JPH10139997A - 近赤外線吸収性透明樹脂組成物 - Google Patents

近赤外線吸収性透明樹脂組成物

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JPH10139997A
JPH10139997A JP8302977A JP30297796A JPH10139997A JP H10139997 A JPH10139997 A JP H10139997A JP 8302977 A JP8302977 A JP 8302977A JP 30297796 A JP30297796 A JP 30297796A JP H10139997 A JPH10139997 A JP H10139997A
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meth
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呂 正 孝 野
Masayoshi Miwa
輪 雅 由 三
Tomomi Nakano
野 智 美 中
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 近赤外線吸収能、可視光線透過性に優れてい
る近赤外線吸収性透明樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 透明樹脂100重量部に下記、及び
の種類の化合物から選ばれた少なくとも2種類の近赤
外線吸収剤を0.001〜0.5重量部配合して成り、
400〜700nmの可視光線透過率が40%以上、8
00〜1100nmの近赤外線透過率が10%以下であ
ることを特徴とする近赤外線吸収性透明樹脂組成物。 含フッ素フタロシアニン構造を有する化合物 縮合ベンゾピラン構造を有する化合物 縮合キノリン構造を有する化合物

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は近赤外線を吸収する
近赤外線吸収性透明樹脂組成物に関する。詳しくは、近
赤外線吸収能、可視光線透過性に優れていることより、
近赤外線を遮断するフィルター、具体的には窓ガラス、
退色保護シート、画像表示装置のフィルター等に好適に
使用することができる近赤外線吸収性透明樹脂組成物で
ある。
【0002】
【従来の技術】透明樹脂に近赤外線吸収能を持つ物質を
配合してなる近赤外線吸収透明樹脂組成物に関する発明
は種々のものが知られている。例えば、特開平6−24
0146号公報には、ポリカーボネート、(メタ)アク
リル樹脂等の透明樹脂にフタロシアニン化合物0.00
05〜0.1重量%配合した組成物が知られているが、
該組成物はその最大吸収波長が800〜950nmの波
長領域の近赤外線しか吸収能がなく、950〜1200
nmの波長の近赤外線の吸収は期待できない。また特開
平6−256541号公報には、ポリカーボネート樹
脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等の透明樹脂にア
ントラキノン系化合物を0.01〜10重量%配合した
組成物から成る成形フィルムが700〜1200nmの
近赤外線の吸収について記載されているが、700〜8
00nm以外の近赤外線の吸収においては吸収性能が不
十分であった。更に、特開平7−179656号公報に
は、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン等の透明樹
脂に、硫化鉛、チオ尿素誘導体を配合した組成物が知ら
れている。該組成物は幅広い近赤外線波長域において吸
収することができるが、その成形体は透明な青色を呈す
るため、用途によっては色相及びコントラストに悪影響
を与える。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、色相が透明
なグレーまたは透明な茶色で、かつ可視光線透過性に優
れていると共に、800〜1100nmの近赤外線吸収
性能に優れた近赤外線吸収透明樹脂組成物を提供するこ
とである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の近赤外線吸収性
透明樹脂組成物は、透明樹脂100重量部に下記、
及びの種類の化合物から選ばれた少なくとも2種類の
近赤外線吸収剤を0.001〜0.5重量部配合して成
り、400〜700nmの可視光線透過率が40%以
上、800〜1100nmの近赤外線透過率が10%以
下であることを特徴とするものである。 含フッ素フタロシアニン構造を有する化合物 縮合ベンゾピラン構造を有する化合物 縮合キノリン構造を有する化合物
