JPH10221506A - Antireflection film and display having it arranged thereon - Google Patents

Antireflection film and display having it arranged thereon

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JPH10221506A
JPH10221506A JP9027974A JP2797497A JPH10221506A JP H10221506 A JPH10221506 A JP H10221506A JP 9027974 A JP9027974 A JP 9027974A JP 2797497 A JP2797497 A JP 2797497A JP H10221506 A JPH10221506 A JP H10221506A
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JP
Japan
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film
layer
refractive index
antireflection film
fine particles
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Application number
JP9027974A
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Japanese (ja)
Inventor
Tomokazu Yasuda
知一 安田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve film strength, durability, stain sticking resistance, and heat resistance by providing a layer containing polymer particles whose mean grain size is specific value or less and providing a low refractive index layer composed of a specific polymer. SOLUTION: It is an antireflection film layer which has polymer particles of means grain size 200nm or less, at least, a kind of the particles is α-fluoro- acrylic acid ester copolymer, and has a low refractive index layer. To provide this antireflection film with sufficient low refractive index, the quantity of microvoids (voids in the antireflection film) contained in a layer, which is composed of the α-fluoroacrylic acid ester copolymer particles, is preferable to be 3vol.%-50vol.%, more preferably 5vol.%-35vol.%. The film with the voids is manufactured by coating the film with the particles obtained by polymerization of the α-fluoroacrylic acid ester so that its fluorine content is improved and the low refractive index can be provided despite of being in the same porosity.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、量産性、対汚染性
に優れ、同時に、高い膜強度を実現する反射防止膜およ
びそれを配置した表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an anti-reflection film which is excellent in mass productivity and anti-contamination properties, and at the same time, realizes high film strength, and a display device having the anti-reflection film.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶表示装置の普及、大型化や野
外使用化に伴い、その使用条件下でのタフネス化、例え
ば、反射光耐性(視認性確保)、防汚性や耐熱性の向上
が求められている。表示装置の視認性向上は該装置の主
機能に関わる課題であり、当然その重要性も高く、活発
に視認性向上のための施策が検討されている。一般に視
認性を低下させるのは外光の表面反射による景色の写り
込みであり、これらに対する対処として最表面に反射防
止膜を設ける方法が一般的に行われる。しかしながら、
この反射防止膜はその機能発現のために最表面に設けら
れるため、必然的に反射防止膜の性能に対してタフネス
化の観点から多くの高品質化の課題が集中してくる。例
えば、極限までの反射率低下(反射率1%以下)、指紋
や油脂等の付着防止や易除去性、炎天下や自動車室内の
ような高温環境下での諸性能の維持などである。
2. Description of the Related Art In recent years, with the spread of liquid crystal display devices, enlargement and outdoor use, toughness under use conditions, for example, improvement in resistance to reflected light (ensure visibility), antifouling property and heat resistance. Is required. Improving the visibility of a display device is an issue related to the main function of the device, and naturally has high importance, and measures for improving the visibility are being actively studied. Generally, visibility is reduced by the reflection of scenery due to surface reflection of external light, and as a countermeasure against this, a method of providing an antireflection film on the outermost surface is generally performed. However,
Since this antireflection film is provided on the outermost surface in order to exhibit its function, many issues of high quality are inevitably concentrated on the performance of the antireflection film from the viewpoint of toughness. For example, reduction of reflectance to the limit (reflectance of 1% or less), prevention of adhesion of fingerprints and fats and oils, easy removal, and maintenance of various performances in a high temperature environment such as under the sun or in a car interior.

【0003】従来、可視光の波長域を全てカバーできる
性能を有する広波長域/低反射率の反射防止膜として
は、金属酸化物等の透明薄膜を積層させた多層膜が用い
られてきた。単層膜では単色光に対しては有効であるも
のの、ある程度の波長域を有する光に対しては有効に反
射防止できないのに対し、このような多層膜においては
積層数が多いほど広い波長領域で有効な反射防止膜とな
るためである。しかしながら、物理蒸着法等の手段によ
って金属酸化物等を3層以上積層して形成するこのよう
な反射防止膜は、予め最適に設計された各層の屈折率と
膜厚との関係に従い、その膜厚を高精度に制御した物理
蒸着を何回も行う必要があり、非常に高コストなもので
あり、かつ、広い面積の膜を得ることの非常に困難な大
量製造適性に乏しいものであった。また、これらの多層
蒸着型の反射防止膜では、表面の耐傷性あるいは指紋付
着性等の対汚染性に乏しく、この改善のためには例えば
新たに含フッ素樹脂からなる層を塗設するなどの反射防
止を犠牲にしかねない加工が必須であった。
Conventionally, as an antireflection film having a wide wavelength range and a low reflectance having a performance capable of covering the entire wavelength range of visible light, a multilayer film formed by laminating a transparent thin film such as a metal oxide has been used. Although a single-layer film is effective for monochromatic light, it cannot effectively prevent reflection of light having a certain wavelength range, whereas in such a multilayer film, the larger the number of layers, the wider the wavelength range. This is because it becomes an effective antireflection film. However, such an anti-reflection film formed by laminating three or more layers of metal oxides or the like by means of physical vapor deposition or the like is formed in accordance with the relationship between the refractive index and the film thickness of each layer which is optimally designed in advance. It was necessary to perform physical vapor deposition with the thickness controlled with high precision many times, it was very expensive, and it was not suitable for mass production, which was very difficult to obtain a large area film. . In addition, these multilayer deposition type antireflection films have poor anti-staining properties such as scratch resistance or fingerprint adhesion on the surface, and for this improvement, for example, a new layer made of a fluorine-containing resin is applied. Processing that could sacrifice antireflection was essential.

【0004】一方、上述のような多層膜による方法の他
に、空気との界面において屈折率が徐々に変化する様な
膜によって有効な反射防止効果を得る方法が従来知られ
ている。例えば、特開平2−245702号公報には、
ガラス基板とMgF2 の中間の屈折率を持つSiO2
微粒子とMgF2 超微粒子を混合してガラス基板に塗布
し、ガラス基板面から塗布膜面に向かって徐々にSiO
2 の混合比を減少させてMgF2 の混合比を増加させる
事により、塗布面とガラス基板との界面における屈折率
変化が緩やかとなり、反射防止効果が得られる事が記載
されている。さらに、特開平5−13021号公報に
は、MgF2 、SiO2 等の低屈折率を有する超微粒子
を用いた反射防止膜において、この超微粒子が基板上に
規則正しく配列されたときに最も小さな反射率が得られ
ることが記載されている。
On the other hand, in addition to the above-described method using a multilayer film, a method for obtaining an effective anti-reflection effect by a film whose refractive index gradually changes at the interface with air is conventionally known. For example, JP-A-2-245702 discloses that
The SiO 2 ultrafine particles and MgF 2 ultrafine particles having an intermediate refractive index of the glass substrate and the MgF 2 were mixed and applied to a glass substrate, gradually SiO toward the coating film surface from the glass substrate surface
It is described that when the mixing ratio of MgF 2 is increased by decreasing the mixing ratio of 2 , the change in the refractive index at the interface between the coating surface and the glass substrate becomes gentle, and an antireflection effect is obtained. Further, JP-A-5-13021 discloses an antireflection film using ultrafine particles having a low refractive index, such as MgF 2 or SiO 2, which has the smallest reflection when the ultrafine particles are regularly arranged on a substrate. It is stated that a rate is obtained.

