルコキシアルコ
キシル、ハロゲンないしアシルオキシ基から選ばれた加
水分解可能な置換基。a、bは各々0ないし2の整数で
かつa+bが1または2である。)で表される化合物な
いしはその加水分解生成物である。[0026] These silicon-based compounds have the general formula R 1 a R 2 b SiX 4- (a + b) ( wherein R 1, R 2 are each an alkyl group, an alkenyl group,
Allyl group, or halogen group, epoxy group, amino group,
Hydrocarbon groups having a mercapto group, a methacryloxy group or a cyano group. X is a hydrolyzable substituent selected from alkoxyl, alkoxyalkoxyl, halogen and acyloxy groups. a and b are each an integer of 0 to 2, and a + b is 1 or 2. ) Or a hydrolysis product thereof.
【0027】これに分散される無機化合物としてはアル
ミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモンなど
の金属元素の酸化物が好ましく用いられる。これらは微
粒子状で粉末ないしは水および/またはその他の溶媒中
へのコロイド状分散体として提供されるものである。こ
れらは上記の有機材料または有機ケイ素化合物中に混合
分散される。As the inorganic compound dispersed therein, oxides of metal elements such as aluminum, titanium, zirconium and antimony are preferably used. These may be provided in finely divided form as a powder or as a colloidal dispersion in water and / or other solvents. These are mixed and dispersed in the above organic material or organosilicon compound.
【0028】被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自
身が液状である無機系材料としては各種元素のアルコキ
シド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物
がありこれらの好適な例としては、チタンテトラエトキ
シド、チタンテトラ−i−プロポキシド、チタンテトラ
−n−プロポキシド、チタンテトラ−n−ブトキシド、
チタンテトラ−sec −ブトキシド、チタンテトラ−tert
−ブトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニ
ウムトリ−i−プロポキシド、アルミニウムトリブトキ
シド、アンチモントリエトキシド、アンチモントリブト
キシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウム
テトラ−i−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−n−
プロポキシド、ジルコニウムテトラ−n−ブトキシド、
ジルコニウムテトラ−sec −ブトキシド、ジルコニウム
テトラ−tert−ブトキシドなどの金属アルコレート化合
物、さらにはジ−イソプロポキシチタニウムビスアセチ
ルアセトネート、ジ−ブトキシチタニウムビスアセチル
アセトネート、ジ−エトキシチタニウムビスアセチルア
セトネート、ビスアセチルアセトンジルコニウム、アル
ミニウムアセチルアセトネート、アルミニウムジ−n−
ブトキシドモノエチルアセトアセテート、アルミニウム
ジ−i−プロポキシドモノメチルアセトアセテート、ト
リ−n−ブトキシドジルコニウムモノエチルアセトアセ
テートなどのキレート化合物、さらには炭酸ジルコニー
ルアンモニウム、あるいはジルコニウムを主成分とする
活性無機ポリマなどをあげることができる。上記に述べ
た他に、屈折率が比較的低いが上記の化合物と併用でき
るものとしてとくに各種のアルキルシリケート類もしく
はその加水分解物、微粒子状シリカとくにコロイド状に
分散したシリカゲルが用いられる。Examples of the inorganic material which is capable of forming a film and can be dispersed in a solvent or itself is a liquid include alkoxides of various elements, salts of organic acids, and coordination compounds bonded to coordination compounds. Examples include titanium tetraethoxide, titanium tetra-i-propoxide, titanium tetra-n-propoxide, titanium tetra-n-butoxide,
Titanium tetra-sec-butoxide, titanium tetra-tert
-Butoxide, aluminum triethoxide, aluminum tri-i-propoxide, aluminum tributoxide, antimony triethoxide, antimony tributoxide, zirconium tetraethoxide, zirconium tetra-i-propoxide, zirconium tetra-n-
Propoxide, zirconium tetra-n-butoxide,
Zirconium tetra-sec-butoxide, metal alcoholate compounds such as zirconium tetra-tert-butoxide, further di-isopropoxytitanium bisacetylacetonate, di-butoxytitanium bisacetylacetonate, di-ethoxytitanium bisacetylacetonate, Bisacetylacetone zirconium, aluminum acetylacetonate, aluminum di-n-
Chelating compounds such as butoxide monoethyl acetoacetate, aluminum di-i-propoxide monomethyl acetoacetate, and tri-n-butoxide zirconium monoethyl acetoacetate, and also zirconium ammonium carbonate or an active inorganic polymer containing zirconium as a main component Can be given. In addition to those described above, various alkyl silicates or hydrolysates thereof, and finely divided silica, particularly silica gel dispersed in a colloidal form, are used as those which have a relatively low refractive index but can be used in combination with the above compounds.