【0005】
【発明の実施の形態】
[I]構成成分 (1)透明樹脂 本発明の近赤外線吸収性透明樹脂組成物を構成する透明
樹脂としては、実質的に透明であって、吸収、散乱が大
きくない樹脂であれば良く、特に制限はないが、その具
体的なものとしては、ポリカーボネート系樹脂、ポリ
(メタ)アクリル酸エステル系樹脂、脂環式ポリオレフ
ィン系樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸
ビニル等を挙げることができる。 (a)ポリカーボネート系樹脂 上記ポリカーボネート系樹脂としては、2価フェノール
とカーボネート前駆体とを溶液法または溶融法で反応さ
せて製造されるものである。2価フェノールの代表的な
例として以下のものが挙げられる。2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)プロパン[ビスフェノールA]、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,
1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,
5−ジブロモフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−
ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、ビス(4
−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)スルホン等である。好ましい2価のフェ
ノールはビス(4−ヒドロキシフェニル)アルカン系で
あり、特にビスフェノールを主成分とするものである。
【0006】(b)ポリ(メタ)アクリル酸エステル系
樹脂 上記ポリ(メタ)アクリル酸エステル系樹脂としては、
ポリアクリル酸エステル系樹脂、ポリメタクリル酸エス
テル系樹脂であり、具体的にはメタクリル酸メチル単独
またはメタクリル酸メチルを50%以上含む重合性不飽
和単量体混合物の重合体または共重合体である。メタク
リル酸メチルと共重合可能な重合性不飽和単量体として
は、例えば以下のものが挙げられる。アクリル酸メチ
ル、(メタ)アクリル酸エチル(アクリル酸メチルある
いはメタクリル酸メチルの意味。以下同じ)、(メタ)
アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシ
ル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)
アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸エトキ
シエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、
(メタ)アクリル酸N,N−ジエチルアミノエチル(メ
タ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸トリブ
ロモフェニル、(メタ)アクリル酸テトラヒドロキシフ
ルフリール、エチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ト
リメチロールエタンジ(メタ)アクリレート、ネオペン
チルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスト
ールテトラ(メタ)アクリレートなどである。
【0007】(c)脂環式ポリオレフィン系樹脂 上記脂環式ポリオレフィン系樹脂としては、下記式
(I)または、下記式(II)で表される環状オレフィン
成分を開環重合してなる重合体、共重合体およびその水
素添加物、および/または下記式(I)または、下記式
(II)で表される環状オレフィン成分とエチレン成分と
を付加重合してなる共重合体である。
【0008】
【化1】
【0009】上記式(1)で示される環状オレフィンと
しては、ピシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エン誘導
体、テトラシクロ[4,4,0,13.5 ,17.10]−3
−ドデセン誘導体、ヘキサシクロ[6,6,1,
3.6 ,110.13 ,02.7 ,09.14]−4−ヘプタデン
セン誘導体、オクタシクロ[8,8,0,12.6 ,1
4.7 ,111.10 ,113.10 ,03.8 ,012.17 ]−5−
ドコセン誘導体、ペンタシクロ[6,6,1,13.6