【0005】上述の各方法では確かに低反射率の表面層
を設けることは可能であるが、前記特開平2−2457
02号公報に記載の反射防止膜は、混合比の異なる塗布
膜を多層に積み重ねて得られるため、膜の形成の煩雑さ
と屈折率のコントロールの困難さが問題であり、また、
前記特開平5−13021号公報の反射防止膜において
は、最表層の超微粒子がバインダで覆われているために
屈折率を緩やかに変化させる事が困難な事、焼き付け温
度が高温であるために用いられる基材が限定される、充
分な反射防止効果が得られない等の問題点を有してい
た。
In each of the above-mentioned methods, it is possible to provide a surface layer having a low reflectance.
Since the antireflection film described in JP-A-02-02206 can be obtained by stacking coating films having different mixing ratios in multiple layers, there is a problem that the film is complicated and difficult to control the refractive index.
In the antireflection film of JP-A-5-13021, it is difficult to gradually change the refractive index because the ultrafine particles in the outermost layer are covered with the binder, and the baking temperature is high. There were problems such as that the base material used was limited and that a sufficient antireflection effect could not be obtained.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、広範
な波長領域において一様に低い反射率(反射率1%以
下)を示し、同時に膜強度、耐久性、対汚れ付着性、耐
熱性に優れた反射防止膜を低コストで、また、大量かつ
大面積製造の適性のある方法で提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to exhibit a uniformly low reflectance (reflectance of 1% or less) over a wide wavelength range, and at the same time, to obtain film strength, durability, adhesion to dirt, and heat resistance. An object of the present invention is to provide an antireflection film excellent in low cost at low cost and in a method suitable for large-scale and large-area production.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上述の課題は下記の反射
防止膜によって解決される。 (1)平均粒径が200nm以下の重合体微粒子を含む
層を有し、該微粒子の少なくとも1種がα−フルオロア
クリル酸のエステル重合体である低屈折率層を有するこ
とを特徴とする反射防止膜。 (2)形成された低屈折層が少なくとも3体積百分率以
上の空隙を含有していることを特徴とする上記(1)ま
たは(2)に記載の反射防止膜。 (3)該微粒子の少なくとも一種が架橋性基を含有する
重合体から成ることを特徴とする上記(1)または
(2)に記載の反射防止膜。 (4)該微粒子の少なくとも一種がコア―シェル構造を
有することを特徴とする上記(1)または(2)に記載
の反射防止膜。 (5)形成された低屈折層が少なくとも0.3重量分率
以上のフッ素原子を含むことを特徴とする上記(1)に
記載の反射防止膜。 (6)該低屈折率層がそれよりも高い屈折率を有する層
の上に形成されたことを特徴とする上記(1)に記載の
反射防止膜。 (7)表面がアンチグレア処理されていることを特徴と
する上記(1)に記載の反射防止膜。 (8)上記(1)の反射防止膜を配置した表示装置。
The above-mentioned problems are solved by the following antireflection film. (1) Reflection comprising a layer containing polymer fine particles having an average particle diameter of 200 nm or less, and at least one of the fine particles having a low refractive index layer which is an ester polymer of α-fluoroacrylic acid. Prevention film. (2) The antireflection film according to the above (1) or (2), wherein the formed low refractive layer contains voids of at least 3 volume percent or more. (3) The antireflection film according to the above (1) or (2), wherein at least one of the fine particles comprises a polymer containing a crosslinkable group. (4) The antireflection film according to the above (1) or (2), wherein at least one of the fine particles has a core-shell structure. (5) The antireflection film as described in (1) above, wherein the formed low refractive layer contains at least 0.3% by weight or more of fluorine atoms. (6) The antireflection film according to (1), wherein the low refractive index layer is formed on a layer having a higher refractive index. (7) The anti-reflection film according to the above (1), wherein the surface is subjected to anti-glare treatment. (8) A display device in which the antireflection film of (1) is arranged.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明の反射防止膜によって得ら
れる優れた反射防止膜について以下に説明する。以下の
説明では本発明の「α−フルオロアクリル酸のエステル
を重合して得られる微粒子」を「微粒子」、この微粒子
を製膜して得られる反射防止膜中の空隙を「ミクロボイ
ド」と称する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The excellent antireflection film obtained by the antireflection film of the present invention will be described below. In the following description, “fine particles obtained by polymerizing an ester of α-fluoroacrylic acid” of the present invention are referred to as “fine particles”, and voids in an antireflection film obtained by forming the fine particles are referred to as “microvoids”.

【0009】一般に反射防止機能を得るには基材の最表
面に可能な限り屈折率の低い超薄層を設ける方法が知ら
れている。本発明ではこの最表面層(低屈折率層)にα
−フルオロアクリル酸エステルを重合して得られる微粒
子を用いることが特徴である。図1に、微粒子からなる
反射防止膜を示す。図中で、1は粒子間のミクロボイド
がもたらした空気が膜を形成する粒子形成ポリマーやバ
インダー成分と混在している層(ミクロボイド含有層)
であり、3は基材である。ミクロボイドは1の層中に均
一に分散して存在する。また、このミクロボイド層は、
反射防止を行うべき透明基材の最表面に設けられる。
In general, a method for providing an antireflection function by providing an ultra-thin layer having a refractive index as low as possible on the outermost surface of a substrate is known. In the present invention, the outermost surface layer (low refractive index layer)
-It is characterized in that fine particles obtained by polymerizing fluoroacrylic acid ester are used. FIG. 1 shows an antireflection film made of fine particles. In the figure, 1 is a layer in which air generated by microvoids between particles is mixed with a particle-forming polymer and a binder component forming a film (microvoid-containing layer).
And 3 is a substrate. The microvoids are uniformly dispersed in one layer. In addition, this microvoid layer
It is provided on the outermost surface of the transparent substrate to be subjected to antireflection.

【0010】このような低屈折率を有する微粒子層は、
図1に示す単層膜だけでなく、多層膜の最上層として用
いる事もできる。図2に、基材フィルム上に基材の屈折
率よりも高い屈折率を有する層2を設け、さらにその上
に本発明のα−フルオロアクリル酸エステルを重合して
得られる重合体微粒子を含む層を設けた反射防止膜を示
す。このように多層化する事によってより広い波長領域
において有効な反射防止膜を得る事は、従来の技術と同
様な原理に基づくものである。例えば、特開昭59−5
0401号公報に示されているように、2層膜では、基
材と接する第一層の膜の屈折率n1 と膜厚d1 および第
一層と接する第2層の屈折率n2 と膜厚d2 が以下の関
係を満たすようにする事によって、反射防止膜としての
作用が最適化される。このような多層膜による反射防止
条件については古くから公知である。 第1層 mλ/4×0.7<n1 1 <mλ/4×1.
3 第2層 nλ/4×0.7<n2 2 <nλ/4×1.
3 ただし、mは正整数、nは奇の正整数である。
The fine particle layer having such a low refractive index is
Not only the single-layer film shown in FIG. 1 but also the uppermost layer of the multilayer film can be used. In FIG. 2, a layer 2 having a refractive index higher than the refractive index of the substrate is provided on the substrate film, and further contains polymer fine particles obtained by polymerizing the α-fluoroacrylate ester of the present invention. 3 shows an antireflection film provided with a layer. Obtaining an effective antireflection film in a wider wavelength range by forming a multilayer in this way is based on the same principle as that of the prior art. For example, JP-A-59-5
As disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 0401, the two-layer film has a refractive index n 1 and a film thickness d 1 of the first layer film in contact with the base material and a refractive index n 2 of the second layer in contact with the first layer. By making the thickness d 2 satisfy the following relationship, the action as the antireflection film is optimized. The antireflection conditions for such a multilayer film have been known for a long time. First layer mλ / 4 × 0.7 <n 1 d 1 <mλ / 4 × 1.
3 Second layer nλ / 4 × 0.7 <n 2 d 2 <nλ / 4 × 1.
3 where m is a positive integer and n is an odd positive integer.

【0011】本発明においては、この微粒子間に持ち込
まれ、膜内に保持されるミクロボイドが均一であるこ
と、およびミクロボイドが光を散乱しない大きさである
ことに特徴がある。言い換えれば、該低屈折率層は微視
的にはミクロボイド含有多孔質膜であるが、光学的ある
いは巨視的には均一な膜とみなすことができる。このた
め、ミクロボイド含有膜の巨視的屈折率は、低屈折率の
α−フルオロアクリル酸エステルの重合体を用いること
と、重合体微粒子によって持ち込まれる空気の体積分率
に相当する分だけ低くなる。すなわち、この膜の屈折率
は膜を形成している成分の屈折率(1より大きな値を有
する)と持ち込まれた空気の屈折率(1.00である)
の体積平均で表されることになり、用いられた膜形成成
分の屈折率より低い値を示す結果となる。
The present invention is characterized in that the microvoids introduced between the fine particles and held in the film are uniform, and that the microvoids have a size that does not scatter light. In other words, the low refractive index layer is microscopically a microvoid-containing porous film, but can be regarded as an optically or macroscopically uniform film. For this reason, the macroscopic refractive index of the microvoid-containing film is lowered by an amount corresponding to the use of the low refractive index α-fluoroacrylate polymer and the volume fraction of air introduced by the polymer fine particles. That is, the refractive index of this film is the refractive index of the component forming the film (having a value larger than 1) and the refractive index of the introduced air (which is 1.00).
And the result is a value lower than the refractive index of the used film-forming component.