【0029】本発明の反射防止層を形成する各層は一般
によく知られた方法、例えばディップコート法、エアー
ナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート
法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、或いは
米国特許第2,681,294号明細書に記載のホッパ
ーを使用するエクストルージョンコート法等により塗布
することができる。また必要に応じて、米国特許第2,
761,791号、3,508,947号、2,94
1,898号、及び3,526,528号明細書、原崎
勇次著「コーティング工学」253頁(1973年朝倉
書店発行)等に記載された方法により2層以上の層を同
時に塗布することができる。Each layer forming the anti-reflection layer of the present invention may be formed by a generally known method such as dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, or US It can be applied by an extrusion coating method using a hopper described in Japanese Patent No. 2,681,294. Also, if necessary, U.S. Pat.
No. 761,791, 3,508,947, 2,94
No. 1,898 and 3,526,528, and two or more layers can be coated simultaneously by the method described in Yuji Harazaki, “Coating Engineering”, page 253 (published by Asakura Shoten in 1973). .
【0030】本発明の低屈折率反射防止層は、中間層と
してハードコート層、防湿、帯電防止層等を設ける事も
できる。ハードコート層としては、アクリル系、ウレタ
ン系、エポキシ系のポリマーの他に、シリカ系の化合物
が使用できる。The low-refractive-index antireflection layer of the present invention may be provided with a hard coat layer, a moisture-proof, antistatic layer and the like as an intermediate layer. As the hard coat layer, silica-based compounds can be used in addition to acrylic-based, urethane-based, and epoxy-based polymers.
【0031】本発明の低屈折率反射防止膜層の表面に有
機、無機化合物によって凹凸を形成し、外光を散乱させ
て景色等の写り込みを防ぐアンチグレア効果を付与する
こともできる。また、この反射防止膜は単独であるいは
アンチグレア効果を併用して液晶表示装置(LCD)、
プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッ
センスディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CR
T)などの画像表示装置に適用し、外光の反射を防止す
ることで、視認性を大幅に改良することができる。The surface of the low-refractive-index antireflection film layer of the present invention can be formed with an organic or inorganic compound to provide an anti-glare effect of scattering external light and preventing the appearance of scenery or the like. The anti-reflection film may be used alone or in combination with an anti-glare effect in a liquid crystal display (LCD),
Plasma display (PDP), electroluminescence display (ELD), cathode ray tube display (CR
By applying the present invention to an image display device such as T) and preventing reflection of external light, visibility can be significantly improved.
