JPH10142091A - 差圧センサ - Google Patents

差圧センサ

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JPH10142091A
JPH10142091A JP30477396A JP30477396A JPH10142091A JP H10142091 A JPH10142091 A JP H10142091A JP 30477396 A JP30477396 A JP 30477396A JP 30477396 A JP30477396 A JP 30477396A JP H10142091 A JPH10142091 A JP H10142091A
Authority
JP
Japan
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thin film
pressure
differential pressure
block
strain
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP30477396A
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English (en)
Inventor
Kazuhiro Nakamura
和博 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication of JPH10142091A publication Critical patent/JPH10142091A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】受圧用の薄膜を保持する保持体に加わる圧力に
よる計測誤差を除去して、高精度に差圧を計測すること
ができる差圧センサを提供する。 【解決手段】表裏両面にそれぞれ加わる圧力P1,P2
の差によって歪みを生じる薄膜3と、この薄膜3を保持
するブロック2とからなる差圧センサにおいて、薄膜3
およびブロック2の両者に歪ゲージ4〜6を設置する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、原子力プラントな
どの各種プラントにおける計装用の差圧指示計に適用さ
れる差圧センサに関する。
【0002】
【従来の技術】一般的に、原子力プラントなどの各種プ
ラントでは、計装用の差圧指示計が設けられており、こ
のような差圧指示計には通常二つの圧力系の差圧を測定
する差圧センサが用いられる。
【0003】図5は、従来の差圧センサを用いた差圧計
測システムの例であり、差圧センサは表裏両面に加わる
圧力の差によって歪みを生じる受圧用の薄膜およびこの
薄膜を保持するブロックからなるセンサ部26と、この
センサ部26が設置される剛体構造のセンサ容器20と
で構成されている。
【0004】差圧センサの薄膜には、領域21内の流体
の圧力P1と領域22内の流体の圧力P2とが圧力導入
路24,25および過大差圧防止機構23を介して図中
上下の方向からそれぞれ印加されており、薄膜には圧力
P1と圧力P2との差圧ΔPに応じた歪みが生じる。こ
の歪を薄膜の表面に設置した歪ゲージで計測し、これに
基づいて差圧ΔPを求めている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来の差圧センサで
は、圧力P1,P2は薄膜を保持しているブロックにも
印加されており、これらの圧力によってブロック自体が
歪んで、薄膜には差圧ΔP以外に起因する余分な歪が生
じていたため、歪ゲージからは圧力P1,P2が等しい
場合でも差圧ΔPが存在するかのような疑似出力が生
じ、これが差圧ΔPの計測誤差となってしまうという問
題があった。
【0006】また、このブロックの歪の度合いは圧力P
1,P2の増大に伴って大きくなるため、圧力P1,P
2が両方とも大きく差圧ΔPが相対的に小さいときに、
特に差圧ΔPの計測誤差が大きくなる。
【0007】本発明は、受圧用の薄膜を保持する保持体
に加わる圧力による計測誤差を除去して、高精度に差圧
を計測することができる差圧センサを提供することを目
的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明は、表裏両面にそれぞれ加わる圧力の差によって
歪みを生じる薄膜と、この薄膜を保持する保持体とから
なる差圧センサにおいて、薄膜および保持体の両者に歪
ゲージを設置する。
【0009】受圧用の薄膜に設けられた歪ゲージは、そ
の表裏両面にそれぞれ加わる圧力の差である測定しよう
とする差圧と保持体の歪みとに起因する歪みを計測す
る。一方、保持体に設置された歪ゲージは、ブロック自
体の歪を計測する。従って、各歪ゲージの計測結果に基