【0012】本発明に用いられる微粒子の粒径は200
nm以下のものである。粒子径が増大すると前方散乱が
増加し、200nmを越えると散乱光に色付きが生じる
ため好ましくない。さらに、好ましくは、光学性能的観
点と膜質的観点から70nm以下のものであり、特に好
ましいのは50nm以下である。このような微粒子はポ
リマーラテックスとして製造、入手が可能である。
The particle size of the fine particles used in the present invention is 200
nm or less. If the particle diameter increases, forward scattering increases, and if it exceeds 200 nm, the scattered light is undesirably colored. Further, the thickness is preferably 70 nm or less from the viewpoint of optical performance and film quality, and particularly preferably 50 nm or less. Such fine particles can be manufactured and obtained as a polymer latex.

【0013】本発明の微粒子を形成するα−フルオロア
クリル酸エステル重合体のモノマー単位はモノマーがα
位にフッ素原子を含有しているものであれば特に制限は
ない。これらのモノマーとしては以下の式で表わされる
ものを好ましく用いることができる。 CH2 =CF−COOR 式中Rは炭素数1ないし20の置換又は未置換のアルキ
ル基(例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、
イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−
ブチル基、アミル基、シクロヘキシル基、オクチル基、
ドデシル基、オクタデシル基、2−メトキシエチル基、
2,2,2−トリフルオロエチル基、ヘキサフルオロイ
ソプロピル基、1H,1H−パーフルオロオクチル基、
パーフルオロシクロヘキシルメチル基、1H,1H,2
H,2H−パーフルオロデシル基など)、置換又は未置
換のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、パー
フルオロフェニル基、パーフルオロノニルフェニル基な
ど)を表わす。
The monomer units of the α-fluoroacrylate polymer forming the fine particles of the present invention are those wherein the monomer is α
There is no particular limitation as long as it contains a fluorine atom at the position. As these monomers, those represented by the following formula can be preferably used. CH 2 CFCF—COOR In the formula, R represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group,
Isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-
Butyl group, amyl group, cyclohexyl group, octyl group,
Dodecyl group, octadecyl group, 2-methoxyethyl group,
2,2,2-trifluoroethyl group, hexafluoroisopropyl group, 1H, 1H-perfluorooctyl group,
Perfluorocyclohexylmethyl group, 1H, 1H, 2
H, 2H-perfluorodecyl group, etc., and substituted or unsubstituted aryl groups (eg, phenyl group, naphthyl group, perfluorophenyl group, perfluorononylphenyl group, etc.).

【0014】本発明の微粒子を形成するポリマーには上
記のα−フルオロアクリル酸エステルモノマーの他にα
位にフッ素原子を含有しないモノマーを併用しても良
い。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例え
ば、オレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレ
ン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど)、アクリル酸エ
ステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸2−エチルヘキシルなど)、メタクリル酸エステ
ル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート
など)、スチレン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼ
ン、ビニルトルエン、α−メチルスチレンなど)、ビニ
リエーテル類(メチルビニルエーテルなど)、ビニルエ
ステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビ
ニルなど)、アクリルアミド類(N−tertブチルア
クリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミドな
ど)、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体な
どを挙げることができる。また、モノマー中にフッ素原
子を含むものも好適に用いることができる。
The polymer forming the fine particles of the present invention includes, in addition to the above-mentioned α-fluoroacrylate monomer, α
A monomer having no fluorine atom at the position may be used in combination. There is no particular limitation on the monomer units that can be used in combination, and for example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylates (methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, etc.) ), Methacrylates (eg, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate), styrene derivatives (eg, styrene, divinylbenzene, vinyltoluene, α-methylstyrene), and vinylyl ethers (eg, methyl vinyl ether) ), Vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), acrylamides (N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, etc.), methacrylamides, Or the like can be mentioned acrylonitrile derivatives. Further, those containing a fluorine atom in the monomer can also be suitably used.

【0015】これらのモノマーの具体例としては、例え
ばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビ
ニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキ
サフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチ
ル−1,3−ジオキソールなど)、下記一般式で表され
るアクリル、メタクリル酸の部分または完全フッ素化ア
ルキルエステル誘導体類、完全または部分フッ素化ビニ
ルエーテル類などであり、これらの任意のモノマーを任
意の比率で組み合わせて共重合により目的のポリマーを
得ることができる。
Specific examples of these monomers include, for example, fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc.) Acrylic represented by the following general formula, partially or fully fluorinated alkyl ester derivatives of methacrylic acid, fully or partially fluorinated vinyl ethers, and the like. A polymer can be obtained.

【0016】[0016]

【化1】 Embedded image

【0017】本発明の重合体粒子の屈折率は用いた全モ
ノマー中のフッ素原子の含有量の増加に伴い低下する。
本発明の目的の反射防止膜の屈折率を充分に低くするた
めには、ポリマーが35重量%ないし80重量%のフッ
素原子を含むことが好ましく、特に好ましくは45重量
%ないし75重量%である。
The refractive index of the polymer particles of the present invention decreases as the content of fluorine atoms in all the monomers used increases.
In order to sufficiently lower the refractive index of the anti-reflection coating of the present invention, it is preferable that the polymer contains 35 to 80% by weight of fluorine atoms, particularly preferably 45 to 75% by weight. .

【0018】本発明に用いられるα−フルオロアクリル
酸エステルモノマーは、特開平7−188582号、特
許登録2509593号等に記載の方法およびこれらに
同等の方法で対応するα−フルオロアクリル酸誘導体と
アルコール類から容易に合成可能である。本発明に用い
られるα−フルオロアクリル酸エステル重合体微粒子は
通常の乳化重合によって容易に合成できる。乳化重合の
具体的方法については、高分子学会編「高分子科学実験
法」(東京化学同人、1981年)等の成書に詳しい記
述があり、これらの方法およびこれらに同等の方法を用
いることができる。
The α-fluoroacrylic acid ester monomer used in the present invention can be prepared by the methods described in JP-A-7-188852, Japanese Patent No. 2509593, etc., and the corresponding α-fluoroacrylic acid derivatives and alcohols by the methods equivalent thereto. It can be easily synthesized from a class. The α-fluoroacrylic acid ester polymer fine particles used in the present invention can be easily synthesized by ordinary emulsion polymerization. Specific methods of emulsion polymerization are described in detail in books such as "Experimental Methods for Polymer Science" edited by The Society of Polymer Science, Tokyo Kagaku Dojin (1981), and these methods and methods equivalent thereto must be used. Can be.

【0019】層としての屈折率は前述のようにミクロボ
イドの含有量の増加に伴い低下する。このため、本発明
の反射防止膜が充分な低屈折率を有するには、本発明の
α−フルオロアクリル酸エステル重合体微粒子からなる
層が含有するミクロボイドの量は3体積%ないし50体
積%が好ましく、特に好ましいのは5体積%ないし35
体積%である。
As described above, the refractive index of the layer decreases as the content of microvoids increases. For this reason, in order for the antireflection film of the present invention to have a sufficiently low refractive index, the amount of microvoids contained in the layer composed of the α-fluoroacrylate polymer fine particles of the present invention is preferably 3% by volume to 50% by volume. Preferred, particularly preferred is 5% to 35% by volume.
% By volume.

【0020】本発明における反射防止膜の重合体粒子に
は結晶性、非晶性のいずれのものも用いる事ができる。
また、本発明に用いる重合体粒子のガラス転移点(T
g)は特に制限が無く製膜時のボイド保持の観点から、
Tgが製膜温度以上であることが好ましい。しかしなが
ら、Tgが製膜温度より高いと粒子の融着が妨げられ連
続膜が形成されず、膜強度が悪化する懸念があるため後
述の併用バインダーの使用の実態に応じて融着効果とボ
イド保持効果をTgで最適な領域に調製したものを用い
ることが望ましい。
As the polymer particles of the antireflection film in the present invention, either crystalline or amorphous polymer particles can be used.
In addition, the glass transition point (T
g) is not particularly limited, and from the viewpoint of maintaining voids during film formation,
It is preferable that Tg is equal to or higher than the film forming temperature. However, if the Tg is higher than the film forming temperature, the fusion of the particles is hindered, a continuous film is not formed, and there is a concern that the film strength is deteriorated. It is desirable to use a material whose effect is adjusted to an optimum region by Tg.

