JPH10142066A - 観察装置 - Google Patents
観察装置Info
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- JPH10142066A JPH10142066A JP8308603A JP30860396A JPH10142066A JP H10142066 A JPH10142066 A JP H10142066A JP 8308603 A JP8308603 A JP 8308603A JP 30860396 A JP30860396 A JP 30860396A JP H10142066 A JPH10142066 A JP H10142066A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 観察対象である試料からの赤外光画像と可視
光画像とをリアルタイムに得ることのできる観察装置を
提供する。 【解決手段】 この観察装置は、可視光カメラ108と
赤外光カメラ105とを観察すべき試料101の観察領
域を挟むように試料101と非接触で対峙させ、対向し
て設置することにより構成される。
光画像とをリアルタイムに得ることのできる観察装置を
提供する。 【解決手段】 この観察装置は、可視光カメラ108と
赤外光カメラ105とを観察すべき試料101の観察領
域を挟むように試料101と非接触で対峙させ、対向し
て設置することにより構成される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板に形成
された集積回路の内部分析・検査、及び発熱分析・検査
等に用いられる観察装置に関する。
された集積回路の内部分析・検査、及び発熱分析・検査
等に用いられる観察装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体基板に形成された集積回路に不良
部分があると製品としての信頼性が低下してしまうか
ら、製品の信頼性向上・維持を目的に不良品発見のため
の検査が行われる。このための検査の1つとして不良品
における発熱を分析・検査する方法がある。この方法
は、集積回路への検査のための通電時に不良個所に異常
な電流が流れて発熱した場合、その発熱した部分を特定
することにより不良品を検出するものである。
部分があると製品としての信頼性が低下してしまうか
ら、製品の信頼性向上・維持を目的に不良品発見のため
の検査が行われる。このための検査の1つとして不良品
における発熱を分析・検査する方法がある。この方法
は、集積回路への検査のための通電時に不良個所に異常
な電流が流れて発熱した場合、その発熱した部分を特定
することにより不良品を検出するものである。
【0003】この発熱の分析・検査のための従来の方法
として、集積回路の表面に液晶を塗り、発熱により液晶
の配向が変化することを利用する液晶法がある。即ち、
集積回路への通電により不良個所から発熱したとき、そ
の発熱箇所を液晶の配向の変化により検出し、不良個所
を特定していた。
として、集積回路の表面に液晶を塗り、発熱により液晶
の配向が変化することを利用する液晶法がある。即ち、
集積回路への通電により不良個所から発熱したとき、そ
の発熱箇所を液晶の配向の変化により検出し、不良個所
を特定していた。
【0004】また、最近、赤外光カメラを用いた顕微鏡
を集積回路の発熱や内部の分析に利用することも行われ
ている。この場合、赤外光カメラからの映像だけでは赤
外光の映像は可視光の映像と異なるために発熱箇所の特
定が難しい。このため、可視光カメラによる映像を予め
撮影しておき、赤外光カメラが可視光カメラと同じ領域
を撮像するように位置決めする機構を用い、可視光の画
像と同じ領域の赤外光画像を得て、この赤外光画像と可
視光画像とを重ねて表示することにより、位置を特定し
ていた。
を集積回路の発熱や内部の分析に利用することも行われ
ている。この場合、赤外光カメラからの映像だけでは赤
外光の映像は可視光の映像と異なるために発熱箇所の特
定が難しい。このため、可視光カメラによる映像を予め
撮影しておき、赤外光カメラが可視光カメラと同じ領域
を撮像するように位置決めする機構を用い、可視光の画
像と同じ領域の赤外光画像を得て、この赤外光画像と可
視光画像とを重ねて表示することにより、位置を特定し
ていた。
【0005】また、赤外光と可視光とを分離するコール
ドミラーやホットミラーを用い、赤外光カメラと可視光
カメラにより赤外光画像と可視光画像とを得て、これら
の画像を重ねて表示する方法も考えられる。この方法の
一例を図6により説明する。観察対象の試料50の上方
に赤外光カメラ56及び可視光カメラ58を配置し、試
料50と赤外光カメラ56との間にコールドミラー51
を配し、コールドミラー51から反射した可視光が可視
光カメラ58に入射するようにミラー52を配してい
る。コールドミラー51を透過した図6の波線で示す赤
外光を赤外光カメラ56により検出し、コールドミラー
51及びミラー52を反射した可視光を可視光カメラ5
8により検出する。また、図6においてコールドミラー
51の代わりに赤外光を反射し可視光を透過するホット
ミラーを使用する場合には、図6の可視光カメラと赤外
光カメラとの位置を入れ替えて、試料からの可視光がホ
ットミラーを透過して可視光カメラに入射し、赤外光が
ホットミラーで反射して赤外光カメラに入射するように
構成する。
ドミラーやホットミラーを用い、赤外光カメラと可視光
カメラにより赤外光画像と可視光画像とを得て、これら
の画像を重ねて表示する方法も考えられる。この方法の
一例を図6により説明する。観察対象の試料50の上方
に赤外光カメラ56及び可視光カメラ58を配置し、試
料50と赤外光カメラ56との間にコールドミラー51
を配し、コールドミラー51から反射した可視光が可視
光カメラ58に入射するようにミラー52を配してい
る。コールドミラー51を透過した図6の波線で示す赤
外光を赤外光カメラ56により検出し、コールドミラー
51及びミラー52を反射した可視光を可視光カメラ5
8により検出する。また、図6においてコールドミラー
51の代わりに赤外光を反射し可視光を透過するホット
ミラーを使用する場合には、図6の可視光カメラと赤外
光カメラとの位置を入れ替えて、試料からの可視光がホ
ットミラーを透過して可視光カメラに入射し、赤外光が
ホットミラーで反射して赤外光カメラに入射するように
構成する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述の従来技
術には次のような問題がある。即ち、液晶法による場
合、集積回路表面に均一に液晶を塗らなければならず、
手間がかかり、熟練も必要である。
術には次のような問題がある。即ち、液晶法による場
合、集積回路表面に均一に液晶を塗らなければならず、
手間がかかり、熟練も必要である。
【0007】また、可視光画像を予め撮像しておく方法
は、可視光映像を予め記憶させておき、しかる後に赤外
光映像を得てから可視光映像と重ね合わすので、リアル
タイムに撮像位置を変えることが困難である。このた