【0032】[0032]
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。The present invention will be described below in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
【0033】(空隙を有する重合体微粒子の合成) 1)BP1の合成 冷却管と攪拌装置を取り付けた2リットル三ツ口フラス
コにドデシル硫酸ナトリウム30gを蒸留水1350m
lに溶解した溶液を入れ、次いでメタクリル酸ヘキサフ
ルオロイソプロピルエステル210g(0.89モル)
とジビニルベンゼン90g(0.69モル)の混合溶液
を加え、窒素気流下で200rpmの速度で攪拌した。
この反応容器を75℃に加熱し、8%過硫酸ナトリウム
水溶液50mlを添加して2時間重合させた。更に、8
%過硫酸ナトリウム水溶液50mlを加えて2時間重合
した。この反応液を室温まで冷却し、分画分子量1万の
セルロース膜を用いて透析し、過剰な界面活性剤や無機
塩類を除去した後、濾過にて不溶分を除去して微乳濁白
色の水溶液2780gを得た。この溶液は不揮発分1
0.3重量%を含む平均粒子径48nmの微細ラテック
ス液であった。このラテックスに含有される粒子は体積
分率で約19%の空隙を有する多孔質の球形粒子であっ
た。粒子サイズはコールター社粒子測定装置N4を用い
て動的光散乱法により評価した。粒子形状は走査型電子
顕微鏡を用いて観察し、空隙率は粒子の屈折率を測定
し、用いたモノマー組成から得れるポリマーの屈折率の
計算値との差から空気の体積分率を逆算した。(Synthesis of polymer fine particles having voids) 1) Synthesis of BP1 30 g of sodium dodecyl sulfate was placed in a two-liter three-necked flask equipped with a cooling tube and a stirrer, and distilled water was added to 1350 m3.
and then add 210 g (0.89 mol) of hexafluoroisopropyl methacrylate.
And a mixed solution of 90 g (0.69 mol) of divinylbenzene was added, and the mixture was stirred at a speed of 200 rpm under a nitrogen stream.
The reaction vessel was heated to 75 ° C., and 50 ml of an 8% aqueous solution of sodium persulfate was added to carry out polymerization for 2 hours. In addition, 8
A 50% aqueous solution of sodium persulfate was added, followed by polymerization for 2 hours. The reaction solution was cooled to room temperature, dialyzed using a cellulose membrane having a molecular weight cut off of 10,000 to remove excess surfactants and inorganic salts, and then filtered to remove insolubles to remove a fine milky white color. 2,780 g of an aqueous solution was obtained. This solution has a nonvolatile content of 1
It was a fine latex liquid containing 0.3% by weight and having an average particle diameter of 48 nm. The particles contained in this latex were porous spherical particles having voids of about 19% by volume. The particle size was evaluated by a dynamic light scattering method using a Coulter particle measuring device N4. The particle shape was observed using a scanning electron microscope, the porosity measured the refractive index of the particles, and the volume fraction of air was back calculated from the difference from the calculated value of the refractive index of the polymer obtained from the monomer composition used. .
【0034】2)BP2の合成 冷却管と攪拌装置を取り付けた2リットル三ツ口フラス
コにドデシル硫酸ナトリウム30gを蒸留水1350m
lに溶解した溶液を入れ、次いでメタクリル酸ヘキサフ
ルオロイソプロピルエステル165g(0.70モ
ル)、メタクリル酸グリシジルエステル45g(0.3
2モル)とジビニルベンゼン90g(0.69モル)の
混合溶液を加え、窒素気流下で200rpmの速度で攪
拌した。この反応容器を75℃に加熱し、8%過硫酸ナ
トリウム水溶液50mlを添加して2時間重合させた。
この間、反応液のpHを常に6.3〜7.7の範囲に保
つように3%水酸化ナトリウム水溶液を適宜加えて調整
した。更に、8%過硫酸ナトリウム水溶液50mlを加
えて2時間重合し、同様に反応溶液のpHを6.4〜
7.9に調整し続けた。この反応液を室温まで冷却し、
分画分子量1万のセルロース膜を用いて透析し、過剰な
界面活性剤や無機塩類を除去した後、濾過にて不溶分を
除去して微乳濁白色の水溶液3019gを得た。この溶
液は不揮発分9.3重量%を含む平均粒子径54nmの
微細ラテックス液であった。このラテックスに含有され
る粒子は体積分率で約14%の空隙を有する多孔質の球
形粒子であった。粒子サイズはコールター社粒子測定装
置N4を用いて動的光散乱法により評価した。粒子形状
は走査型電子顕微鏡を用いて観察し、空隙率は粒子の屈
折率を測定し、用いたモノマー組成から得れるポリマー
の屈折率の計算値との差から空気の体積分率を逆算し
た。2) Synthesis of BP2 30 g of sodium dodecyl sulfate was placed in a 2 liter three-necked flask equipped with a cooling pipe and a stirrer, and 1350 m of distilled water.