【0021】本発明に用いられるα−フルオロアクリル
酸エステル重合体微粒子は一つの反射防止膜内に任意の
2種以上の粒子を任意の割合で混合して用いても良い。
また、本発明のα−フルオロアクリル酸エステル重合体
微粒子と本発明外の微粒子を併用しても良い。この場
合、併用する本発明外のポリマー微粒子に特に制限はな
いが通常の乳化重合で得られる粒子でも良いし、別途に
調製した有機溶媒系の溶液重合により得られる水不溶性
ポリマーの乳化物でも、水溶性ポリマーであっても良い
(以下バインダーと称す)。本発明の微粒子と併用する
バインダーの混合比率は特に制限はないが、膜質強化の
観点と膜内への有効な空隙導入の観点から本発明の微粒
子が30重量%ないし90重量%が好ましく、50重量
%ないし80重量%が特に好ましい。
The α-fluoroacrylic acid ester polymer fine particles used in the present invention may be used by mixing two or more kinds of arbitrary particles in an arbitrary ratio in one antireflection film.
Further, the α-fluoroacrylic acid ester polymer fine particles of the present invention may be used in combination with fine particles outside the present invention. In this case, the polymer fine particles outside the present invention to be used in combination are not particularly limited, but may be particles obtained by ordinary emulsion polymerization, or may be an emulsion of a water-insoluble polymer obtained by separately prepared organic solvent-based solution polymerization, It may be a water-soluble polymer (hereinafter referred to as a binder). The mixing ratio of the binder used in combination with the fine particles of the present invention is not particularly limited, but from the viewpoint of enhancing the film quality and introducing effective voids into the film, the fine particles of the present invention are preferably 30% by weight to 90% by weight. % By weight to 80% by weight are particularly preferred.

【0022】また、併用されるバインダーのTgは本発
明の微粒子を形成するポリマー成分のTgよりも低いこ
とが好ましい。これにより、併用するバインダーが製膜
時に変形し本発明の微粒子間の結着剤の役目を果たし、
充分な膜強度が期待できる。ただし、併用するバインダ
ーのTgが本発明の微粒子を形成するポリマー成分のT
gに極めて近いと本発明の微粒子が変形してミクロボイ
ドが減少してしまうため、併用するバインダーのTgは
本発明の粒子に比べて5℃以上低いことが好ましく、T
gの幅や製膜温度のゆらぎを考慮して20℃以上低いこ
とが特に好ましい。
Further, the Tg of the binder used in combination is preferably lower than the Tg of the polymer component forming the fine particles of the present invention. Thereby, the binder used together is deformed at the time of film formation and serves as a binder between the fine particles of the present invention,
Sufficient film strength can be expected. However, the Tg of the binder used in combination is the Tg of the polymer component forming the fine particles of the present invention.
g, the microparticles of the present invention are deformed and microvoids are reduced. Therefore, the Tg of the binder used in combination is preferably 5 ° C. or more lower than the particles of the present invention.
It is particularly preferable that the temperature is lower than 20 ° C. in consideration of the width of g and the fluctuation of the film forming temperature.

【0023】また、上記の微粒子や併用バインダーが光
や電子線の様な放射線エネルギーあるいは加熱や電磁波
の様な熱エネルギーで相互に反応して架橋可能な官能基
を導入することによっても粒子間の共有結合生成による
膜強度向上ができる。架橋性基として好適に使用できる
ものとしては、放射線や熱により反応する官能基であれ
ば特に限定はなく、例えば、イソシアナート基、ブロッ
クイソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキ
サゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン
基、カルボキシル基、メチロール基、活性メチレン基を
有する化合物のほか、ビニルスルホン酸、酸無水物、シ
アノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロ
ール、エステル、ウレタンなどから選ばれる官能基を含
む粒子を挙げることができる。また、本発明において架
橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結
果反応性を示すものであってもよい。使用する架橋性化
合物は相互反応可能な基を導入した2種以上の化合物を
併用しても良いし、ビニル基、活性メチレン基など自己
架橋が可能な基を分子内に複数個有する化合物を用いて
も良い。また、微粒子がコア−シェル構造を有し、シェ
ルに架橋性基を有する方が好ましい。
Also, the fine particles and the combined binder can react with each other by radiation energy such as light or electron beam or heat energy such as heating or electromagnetic wave to introduce a crosslinkable functional group, thereby also causing a cross-linkage between particles. The film strength can be improved by the formation of covalent bonds. The thing which can be suitably used as a crosslinkable group is not particularly limited as long as it is a functional group which reacts by radiation or heat, and examples thereof include an isocyanate group, a block isocyanate group, an epoxy group, an aziridine group, an oxazoline group, and an aldehyde group. , Carbonyl group, hydrazine group, carboxyl group, methylol group, in addition to compounds having an active methylene group, vinyl sulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester, functional group selected from urethane and the like Including particles. Further, in the present invention, the cross-linking group is not limited to the above-mentioned compound, but may be one which shows reactivity as a result of decomposition of the above-mentioned functional group. The crosslinkable compound to be used may be a combination of two or more compounds having a group capable of reacting with each other, or a compound having a plurality of self-crosslinkable groups such as a vinyl group and an active methylene group in a molecule. May be. Further, it is preferable that the fine particles have a core-shell structure and the shell has a crosslinkable group.

【0024】本発明の反射防止膜を形成する基材として
は、各種のプラスチックフィルムが使用でき、セルロー
ス誘導体(例えば、トリアセチル−(TAC)、ジアセ
チル−、プロピオニル−、ブタノイル−、アセチルプロ
ピオニル−アセテート、ニトロ−など)、ポリアミド、
ポリカーボネート、特公昭48−40414号に記載の
ポリエステル(特にポリエチレンテレフタレート、ポリ
−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、
ポリエチレン1,2−ジフェノキシエタン−4,4−ジ
カルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレートなど)、ポリスチレン、ポリプロ
ピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン、ポリスル
フォン、ポリエーテルスルフォン、ポリアリレート、ポ
リエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート等のよう
な各種透明樹脂が好ましく用いられる。
As the substrate on which the antireflection film of the present invention is formed, various plastic films can be used, and cellulose derivatives (for example, triacetyl- (TAC), diacetyl-, propionyl-, butanoyl-, acetylpropionyl-acetate) can be used. , Nitro-, etc.), polyamides,
Polycarbonate, polyester described in JP-B-48-40414 (especially polyethylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate,
Polyethylene 1,2-diphenoxyethane-4,4-dicarboxylate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polystyrene, polypropylene, polyethylene, polymethylpentene, polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyetherimide Various transparent resins such as polymethyl methacrylate and the like are preferably used.

【0025】また、多層膜として用いる場合には、低屈
折率層の下方に設けられる高屈折率層の素材として、以
下の様なものを用いることができる。
When used as a multilayer film, the following materials can be used as the material of the high refractive index layer provided below the low refractive index layer.

【0026】有機材料としては比較的屈折率の高い被膜
形成性物質、たとえばポリスチレン、ポリスチレン共重
合体、ポリカーボネート、ポリスチレン以外の芳香環、
複素環、脂環式環状基、またはフッ素以外のハロゲン基
を有する各種重合体組成物、メラミン樹脂、フェノール
樹脂、ないしエポキシ樹脂などを硬化剤とする各種熱硬
化性樹脂形成性組成物、脂環式ないしは芳香族イソシア
ネートおよびまたはこれらとポリオールからなるウレタ
ン形成性組成物、および上記の化合物に2重結合を導入
することにより、ラジカル硬化を可能にした各種変性樹
脂またはプレポリマを含む組成物などが好ましく用いら
れる。また無機系微粒子を分散させた有機材料としては
一般に無機系微粒子が高屈折率を有するため有機材料単
独で用いられる場合よりも低屈折率ものも用いられる。
上記に述べた有機材料の他、アクリル系を含むビニル系
共重合体、ポリエステル(アルキドを含む)系重合体、
繊維素系重合体、ウレタン系重合体、およびこれらを硬
化せしめる各種の硬化剤、硬化性官能基を有する組成物
など透明性があり無機系微粒子を安定に分散せしめる各
種の有機材料が使用可能である。さらに有機置換された
ケイ素系化合物をこれに含めることができる。
As the organic material, a film-forming substance having a relatively high refractive index, for example, polystyrene, a polystyrene copolymer, polycarbonate, an aromatic ring other than polystyrene,
Various polymer compositions having a heterocyclic ring, an alicyclic cyclic group, or a halogen group other than fluorine, various thermosetting resin-forming compositions using a melamine resin, a phenol resin, or an epoxy resin as a curing agent, an alicyclic ring A urethane-forming composition comprising a formula or an aromatic isocyanate and / or a polyol thereof and a polyol, and a composition containing various modified resins or prepolymers capable of radical curing by introducing a double bond into the above compound are preferable. Used. In addition, as the organic material in which the inorganic fine particles are dispersed, a material having a lower refractive index than that in the case where the organic material is used alone is generally used because the inorganic fine particles have a high refractive index.
In addition to the organic materials described above, vinyl copolymers including acrylics, polyester (including alkyd) polymers,
Various organic materials that can stably disperse inorganic fine particles such as cellulose polymer, urethane polymer, and various curing agents that cure them, and compositions having curable functional groups can be used. is there. Further, an organic-substituted silicon-based compound can be included therein.