づいて薄膜の歪の値からブロック自体の歪の値を差し引
くことにより、ブロックの歪みに伴う薄膜の歪を除去し
た差圧のみによる薄膜の歪を求めることができるので、
高精度に差圧を求めることが可能となる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態を説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る
差圧センサの一部を切断して見た斜視図である。同図に
おいて、後述する受圧用の薄膜を保持する保持体として
の剛体構造のセンサ容器1は、内部に直方体状の空洞が
形成されており、この空洞の底面にブロック2が設置さ
れている。このブロック2は、一辺数mm程度の直方体
の上面に凹部を形成して構成される。
【0011】センサ容器1の上部には、測定対象流体に
よる圧力P1をブロック2上に導入する圧力導入路7が
形成されている。さらに、センサ容器1の下部からブロ
ック2の凹部下部に連通して、別の測定対象流体による
圧力P2をブロック2の凹部内に導入するための圧力導
入路8が形成されている。
【0012】ブロック2の上面には、受圧用の薄膜3が
保持されている。この薄膜3は、その表裏両面に加わる
圧力の差(差圧)である微小な圧力によって容易に変形
する(歪む)ように、20〜30μm程度の厚さの弾性
材料により形成されている。
【0013】薄膜3の上面には、この薄膜3の歪みを計
測するための歪ゲージ4,5が所定の間隔で貼付されて
いる。そして、ブロック2の上面にもブロック2の歪み
を計測するための歪みゲージ6が設置される。なお、薄
膜3およびブロック2にさらに多くの歪ゲージを貼付す
るようにしてもよい。
【0014】ブロック2および薄膜3によって、センサ
容器1の内部は二つの領域(圧力系)、すなわち薄膜3
の上面とセンサ容器1の内壁とブロック2の外壁とで囲
まれ、圧力導入路7を介して圧力P1が印加される第1
の領域9と、薄膜3の下面およびブロック2の凹部内壁
で囲まれ、圧力導入路8から圧力P2が印加される第2
の領域10とに分割される。
【0015】次に、この差圧センサによる差圧ΔPの測
定について説明する。二系統の測定対象流体の圧力P
1,P2が圧力導入路7,8を介して印加されると、薄
膜3は上面から圧力P1が印加されると共に、下面から
圧力P2が印加されるため、これらの差圧ΔP=P1−
P2に応じて上または下方向への歪みが生じる。一方、
ブロック2は、外壁に圧力P1が印加されると共に、内
壁に圧力P2が印加されるため、これらの圧力P1,P
2の大きさに応じた歪みが生じる。
【0016】図2は、このときの薄膜3およびブロック
2の歪の状態を示した断面図であり、斜線は圧力P1も
しくはP2が印加されている部分を表し、破線は圧力P
1およびP2が印加されていないときの薄膜3およびブ
ロック2の形状を表している。このように、薄膜3には
差圧ΔPによる歪に加えてブロック2の歪に伴う歪が生
じている。
【0017】一方、図3は差圧ΔPのみが印加されたと
想定したときの薄膜3およびブロック2の歪の状態を示
した断面図であり、斜線は差圧ΔPが印加されている部
分を表している。同図に示されるように、ブロック2は
薄膜3に比べて非常に大きいため、微小な値の差圧ΔP
ではほとんど変形することがなく、通常かなり大きな値
となる圧力P1,P2の平均圧力(以下、均圧成分とい
う)によって計測可能な変形を生じる。従って、予め均
圧時に生じるブロック2の歪と薄膜3の歪との関係を試
験により求めておけば、実際に差圧ΔPが存在するとき
には、差圧ΔPのみによる薄膜3の歪を計算することが
でき、正確な差圧計測が可能となる。
【0018】ここで、差圧ΔPによるブロック2の影響
は無視するものとし、さらに、均圧成分Pa=(P1+
P2)/2が一様に印加されてブロック2に歪が生じた
と仮定すると、薄膜3の歪を以下の関係式で示すことが
できる。 (薄膜3の歪)=(差圧ΔPによる歪)+(均圧成分P
aによるブロック2の変形に伴う歪) 従って、歪ゲージ4,5の計測結果である薄膜3の歪の
値から、歪ゲージ6の計測結果である均圧成分Paによ
る歪の値を差し引くことにより、均圧成分Paによる計
測誤差が相殺され、差圧ΔPのみによる薄膜3の歪の値
を求めることができるため、差圧ΔPの値を正確に求め
ることが可能となる。
【0019】このように、本実施形態の差圧センサでは
薄膜3に歪ゲージ4,5を貼付するだけでなく、薄膜3
を保持しているブロック2にも歪ゲージを貼付すること
により、ブロック2の歪に伴う薄膜3の歪の影響を除去
して差圧ΔPのみによる歪を求めることができるので、
差圧ΔPを高精度に計測することが可能となる。
【0020】なお、本実施形態の差圧センサではセンサ
容器1内にブロック2を設置したが、二つの圧力系を遮
断するような剛体壁上にブロック2を設置して、さらに