2.7 ,09.14]−4−ヘキサデセン誘導体、ヘプタシ
クロ−5−イコセン誘導体、ヘプタシクロ−5−ヘンエ
イコセン誘導体、トリシクロ[4,3,0,12.5]−
3−デセン誘導体、トリシクロ[4,3,0,12 .5
−3−ウンデセン誘導体、ペンタシクロ[6,5,1,
3.8 ,02.7 ,09.13]−4−ペンタデセン誘導体、
ペンタシクロペンタデカジエン誘導体、ペンタシクロ
[4,7,0,12.5,08.7 ,19.12]−3−ペンタ
デセン誘導体、ペンタシクロ[7,8,0,13.6 ,0
8.7 ,110.17 ,011.16 ,112.15 ]−4−エイコセ
ン誘導体、およびノナシクロ[9,10,1,1,4,
7,03. 6 ,02.10,012.21 ,113.20 ,014.9,1
15.18 ]−5−ペンタコセン誘導体、あるいは1,4,
5,8,−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,
8a−オクタヒドロナフタレンの他に2−メチル−1,
4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,
8,8a−オクタヒドロナフタレン、2−エチル−1,
4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,
8,8a−オクタヒドロナフタレン、2−プロピル−
1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,
5,8,8a−オクタヒドロナフタレン、2−ヘキシル
−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a,
5,8,8a−オクタヒドロナフタレン、2,3−ジメ
チル−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4
a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレン、2−メチ
ル−3−エチル−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,
3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレ
ン、2−クロロ−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,
3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレ
ン、2−ブロム−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,
3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレ
ン、2−フルオロ−1,4,5,8−ジメタノ−1,
2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタ
レン、2,3−ジクロロ−1,4,5,8−ジメタノ−
1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナ
フタレン、2−シクロヘキシル−1,4,5,8−ジメ
タノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタヒ
ドロナフタレン、2−n−ブチル−1,4,5,8−ジ
メタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オクタ
ヒドロナフタレン、2−イソブチル−1,4,5,8−
ジメタノ−1,2,3,4,4a,5,8,8a−オク
タヒドロナフタレンなどのオクタヒドロナフタレンなど
が挙げられる。
【0010】また上記式(II)で示される環状オレフィ
ンとしては、具体的には下記のような化合物が挙げられ
る。5−フェニル−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−2
−エン、5−メチル−5−フェニル−ビシクロ[2,
2,1]ヘプト−2−エン、5−ベンジル−ビシクロ
[2,2,1]ヘプト−2−エン、5−トリル−ビシク
ロ[2,2,1]ヘプト−2−エン、5−(エチルフェ
ニル)−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エン、5
−(イソプロピルフェニル)−ビシクロ[2,2,1]
ヘプト−2−エン、1,4−メタノ−1,1a,4,4
a−テトラヒドロフルオレン、1,4−メタノ−1,