【0027】これらのケイ素系化合物は一般式 R1 a 2 b SiX4-(a+b) (ここでR1 、R2 は各々アルキル基、アルケニル基、
アリル基、またはハロゲン基、エポキシ基、アミノ基、
メルカプト基、メタクリルオキシ基ないしシアノ基を有
する炭化水素基。Xはアルコキシル、アルコキシアルコ
キシル、ハロゲンないしアシルオキシ基から選ばれた加
水分解可能な置換基。a、bは各々0ないし2の整数で
かつa+bが1または2である。)で表される化合物な
いしはその加水分解生成物である。
These silicon compounds have the general formula R 1 a R 2 b SiX 4- (a + b) (where R 1 and R 2 are an alkyl group, an alkenyl group,
Allyl group, or halogen group, epoxy group, amino group,
Hydrocarbon groups having a mercapto group, a methacryloxy group or a cyano group. X is a hydrolyzable substituent selected from alkoxyl, alkoxyalkoxyl, halogen and acyloxy groups. a and b are each an integer of 0 to 2, and a + b is 1 or 2. ) Or a hydrolysis product thereof.

【0028】これに分散される無機化合物としてはアル
ミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモンなど
の金属元素の酸化物が好ましく用いられる。これらは微
粒子状で粉末ないしは水および/またはその他の溶媒中
へのコロイド状分散体として提供されるものである。こ
れらは上記の有機材料または有機ケイ素化合物中に混合
分散される。
As the inorganic compound dispersed therein, oxides of metal elements such as aluminum, titanium, zirconium and antimony are preferably used. These may be provided in finely divided form as a powder or as a colloidal dispersion in water and / or other solvents. These are mixed and dispersed in the above organic material or organosilicon compound.

【0029】被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自
身が液状である無機系材料としては各種元素のアルコキ
シド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物
がありこれらの好適な例としては、チタンテトラエトキ
シド、チタンテトラ−i−プロポキシド、チタンテトラ
−n−プロポキシド、チタンテトラ−n−ブトキシド、
チタンテトラ−sec −ブトキシド、チタンテトラ−tert
−ブトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニ
ウムトリ−i−プロポキシド、アルミニウムトリブトキ
シド、アンチモントリエトキシド、アンチモントリブト
キシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウム
テトラ−i−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−n−
プロポキシド、ジルコニウムテトラ−n−ブトキシド、
ジルコニウムテトラ−sec −ブトキシド、ジルコニウム
テトラ−tert−ブトキシドなどの金属アルコレート化合
物、さらにはジ−イソプロポキシチタニウムビスアセチ
ルアセトネート、ジ−ブトキシチタニウムビスアセチル
アセトネート、ジ−エトキシチタニウムビスアセチルア
セトネート、ビスアセチルアセトンジルコニウム、アル
ミニウムアセチルアセトネート、アルミニウムジ−n−
ブトキシドモノエチルアセトアセテート、アルミニウム
ジ−i−プロポキシドモノメチルアセトアセテート、ト
リ−n−ブトキシドジルコニウムモノエチルアセトアセ
テートなどのキレート化合物、さらには炭酸ジルコニー
ルアンモニウム、あるいはジルコニウムを主成分とする
活性無機ポリマーなどをあげることができる。上記に述
べた他に、屈折率が比較的低いが上記の化合物と併用で
きるものとしてとくに各種のアルキルシリケート類もし
くはその加水分解物、微粒子状シリカとくにコロイド状
に分散したシリカゲルが用いられる。
Examples of inorganic materials which are film-forming and can be dispersed in a solvent or are themselves liquid include alkoxides of various elements, salts of organic acids, and coordination compounds bonded to coordination compounds. Examples include titanium tetraethoxide, titanium tetra-i-propoxide, titanium tetra-n-propoxide, titanium tetra-n-butoxide,
Titanium tetra-sec-butoxide, titanium tetra-tert
-Butoxide, aluminum triethoxide, aluminum tri-i-propoxide, aluminum tributoxide, antimony triethoxide, antimony tributoxide, zirconium tetraethoxide, zirconium tetra-i-propoxide, zirconium tetra-n-
Propoxide, zirconium tetra-n-butoxide,
Zirconium tetra-sec-butoxide, metal alcoholate compounds such as zirconium tetra-tert-butoxide, further di-isopropoxytitanium bisacetylacetonate, di-butoxytitanium bisacetylacetonate, di-ethoxytitanium bisacetylacetonate, Bisacetylacetone zirconium, aluminum acetylacetonate, aluminum di-n-
Chelate compounds such as butoxide monoethyl acetoacetate, aluminum di-i-propoxide monomethyl acetoacetate, and tri-n-butoxide zirconium monoethyl acetoacetate, and further active inorganic polymers containing zirconium ammonium carbonate or zirconium as a main component Can be given. In addition to those described above, various alkyl silicates or hydrolysates thereof, and finely divided silica, particularly silica gel dispersed in a colloidal form, are used as those which have a relatively low refractive index but can be used in combination with the above compounds.

【0030】本発明の反射防止層を形成する各層は一般
によく知られた方法、例えばディップコート法、エアー
ナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート
法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、或いは
米国特許第2,681,294号明細書に記載のホッパ
ーを使用するエクストルージョンコート法等により塗布
することができる。また必要に応じて、米国特許第2,
761,791号、3,508,947号、2,94
1,898号、及び3,526,528号明細書、原崎
勇次著「コーティング工学」253頁(1973年朝倉
書店発行)等に記載された方法により2層以上の層を同
時に塗布することができる。
The layers forming the anti-reflection layer of the present invention may be formed by generally known methods, for example, dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, or US It can be applied by an extrusion coating method using a hopper described in Japanese Patent No. 2,681,294. Also, if necessary, U.S. Pat.
No. 761,791, 3,508,947, 2,94
No. 1,898 and 3,526,528, and two or more layers can be coated simultaneously by the method described in Yuji Harazaki, “Coating Engineering”, page 253 (published by Asakura Shoten in 1973). .

【0031】本発明の低屈折率反射防止層は、中間層と
してハードコート層、防湿、帯電防止層等を設ける事も
できる。ハードコート層としては、アクリル系、ウレタ
ン系、エポキシ系のポリマーの他に、シリカ系の化合物
が使用できる。
The low-refractive-index antireflection layer of the present invention may be provided with a hard coat layer, a moisture-proof, antistatic layer and the like as an intermediate layer. As the hard coat layer, silica-based compounds can be used in addition to acrylic-based, urethane-based, and epoxy-based polymers.

【0032】本発明の低屈折率反射防止膜層の表面に有
機、無機化合物によって凹凸を形成し、外光を散乱させ
て景色等の写り込みを防ぐアンチグレア効果を付与する
こともできる。また、この反射防止膜は単独であるいは
アンチグレア効果を併用して液晶表示装置(LCD)、
プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッ
センスディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CR
T)などの画像表示装置に適用し、外光の反射を防止す
ることで、視認性を大幅に改良することができる。
The surface of the low-refractive-index antireflection film layer of the present invention can be formed with an organic or inorganic compound to provide an anti-glare effect of scattering external light to prevent reflection of scenery and the like. The anti-reflection film may be used alone or in combination with an anti-glare effect in a liquid crystal display (LCD),
Plasma display (PDP), electroluminescence display (ELD), cathode ray tube display (CR
By applying the present invention to an image display device such as T) and preventing reflection of external light, visibility can be significantly improved.