め、試料観察に時間がかかってしまう。
は、可視光映像を予め記憶させておき、しかる後に赤外
光映像を得てから可視光映像と重ね合わすので、リアル
タイムに撮像位置を変えることが困難である。このた
め、試料観察に時間がかかってしまう。
【0008】また、コールドミラーやホットミラーを使
用する方法の場合、図6のように試料50と赤外光カメ
ラ56の対物レンズとの間にコールドミラー51が位置
するから、赤外光カメラの光学系の作動距離が長くな
る。赤外光カメラの光学系の作動距離が長くなると、解
像度の確保のため対物レンズの開口数を大きく設計する
ことが必要となり、シリコン等の高価な材料からなる対
物レンズの直径が大きくなってしまい、装置の経済性を
確保し難い。作動距離が長いままレンズの径を制限する
と開口数が小さくなり、解像度が低下する。また、コー
ルドミラー51と試料50との距離が実質的な作動距離
になり(図6の距離n)、作動距離(n)がレンズ単体
の作動距離(図6の距離m)に比べ非常に短くなる。こ
のため、検査時に集積回路に通電するための電極を配置
する余裕がなくなってしまい、実用性に問題がある。
用する方法の場合、図6のように試料50と赤外光カメ
ラ56の対物レンズとの間にコールドミラー51が位置
するから、赤外光カメラの光学系の作動距離が長くな
る。赤外光カメラの光学系の作動距離が長くなると、解
像度の確保のため対物レンズの開口数を大きく設計する
ことが必要となり、シリコン等の高価な材料からなる対
物レンズの直径が大きくなってしまい、装置の経済性を
確保し難い。作動距離が長いままレンズの径を制限する
と開口数が小さくなり、解像度が低下する。また、コー
ルドミラー51と試料50との距離が実質的な作動距離
になり(図6の距離n)、作動距離(n)がレンズ単体
の作動距離(図6の距離m)に比べ非常に短くなる。こ
のため、検査時に集積回路に通電するための電極を配置
する余裕がなくなってしまい、実用性に問題がある。
【0009】本発明は、かかる従来技術の問題に鑑み、
試料の観察を容易に行うことができ、試料からの赤外光
画像と可視光画像とをリアルタイムに得ることができる
とともに集積回路等の試験のための電極が配置可能であ
る観察装置を提供することである。
試料の観察を容易に行うことができ、試料からの赤外光
画像と可視光画像とをリアルタイムに得ることができる
とともに集積回路等の試験のための電極が配置可能であ
る観察装置を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題は、本願発明に
よれば、可視光カメラと赤外光カメラとを観察すべき試
料の観察領域を挟むように前記試料と非接触で対峙さ
せ、対向して設置することを特徴とする観察装置により
解決される。
よれば、可視光カメラと赤外光カメラとを観察すべき試
料の観察領域を挟むように前記試料と非接触で対峙さ
せ、対向して設置することを特徴とする観察装置により
解決される。
【0011】上記観察装置において、可視光カメラと赤
外光カメラとが観察すべき試料を挟むように互いに対向
して配置されるから、可視光カメラにより試料の観察領
域からの可視光を検出し、同時に赤外光カメラにより該
試料の観察領域からの赤外光を検出できる。従って、可
視光カメラ及び赤外光カメラにおいて試料の観察領域か
らの赤外光画像と可視光画像の両方をリアルタイムに得
ることができる。このため、リアルタイムに撮像位置を
変えることにより、試料観察を迅速に行うことができ
る。
外光カメラとが観察すべき試料を挟むように互いに対向
して配置されるから、可視光カメラにより試料の観察領
域からの可視光を検出し、同時に赤外光カメラにより該
試料の観察領域からの赤外光を検出できる。従って、可
視光カメラ及び赤外光カメラにおいて試料の観察領域か
らの赤外光画像と可視光画像の両方をリアルタイムに得
ることができる。このため、リアルタイムに撮像位置を
変えることにより、試料観察を迅速に行うことができ
る。
【0012】また、可視光カメラと赤外光カメラとが前
記試料に対して非接触に対峙するので、試料自体に検査
のための処理を施すことは不要であるため、検査後の後
処理は不要となり、試料観察の迅速化に寄与できる。従
来の液晶法のように検査の際にその都度試料に液晶を適
用する必要がなく、手間はかからず熟練等は不要とな
る。
記試料に対して非接触に対峙するので、試料自体に検査
のための処理を施すことは不要であるため、検査後の後
処理は不要となり、試料観察の迅速化に寄与できる。従
来の液晶法のように検査の際にその都度試料に液晶を適
用する必要がなく、手間はかからず熟練等は不要とな
る。
【0013】また、可視光カメラと赤外光カメラとが光
学的に分離して独立して設置されるから、可視光カメラ
が可視光用結像光学系を有し、赤外光カメラが赤外光用
結像光学系を有する場合に、可視光カメラ及び赤外光カ
メラの各結像光学系の設計が自由になり、使用するレン
ズの選択の範囲が広がる。使用可能となるレンズとは、
例えば短作動で大きな開口数を有するもの、ズーム付
き、長作動、レボルバーを入れ対物を入れ換えるものな
どである。従って、可視光カメラにおいて既存の作動距
離の長い可視光用結像光学系を使用することができる。
このため、例えば、半導体基板に形成された集積回路を
試験するためのテスターの電極を配置するスペースを確
保できる。更に、赤外光カメラ側においてかかる電極を
配置する必要がないので、赤外光カメラの赤外光用結像
光学系の作動距離を長くする必要がなくなり、赤外光カ
メラの赤外光用結像光学系のレンズを大きくすることな
しに開口数を大きくでき、安価で小さい高性能のレンズ
を使用できる。また、作動距離が長い光学系は可視光用
結像光学系の方が赤外光用結像光学系よりも安価に構成
できるので、装置全体が安価に構成できる。
学的に分離して独立して設置されるから、可視光カメラ
が可視光用結像光学系を有し、赤外光カメラが赤外光用
結像光学系を有する場合に、可視光カメラ及び赤外光カ
メラの各結像光学系の設計が自由になり、使用するレン
ズの選択の範囲が広がる。使用可能となるレンズとは、
例えば短作動で大きな開口数を有するもの、ズーム付
き、長作動、レボルバーを入れ対物を入れ換えるものな
どである。従って、可視光カメラにおいて既存の作動距
離の長い可視光用結像光学系を使用することができる。
このため、例えば、半導体基板に形成された集積回路を
試験するためのテスターの電極を配置するスペースを確
保できる。更に、赤外光カメラ側においてかかる電極を
配置する必要がないので、赤外光カメラの赤外光用結像
光学系の作動距離を長くする必要がなくなり、赤外光カ
メラの赤外光用結像光学系のレンズを大きくすることな
しに開口数を大きくでき、安価で小さい高性能のレンズ
を使用できる。また、作動距離が長い光学系は可視光用
結像光学系の方が赤外光用結像光学系よりも安価に構成
できるので、装置全体が安価に構成できる。
【0014】また、可視光用結像光学系及び赤外光用結
像光学系がそれぞれ顕微鏡光学系を有すると、観察すべ
き試料が半導体基板に形成された集積回路等のように微
小であっても観察が可能となる。半導体基板はシリコン