4,4a,5,10,10a−ヘキサヒドロアントラセ
ン、シクロペンタジエン−アセナフチレン付加物、5−
(α−ナフチル)−ビシクロ[2,2,1]ヘプト−2
−エン、5−(アセトラセニル)−ビシクロ[2,2,
1]ヘプト−2−エン等を挙げることができる。
【0011】(2)近赤外線吸収剤 本発明の近赤外線吸収性透明樹脂組成物を構成する近赤
外線吸収剤としては、下記、及びの種類の化合物
を挙げることができ、本発明においてはこれら、及
びの種類の中から、少なくとも2種類の化合物を用い
ることが重要である。 (a)種類 含弗素、フタロシアニン構造を有する化合物 含弗素フタロシアニン構造を有する化合物としては、下
記一般式(I)で表わされるフタロシアニン化合物を挙
げることができる。 一般式(I)
【0012】
【化2】
【0013】[式中のaは0〜4の整数であり、Wは−
S−Y又は−O−Z(Y,Zは直鎖又は分岐アルキル
基、アルコキシアルキル基、アシルオキシアルキル基、
ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基、シアノアル
キル基、アルコキシカルボニルアルキル基、ハロゲン化
アルキル基、アルキル基又はアルコキシ基又はアミノ基
又はスルホン酸基又はカルボン酸基又はハロゲン置換若
しくは非置換フェニル基、同置換若しくは非置換シクロ
アルキル基、同置換若しくは非置換ベンジル基、同置換
若しくは非置換ナフチル基(但し、a=4のときは、
Y,Zのいずれかは、Fは置換フェニル基、同置換シク
ロアルキル基、同置換ベンジル基、同置換ナフチル基で
ある。)である。)Mは金属、酸化金属、ハロゲン化金
属を表わす。]上記一般式(I)中のaが0〜4の場合
の骨格は以下に示す一般式(IIa)、(IIb)、(II
c)、(IId)、(IIe)に示すものを挙げることがで
きる。 a=0 一般式(IIa)
【0014】
【化3】
【0015】a=1 一般式(IIb)
【0016】
【化4】
【0017】a=2 一般式(IIc)
【0018】
【化5】
【0019】a=3 一般式(IId)
【0020】
【化6】
【0021】a=4 一般式(IIe)
【0022】
【化7】
【0023】上記一般式(I)及び一般式(IIb)〜
(IIe)中の−S−Yの具体例としては、下記〜を
挙げることができる。 直鎖または分岐のアルキルチオ基の具体例として
は、例えばメチルチオ、エチルチオ、n−プロピルチ
オ、iso−プロピルチオ、n−ブチルチオ、iso−
ブチルチオ、tert−ブチルチオ、n−ペンチルチ
オ、1,2−ジメチルプロピルチオ、n−ヘキシルチ
オ、n−ヘプチルチオ、n−オクチルチオ、n−ノニル
チオ、n−ドデシルチオ等の炭素数1〜20の直鎖また
は分岐のアルキルチオ基等が挙げられる。 アルコキシアルキルチオ基の具体例としては、例え
ばメトキシメチルチオ、エトキシメチルチオ、メトキシ
エチルチオ、エトキシエチルチオ、プロポキシエチルチ
オ、ブトキシエチルチオ、ヘキシルオキシエチルチオ、
3−メトキシブチルチオ、フェノキシエチルチオ等が挙
げられる。 アシルオキシアルキルチオ基としては、例えばアセ
チルオキシエチルチオ、プロピオニルオキシエチルチオ
等が挙げられる。 ヒドロキシアルキルチオ基の具体例としては、例え
ばヒドロキシメチルチオ、2−ヒドロキシプロピルチオ
等が挙げられる。 アミノアルキルチオ基の具体例としては、例えばア
ミノメチルチオ、2−アミノエチルチオ、3−アミノブ
チルチオ等が挙げられる。 シアノアルキルチオ基の具体例としては、例えばシ
アノメチルチオ、シアノエチルチオ等が挙げられる。 アルコキシカルボニルアルキルチオ基の具体例とし
ては、例えばメトキシカルボニルメチルチオ、エトキシ
カルボニルエチルチオ、ブトキシカルボニルプロピルチ
オ等が挙げられる。 ハロゲン化アルキルチオ基の具体例としては、例え
ばトリフルオロメチルチオ等が挙げられる。 アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、スルホン酸
基、カルボン酸基、若しくはハロゲンで置換されていて
もよいフェニルチオ基、シクロアルキルチオ基、ベンジ
ルチオ基、または、ナフチルチオ基の具体例としては、
例えばフェニルチオ、o−メチルフェニルチオ、m−メ
チルフェニルチオ、p−メチルフェニルチオ、2,4−
ジメチルフェニルチオ、2,3−ジメチルフェニルチ
オ、2,6−ジメチルフェニルチオ、o−メトキシフェ
ニル、p−メトキシフェニルチオ、p−エトキシフェニ
ルチオ、o−アミノフェニルチオ、p−アミノフェニル
チオ、o−ジメチルアミノフェニルチオ、p−ジメチル