【0033】[0033]

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
The present invention will be described below in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0034】(α−フルオロアクリル酸エステルモノマ
ー(FM−2)の合成) 1)α−フルオロアクリル酸ヘキサフルオロイソプロピ
ルの合成 冷却管、温度計および攪拌装置を取り付けた2リットル
の三ツ口フラスコに1リットルのキシレン、20gのジ
メチルアセトアミドおよび112.0g(1.0mo
l)のα−フルオロアクリル酸ナトリウム塩を入れ室温
にて攪拌する。この混合物に塩化チオニル51.0g
(0.43モル)を1時間かけて滴下する。次いでこの
反応混合物を80℃にて2時間反応させた後、0℃に冷
却し、ヘキサフルオロイソプロパノール180.0g
(1.07モル)とトリエチルアミン108.1g
(1.07モル)の混合物を1時間かけて滴下した。得
られた反応溶液を室温にて30分間攪拌した後、不溶物
を除去し、p−メトキシフェノール0.5gを添加し
て、蒸留して無色透明液体121.3gを沸点95℃か
ら100℃の留分として得た。収率50.5%。
(Synthesis of α-fluoroacrylate monomer (FM-2)) 1) Synthesis of hexafluoroisopropyl α-fluoroacrylate One liter was placed in a two-liter three-necked flask equipped with a cooling tube, a thermometer and a stirrer. Of xylene, 20 g of dimethylacetamide and 112.0 g (1.0 mol
l) α-Fluoroacrylic acid sodium salt is added and stirred at room temperature. 51.0 g of thionyl chloride was added to this mixture.
(0.43 mol) is added dropwise over 1 hour. Next, the reaction mixture was reacted at 80 ° C. for 2 hours, cooled to 0 ° C., and treated with 180.0 g of hexafluoroisopropanol.
(1.07 mol) and 108.1 g of triethylamine
(1.07 mol) was added dropwise over 1 hour. After stirring the obtained reaction solution at room temperature for 30 minutes, insolubles were removed, 0.5 g of p-methoxyphenol was added, and the mixture was distilled to obtain 121.3 g of a colorless transparent liquid having a boiling point of 95 ° C to 100 ° C. Obtained as a fraction. Yield 50.5%.

【0035】本発明のその他のα−フルオロアクリル酸
エステルモノマーも上記の合成方法と同じ、またはこれ
に準じた方法で容易に合成可能であった。これらの方法
で合成した本発明のα−フルオロアクリル酸エステルモ
ノマーを以下にまとめて示す。
The other α-fluoroacrylic acid ester monomers of the present invention could be easily synthesized by the same method as described above or a method analogous thereto. The α-fluoroacrylic acid ester monomers of the present invention synthesized by these methods are summarized below.

【0036】FM−1 α−フルオロアクリル酸メチル FM−2 α−フルオロアクリル酸ヘキサフルオロイソ
プロピル FM−3 α−フルオロアクリル酸tert−ブチル FM−4 α−フルオロアクリル酸シクロヘキシル FM−5 α−フルオロアクリル酸2,2,2−トリフ
ルオロエチル FM−6 α−フルオロアクリル酸1H,1H,2H,
2H−パーフルオロデシル FM−7 α−フルオロアクリル酸パーフルオロシクロ
ヘキシルメチル FM−8 α−フルオロアクリル酸1H,1H−パーフ
ルオロオクチル FM−9 エチルグリコール−ジ−α−フルオロアクリ
レート FM−10 α−フルオロアクリル酸パーフルオロ−tert
−ブチル
FM-1 Methyl α-fluoroacrylate FM-2 Hexafluoroisopropyl α-fluoroacrylate FM-3 Tert-butyl α-fluoroacrylate FM-4 Cyclohexyl α-fluoroacrylate FM-5 α-Fluoroacryl 2,2,2-trifluoroethyl acid FM-6 α-fluoroacrylic acid 1H, 1H, 2H,
2H-perfluorodecyl FM-7 perfluorocyclohexylmethyl α-fluoroacrylate FM-8 1H, 1H-perfluorooctyl FM-9 FM-9 ethyl glycol-di-α-fluoroacrylate FM-10 α-fluoro Perfluoro-tert-acrylate
-Butyl

【0037】(重合体微粒子の合成) 1)FP1の合成 冷却管と攪拌装置を取り付けた2リットル三ツ口フラス
コにドデシル硫酸ナトリウム20gを蒸留水1350m
lに溶解した溶液を入れ、次いでα−フルオロアクリル
酸ヘキサフルオロイソプロピルエステル180g(0.
75モル)とジビニルベンゼン18g(0.14モル)
の混合溶液を加え、窒素気流下で200rpmの速度で
攪拌した。この反応容器を75℃に加熱し、8%過硫酸
ナトリウム水溶液40mlを添加して2時間重合させ
た。更に、8%過硫酸ナトリウム水溶液40mlを加え
て2時間重合した。この反応液を室温まで冷却し、分画
分子量1万のセルロース膜を用いて透析し、過剰な界面
活性剤や無機塩類を除去した後、濾過にて不溶分を除去
して微乳濁白色の水溶液2160gを得た。この溶液は
不揮発分9.1重量%を含む平均粒子径36nmの微細
ラテックス液であった。粒子サイズはコールター社粒子
測定装置N4を用いて動的光散乱法により評価した。
(Synthesis of Polymer Fine Particles) 1) Synthesis of FP1 20 g of sodium dodecyl sulfate was placed in a 2 liter three-necked flask equipped with a cooling pipe and a stirrer, and distilled water (1350 m) was used.
of the solution dissolved in α-fluoroacrylic acid hexafluoroisopropyl ester 180 g (0.1 g).
75 mol) and 18 g (0.14 mol) of divinylbenzene
Was added and stirred at a speed of 200 rpm under a nitrogen stream. This reaction vessel was heated to 75 ° C., and 40 ml of an 8% aqueous solution of sodium persulfate was added to carry out polymerization for 2 hours. Further, 40 ml of an 8% aqueous sodium persulfate solution was added, and polymerization was performed for 2 hours. The reaction solution was cooled to room temperature, dialyzed using a cellulose membrane having a molecular weight cut off of 10,000 to remove excess surfactants and inorganic salts, and then filtered to remove insolubles to remove a fine milky white color. 2160 g of an aqueous solution was obtained. This solution was a fine latex liquid containing 9.1% by weight of nonvolatile components and having an average particle diameter of 36 nm. The particle size was evaluated by a dynamic light scattering method using a Coulter particle measuring device N4.

【0038】2)FP2の合成 冷却管と攪拌装置を取り付けた2リットル三ツ口フラス
コにドデシル硫酸ナトリウム50gを蒸留水1350m
lに溶解した溶液を入れ、次いでα−フルオロアクリル
酸1H,1H−パーフルオロオクチルエステル150g
(0.32モル)、メタクリル酸tert−ブチルエステル
45g(0.32モル)とジビニルベンゼン30g
(0.23モル)の混合溶液を加え、窒素気流下で20
0rpmの速度で攪拌した。この反応容器を75℃に加
熱し、8%過硫酸ナトリウム水溶液30mlを添加して
2時間重合させた。更に、8%過硫酸ナトリウム水溶液
50mlを加えて2時間重合した後、この反応液を室温
まで冷却し、分画分子量1万のセルロース膜を用いて透
析し、過剰な界面活性剤や無機塩類を除去、濾過にて不
溶分を除去して微乳濁白色の水溶液2960gを得た。
この溶液は不揮発分7.6重量%を含む平均粒子径57
nmの微細ラテックス液であった。粒子サイズはコール
ター社粒子測定装置N4を用いて動的光散乱法により評
価した。
2) Synthesis of FP2 In a 2 liter three-necked flask equipped with a cooling tube and a stirrer, 50 g of sodium dodecyl sulfate was placed in 1350 m of distilled water.
of α-fluoroacrylic acid 1H, 1H-perfluorooctyl ester 150 g
(0.32 mol), 45 g (0.32 mol) of methacrylic acid tert-butyl ester and 30 g of divinylbenzene
(0.23 mol), and the mixture was added under nitrogen stream for 20 minutes.
The mixture was stirred at a speed of 0 rpm. This reaction vessel was heated to 75 ° C., and 30 ml of an 8% aqueous solution of sodium persulfate was added to carry out polymerization for 2 hours. Furthermore, after adding 50 ml of an 8% aqueous sodium persulfate solution and polymerizing for 2 hours, the reaction solution was cooled to room temperature and dialyzed using a cellulose membrane having a molecular weight cut off of 10,000 to remove excess surfactant and inorganic salts. The insoluble matter was removed by filtration and filtration to obtain 2960 g of a fine milky white aqueous solution.
This solution had an average particle size of 57% containing 7.6% by weight of nonvolatile components.
It was a fine latex liquid of nm. The particle size was evaluated by a dynamic light scattering method using a Coulter particle measuring device N4.

