JPH10138127A - Grinding device - Google Patents

Grinding device

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JPH10138127A
JPH10138127A JP29665096A JP29665096A JPH10138127A JP H10138127 A JPH10138127 A JP H10138127A JP 29665096 A JP29665096 A JP 29665096A JP 29665096 A JP29665096 A JP 29665096A JP H10138127 A JPH10138127 A JP H10138127A
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gear
output shaft
shaft
rotation
main shaft
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逸郎 渡辺
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泰則 伊藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To perform the eccentric oscillation while a surface plate is constantly maintained in the prescribed posture by providing a turn-preventive mechanism to prevent turning-together of an output shaft to be generated by the turn of a spindle. SOLUTION: When a spindle 22 is turned, an output shaft 28 provided at the eccentric position of the spindle 22 is eccentrically turned around the axis OM of the spindle 22, and a surface plate 32 is also eccentrically turned. Because the output shaft 28 is fixed to a housing 40 through a universal joint 36, its rotation is regulated. Thus, the output shaft 28 is eccentrically turned around the axis OM of the spindle 22 by turning the spindle 22, but its posture is kept constant. As a result, the surface plate 32 is also eccentrically turned in the condition where the posture is kept constant.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は研磨装置に係り、特
にガラス板等の板状体を研磨する研磨装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polishing apparatus, and more particularly to a polishing apparatus for polishing a plate such as a glass plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】ガラス等の板状体の研磨は、仕上げ面の
均一化を図るために、定盤を偏芯揺動させて研磨する。
すなわち、定盤の姿勢を一定に保持した状態で、定盤を
偏芯回転させて研磨する。これにより、定盤はどの点を
とっても周速が一定になり、研磨の均一化を図ることが
できる。
2. Description of the Related Art In the polishing of a plate-like body such as glass, the platen is eccentrically oscillated and polished in order to make the finished surface uniform.
That is, while the posture of the surface plate is kept constant, the surface plate is eccentrically rotated and polished. Thereby, the peripheral speed of the surface plate becomes constant at any point, and uniform polishing can be achieved.

【0003】そして、従来の研磨装置では、前記定盤を
偏芯揺動させるために、平行な2本の出力軸を備え、そ
の平行2軸の出力軸を平行運動動作させることにより、
その端部に固定された定盤を偏芯揺動させていた。
[0003] In the conventional polishing apparatus, two parallel output shafts are provided in order to eccentrically oscillate the surface plate, and the two parallel output shafts are operated in parallel motion.
The platen fixed to the end was eccentrically swung.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たように、2本の出力軸で用いて定盤を偏芯揺動させる
機構は、高い部品精度と組立精度を要求されるため、製
作がきわめて困難であるという欠点があった。本発明
は、このような事情に鑑みてなされたもので、出力軸を
1軸とし、簡易な構成で偏芯揺動研磨を行なうことがで
きる研磨装置を提供することを目的とする。
However, as described above, the mechanism for eccentrically oscillating the surface plate using two output shafts is required to have high component precision and assembly precision. There was a drawback that it was difficult. The present invention has been made in view of such circumstances, and has as its object to provide a polishing apparatus having a single output shaft and capable of performing eccentric oscillating polishing with a simple configuration.

【0005】[0005]

【課題を解決する為の手段】本発明は、前記目的を達成
するために、回転駆動源と、前記回転駆動源によってそ
の軸心を中心に回転駆動される主軸と、前記主軸に回転
自在に支持されるとともに、該主軸の回転中心と偏芯し
た位置に回転自在に支持された出力軸と、前記出力軸に
設けられるとともに、前記主軸の回転で生じる前記出力
軸の共回りを防止する回り止め機構と、前記出力軸の端
部に設けられ、その表面に研磨具を備えた定盤と、前記
定盤と対向した位置に設けられ、ワークを支持するワー
クテーブルと、からなり、前記定盤を前記ワークテーブ
ル上に支持されたワークに圧接させることにより、前記
ワークの表面を研磨することを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention provides a rotary drive source, a spindle driven by the rotary drive source about its axis, and rotatably mounted on the spindle. An output shaft supported and rotatably supported at a position eccentric to the rotation center of the main shaft, and a rotation provided on the output shaft to prevent co-rotation of the output shaft caused by rotation of the main shaft. A stop mechanism, a platen provided at an end of the output shaft and provided with a polishing tool on its surface, and a work table provided at a position facing the platen and supporting a work, The surface of the work is polished by pressing the board against the work supported on the work table.