(Si)、ゲルマニウム(Ge)等の材料からなり、こ
れらの材料は赤外光が透過するため、シリコンウェハ等
の半導体基板も赤外光に対して透過性である。集積回路
はドープされた半導体の組み合わせで形成されており、
半導体は不純物のドープ量により吸収率k(=放射率
ε)が大きく変化するので、集積回路が形成された半導
体基板はドープ量と温度とに依存して赤外光を発する。
従って、上述した装置において試料を集積回路が形成さ
れている半導体基板とした場合、半導体基板から赤外光
が発すると、半導体基板の表裏面のいずれからでも赤外
光カメラにより半導体表面の集積回路及び集積回路の内
部を観察できる一方、半導体基板の他方の面からの可視
光を可視光カメラにより観察できる。
像光学系がそれぞれ顕微鏡光学系を有すると、観察すべ
き試料が半導体基板に形成された集積回路等のように微
小であっても観察が可能となる。半導体基板はシリコン
(Si)、ゲルマニウム(Ge)等の材料からなり、こ
れらの材料は赤外光が透過するため、シリコンウェハ等
の半導体基板も赤外光に対して透過性である。集積回路
はドープされた半導体の組み合わせで形成されており、
半導体は不純物のドープ量により吸収率k(=放射率
ε)が大きく変化するので、集積回路が形成された半導
体基板はドープ量と温度とに依存して赤外光を発する。
従って、上述した装置において試料を集積回路が形成さ
れている半導体基板とした場合、半導体基板から赤外光
が発すると、半導体基板の表裏面のいずれからでも赤外
光カメラにより半導体表面の集積回路及び集積回路の内
部を観察できる一方、半導体基板の他方の面からの可視
光を可視光カメラにより観察できる。
【0015】また、可視光カメラからの画像情報である
出力信号と前記赤外光カメラからの画像情報である出力
信号との画像処理部を有すると、試料の観察領域からの
赤外光画像と可視光画像の両方をモニタ等の画像表示手
段にリアルタイムに表示することができる。この場合、
画像処理手段において可視光画像と赤外光画像の画角と
位置をそれぞれ予め合わせておくことにより、各画像を
同一画面に別々に独立に表示したり、重ねて表示したり
することができる。従って、赤外光により検出した箇所
を可視光画像において確認できるから、赤外光により検
出した箇所の特定を容易に行うことができる。
出力信号と前記赤外光カメラからの画像情報である出力
信号との画像処理部を有すると、試料の観察領域からの
赤外光画像と可視光画像の両方をモニタ等の画像表示手
段にリアルタイムに表示することができる。この場合、
画像処理手段において可視光画像と赤外光画像の画角と
位置をそれぞれ予め合わせておくことにより、各画像を
同一画面に別々に独立に表示したり、重ねて表示したり
することができる。従って、赤外光により検出した箇所
を可視光画像において確認できるから、赤外光により検
出した箇所の特定を容易に行うことができる。
【0016】なお、本観察装置は、上記試料を保持する
ための試料保持手段(102)を具備することができ、
この場合でも、赤外光を透過するようにこの試料保持手
段を構成すると、可視光により観察する面と異なる他方
の面から赤外光により試料を観察できる。上記試料保持
手段は赤外光を透過する材料から構成したり、また、試
料の観察対象部分に対応する部分に孔を設けて構成する
ことができる。なお、赤外光を透過する材料としては、
シリコン(Si)、ゲルマニウム(Ge)、蛍石等があ
る。
ための試料保持手段(102)を具備することができ、
この場合でも、赤外光を透過するようにこの試料保持手
段を構成すると、可視光により観察する面と異なる他方
の面から赤外光により試料を観察できる。上記試料保持
手段は赤外光を透過する材料から構成したり、また、試
料の観察対象部分に対応する部分に孔を設けて構成する
ことができる。なお、赤外光を透過する材料としては、
シリコン(Si)、ゲルマニウム(Ge)、蛍石等があ
る。
【0017】また、上記試料または上記試料保持手段と
可視光カメラ及び赤外光カメラとを相対的に移動させる
ための移動機構(103)を具備することにより、試料
の観察範囲を変えることができ、試料の所定の領域を観
察するのに便利となる。移動機構は、試料または試料保
持手段と両カメラとを同時にまたはいずれか一方を移動
させる構成にできる。この移動機構を、孔(103a)
を有する板状部材を備え試料または試料保持手段を移動
させる構成とした場合、赤外光カメラの赤外光用結像光
学系がこの孔内に位置し、試料の観察領域からの赤外光
を検出するように構成できる。また、上記板状部材に孔
を設けない場合には板状部材を赤外光の透過する材料に
より構成することもできる。また、各カメラを試料に対
して移動させる構成とした場合、両カメラは連動して移
動するようにすると、試料の同一の観察領域を常に観察
できる。
可視光カメラ及び赤外光カメラとを相対的に移動させる
ための移動機構(103)を具備することにより、試料
の観察範囲を変えることができ、試料の所定の領域を観
察するのに便利となる。移動機構は、試料または試料保
持手段と両カメラとを同時にまたはいずれか一方を移動
させる構成にできる。この移動機構を、孔(103a)
を有する板状部材を備え試料または試料保持手段を移動
させる構成とした場合、赤外光カメラの赤外光用結像光
学系がこの孔内に位置し、試料の観察領域からの赤外光
を検出するように構成できる。また、上記板状部材に孔
を設けない場合には板状部材を赤外光の透過する材料に
より構成することもできる。また、各カメラを試料に対
して移動させる構成とした場合、両カメラは連動して移
動するようにすると、試料の同一の観察領域を常に観察
できる。
【0018】また、本発明による観察装置において集積
回路の形成された半導体基板を観察対象とした場合、集
積回路に通電するための通電回路(120)と、この通
電により集積回路の論理回路が正常であるか否かを分析
し判断するためのアナライザ(121)と、この通電の
ために前記半導体基板の表面に接触する電極(115)
とを具備することにより、集積回路の論理回路を検査で
きるとともに、不良箇所から発熱した場合にその場所の
特定を容易に行うことができる。これにより、本観察装
置を集積回路の論理回路の検査を行うと同時に発熱不良
箇所の検査もその位置を正確に特定しながら行うことが
できる半導体試験装置として構成することもできる。こ
の試験装置によれば、半導体基板に形成された集積回路
の検査を迅速かつ正確に行うことが可能となる。また、
赤外光カメラ及び光学系カメラの焦点合わせのために通
電により発熱するターゲットパターンを備えることによ
り、各カメラの焦点合わせが容易となる。
回路の形成された半導体基板を観察対象とした場合、集
積回路に通電するための通電回路(120)と、この通
電により集積回路の論理回路が正常であるか否かを分析
し判断するためのアナライザ(121)と、この通電の
ために前記半導体基板の表面に接触する電極(115)
とを具備することにより、集積回路の論理回路を検査で
きるとともに、不良箇所から発熱した場合にその場所の
特定を容易に行うことができる。これにより、本観察装