【0039】本発明に用いるその他のボイド粒子は上記
の乳化重合法と同じまたはこれに準じた方法で容易に合
成できた。これらの方法で合成した本発明のボイド微粒
子(FP1〜FP7)を下記の表1にまとめて示す。
The other void particles used in the present invention could be easily synthesized by the same method as the above-mentioned emulsion polymerization method or a method similar thereto. The void microparticles (FP1 to FP7) of the present invention synthesized by these methods are summarized in Table 1 below.

【0040】[0040]

【表1】 [Table 1]

【0041】実施例1(反射防止層の塗設と性能評価)Example 1 (Coating of antireflection layer and evaluation of performance)

【0042】上記の表1に記載の微粒子を用いて、表2
の組成で調製した水溶液(E1〜E10)をトリアセチ
ルセルロース(以下TACと称す)フィルム上にスピン
コータを用いて塗布し、80℃で60分乾燥し、膜厚1
00nmの低屈折率層を形成した。得られた膜(X1〜
X10)について屈折率、空隙率、視感反射率の測定お
よび膜表面強度測定を実施した。低屈折率層の空隙率は
層の屈折率を測定し、用いた層構成成分の組成から得ら
れる層の屈折率の計算値との差から空気の体積分率を逆
算した。膜表面強度は、指先、ティッシュ、消しゴムで
それぞれこすり、目視観察し、指先こすりで傷付くもの
を××、ティッシュこすりで傷付くものを×、消しゴム
こすりで傷付くものを△、どの方法でも傷が認められな
いものを○とした。結果を表3に示した。
Using the fine particles shown in Table 1 above, Table 2
Aqueous solutions (E1 to E10) prepared by the above composition were applied onto a triacetylcellulose (hereinafter referred to as TAC) film using a spin coater, dried at 80 ° C. for 60 minutes, and dried.
A low refractive index layer of 00 nm was formed. The obtained film (X1
For X10), the measurement of the refractive index, the porosity, the luminous reflectance and the film surface strength were performed. For the porosity of the low refractive index layer, the refractive index of the layer was measured, and the volume fraction of air was calculated backward from the difference from the calculated value of the refractive index of the layer obtained from the composition of the layer components used. The surface strength of the film was determined by rubbing with a fingertip, a tissue, and an eraser, visually observing, xx for those that were scratched by rubbing the fingertip, x for those that were scratched by rubbing the tissue, and △ for those that were scratched by rubbing the eraser. A sample in which no was observed was evaluated as ○. The results are shown in Table 3.

【0043】[0043]

【表2】 [Table 2]

【0044】[0044]

【表3】 [Table 3]

【0045】上記実施例1で用いた本発明の微粒子を表
2に示すとおり本発明外の粒子(NP1〜NP2)に置
き換えた外は実施例1と同じにして比較サンプル溶塗布
溶液(F1〜F4)を調製し、同条件で製膜して比較サ
ンプル(Y1〜Y4)を得た。得られた膜を上記実施例
1と同じ方法で膜の屈折率、視感反射率(光波長400
nm〜800nmの平均反射率値)の測定およびサファ
イヤ針による膜強度測定を実施した。結果を表3に併せ
て示した。
The same procedure as in Example 1 was repeated except that the fine particles of the present invention used in Example 1 were replaced with particles (NP1 to NP2) outside the present invention as shown in Table 2, and the comparative sample solution coating solution (F1 to F4) was prepared and formed into a film under the same conditions to obtain comparative samples (Y1 to Y4). The obtained film was subjected to the same method as in Example 1 to obtain a film having a refractive index and a luminous reflectance (a light wavelength of 400).
(mean reflectance value from nm to 800 nm) and film strength measurement with a sapphire needle. The results are shown in Table 3.

【0046】実施例2(重層型反射防止フイルムの作
成) (1)第1層(ハードコート層)の塗設 90μmの厚みを有するTACフィルムに5重量%のジ
ペンタエリスルトールヘキサアクリレートと光重合開始
剤(商品名:イルガキュア907、チバガイギー社製)
0.5重量%、光増感剤(商品名:カヤキュアーDET
X、日本化薬社製)0.2重量%を含むトルエン溶液を
ワイヤーバーを用いて8μmの厚さに塗布し、これを乾
燥後、100℃に加熱して12W/cmの高圧水銀灯を
用いて1分間紫外線照射し架橋した。その後室温まで放
冷した。
Example 2 (Preparation of multilayer antireflection film) (1) Coating of first layer (hard coat layer) A TAC film having a thickness of 90 μm was coated with 5% by weight of dipentaerythritol hexaacrylate and light. Polymerization initiator (trade name: Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy)
0.5% by weight, photosensitizer (trade name: Kaya Cure DET)
X, manufactured by Nippon Kayaku Co.) A toluene solution containing 0.2% by weight was applied to a thickness of 8 μm using a wire bar, dried, heated to 100 ° C., and a high-pressure mercury lamp of 12 W / cm was used. For 1 minute to crosslink. Then, it was allowed to cool to room temperature.

【0047】(2)第2層(高屈折率層)の塗設 別途合成したポリ(n−ブチルメタクリレート−コ−メ
タクリル酸)ラテックス(共重合組成重量比80:2
0、平均粒子径63nm、固形分濃度12.5重量%:
HP1)100g、酸化錫微粒子(石原産業(株)より
入手の物)25gを混合し、さらに、ジペンタエリスル
トールヘキサアクリレート6g、光重合開始剤(商品
名:イルガキュア907、チバガイギー社製)0.5
g、光増感剤(商品名:カヤキュアーDETX、日本化
薬社製)0.2g酢酸エチル20gをドデシルベンゼン
スルホン酸ナトリウム1gを用いて水100gに乳化分
散した乳化物液を混合、攪拌して塗布溶液を調製した。
この液を上記で作成した第1層の上にワイヤーバーを用
いて厚さ0.16μmに塗布し、これを乾燥後、100
℃に加熱して12W/cmの高圧水銀灯を用いて1分間
紫外線照射し架橋、その後室温まで放冷した。
(2) Coating of Second Layer (High Refractive Index Layer) Separately synthesized poly (n-butyl methacrylate-co-methacrylic acid) latex (copolymer composition weight ratio: 80: 2)
0, average particle diameter 63 nm, solid content concentration 12.5% by weight:
HP1) 100 g and tin oxide fine particles (obtained from Ishihara Sangyo Co., Ltd.) 25 g were mixed, further, dipentaerythritol hexaacrylate 6 g, and a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) 0 .5
g, 0.2 g of a photosensitizer (trade name: Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) An emulsion liquid obtained by emulsifying and dispersing 20 g of ethyl acetate in 100 g of water using 1 g of sodium dodecylbenzenesulfonate was mixed and stirred. A coating solution was prepared.
This liquid was applied to a thickness of 0.16 μm on the first layer prepared above using a wire bar, and after drying,
C. and cross-linked by irradiating with ultraviolet rays for 1 minute using a 12 W / cm high-pressure mercury lamp, and then allowed to cool to room temperature.