アミノフェニルチオ、p−スルフォニルフェニルチオ、
o−メトキシカルボニルフェニルチオ、p−メトキシカ
ルボニルフェニルチオ、m−メトキシカルボニルフェニ
ルチオ、o−エトキシカルボニルフェニルチオ、p−エ
トキシカルボニルフェニルチオ、m−エトキシカルボニ
ルフェニルチオ、o−ブトキシカルボニルフェニルチ
オ、p−ブトキシカルボニルフェニルチオ、m−ブトキ
シカルボニルフェニルチオ、o−メチル−p−メトキシ
カルボニルフェニルチオ、o−メトキシ−p−メトキシ
カルボニルフェニルチオ、o−フルオロ−p−メトキシ
カルボニルフェニルチオ、テトラフルオロ−p−エトキ
シカルボニルフェニルチオ、o−エトキシカルボニル−
p−メチルフェニルチオ、o−ブトキシカルボニル−p
−メチルフェニルチオ、o−ブトキシカルボニル−p−
フルオロフェニルチオ、p−メチル−m−ブトキシカル
ボニルフェニルチオ、o−フルオロフェニルチオ、p−
フルオロフェニルチオ、2,3,5,6−テトラフルオ
ロフェニルチオ、o−クロロフェニルチオ、p−クロロ
フェニルチオ、2,4−ジクロロフェニルチオ、2,6
−ジクロロフェニルチオ、シクロヘキシルチオ、2−シ
クロヘキシルエチルチオ、3−シクロヘキシルプロピル
チオ、3−シクロヘキシル−2メチルプロピルチオ、ベ
ンジルチオ、ナフチルチオ等が挙げられる。
【0024】また、上記一般式(I)及び一般式(II
b)〜(IIe)中の−O−Zの具体例としては、下記
〜を挙げることができる。 直鎖または分岐のアルコキシ基の具体例としては、
例えばメトキシ、エトキシ、n−プロピルオキシ、is
o−プロピルオキシ、n−ブチルオキシ、iso−ブチ
ルオキシ、tert−ブチルオキシ、n−ペンチルオキ
シ、1,2−ジメチルプロピルオキシ、n−ヘキシルオ
キシ、n−ヘプチルオキシ、n−オクチルオキシ、n−
ノニルオキシ、n−ドデシルオキシ等の炭素数1〜20
の直鎖または分岐のアルコキシ基等が挙げられる。 アルコキシアルキルオキシ基の具体例としては、例
えばメトキシメチルオキシ、エトキシメチルオキシ、メ
トキシエチルオキシ、エトキシエチルオキシ、プロポキ
シエチルオキシ、ブトキシエチルオキシ、ヘキシルオキ
シエチルオキシ、3−メトキシブチルオキシ、フェノキ
シエチルオキシ等が挙げられる。 アシルオキシアルキルオキシ基としては、例えばア
セチルオキシエチルオキシ、プロピオニルオキシエチル
オキシ等が挙げられる。 ヒドロキシアルキルオキシ基の具体例としては、例
えばヒドロキシメチルオキシ、2−ヒドロキシエチルオ
キシ、2−ヒドロキシプロピルオキシ等が挙げられる。 アミノアルコキシ基の具体例としては、例えばアミ
ノメトキシ、2−アミノエトキシ、3−アミノブトキシ
等が挙げられる。 シアノアルキルオキシ基の具体例としては、例えば
シアノメチルオキシ、シアノエチルオキシ等が挙げられ
る。 アルコキシカルボニルアルキルオキシ基の具体例と
しては、例えばメトキシカルボニルメチルオキシ、エト
キシカルボニルエチルオキシ、ブトキシカルボニルプロ
ピルオキシ等が挙げられる。 ハロゲン化アルキルオキシ基の具体例としては、例
えばトリフルオロメチルオキシ等が挙げられる。 アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、スルホン酸
基、若しくはハロゲンで置換されていてもよいフェノキ
シ基、シクロアルキルオキシ基、ベンジルオキシ基、お
よび、ナフチルオキシ基の具体例としては、例えばフェ
ノキシ、o−メチルフェノキシ、m−メチルフェノキ
シ、p−メチルフェノキシ、2,4−ジメチルフェノキ
シ、2,3−ジメチルフェノキシ、2,6−ジメチルフ
ェノキシ、o−メトキシフェノキシ、p−メトキシフェ
ノキシ、p−エトキシフェノキシ、o−アミノフェノキ
シ、p−アミノフェノキシ、o−ジメチルアミノフェノ
キシ、p−ジメチルアミノフェノキシ、p−スルフォニ
ルフェノキシ、o−メトキシカルボニルフェノキシ、p
−メトキシカルボニルフェノキシ、m−メトキシカルボ
ニルフェノキシ、o−エトキシカルボニルフェノキシ、
p−エトキシカルボニルフェノキシ、m−エトキシカル
ボニルフェノキシ、o−ブトキシカルボニルフェノキ
シ、p−ブトキシカルボニルフェノキシ、m−ブトキシ
カルボニルフェノキシ、o−メチル−p−メトキシカル
ボニルフェノキシ、o−メトキシ−p−メトキシカルボ
ニルフェノキシ、o−フルオロ−p−メトキシカルボニ
ルフェノキシ、テトラフルオロ−p−エトキシカルボニ
ルフェノキシ、o−エトキシカルボニル−p−メチルフ
ェノキシ、o−ブトキシカルボニル−p−メチルフェノ
キシ、o−ブトキシカルボニル−p−フルオロフェノキ