置を集積回路の論理回路の検査を行うと同時に発熱不良
箇所の検査もその位置を正確に特定しながら行うことが
できる半導体試験装置として構成することもできる。こ
の試験装置によれば、半導体基板に形成された集積回路
の検査を迅速かつ正確に行うことが可能となる。また、
赤外光カメラ及び光学系カメラの焦点合わせのために通
電により発熱するターゲットパターンを備えることによ
り、各カメラの焦点合わせが容易となる。
【0019】
1.装置の構成 以下、本発明による実施例の構成を図面を参照して説明
する。図1は本実施例による顕微鏡観察装置の概略構成
図である。この装置は、集積回路の形成されたシリコン
(Si)からなる半導体基板を観察すべき試料101と
し、この試料101を保持するための試料保持手段とし
ての試料ホルダ102、及びこの試料ホルダ102をX
Y平面において移動させる移動手段としてのXYステー
ジ103を備える。試料ホルダー102は板状に構成さ
れこの面上に試料101が載置される。試料ホルダ10
2は、シリコンからなり、赤外光に対して透過性であ
る。
する。図1は本実施例による顕微鏡観察装置の概略構成
図である。この装置は、集積回路の形成されたシリコン
(Si)からなる半導体基板を観察すべき試料101と
し、この試料101を保持するための試料保持手段とし
ての試料ホルダ102、及びこの試料ホルダ102をX
Y平面において移動させる移動手段としてのXYステー
ジ103を備える。試料ホルダー102は板状に構成さ
れこの面上に試料101が載置される。試料ホルダ10
2は、シリコンからなり、赤外光に対して透過性であ
る。
【0020】また、図1に示す装置には、試料101の
集積回路に通電するための電極115が配置され、この
電極115を通して集積回路用テスターの通電回路12
0から集積回路に所定の信号を入力し、集積回路から所
定の信号が出力されるか否かの検査を行う。テスターの
通電回路120にはアナライザ121が接続され、この
アナライザ121は集積回路の論理回路が正常であるか
否かを分析し判断する。
集積回路に通電するための電極115が配置され、この
電極115を通して集積回路用テスターの通電回路12
0から集積回路に所定の信号を入力し、集積回路から所
定の信号が出力されるか否かの検査を行う。テスターの
通電回路120にはアナライザ121が接続され、この
アナライザ121は集積回路の論理回路が正常であるか
否かを分析し判断する。
【0021】本装置は、更に、赤外光結像光学系105
と、2次元的に配列された赤外光検出素子アレイを内蔵
した赤外光カメラ106とを備え、また、可視光用結像
光学系107と、2次元的に配列された可視光検出素子
アレイを内蔵した可視光カメラ108とを備える。これ
らの光学系105、107は、倍率の高い顕微鏡光学系
として構成されている。また、可視光カメラ108の焦
点を調節するためのエンコーダ内蔵の可視光側微動機構
112と、赤外光カメラ106の焦点を調節するための
エンコーダ内蔵の赤外光側微動機構113とを備える。
と、2次元的に配列された赤外光検出素子アレイを内蔵
した赤外光カメラ106とを備え、また、可視光用結像
光学系107と、2次元的に配列された可視光検出素子
アレイを内蔵した可視光カメラ108とを備える。これ
らの光学系105、107は、倍率の高い顕微鏡光学系
として構成されている。また、可視光カメラ108の焦
点を調節するためのエンコーダ内蔵の可視光側微動機構
112と、赤外光カメラ106の焦点を調節するための
エンコーダ内蔵の赤外光側微動機構113とを備える。
【0022】更に、各カメラ106、108からの出力
信号を処理する画像処理部109、及びXYステージ1
03と各微動機構112、113とを制御するための制
御部110をそれぞれ備える。
信号を処理する画像処理部109、及びXYステージ1
03と各微動機構112、113とを制御するための制
御部110をそれぞれ備える。
【0023】画像処理部109で処理された可視光画像
と赤外光画像とはモニタ111に表示され、制御部11
0が所定の制御を実行するためにパーソナルコンピュー
タ114から必要なデータが入力される。
と赤外光画像とはモニタ111に表示され、制御部11
0が所定の制御を実行するためにパーソナルコンピュー
タ114から必要なデータが入力される。
【0024】各カメラ106、108は試料101をそ
の上方及び下方から観察するために試料101を挟むよ
うに対向して配置されている。即ち、可視光用結像光学
系107及び可視光カメラ108は試料101の表面1
01aを観察できるように試料ホルダー102の上方に
配置され、また赤外光用結像光学系105及び赤外光カ
メラ106は試料101の裏面101bを観察できるよ
うに試料ホルダ102の下方に配置されている。
の上方及び下方から観察するために試料101を挟むよ
うに対向して配置されている。即ち、可視光用結像光学
系107及び可視光カメラ108は試料101の表面1
01aを観察できるように試料ホルダー102の上方に
配置され、また赤外光用結像光学系105及び赤外光カ
メラ106は試料101の裏面101bを観察できるよ
うに試料ホルダ102の下方に配置されている。
【0025】図2は、XYステージ103の近傍を示す
側面図である。XYステージ103は板状に構成され、
図2の波線で示すように、その中央部を貫通して孔10
3aが設けられている。赤外光用結像光学系105は、
この孔103a内に位置し、XYステージ103が移動
してもこのステージ103と干渉することなく、試料1
01の全面をその裏面101b側から観察できる。
側面図である。XYステージ103は板状に構成され、
図2の波線で示すように、その中央部を貫通して孔10
3aが設けられている。赤外光用結像光学系105は、
この孔103a内に位置し、XYステージ103が移動
してもこのステージ103と干渉することなく、試料1
01の全面をその裏面101b側から観察できる。
【0026】試料ホルダ102はシリコンから形成され
ており、このホルダ102における試料101の載る位
置は平行平面に構成されている。試料ホルダ102の両
面には、赤外光の透過率を高めて赤外光カメラ106の
S/N比を改善するために反射防止膜が設けられてお
り、表面には更に表面保護のためハードコートが施され
ている。反射防止膜は、Ge層とSi層の組み合わせか
ら構成でき、例えば、Siからなる試料ホルダ102の
表面にGe層、Si層、Ge層、Si層の順に設けるこ
とができる。各層の数と厚さは赤外光の波長により決め
られる。
ており、このホルダ102における試料101の載る位
置は平行平面に構成されている。試料ホルダ102の両
面には、赤外光の透過率を高めて赤外光カメラ106の
S/N比を改善するために反射防止膜が設けられてお
り、表面には更に表面保護のためハードコートが施され
ている。反射防止膜は、Ge層とSi層の組み合わせか
ら構成でき、例えば、Siからなる試料ホルダ102の
表面にGe層、Si層、Ge層、Si層の順に設けるこ
とができる。各層の数と厚さは赤外光の波長により決め
られる。
【0027】試料101を試料ホルダ102に固定する