【0006】本発明によれば、主軸を回転させると、そ
の主軸に設けられた出力軸が偏芯回転する。これによ
り、定盤も偏芯回転するが、前記出力軸は、前記主軸に
回転自在に支持されているので、前記主軸が回転する
と、前記出力軸は共回り(自転)を生じる。しかしなが
ら、前記出力軸は、回り止め機構によって、その回転が
防止されているので、その共回りは生じない。したがっ
て、定盤は、常に一定の姿勢を維持したまま偏芯回転、
すなわち、偏芯揺動を行なうことができる。
According to the present invention, when the main shaft is rotated, the output shaft provided on the main shaft rotates eccentrically. As a result, although the platen also rotates eccentrically, the output shaft is rotatably supported by the main shaft, so that when the main shaft rotates, the output shaft rotates (rotates). However, since the rotation of the output shaft is prevented by the rotation preventing mechanism, co-rotation does not occur. Therefore, the platen is eccentrically rotated while maintaining a constant posture,
That is, eccentric swing can be performed.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
る研磨装置の好ましい実施の形態について詳説する。図
1は、本発明に係る研磨装置の第1の実施の形態の構成
を示す側面断面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of a polishing apparatus according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a side sectional view showing the configuration of the first embodiment of the polishing apparatus according to the present invention.

【0008】同図に示すように、前記研磨装置10は、
板状のワーク12を保持するワーク保持部14と、その
ワーク保持部14に保持されたワーク12を研磨するワ
ーク研磨部16とから構成されている。前記ワーク保持
部14は、前記ワーク12を保持するワークテーブル1
8を有しており、該ワークテーブル18はベース20上
に固定されている。
As shown in FIG. 1, the polishing apparatus 10 comprises:
The work holding unit 14 holds the plate-shaped work 12 and the work polishing unit 16 polishes the work 12 held by the work holding unit 14. The work holding unit 14 is a work table 1 that holds the work 12.
The work table 18 is fixed on a base 20.

【0009】前記ワーク研磨部16は、前記ワーク保持
部14の上方に設けられ、前記ワークテーブル18と直
交する主軸22を有している。この主軸22は、ベアリ
ング24、24、…を介して本体ケーシング26に回転
自在に支持されており、該本体ケーシング26は図示し
ないコラムに昇降自在に支持されている。前記主軸22
には、主軸22の軸心OM と偏芯した位置に挿通孔22
Aが穿孔されている。挿通孔22Aには出力軸28が挿
通されており、該出力軸28は、ベアリング30、3
0、…を介して回転自在に支持されている。したがっ
て、前記主軸22を回転させると、前記出力軸28は、
主軸22の軸心OM を中心とした偏芯回転を行なう。
The work polishing section 16 is provided above the work holding section 14 and has a main shaft 22 orthogonal to the work table 18. The main shaft 22 is rotatably supported by a main body casing 26 via bearings 24, 24,..., And the main body casing 26 is supported by a column (not shown) to be able to move up and down. The spindle 22
Has an insertion hole 22 at a position eccentric to the axis O M of the main shaft 22.
A is perforated. An output shaft 28 is inserted through the insertion hole 22A, and the output shaft 28
It is rotatably supported via 0,. Therefore, when the main shaft 22 is rotated, the output shaft 28
Perform eccentric rotation about the axis O M of the main shaft 22.

【0010】前記出力軸28の先端部には、正方形状に
形成された定盤32が連結されている。この定盤32
は、図示しない昇降加圧機構を備えており、前記ワーク
テーブル18に対して平行に配置されており、その表面
には研磨布34が貼付されている。一方、前記出力軸2
8の基端部は、ユニバーサルジョイント36を介して前
記本体ケーシング26に一体固定されたハウジング40
に固定されている。
A platen 32 formed in a square shape is connected to the tip of the output shaft 28. This surface plate 32
Is provided with an elevating and lowering pressure mechanism (not shown), and is disposed in parallel with the work table 18, and a polishing cloth 34 is affixed to the surface thereof. On the other hand, the output shaft 2
8 has a housing 40 integrally fixed to the main body casing 26 via a universal joint 36.
It is fixed to.

【0011】この結果、前記出力軸28は、主軸22を
回転させると、その主軸22の軸心OM を中心とした偏
芯回転を行なうが、その自転、すなわち、出力軸28の
軸心OO を中心とした回転は規制される。したがって、
この出力軸28に連結された定盤32も同様の動き、す
なわち、その姿勢を一定に保持した状態で偏芯回転を行
なう。
As a result, when the output shaft 28 rotates the main shaft 22, the output shaft 28 performs eccentric rotation about the axis O M of the main shaft 22, but its rotation, that is, the axis O of the output shaft 28, Rotation around O is regulated. Therefore,
The surface plate 32 connected to the output shaft 28 also performs the same movement, that is, eccentric rotation with its posture kept constant.