165 g (0.70 mol) of hexafluoroisopropyl methacrylate and 45 g of glycidyl methacrylate (0.3 g).
2 mol) and 90 g (0.69 mol) of divinylbenzene were added, and the mixture was stirred at a speed of 200 rpm under a nitrogen stream. The reaction vessel was heated to 75 ° C., and 50 ml of an 8% aqueous solution of sodium persulfate was added to carry out polymerization for 2 hours.
During this time, a 3% aqueous sodium hydroxide solution was appropriately added so as to keep the pH of the reaction solution in the range of 6.3 to 7.7. Further, 50 ml of an 8% aqueous sodium persulfate solution was added, and polymerization was performed for 2 hours. Similarly, the pH of the reaction solution was adjusted to 6.4 to 6.4.
It continued to adjust to 7.9. Cool the reaction to room temperature,
After dialysis using a cellulose membrane having a molecular weight cut off of 10,000 to remove excess surfactants and inorganic salts, insoluble components were removed by filtration to obtain 3019 g of a fine milky white aqueous solution. This solution was a fine latex liquid containing 9.3% by weight of nonvolatile components and having an average particle diameter of 54 nm. The particles contained in this latex were porous spherical particles having voids of about 14% by volume. The particle size was evaluated by a dynamic light scattering method using a Coulter particle measuring device N4. The particle shape was observed using a scanning electron microscope, the porosity measured the refractive index of the particles, and the volume fraction of air was back calculated from the difference from the calculated value of the refractive index of the polymer obtained from the monomer composition used. .
【0035】本発明に用いるその他のボイド粒子は上記
の乳化重合法と同じまたはこれに準じた方法で容易に合
成できた。これらの方法で合成した本発明のボイド微粒
子(BP1〜BP7)を下記の表1にまとめて示す。The other void particles used in the present invention could be easily synthesized by the same method as the above-mentioned emulsion polymerization method or a method similar thereto. Table 1 below shows the void fine particles (BP1 to BP7) of the present invention synthesized by these methods.
【0036】[0036]
【表1】 [Table 1]
【0037】実施例1(反射防止層の塗設と性能評価)Example 1 (coating of antireflection layer and evaluation of performance)
【0038】上記の表1に記載のボイド微粒子を用い
て、表2の組成で調製した水溶液(E1〜E10)をト
リアセチルセルロース(以下TACと称す)フィルム上
にスピンコータを用いて塗布し、90# C で120分乾
燥し、膜厚100nmの低屈折率層を形成した。得られ
た膜(X1〜X10)について屈折率、視感反射率の測
定およびサファイヤ針による膜強度測定を実施した。結
果を表3に示した。An aqueous solution (E1 to E10) prepared with the composition shown in Table 2 was applied to a triacetylcellulose (hereinafter referred to as TAC) film using a void fine particle shown in Table 1 above using a spin coater. After drying at #C for 120 minutes, a low refractive index layer having a thickness of 100 nm was formed. For the obtained films (X1 to X10), measurement of refractive index and luminous reflectance and measurement of film strength with a sapphire needle were performed. The results are shown in Table 3.