ために、試料ホルダ102に複数の固定ピン102aが
設けられている。また、図3に示すように、試料ホルダ
102に試料101の外周部に対応する位置に複数の孔
1021を設け、これらの孔1021を通して真空吸引
を行うことにより、試料101が試料ホルダ102に吸
着されて固定されるように構成してもよい。
ために、試料ホルダ102に複数の固定ピン102aが
設けられている。また、図3に示すように、試料ホルダ
102に試料101の外周部に対応する位置に複数の孔
1021を設け、これらの孔1021を通して真空吸引
を行うことにより、試料101が試料ホルダ102に吸
着されて固定されるように構成してもよい。
【0028】赤外光用結像光学系105と可視光用結像
光学系107とは、試料101の表面にそれぞれ焦点を
合わせたときに赤外光カメラ106と可視光カメラ10
8の各画角が同一になるように構成されている。また、
赤外光カメラ106と可視光カメラ108とは、撮像領
域が同一になるように顕微鏡装置内に組み込まれてい
る。また、可視光用結像光学系107は、半導体基板に
形成された集積回路を検査するためのテスタの電極を配
置する空間を確保するために、作動距離が長いものを使
用する。
光学系107とは、試料101の表面にそれぞれ焦点を
合わせたときに赤外光カメラ106と可視光カメラ10
8の各画角が同一になるように構成されている。また、
赤外光カメラ106と可視光カメラ108とは、撮像領
域が同一になるように顕微鏡装置内に組み込まれてい
る。また、可視光用結像光学系107は、半導体基板に
形成された集積回路を検査するためのテスタの電極を配
置する空間を確保するために、作動距離が長いものを使
用する。
【0029】以上のように本実施例の装置は、赤外光を
透過するシリコンからなる半導体基板を上方から可視光
により観察でき、下方から赤外光により観察できる。こ
のため赤外光画像と可視光画像とをリアルタイムに得る
ことが可能となる。また、比較的安価で作動距離の長い
可視光用結像光学系を試料の上方に配置できるから、半
導体基板に形成された集積回路の試験のためのテスター
の電極を配置できる空間を十分に確保できる。一方、試
料の下方には電極を配置する必要はないので、赤外光用
結像光学系では作動距離が短い光学系を使用でき、赤外
光用光学結像系も安価に構成できる。
透過するシリコンからなる半導体基板を上方から可視光
により観察でき、下方から赤外光により観察できる。こ
のため赤外光画像と可視光画像とをリアルタイムに得る
ことが可能となる。また、比較的安価で作動距離の長い
可視光用結像光学系を試料の上方に配置できるから、半
導体基板に形成された集積回路の試験のためのテスター
の電極を配置できる空間を十分に確保できる。一方、試
料の下方には電極を配置する必要はないので、赤外光用
結像光学系では作動距離が短い光学系を使用でき、赤外
光用光学結像系も安価に構成できる。
【0030】また、通電回路120から半導体基板10
1の表面に接触する電極115を通して集積回路に通電
し、アナライザ121により集積回路の論理回路が正常
な動作をするか否かを検査できるとともに、その集積回
路において不良箇所から発熱した場合にその発熱箇所の
特定が可能である。
1の表面に接触する電極115を通して集積回路に通電
し、アナライザ121により集積回路の論理回路が正常
な動作をするか否かを検査できるとともに、その集積回
路において不良箇所から発熱した場合にその発熱箇所の
特定が可能である。
【0031】2.撮像領域の調整 赤外光カメラ106と可視光カメラ108の撮像領域の
調整について説明する。本装置の生産時に行う赤外光画
像と可視光画像との位置合わせのために、赤外光及び可
視光の両方で観察が可能なターゲットパターンを用いる
必要がある。このターゲットパターンとして、例えば、
Siウェハに不純物を高濃度にドープした抵抗体をパタ
ーニングにより予め形成しておく。この抵抗体であるタ
ーゲットパターンに電流を流すことにより発熱させ、赤
外光カメラ106及び可視光カメラ108の両方から出
力したターゲットパターンの画像が一致するように微動
機構112、113の位置を調整機構(図示省略)によ
り調整する。この場合、試料101はターゲットパター
ンが形成されている面を可視光用結像光学系107側に
向けて置く。
調整について説明する。本装置の生産時に行う赤外光画
像と可視光画像との位置合わせのために、赤外光及び可
視光の両方で観察が可能なターゲットパターンを用いる
必要がある。このターゲットパターンとして、例えば、
Siウェハに不純物を高濃度にドープした抵抗体をパタ
ーニングにより予め形成しておく。この抵抗体であるタ
ーゲットパターンに電流を流すことにより発熱させ、赤
外光カメラ106及び可視光カメラ108の両方から出
力したターゲットパターンの画像が一致するように微動
機構112、113の位置を調整機構(図示省略)によ
り調整する。この場合、試料101はターゲットパター
ンが形成されている面を可視光用結像光学系107側に
向けて置く。
【0032】また、実際の観察において、試料101で
ある半導体基板は、基板と基板の間または同一基板内
で、厚さが異なることもある。試料101の厚さが変化
した場合、カメラ106、108の各焦点もずれるた
め、カメラ106、108を各微動機構112、113
により上下方向に移動させて各焦点を合わせる。このと
き、微動機構112、113の軸のずれのため各カメラ
106、108の光学系の軸がずれると、焦点を合わせ
ても可視光の撮像領域と赤外光の撮像領域が異なってし
まう。従って、上記抵抗体を厚さの異なるSiウェハに
形成して複数のターゲットパターンを用意し、各ターゲ
ットパターンで各撮像領域が一致するように微動機構1
12、113の各軸を調整しておくことが好ましい。
ある半導体基板は、基板と基板の間または同一基板内
で、厚さが異なることもある。試料101の厚さが変化
した場合、カメラ106、108の各焦点もずれるた
め、カメラ106、108を各微動機構112、113
により上下方向に移動させて各焦点を合わせる。このと
き、微動機構112、113の軸のずれのため各カメラ
106、108の光学系の軸がずれると、焦点を合わせ
ても可視光の撮像領域と赤外光の撮像領域が異なってし
まう。従って、上記抵抗体を厚さの異なるSiウェハに
形成して複数のターゲットパターンを用意し、各ターゲ
ットパターンで各撮像領域が一致するように微動機構1
12、113の各軸を調整しておくことが好ましい。
【0033】3.画像処理及び表示 次に、得られた画像の表示及び処理について説明する。
赤外光カメラ106及び可視光カメラ108から得られ
た各画像信号は、画像処理部109に送られる。このと
きの送信形態はアナログ信号、デジタル信号のいずれで
もよい。
赤外光カメラ106及び可視光カメラ108から得られ
た各画像信号は、画像処理部109に送られる。このと
きの送信形態はアナログ信号、デジタル信号のいずれで
もよい。
【0034】本実施例では、可視光カメラ108からは
アナログ信号(例えばNTSC方式による信号)が送ら
れ、赤外光カメラ106からはアナログ信号及びデジタ