剛体壁の一部に適当な圧力導入部を設けてブロック2の
凹部内側に一方の圧力を導入することにより、剛体板で
遮られた一方の領域ともう一方の領域との差圧を求める
ようにしてもよい。
【0021】次に、図4を参照して上述した差圧センサ
を差圧計測システムに適用した例について説明する。図
4において、差圧センサ20は図1に示したセンサ容器
1(ただし形状は異なる)、ブロック2、薄膜3、歪ゲ
ージ4、圧力導入部7,8により構成されている。
【0022】この場合、測定対象の流体が充填されてい
る二つの領域21,22から、各流体の圧力P1,P2
が圧力導入路24,25を介して差圧センサ20に伝わ
り、その後は上述した場合と同様に差圧ΔPが計測され
る。
【0023】なお、この差圧計測システムでは圧力導入
路24,25の途中経路に過大差圧防止機構23が設け
られている。この過大差圧防止機構23は、過大な差圧
ΔPによる差圧センサの破損等を防止するためのもので
あり、例えば圧力導入路24,25を伝わる圧力P1と
圧力P2との差圧ΔPを常時監視し、差圧ΔPが予め設
定された値以上になったときに圧力導入路24,25を
遮断するように構成されている。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、受
圧用の薄膜だけでなくこの薄膜を保持する保持体に歪ゲ
ージを設置することにより、保持体の歪みに伴う薄膜の
余分な歪を除去して差圧のみによる薄膜の歪を求めるこ
とができるので、高精度に差圧を計測することが可能と
なる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る差圧センサの構成を
示す図
【図2】同実施形態における歪の例
【図3】同実施形態における歪の別の例
【図4】同実施形態を適用した差圧計測システムの構成
を示す図
【図5】従来の差圧センサを適用した差圧計測システム
の構成を示す図
【符号の説明】
1…センサ容器 2…ブロック 3…薄膜 4〜6…歪ゲージ 7,8…圧力導入部 9,10…領域 20…差圧センサ 21,22…領域 23…過大差圧防止機構 24,25…圧力導入路 26…ブロック

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】表裏両面にそれぞれ加わる圧力の差によっ
    て歪みを生じる薄膜と、この薄膜を保持する保持体とか
    らなる差圧センサにおいて、 前記薄膜および保持体の両者に歪ゲージを設置したこと
    を特徴とする差圧センサ。
JP30477396A 1996-11-15 1996-11-15 差圧センサ Withdrawn JPH10142091A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30477396A JPH10142091A (ja) 1996-11-15 1996-11-15 差圧センサ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30477396A JPH10142091A (ja) 1996-11-15 1996-11-15 差圧センサ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10142091A true JPH10142091A (ja) 1998-05-29

Family

ID=17937057

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30477396A Withdrawn JPH10142091A (ja) 1996-11-15 1996-11-15 差圧センサ

Country Status (1)

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JP (1) JPH10142091A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8451261B2 (en) 2007-12-27 2013-05-28 Dongbu Hitek Co., Ltd. LCD driver IC and method for operating the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8451261B2 (en) 2007-12-27 2013-05-28 Dongbu Hitek Co., Ltd. LCD driver IC and method for operating the same

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Effective date: 20040203