【0039】[0039]
【表2】 [Table 2]
【0040】[0040]
【表3】 [Table 3]
【0041】上記実施例1で用いた本発明の微粒子を表
2に示すとおり本発明外の粒子(NP1〜NP3)に置
き換えた外は実施例1と同じにして比較サンプル溶塗布
溶液(F1〜F4)を調製し、同条件で製膜して比較サ
ンプル(Y1〜Y4)を得た。得られた膜を上記実施例
1と同じ方法で膜の屈折率、視感反射率(光波長400
nm〜800nmの平均反射率値)の測定およびサファ
イヤ針による膜強度測定を実施した。結果を表3に併せ
て示した。The same procedure as in Example 1 was repeated except that the fine particles of the present invention used in Example 1 were replaced with particles (NP1 to NP3) outside the present invention as shown in Table 2, and the comparative sample solution coating solution (F1 to F3) was used. F4) was prepared and formed into a film under the same conditions to obtain comparative samples (Y1 to Y4). The obtained film was subjected to the same method as in Example 1 to obtain a film having a refractive index and a luminous reflectance (a light wavelength of 400).
(mean reflectance value from nm to 800 nm) and film strength measurement with a sapphire needle. The results are shown in Table 3.
【0042】実施例2(重層型反射防止フイルムの作
成) (1)第1層(ハードコート層)の塗設 90μmの厚みを有するTACフィルムに5重量%のジ
ペンタエリスルトールヘキサアクリレートと光重合開始
剤(商品名:イルガキュア907、チバガイギー社製)
0.5重量%、光増感剤(商品名:カヤキュアーDET
X、日本化薬社製)0.2重量%を含むトルエン溶液を
ワイヤーバーを用いて8μmの厚さに塗布し、これを乾
燥後、100℃に加熱して12W/cmの高圧水銀灯を
用いて1分間紫外線照射し架橋した。その後室温まで放
冷した。Example 2 (Preparation of multilayer antireflection film) (1) Coating of first layer (hard coat layer) A TAC film having a thickness of 90 µm was coated with 5% by weight of dipentaerythritol hexaacrylate and light. Polymerization initiator (trade name: Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy)
0.5% by weight, photosensitizer (trade name: Kaya Cure DET)
X, manufactured by Nippon Kayaku Co.) A toluene solution containing 0.2% by weight was applied to a thickness of 8 μm using a wire bar, dried, heated to 100 ° C., and a high-pressure mercury lamp of 12 W / cm was used. For 1 minute to crosslink. Then, it was allowed to cool to room temperature.
【0043】(2)第2層(高屈折率層)の塗設 別途合成したポリ(n−ブチルメタクリレート−コ−メ
タクリル酸)ラテックス(共重合組成重量比80:2
0、平均粒子径63nm、固形分濃度12.5重量%:
HP1)100g、酸化錫微粒子(石原産業(株)より
入手の物)25gを混合し、さらに、ジペンタエリスル
トールヘキサアクリレート6g、光重合開始剤(商品
名:イルガキュア907、チバガイギー社製)0.5
g、光増感剤(商品名:カヤキュアーDETX、日本化
薬社製)0.2g酢酸エチル20gをドデシルベンゼン
スルホン酸ナトリウム1gを用いて水100gに乳化分
散した乳化物液を混合、攪拌して塗布溶液を調製した。
この液を上記で作成した第1層の上にワイヤーバーを用
いて厚さ0.16μmに塗布し、これを乾燥後、100
℃に加熱して12W/cmの高圧水銀灯を用いて1分間
紫外線照射し架橋、その後室温まで放冷した。(2) Coating of Second Layer (High Refractive Index Layer) Separately synthesized poly (n-butyl methacrylate-co-methacrylic acid) latex (copolymer composition weight ratio: 80: 2)
0, average particle diameter 63 nm, solid content concentration 12.5% by weight:
HP1) 100 g and tin oxide fine particles (obtained from Ishihara Sangyo Co., Ltd.) 25 g were mixed, further, dipentaerythritol hexaacrylate 6 g, and a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) 0 .5
g, 0.2 g of a photosensitizer (trade name: Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) An emulsion liquid obtained by emulsifying and dispersing 20 g of ethyl acetate in 100 g of water using 1 g of sodium dodecylbenzenesulfonate was mixed and stirred. A coating solution was prepared.