ル信号の両方が送られるように構成されている。可視光
カメラ108からの画像信号がアナログ信号であるの
は、主にこのカメラは試料観察用に使われるので一般に
市販されているCCDカメラで十分であり、また安価な
ため本装置を安価に構成できるからである。また、赤外
光カメラ106からの画像信号がアナログ信号及びデジ
タル信号の両方であるのは、リアルタイムの試料観察の
ためにはアナログ信号の方が有利であり、詳細な温度測
定やデータ解析のためにはカメラ内部において早い段階
でデジタル変換されたデジタル信号の方が有利であるか
らである。試料観察のためにアナログ信号が有利である
のは、外部インターフェースを用いたデジタル信号は転
送に時間がかかるため観察位置の移動等のためXYステ
ージ103を動かした場合、観察のリアルタイム性が失
われる場合があるからである。
アナログ信号(例えばNTSC方式による信号)が送ら
れ、赤外光カメラ106からはアナログ信号及びデジタ
ル信号の両方が送られるように構成されている。可視光
カメラ108からの画像信号がアナログ信号であるの
は、主にこのカメラは試料観察用に使われるので一般に
市販されているCCDカメラで十分であり、また安価な
ため本装置を安価に構成できるからである。また、赤外
光カメラ106からの画像信号がアナログ信号及びデジ
タル信号の両方であるのは、リアルタイムの試料観察の
ためにはアナログ信号の方が有利であり、詳細な温度測
定やデータ解析のためにはカメラ内部において早い段階
でデジタル変換されたデジタル信号の方が有利であるか
らである。試料観察のためにアナログ信号が有利である
のは、外部インターフェースを用いたデジタル信号は転
送に時間がかかるため観察位置の移動等のためXYステ
ージ103を動かした場合、観察のリアルタイム性が失
われる場合があるからである。
【0035】図4は、画像処理部109のブロック図で
ある。可視光カメラ108からのアナログ信号をA/D
変換器109aによりデジタル変換し、フレームメモリ
aに取り込む。また、赤外光カメラ106からのアナロ
グ信号もA/D変換器109bによりデジタル変換し、
フレームメモリbに取り込む。フレームメモリa、bの
画像信号はフレームメモリcに転送され、コンピュータ
114からの指示によりいずれか一方の画像信号または
両方の合成画像信号がモニタ111に画像として表示さ
れる。
ある。可視光カメラ108からのアナログ信号をA/D
変換器109aによりデジタル変換し、フレームメモリ
aに取り込む。また、赤外光カメラ106からのアナロ
グ信号もA/D変換器109bによりデジタル変換し、
フレームメモリbに取り込む。フレームメモリa、bの
画像信号はフレームメモリcに転送され、コンピュータ
114からの指示によりいずれか一方の画像信号または
両方の合成画像信号がモニタ111に画像として表示さ
れる。
【0036】また、赤外光カメラ106からのデジタル
信号が温度変換器109cに送られ、ここで予め得てお
いた光量と温度の変換テーブルにより温度に変換してか
らこのデジタル信号をフレームメモリdに取り込み、温
度データを例えば温度の高低により色を変えて表示した
り、位置を指定して数字で表示することができる。ま
た、フレームメモリa、bに取り込んだ画像信号を記録
する等の一般的な画像の記録や処理ができることは勿論
である。
信号が温度変換器109cに送られ、ここで予め得てお
いた光量と温度の変換テーブルにより温度に変換してか
らこのデジタル信号をフレームメモリdに取り込み、温
度データを例えば温度の高低により色を変えて表示した
り、位置を指定して数字で表示することができる。ま
た、フレームメモリa、bに取り込んだ画像信号を記録
する等の一般的な画像の記録や処理ができることは勿論
である。
【0037】以上のように、可視光画像と赤外光画像と
をモニタにおいてリアルタイムに重ねて表示することが
できる。また、同一画面上に各画像をリアルタイムに別
々に表示することもできる。このため、集積回路におい
て不良箇所から発熱した場合にその発熱箇所の特定を容
易に行うことができる。
をモニタにおいてリアルタイムに重ねて表示することが
できる。また、同一画面上に各画像をリアルタイムに別
々に表示することもできる。このため、集積回路におい
て不良箇所から発熱した場合にその発熱箇所の特定を容
易に行うことができる。
【0038】図5に画像処理部109の変形例を示す。
この場合は、赤外光カメラ108からのデジタル信号を
フレームbに取り込んでから、フレームメモリcを介し
てモニタ111に画像を表示する。更に、フレームメモ
リbに取り込まれた画像信号から温度変換器109cの
変換テーブルにより温度に変換をして同様に温度データ
をモニタ111に表示できる。
この場合は、赤外光カメラ108からのデジタル信号を
フレームbに取り込んでから、フレームメモリcを介し
てモニタ111に画像を表示する。更に、フレームメモ
リbに取り込まれた画像信号から温度変換器109cの
変換テーブルにより温度に変換をして同様に温度データ
をモニタ111に表示できる。
【0039】4.焦点合わせ 次に、本装置の焦点を合わせる方法について説明する。
赤外光カメラ106の画像は、観察対象である試料10
1に大きな温度差や放射率の違いがない場合には、焦点
を合わせ難く、特に顕微鏡の場合は微小領域を観察して
いるため、温度が拡散し易くコントラストがつかないた
め観察しづらく、焦点を合わせ難い。赤外光の場合に比
べ、可視光カメラ108における焦点合わせは、試料1
01に形成した表面のターゲットパターンのコントラス
トにより容易にできる。本実施例では、赤外光カメラ1
06における焦点合わせは、このターゲットパターンを
利用して行う。
赤外光カメラ106の画像は、観察対象である試料10
1に大きな温度差や放射率の違いがない場合には、焦点
を合わせ難く、特に顕微鏡の場合は微小領域を観察して
いるため、温度が拡散し易くコントラストがつかないた
め観察しづらく、焦点を合わせ難い。赤外光の場合に比
べ、可視光カメラ108における焦点合わせは、試料1
01に形成した表面のターゲットパターンのコントラス
トにより容易にできる。本実施例では、赤外光カメラ1
06における焦点合わせは、このターゲットパターンを
利用して行う。
【0040】本実施例の装置の生産時に上述した撮像領
域の調整が終了したら、ターゲットパターンを用いて可
視光カメラ108の焦点を合わせ、次に、通電により発
熱しているターゲットパターンを画面内に表示しておく
と、発熱部であるパターンと非発熱部との間の高い温度
差により赤外光カメラ106の焦点も容易に合わせるこ
とができる。
域の調整が終了したら、ターゲットパターンを用いて可
視光カメラ108の焦点を合わせ、次に、通電により発
熱しているターゲットパターンを画面内に表示しておく
と、発熱部であるパターンと非発熱部との間の高い温度
差により赤外光カメラ106の焦点も容易に合わせるこ
とができる。
【0041】以上のようにして赤外光カメラ106及び
可視光カメラ108の両方の焦点が合っている状態にし
た場合、微動機構112、113のそれぞれのエンコー