シ、p−メチル−m−ブトキシカルボニルフェノキシ、
o−フルオロフェノキシ、p−フルオロフェノキシ、
2,3,5,6−テトラフルオロフェノキシ、o−クロ
ロフェノキシ、p−クロロフェノキシ、2,4−ジクロ
ロフェノキシ、2,6−ジクロロフェノキシ、シクロヘ
キシルオキシ、2−シクロヘキシルエチルオキシ、3−
シクロヘキシル−2メチルプロピルオキシ、ベンジルオ
キシ、ナフチルオキシ等が挙げられる。上記一般式
(I)中のMで示されるフタロシアニン化合物の中心金
属としては、例えば、Cu、Zn、Pb、Fe、Ni、
Co、Pd、AlCl、AlI、InCl、InI、G
aCl、GaI、TiCl2 、TiO、VCl2 、V
O、SnCl2 及びGeCl2 等を挙げることができ
る。これら含弗素フタロシアニン構造を有するフタロシ
アニン化合物としては市場で、「日本触媒社製イーエク
スカラー803K」、「日本触媒社製イーエクスカラー
901B」として市販されているので容易に入手するこ
とができる。
【0025】 縮合ベンゾピラン構造を有する化合物 上記縮合ベンゾピラン構造を有する化合物としては、例
えば下記一般式(IIIa)〜(III )で表わされるも
のを挙げることができる。一般式(III a)
【0026】
【化8】
【0027】8−[(6,7−ジヒドロ−2,4−ジフ
ェニル−5H−1−ベンゾピラン−8−イル)メチレ
ン]5,6,7,8−テトラヒドロ−2,4−ジフェニ
ル−1−ベンゾピリリウムパークロエート、一般式(II
I b)
【0028】
【化9】
【0029】8−[3−(6,7−ジヒドロ−2,4−
ジフェニル−5H−1−ベンゾピラン−8−イル)−2
−プロペニリデン]−5,6,7,8−テトラヒドロ−
2,4−ジフェニル−1−ベンゾピリリウムパークロエ
ート、一般式(III c)
【0030】
【化10】
【0031】8−[5−(6,7−ジヒドロ−2,4−
ジフェニル−5H−1−ベンゾピラン−8−イル)−
2,4−ペンタジエニリデン]−5,6,7,8−テト
ラヒドロ−2,4−ジフェニル−1−ベンゾピリリウム
パークロエート、これら縮合ベンゾピラン構造を有する
化合物としては、市場で「日本感光色素研究所社製NK
−3508」として市販されているので容易に入手する
ことができる。
【0032】 縮合キノリン構造を有する化合物 上記縮合キノリン構造を有する化合物としては、例え
ば、下記一般式(IVa)〜(IVe)で表わされるものを
挙げることができる。一般式(IVa)
【0033】
【化11】
【0034】1−エチル−4−[3−(1−エチル−4
(1H)−キノリニデン)−1−プロペニル]キノリニ
ウムアイオダイト、一般式(IVb)
【0035】
【化12】
【0036】1−エチル−4−[5−(1−エチル−4
(1H)−キノリニデン)−1,3−ペンタジエニル]
キノリニウムアイオダイト、一般式(IVc)
【0037】
【化13】
【0038】1−エチル−4−[7−(1−エチル−4
(1H)−キノリニデン)−1,3,5−ヘプタトリエ
ニル]キノリニウムアイオダイト、一般式(IVc)
【0039】
【化14】
【0040】1−エチル−2−[5−(1−エチル)キ
ノリニデン−1,3−ペンタジエチル]キノリニウムア
イオダイト、一般式
【0041】
【化15】
【0042】1−エチル−2−[7−(1−エチル−2
(1H)−キノリニデン)−1,3,5−ヘプタトリエ
ニルキノリニウムアイオダイト、これら縮合キノリン構
造を有する化合物としては、市場で「日本感光色素研究
所社製NK−124」として市販されているので容易に
入手することができる。
【0043】(b)併用 上記、及びの種類の化合物近赤外線吸収剤を少な
くとも2種類併用することが重要で、単独で用いるだけ
では本発明の効果が得られないし、1種類の化合物のみ
を複数で用いても本発明の効果を得ることができない。
従って、上記、及びの種類の化合物の近赤外線吸
収剤の中から少なくとも2種類の近赤外線吸収剤を一般
に2:9〜5:2、又は3:5:10〜4:5:2の割
合、好ましくは3:7〜3:2、又は5:8:10〜
3:4:2の割合で用いるのが良い。
【0044】(3)量比 上記近赤外線吸収剤の配合量は、樹脂100重量部に対
する合計量で0.001〜0.5重量部、好ましくは
0.002〜0.3重量部である。上記範囲未満である
と可視光線の透過性は良くなるが、近赤外線吸収能は低
下する。一方、上記範囲超過であると近赤外線吸収能は
良好となるが可視光線透過率は低下する。
【0045】(4)その他の配合剤 上記透明樹脂成分及び近赤外線吸収剤成分の他に一般的
に公知である添加剤、例えばフェノール系、リン系など