This liquid was applied to a thickness of 0.16 μm on the first layer prepared above using a wire bar, and after drying,
C. and cross-linked by irradiating with ultraviolet rays for 1 minute using a 12 W / cm high-pressure mercury lamp, and then allowed to cool to room temperature.
【0044】(3)第3層(低屈折率層)の作成 ジペンタエリスルトールヘキサアクリレート6g、光重
合開始剤(商品名:イルガキュア907、チバガイギー
社製)0.5g、光増感剤(商品名:カヤキュアーDE
TX、日本化薬社製)0.2g酢酸エチル20gをドデ
シルベンゼンスルホン酸ナトリウム1gを用いて水10
0gに乳化分散した乳化物液と先に合成したラテックス
BP1 100gとを混合、攪拌して、塗布溶液を調製
した。この液を上記で作成した第2層の上にワイヤーバ
ーを用いて厚さ0.10μmに塗布し、これを乾燥後、
100℃に加熱して12W/cmの高圧水銀灯を用いて
1分間紫外線照射し架橋した。その後室温まで放冷し
た。こうして得られた第1層〜第3層を塗設したフイル
ムは視感の表面反射率0.4%、表面硬度5H(鉛筆硬
度法による)の表面物性を示すものであった(反射防止
フイルム:ARF1)。(3) Preparation of Third Layer (Low Refractive Index Layer) 6 g of dipentaerythritol hexaacrylate, 0.5 g of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy), a photosensitizer ( Product Name: Kaya Cure DE
TX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0.2 g of ethyl acetate 20 g of sodium dodecylbenzenesulfonate in 10 g of water
A coating solution was prepared by mixing and stirring 100 g of the previously synthesized latex BP1 and the emulsion liquid emulsified and dispersed in 0 g. This liquid was applied to a thickness of 0.10 μm using a wire bar on the second layer prepared above, and after drying,
The mixture was heated to 100 ° C. and irradiated with ultraviolet rays for 1 minute using a high-pressure mercury lamp of 12 W / cm for crosslinking. Then, it was allowed to cool to room temperature. The thus-obtained film coated with the first to third layers exhibited a surface reflectivity of 0.4% and a surface hardness of 5H (by a pencil hardness method). : ARF1).
【0045】HP1、BP1をそれぞれ下記の表4に示
す素材とし、塗布液の固形分濃度が同じになる様に調液
量を変えた外は上記例に同じ方法で反射防止フイルムA
RF2〜6を得た。これらのフイルムの表面性能を表4
に併せて示す。同時に第3層に使用した化合物を本発明
外の粒子NP1〜NP3に変え、塗布液の固形分濃度を
同じになる様に調液量を変えた外は上記例に同じ方法で
比較フイルムCF1〜3を得た。これらの表面性能も表
4に併せて示す。The antireflection film A was prepared in the same manner as in the above example except that HP1 and BP1 were made of the materials shown in Table 4 below, and the amount of liquid preparation was changed so that the solid content of the coating solution was the same.
RF2 to 6 were obtained. Table 4 shows the surface performance of these films.
Are shown together. At the same time, the compound used for the third layer was changed to particles NP1 to NP3 outside the present invention, and the amount of the liquid preparation was changed so that the solid content concentration of the coating solution was the same. 3 was obtained. These surface performances are also shown in Table 4.
【0046】[0046]
【表4】 [Table 4]
【0047】本実施例から明らかなように、本発明の反
射防止膜は非常に低い反射率と広い波長領域を有する優
れた反射防止性能を有するだけでなく、十分に強靱な膜
強度を有していることがわかる。As is clear from this example, the antireflection film of the present invention not only has a very low reflectance and an excellent antireflection performance having a wide wavelength range, but also has a sufficiently tough film strength. You can see that it is.