ダの値をコンピュータ114に記憶する。また、基板の
厚さが異なるターゲットパターンについて同様に焦点あ
わせを行い、そのときの各エンコーダの値をコンピュー
タ114に記憶する。このようにして得られたデータを
基に、可視光側微動機構112のエンコーダの値Z1と
赤外光側微動機構113の値Z2との関係をn次の多項
式で近似する。本実施例では、2次式を例にして説明す
ると、 Z2(Z1)=aZ12+bZ1+c (1) となるように最小二乗法によりa、b、cの係数を決定
する。
可視光カメラ108の両方の焦点が合っている状態にし
た場合、微動機構112、113のそれぞれのエンコー
ダの値をコンピュータ114に記憶する。また、基板の
厚さが異なるターゲットパターンについて同様に焦点あ
わせを行い、そのときの各エンコーダの値をコンピュー
タ114に記憶する。このようにして得られたデータを
基に、可視光側微動機構112のエンコーダの値Z1と
赤外光側微動機構113の値Z2との関係をn次の多項
式で近似する。本実施例では、2次式を例にして説明す
ると、 Z2(Z1)=aZ12+bZ1+c (1) となるように最小二乗法によりa、b、cの係数を決定
する。
【0042】実際に本装置を使用するときには、試料ホ
ルダ102に試料101を載せ、ターゲットパターンに
可視カメラ108の焦点を合わせてから、コンピュータ
114から指示すると、微動機構112のエンコーダの
値(Z1)を制御部110が読み取り、コンピュータに
伝送する。そして、コンピュータ114は式(1)にし
たがって赤外光側微動機構113のエンコーダの値(Z
1)を計算し、この値を制御部110に伝え、赤外光側
微動機構113を所定の位置まで移動させることによ
り、赤外光カメラ106の焦点が自動的に合う。このよ
うにして、可視光カメラ108の焦点を合わせるだけで
赤外光カメラ106の焦点合わせを自動的に行うことが
できる。
ルダ102に試料101を載せ、ターゲットパターンに
可視カメラ108の焦点を合わせてから、コンピュータ
114から指示すると、微動機構112のエンコーダの
値(Z1)を制御部110が読み取り、コンピュータに
伝送する。そして、コンピュータ114は式(1)にし
たがって赤外光側微動機構113のエンコーダの値(Z
1)を計算し、この値を制御部110に伝え、赤外光側
微動機構113を所定の位置まで移動させることによ
り、赤外光カメラ106の焦点が自動的に合う。このよ
うにして、可視光カメラ108の焦点を合わせるだけで
赤外光カメラ106の焦点合わせを自動的に行うことが
できる。
【0043】通常は、以上のようにして赤外光カメラ1
06の焦点を合わすが、試料101における発熱位置が
基板の表面でなかったり、基板の屈折率等により完全に
焦点が合わない場合が生じることがある。この場合には
赤外光側微動機構113を手動により移動させることに
より焦点を合わせるが、焦点はほぼ合っている状態であ
るので容易に焦点合わせができる。
06の焦点を合わすが、試料101における発熱位置が
基板の表面でなかったり、基板の屈折率等により完全に
焦点が合わない場合が生じることがある。この場合には
赤外光側微動機構113を手動により移動させることに
より焦点を合わせるが、焦点はほぼ合っている状態であ
るので容易に焦点合わせができる。
【0044】また、同じ様な試料を観察する場合には手
動により移動した量をオフセットとして記憶することが
でき、コンピュータ114の操作により式(1)を Z2(Z1)=aZ12+bZ1+c+d (2) と変え、dをオフセット量として処理すればよい。従っ
て、上述の場合と同様に、自動的に焦点を合わせること
ができる。
動により移動した量をオフセットとして記憶することが
でき、コンピュータ114の操作により式(1)を Z2(Z1)=aZ12+bZ1+c+d (2) と変え、dをオフセット量として処理すればよい。従っ
て、上述の場合と同様に、自動的に焦点を合わせること
ができる。
【0045】次に、上述した焦点合わせをオートフォー
カスにした変形例について説明する。即ち、可視光カメ
ラ108の焦点合わせが自動的に行われれば、赤外光カ
メラ106の焦点も自動的に合う。従って、各種のオー
トフォーカスの方法が採用可能であるが、集積回路の形
成された半導体基板を観察対象とし、集積回路のテスタ
ーとともに使用する場合には、可視光カメラ108の光
軸外に光学測距装置等を配置すると、テスターの電極に
光学測距装置の光路を妨げられる可能性があるため、可
視カメラ108の光軸と同軸の光学系を有するオートフ
ォーカス系が効果的である。このため、この変形例で
は、可視光カメラ108から得られる画像を基にオート
フォーカスを行う。
カスにした変形例について説明する。即ち、可視光カメ
ラ108の焦点合わせが自動的に行われれば、赤外光カ
メラ106の焦点も自動的に合う。従って、各種のオー
トフォーカスの方法が採用可能であるが、集積回路の形
成された半導体基板を観察対象とし、集積回路のテスタ
ーとともに使用する場合には、可視光カメラ108の光
軸外に光学測距装置等を配置すると、テスターの電極に
光学測距装置の光路を妨げられる可能性があるため、可
視カメラ108の光軸と同軸の光学系を有するオートフ
ォーカス系が効果的である。このため、この変形例で
は、可視光カメラ108から得られる画像を基にオート
フォーカスを行う。
【0046】コンピュータ114にオートフォーカスを
命令すると、制御部110は各機構に命令を送る。画像
処理部109は画面内の中央の画像の微分値を計算し、
この微分値を制御部110に送る。制御部110はこの
時点の可視光側微動機構112のエンコーダの値と上記
微分値とをペアにしてコンピュータ114に送る。制御
部は続いて可視光側微動機構112を一定量移動させ、
上述と同様に、微分値及びエンコーダ値を取得してコン
ピュータ114に送る。この動作を繰り返して、最も微
分値が大きい位置に可視光側微動機構112を位置決め
し、上述したのと同様の方法で、赤外光カメラ106の
焦点を自動的に合わせる。このようにして、オートフォ
ーカス動作が終了し、赤外光カメラ106のみならず可
視光カメラ108の焦点をも自動的に合わせることがで
きる。
命令すると、制御部110は各機構に命令を送る。画像
処理部109は画面内の中央の画像の微分値を計算し、
この微分値を制御部110に送る。制御部110はこの
時点の可視光側微動機構112のエンコーダの値と上記
微分値とをペアにしてコンピュータ114に送る。制御
部は続いて可視光側微動機構112を一定量移動させ、
上述と同様に、微分値及びエンコーダ値を取得してコン
ピュータ114に送る。この動作を繰り返して、最も微
分値が大きい位置に可視光側微動機構112を位置決め
し、上述したのと同様の方法で、赤外光カメラ106の
焦点を自動的に合わせる。このようにして、オートフォ
ーカス動作が終了し、赤外光カメラ106のみならず可
視光カメラ108の焦点をも自動的に合わせることがで
きる。
【0047】
【発明の効果】本発明によれば、可視光カメラにより試
料の観察領域からの可視光を検出し、同時に赤外光カメ