の酸化防止剤、ハロゲン系、リン酸系などの難燃剤、耐
熱老化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等を透
明樹脂に配合することもできる。
【0046】[II]配合 上記透明樹脂に近赤外線吸収剤を配合して本発明の近赤
外線吸収性樹脂組成物を得るには単軸押出機、2軸押出
機、バンバリーミキサーなどを用いて溶融混練すること
により容易に製造することができる。
【0047】[III ]近赤外線吸収性樹脂組成物 上記溶融混練によって得られた本発明の近赤外線吸収透
明樹脂成形体組成物は、通常色相が透明なグレー又は透
明な茶色であり、これら色相をした樹脂組成物の成形体
を人間の目と画像表示装置等との間に置いた場合、画像
の色相に悪影響を与えることがない。また、該組成物
は、400〜700nmの可視光線透過率が40%以
上、好ましくは45%以上、特に好ましくは50%以上
であり、かつ、800〜1100nmの近赤外線透過率
が10%以下、好ましくは8%以下、特に好ましくは5
%以下を示すものである。
【0048】[IV]成形体の製造 上記本発明の近赤外線吸収性透明樹脂組成物を用いてフ
ィルム、またはシート(板)に成形する方法としては、
公知の射出成形、Tダイ成形、カレンダー成形、圧縮成
形などの方法や、有機溶剤に溶解させキャスティングす
る方法などを用いることができる。成形体の厚みとして
は目的に応じて10μm〜5mmの範囲が望ましい。また
上記の成形法以外に可視光線透過性を阻害しない程度に
1軸あるいは2軸に延伸することによって高強度にした
り、表面を粗にして蛍光灯などの光の写り込みを防止し
たりすることもできる。さらに、この成形体は単独はも
ちろん透明のガラス板や他の透明樹脂板等に貼り付けた
積層体として用いることもできる。
【0049】
【実施例】以下に実施例により、本発明を説明するが本
発明はこれにより何ら制限されるものではない。 実施例1 三菱レーヨン社製ポリメタクリル酸メチルアクリペット
「VH5」100重量部に含フッ素フタロシアニン構造
を有する近赤外線吸収剤(日本触媒社製イーエクスカラ
ー803K)0.01重量部、縮合ベンゾピラン構造を
有する近赤外線吸収剤(日本感光色素研究所社製NK−
3508)0.01重量部、縮合キノリン構造を有する
近赤外線吸収剤(日本感光色素研究所社製NK−12
4)0.01重量部を40mm径の単軸押出機で混練し
組成物を得た。得られた組成物を射出成形機(日本製鋼
所J−150)にて成形し、茶色透明の100mm□×
2mmtのシート状成形体を得た。得られた成形品の近
赤外線透過率は分光光度計(BIO−RAD社製FTS
−60A型)で測定した結果、800nm〜1100n
mの平均透過率は8%であった。可視光線透過率は分光
光度計(島津社製UV−2200型)で測定した結果5
0%であった。その結果を表1に示す。
【0050】実施例2 近赤外線吸収剤として含フッ素フタロシアニン構造を有
する近赤外線吸収剤(日本触媒社製イーエクスカラー8
03K及び901Bをそれぞれ0.01重量部)0.0
2重量部、縮合ベンゾピラン構造を有する近赤外線吸収
剤(日本感光色素研究所社製NK−3508)0.01
重量部を配合した以外は実施例1と同様に実施した。そ
の結果を表1に示す。
【0051】実施例3 含フッ素フタロシアニン構造を有する近赤外線吸収剤
(日本触媒社製イーエクスカラー803K)0.015
重量部、縮合キノリン構造を有する近赤外線吸収剤(日
本感光色素研究所社製NK−124)0.015重量部
を配合した以外は実施例1と同様に実施した。その結果
を表1に示す。
【0052】実施例4 縮合ベンゾピラン構造を有する近赤外線吸収剤(日本感
光色素研究所社製NK−3508、NK3027それぞ
れ0.01重量部)0.02重量部、縮合キノリン構造
を有する近赤外線吸収剤(日本感光色素研究所社製NK
−124)0.01重量部を配合した以外は実施例1と
同様に実施した。その結果を表1に示す。
【0053】比較例1 近赤外線吸収剤として含フッ素フタロシアニン構造を有
する近赤外線吸収剤(日本触媒社製イーエクスカラー8
03K)0.03重量部のみを用いた以外は実施例1と
同様に実施した。その結果を表1に示す。
【0054】比較例2 近赤外線吸収剤として縮合ベンゾピラン構造を有する近
赤外線吸収剤(日本感光色素研究所社製NK−350
8)0.03重量部のみを用いた以外は実施例1と同様
に実施した。その結果を表1に示す。
【0055】比較例3 近赤外線吸収剤として縮合キノリン構造を有する近赤外
線吸収剤(日本感光色素研究所社製NK−124)0.