【0048】[0048]
【発明の効果】本発明では中空構造あるいは空隙構造を
有する含フッ素ポリマー微粒子を用いて膜を塗設するこ
とによって空隙を有する膜の製膜工程上、空隙を損なう
ことなく、粒子間の付着性を改良することができる。こ
れによって反射防止膜として非常に良好な光学特性を発
現し、膜強度、耐傷性等の膜物性に優れた、安価で大面
積な反射防止膜を製造適性を有した形で提供することが
できる。According to the present invention, by coating a film using fluoropolymer fine particles having a hollow structure or a void structure, the adhesion between particles can be achieved without impairing the voids in the process of forming a film having voids. Can be improved. As a result, very good optical properties are exhibited as an anti-reflection film, and a low-cost, large-area anti-reflection film having excellent film properties such as film strength and scratch resistance can be provided in a form having suitability for production. .
【図1】本発明の含フッ素重合体微粒子から成る層によ
る反射防止膜の断面図を示す。FIG. 1 is a cross-sectional view of an antireflection film made of a layer comprising a fluoropolymer fine particle of the present invention.
【図2】本発明の含フッ素重合体微粒子から成る層と、
基材よりも高い屈折率を有する層から成る反射防止膜の
断面図を示す。FIG. 2 shows a layer comprising the fluoropolymer fine particles of the present invention,
FIG. 2 shows a cross-sectional view of an antireflection film made of a layer having a higher refractive index than a substrate.
1 低屈折率層 2 高屈折率層 3 基材 1 low refractive index layer 2 high refractive index layer 3 substrate
Claims (7)
子を含む層を有し、該微粒子の少なくとも1種が中空形
状または空隙構造を有する含フッ素重合体であることを
特徴とする低屈折率層を有する反射防止膜。1. A low refractive index comprising a layer containing polymer fine particles having an average particle diameter of 200 nm or less, wherein at least one of the fine particles is a fluorine-containing polymer having a hollow or void structure. Antireflection film having a layer.
含有する重合体から成ることを特徴とする請求項1に記
載の反射防止膜。2. The antireflection film according to claim 1, wherein at least one of the fine particles is made of a polymer containing a crosslinkable group.
ル構造を有することを特徴とする請求項1または2に記
載の反射防止膜。3. The anti-reflection coating according to claim 1, wherein at least one of the fine particles has a core-shell structure.
重量分率以上のフッ素原子を含むことを特徴とする請求
項1に記載の反射防止膜。4. The method according to claim 1, wherein the formed low refractive index layer has a thickness of at least 0.3.
2. The antireflection film according to claim 1, wherein the antireflection film contains a fluorine atom in a weight fraction or more.
有する層の上に形成されたことを特徴とする請求項1に
記載の反射防止膜。5. The antireflection film according to claim 1, wherein the low refractive index layer is formed on a layer having a higher refractive index.
を特徴とする請求項1に記載の反射防止膜。6. The anti-reflection coating according to claim 1, wherein the surface is subjected to anti-glare treatment.
子を含む層を有し、該微粒子の少なくとも1種が中空形
状または空隙構造を有する含フッ素重合体である低屈折
率層を有する反射防止膜を配置したことを特徴とする表
示装置。7. An anti-reflection coating having a layer containing polymer fine particles having an average particle diameter of 200 nm or less, and having a low refractive index layer in which at least one of the fine particles is a fluoropolymer having a hollow or void structure. A display device comprising a film disposed thereon.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP8294240A JPH10142402A (en) | 1996-11-06 | 1996-11-06 | Antireflection film and display device arranged therewith |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH10142402A true JPH10142402A (en) | 1998-05-29 |
Family
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JP8294240A Pending JPH10142402A (en) | 1996-11-06 | 1996-11-06 | Antireflection film and display device arranged therewith |
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Country | Link |
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JP (1) | JPH10142402A (en) |
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1996
- 1996-11-06 JP JP8294240A patent/JPH10142402A/en active Pending
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