ラにより該試料の観察領域からの赤外光を検出できるか
ら、試料の観察領域から赤外光画像と可視光画像の両方
をリアルタイムに得ることができる。従って、赤外光に
より検出した箇所の特定を容易に行うことができ、かつ
試料観察を迅速にできる。
料の観察領域からの可視光を検出し、同時に赤外光カメ
ラにより該試料の観察領域からの赤外光を検出できるか
ら、試料の観察領域から赤外光画像と可視光画像の両方
をリアルタイムに得ることができる。従って、赤外光に
より検出した箇所の特定を容易に行うことができ、かつ
試料観察を迅速にできる。
【0048】また、可視光カメラと赤外光カメラとを独
立して配置でき、可視光カメラの可視光用結像光学系は
既存の長作動距離のものを使用できるため、半導体基板
を観察対象とした場合に、半導体基板に形成された集積
回路の試験のための電極を配置する空間を確保でき、装
置を安価に構成できる。また、赤外光による検出を試料
の他方の面側から行うので、かかる電極を配置する空間
は必要でないので、赤外光カメラの赤外光用結像光学系
は作動距離が短いもので十分となり、シリコン等の高価
な材料からなる対物レンズの直径を大きくする必要はな
く、この光学系を安価に構成できる結果、更に装置全体
のコスト減に寄与できる。
立して配置でき、可視光カメラの可視光用結像光学系は
既存の長作動距離のものを使用できるため、半導体基板
を観察対象とした場合に、半導体基板に形成された集積
回路の試験のための電極を配置する空間を確保でき、装
置を安価に構成できる。また、赤外光による検出を試料
の他方の面側から行うので、かかる電極を配置する空間
は必要でないので、赤外光カメラの赤外光用結像光学系
は作動距離が短いもので十分となり、シリコン等の高価
な材料からなる対物レンズの直径を大きくする必要はな
く、この光学系を安価に構成できる結果、更に装置全体
のコスト減に寄与できる。
【0049】また、試料の観察領域からの赤外光画像と
可視光画像の両方をモニタ等の画像表示手段にリアルタ
イムに表示することができるから、各画像を同一画面に
別々に独立に表示したり、重ねて表示したりすることが
可能となる。これにより、赤外光により検出した箇所を
可視光画像において確認できるから、赤外光により検出
した箇所の特定を容易に行うことができる。
可視光画像の両方をモニタ等の画像表示手段にリアルタ
イムに表示することができるから、各画像を同一画面に
別々に独立に表示したり、重ねて表示したりすることが
可能となる。これにより、赤外光により検出した箇所を
可視光画像において確認できるから、赤外光により検出
した箇所の特定を容易に行うことができる。
【図1】本発明による実施例の顕微鏡観察装置の構成を
示す概略図である。
示す概略図である。
【図2】図1に示した実施例における赤外光用結像光学
系、XYステージ、試料ホルダ及び試料の位置関係を示
す側面図である。
系、XYステージ、試料ホルダ及び試料の位置関係を示
す側面図である。
【図3】図1に示した実施例の試料ホルダに設けた試料
の吸引吸着用の孔を示す平面図である。
の吸引吸着用の孔を示す平面図である。
【図4】図1に示した実施例の画像処理部の構成例を示
すブロック図である。
すブロック図である。
【図5】図4に示す画像処理部の変形例を示すブロック
図である。
図である。
【図6】従来の装置を説明するための図である。
101 試料 102 試料ホルダ 103 XYステージ 105 赤外光用結像光学系 106 赤外光カメラ 107 可視光用結像光学系 108 可視光カメラ 109 画像処理部 110 制御部 111 モニタ 112 可視光側微動機構 113 赤外光側微動機構 115 電極 120 通電回路 121 アナライザ
Claims (4)
- 【請求項1】 可視光カメラと赤外光カメラとを観察す
べき試料の観察領域を挟むように前記試料と非接触で対
峙させ、対向して設置することを特徴とする観察装置。 - 【請求項2】 前記可視光カメラは可視光用結像光学系
を有し、前記赤外光カメラは赤外線用結像光学系を有す
ることを特徴とする請求項1記載の観察装置。 - 【請求項3】 前記可視光用結像光学系及び前記赤外線
用結像光学系はそれぞれ顕微鏡光学系を有することを特
徴とする請求項2記載の観察装置。 - 【請求項4】 前記可視光カメラからの画像情報である
出力信号と前記赤外光カメラからの画像情報である出力
信号との画像処理部を有することを特徴とする請求項
1、2または3記載の観察装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8308603A JPH10142066A (ja) | 1996-11-06 | 1996-11-06 | 観察装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8308603A JPH10142066A (ja) | 1996-11-06 | 1996-11-06 | 観察装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10142066A true JPH10142066A (ja) | 1998-05-29 |
Family
ID=17983032
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8308603A Withdrawn JPH10142066A (ja) | 1996-11-06 | 1996-11-06 | 観察装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10142066A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6880968B1 (en) | 1999-10-29 | 2005-04-19 | Roche Diagnostics Gmbh | Test element analysis system |
CN111189543A (zh) * | 2020-01-15 | 2020-05-22 | 大连理工大学 | 一种增材制造中红外热像仪发射率在线标定方法 |
-
1996
- 1996-11-06 JP JP8308603A patent/JPH10142066A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6880968B1 (en) | 1999-10-29 | 2005-04-19 | Roche Diagnostics Gmbh | Test element analysis system |
CN111189543A (zh) * | 2020-01-15 | 2020-05-22 | 大连理工大学 | 一种增材制造中红外热像仪发射率在线标定方法 |
CN111189543B (zh) * | 2020-01-15 | 2021-06-08 | 大连理工大学 | 一种增材制造中红外热像仪发射率在线标定方法 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040106 |