【0048】(3)第3層(低屈折率層)の作成 ジペンタエリスルトールヘキサアクリレート6g、光重
合開始剤(商品名:イルガキュア907、チバガイギー
社製)0.5g、光増感剤(商品名:カヤキュアーDE
TX、日本化薬社製)0.2g酢酸エチル20gをドデ
シルベンゼンスルホン酸ナトリウム1gを用いて水10
0gに乳化分散した乳化物液と先に合成したラテックス
FP1 100gとを混合、攪拌して、塗布溶液を調製
した。この液を上記で作成した第2層の上にワイヤーバ
ーを用いて厚さ0.10μmに塗布し、これを乾燥後、
100℃に加熱して12W/cmの高圧水銀灯を用いて
1分間紫外線照射し架橋した。その後室温まで放冷し
た。こうして得られた第1層〜第3層を塗設したフイル
ムは視感の表面反射率0.4%、膜表面強度○(実施例
1に説明の方法による)の表面物性を示すものであった
(反射防止フイルム:ARF1)。
(3) Preparation of Third Layer (Low Refractive Index Layer) 6 g of dipentaerythritol hexaacrylate, 0.5 g of photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 907, manufactured by Ciba-Geigy), photosensitizer ( Product Name: Kaya Cure DE
TX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0.2 g of ethyl acetate 20 g of sodium dodecylbenzenesulfonate in 10 g of water
A coating solution was prepared by mixing and stirring 100 g of the previously synthesized latex FP1 and the emulsion liquid emulsified and dispersed in 0 g. This liquid was applied to a thickness of 0.10 μm using a wire bar on the second layer prepared above, and after drying,
The mixture was heated to 100 ° C. and irradiated with ultraviolet rays for 1 minute using a high-pressure mercury lamp of 12 W / cm for crosslinking. Then, it was allowed to cool to room temperature. The thus-obtained film coated with the first to third layers exhibits a surface reflectance of 0.4% of the visual perception, and the surface physical properties of the film surface strength に よ る (by the method described in Example 1). (Anti-reflection film: ARF1).

【0049】HP1、FP1をそれぞれ下記の表4に示
す素材とし、塗布液の固形分濃度が同じになる様に調液
量を変えた外は上記例に同じ方法で反射防止フイルムA
RF2〜6を得た。これらのフイルムの表面性能を表4
に併せて示す。同時に第3層に使用した化合物を本発明
外の粒子NP1〜NP3に変え、塗布液の固形分濃度を
同じになる様に調液量を変えた外は上記例に同じ方法で
比較フイルムCF1〜3を得た。これらの表面性能も表
4に併せて示す。
The antireflection film A was prepared in the same manner as in the above example except that HP1 and FP1 were made of the materials shown in Table 4 below, and the amount of liquid preparation was changed so that the solid content concentration of the coating solution was the same.
RF2 to 6 were obtained. Table 4 shows the surface performance of these films.
Are shown together. At the same time, the compound used for the third layer was changed to particles NP1 to NP3 outside the present invention, and the amount of the liquid preparation was changed so that the solid content concentration of the coating solution was the same. 3 was obtained. These surface performances are also shown in Table 4.

【0050】[0050]

【表4】 [Table 4]

【0051】本実施例から明らかなように、本発明の反
射防止膜は非常に低い反射率と広い波長領域を有する優
れた反射防止性能を有するだけでなく、十分に強靱な膜
強度を有していることがわかる。
As is clear from this example, the antireflection film of the present invention not only has a very low reflectance and an excellent antireflection performance having a wide wavelength range, but also has a sufficiently strong film strength. You can see that it is.

【0052】実施例3(反射防止フイルムを設置した表
示装置の作成) 上記実施例2で作成した反射防止フイルムX2を日本電
気株式会社より入手したパーソナルコンピューターPC
9821NS/340Wの液晶ディスプレイ表面に貼り
付け、表示装置サンプルを作成し、その表面反射による
風景映り込み程度を目視にて評価した。同様に上記方法
で用いる反射防止フイルムを上記実施例2で作成したフ
イルムX3、X5、Y1、Y3を用いて表示装置サンプ
ルを作成した。本発明の反射防止フイルムX2、X3、
X5を設置した表示装置は周囲の風景映り込みが殆どな
く、快適な視認性を示したのに対し、比較用フイルムX
2、X3を設置した表示装置は周囲の映り込みが多く、
視認性が劣るものであった。
Example 3 (Preparation of a display device provided with an antireflection film) The antireflection film X2 prepared in Example 2 was obtained from a personal computer PC obtained from NEC Corporation.
A sample was attached to the surface of a 9821NS / 340W liquid crystal display to prepare a display device sample, and the degree of reflection of the scenery by surface reflection was visually evaluated. Similarly, display device samples were prepared using the films X3, X5, Y1, and Y3 prepared in Example 2 as the antireflection films used in the above method. The antireflection films X2, X3 of the present invention,
The display device on which X5 was installed showed almost no reflection of the surrounding scenery and showed comfortable visibility, whereas the comparison film X
2. The display device with X3 installed has many reflections around it,
The visibility was poor.

【0053】[0053]

【発明の効果】本発明ではα−フルオロアクリル酸エス
テルを重合して得られる微粒子を用いて膜を塗設するこ
とによって空隙を有する膜を製膜することで膜中のフッ
素含率を向上し、同じ空隙率においてもより低い屈折率
の膜を得ることができる。これによって反射防止膜とし
て非常に良好な光学特性を発現し、膜強度、耐傷性等の
膜物性に優れた、安価で大面積な反射防止膜を製造適性
を有した形で提供することができる。
According to the present invention, the fluorine content in the film is improved by forming a film having voids by coating the film with fine particles obtained by polymerizing α-fluoroacrylate. Even with the same porosity, a film having a lower refractive index can be obtained. As a result, very good optical properties are exhibited as an anti-reflection film, and a low-cost, large-area anti-reflection film having excellent film properties such as film strength and scratch resistance can be provided in a form having suitability for production. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の含フッ素重合体微粒子から成る層によ
る反射防止膜の断面図を示す。
FIG. 1 is a cross-sectional view of an antireflection film made of a layer comprising a fluoropolymer fine particle of the present invention.

【図2】本発明の含フッ素重合体微粒子から成る層と、
基材よりも高い屈折率を有する層から成る反射防止膜の
断面図を示す。
FIG. 2 shows a layer comprising the fluoropolymer fine particles of the present invention,
FIG. 2 shows a cross-sectional view of an antireflection film made of a layer having a higher refractive index than a substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 低屈折率層 2 高屈折率層 3 基材 1 low refractive index layer 2 high refractive index layer 3 substrate

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 平均粒径が200nm以下の重合体微粒
子を含む層を有し、該微粒子の少なくとも1種がα−フ
ルオロアクリル酸のエステルを重合して得られる重合体
である低屈折率層を有することを特徴とする反射防止
膜。
1. A low refractive index layer having a layer containing polymer fine particles having an average particle diameter of 200 nm or less, wherein at least one of the fine particles is a polymer obtained by polymerizing an ester of α-fluoroacrylic acid. An anti-reflection film comprising:
【請求項2】 形成された低屈折率層が少なくとも3体
積%以上の空隙を含有していることを特徴とする請求項
1に記載の反射防止膜。
2. The antireflection film according to claim 1, wherein the formed low refractive index layer contains at least 3% by volume of voids.
【請求項3】 該微粒子の少なくとも一種が架橋性基を
含有する重合体から成ることを特徴とする請求項1また
は2に記載の反射防止膜。
3. The antireflection film according to claim 1, wherein at least one of the fine particles is made of a polymer containing a crosslinkable group.
【請求項4】 該微粒子の少なくとも一種がコア―シェ
ル構造を有することを特徴とする請求項1または2に記
載の反射防止膜。
4. The anti-reflection film according to claim 1, wherein at least one of the fine particles has a core-shell structure.
【請求項5】 形成された低屈折層が少なくとも0.3
重量分率以上のフッ素原子を含むことを特徴とする請求
項1に記載の反射防止膜。
5. The method according to claim 1, wherein the formed low refractive layer has a thickness of at least 0.3.
2. The antireflection film according to claim 1, wherein the antireflection film contains a fluorine atom in a weight fraction or more.
【請求項6】 該低屈折率層がそれよりも高い屈折率を
有する層の上に形成されたことを特徴とする請求項1に
記載の反射防止膜。
6. The antireflection film according to claim 1, wherein said low refractive index layer is formed on a layer having a higher refractive index.
【請求項7】 表面がアンチグレア処理されていること
を特徴とする請求項1に記載の反射防止膜。
7. The anti-reflection film according to claim 1, wherein the surface is subjected to an anti-glare treatment.
【請求項8】 平均粒径が200nm以下の重合体微粒
子を含む層を有し、該微粒子の少なくとも1種がα−フ
ルオロアクリル酸のエステルを重合して得られる重合体
である低屈折率層を有する反射防止膜を配置したことを
特徴とする表示装置。
8. A low refractive index layer having a layer containing polymer fine particles having an average particle size of 200 nm or less, wherein at least one of the fine particles is a polymer obtained by polymerizing an ester of α-fluoroacrylic acid. A display device comprising an anti-reflection film having the following.
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