03重量部のみを用いた以外は実施例1と同様に実施し
た。その結果を表1に示す。
【0056】実施例5 三菱レーヨン社製ポリメタクリル酸メチルアクリペット
「VH5」のかわりに三菱エンプラ社製ポリカーボネー
ト樹脂「ユーピロンS−3000」を用いた以外は実施
例1と同様に実施した。その結果を表1に示す。
【0057】
【表1】
【0058】
【発明の効果】本発明の少なくとも2種類の近赤外線吸
収剤を配合した透明性樹脂は、可視光線透過率が40%
以上、800〜1100mmの近赤外線透過率が10%
以下であることから、コンピューター端末機ディスプレ
イ、サングラス、コンタクトレンズ、保護眼鏡、リモコ
ン受光器等の幅広い用途に使用することができる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】透明樹脂100重量部に下記、及び
    の種類の化合物から選ばれた少なくとも2種類の近赤外
    線吸収剤を0.001〜0.5重量部配合して成り、4
    00〜700nmの可視光線透過率が40%以上、80
    0〜1100nmの近赤外線透過率が10%以下である
    ことを特徴とする近赤外線吸収性透明樹脂組成物。 含フッ素フタロシアニン構造を有する化合物 縮合ベンゾピラン構造を有する化合物 縮合キノリン構造を有する化合物
  2. 【請求項2】透明樹脂がポリカーボネート樹脂又はポリ
    (メタ)アクリル系樹脂である請求項1に記載の近赤外
    線吸収性透明樹脂組成物。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1553133A1 (en) * 2003-12-31 2005-07-13 Arkema Near infrared absorbing acrylic construction blocks
US7655306B2 (en) 2006-05-23 2010-02-02 Cheil Industries, Inc. Optical film, optical filter and display device including the same
US8303859B2 (en) 2007-12-24 2012-11-06 Cheil Industries, Inc. Optical film for suppressing near infrared ray transmittance and display filter using the same
KR20140069725A (ko) * 2012-11-29 2014-06-10 엘지이노텍 주식회사 근적외선 필름, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 카메라 모듈
KR20140076714A (ko) * 2012-12-13 2014-06-23 엘지이노텍 주식회사 근적외선 필름

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06200113A (ja) * 1992-12-28 1994-07-19 Nippon Zeon Co Ltd 近赤外線吸収樹脂組成物、および成形品

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06200113A (ja) * 1992-12-28 1994-07-19 Nippon Zeon Co Ltd 近赤外線吸収樹脂組成物、および成形品

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1553133A1 (en) * 2003-12-31 2005-07-13 Arkema Near infrared absorbing acrylic construction blocks
US7655306B2 (en) 2006-05-23 2010-02-02 Cheil Industries, Inc. Optical film, optical filter and display device including the same
US8303859B2 (en) 2007-12-24 2012-11-06 Cheil Industries, Inc. Optical film for suppressing near infrared ray transmittance and display filter using the same
KR20140069725A (ko) * 2012-11-29 2014-06-10 엘지이노텍 주식회사 근적외선 필름, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 카메라 모듈
KR20140076714A (ko) * 2012-12-13 2014-06-23 엘지이노텍 주식회사 근적외선 필름

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