【0012】このように、前記定盤32は、前記主軸2
2を回転させることにより、偏芯揺動する。そして、こ
の主軸22を回転させる駆動機構は、次のように構成さ
れている。前記主軸22の基端部には、メインギアAが
主軸22に一体形成されている。このメインギアAには
第1入力ギアBが噛合されており、該第1入力ギアBは
入力軸46の先端に一体固着されている。
As described above, the surface plate 32 includes the main shaft 2
By rotating 2 eccentric swinging occurs. The drive mechanism for rotating the main shaft 22 is configured as follows. A main gear A is formed integrally with the main shaft 22 at the base end of the main shaft 22. A first input gear B is meshed with the main gear A, and the first input gear B is integrally fixed to a tip of the input shaft 46.

【0013】前記入力軸46は、前記本体ケーシング2
6にベアリング48、48を介して回転自在に支持され
ており、その基端部には、駆動ギア50が一体固着され
ている。駆動ギア50には、タイミングベルト52を介
して伝達ギア54に連結されており、該伝達ギア54
は、モータ56のスピンドルに一体固着されている。以
上のように構成された駆動機構において、前記モータ5
6を駆動することにより、その回転が入力軸46に伝達
され、さらに、その回転が主軸22に伝達されて、主軸
22が回転する。
The input shaft 46 is connected to the main casing 2.
6 is rotatably supported via bearings 48, 48, and a drive gear 50 is integrally fixed to the base end thereof. The drive gear 50 is connected to a transmission gear 54 via a timing belt 52.
Are integrally fixed to the spindle of the motor 56. In the drive mechanism configured as described above, the motor 5
By driving the motor 6, the rotation is transmitted to the input shaft 46, and further, the rotation is transmitted to the main shaft 22, and the main shaft 22 rotates.

【0014】前記のごとく構成された本発明に係る研磨
装置の第1の実施の形態の作用は次の通りである。ま
ず、ワークテーブル18上にワーク12をセットする。
そして、ワーク12のセッティングが終了したのち、モ
ータ56を駆動する。モータ56が駆動すると、その回
転が入力軸46に伝達され、更にその入力軸46の回転
が主軸22に伝達されて、主軸22が回転する。
The operation of the first embodiment of the polishing apparatus according to the present invention configured as described above is as follows. First, the work 12 is set on the work table 18.
Then, after the setting of the work 12 is completed, the motor 56 is driven. When the motor 56 is driven, its rotation is transmitted to the input shaft 46, and further, the rotation of the input shaft 46 is transmitted to the main shaft 22, and the main shaft 22 rotates.

【0015】前記主軸22が回転すると、その主軸22
の偏芯した位置に設けられた出力軸28が、主軸22の
軸心OM を中心として偏芯回転し、これにより、定盤3
2も偏芯回転する。ここで、前記出力軸28は、回転自
在に支持されているため、前記主軸22が回転すると、
その主軸22の回転に伴い共回り、すなわち、自転しよ
うとするが、前記出力軸28は、ユニバーサルジョイン
ト36を介してハウジング40に固定されているため、
その自転が規制される。
When the main shaft 22 rotates, the main shaft 22
Is eccentrically rotated about the axis O M of the main shaft 22, whereby the surface plate 3 is rotated.
2 also rotates eccentrically. Here, since the output shaft 28 is rotatably supported, when the main shaft 22 rotates,
The output shaft 28 is fixed to the housing 40 via the universal joint 36.
Its rotation is regulated.

【0016】したがって、前記出力軸28は、前記主軸
22が回転することにより、前記主軸22の軸心OM
中心として偏芯回転するが、その姿勢は一定に保たれ
る。この結果、この出力軸28に連結された定盤32
も、その姿勢を一定に保持した状態で偏芯回転を行な
う。すなわち、偏芯揺動を行なう。図2は、前記主軸2
2を反時計回りに90°回転させたときの定盤32の軌
跡を示している。同図に示すように、前記定盤32は、
その姿勢を一定に保持した状態で、前記主軸22の軸心
M を中心に偏芯回転する。そして、このように偏芯揺
動する定盤32は、定盤32上のどの点も同一の周速と
なり、ワーク12を均一に研磨することができる。
[0016] Thus, the output shaft 28, by the main shaft 22 is rotated, but eccentrically rotates about the axis O M of the main shaft 22, its posture is kept constant. As a result, the surface plate 32 connected to the output shaft 28
Also, the eccentric rotation is performed with the posture kept constant. That is, eccentric swinging is performed. FIG. 2 shows the main shaft 2
2 shows the trajectory of the surface plate 32 when 2 is rotated 90 ° counterclockwise. As shown in FIG.
In a state where the posture is held constant, the spindle 22 rotates eccentrically about the axis O M of the main shaft 22. The surface plate 32 that oscillates eccentrically in this manner has the same peripheral speed at any point on the surface plate 32, and can uniformly polish the work 12.

【0017】上述したように、定盤32を偏芯回転させ
た状態で定盤32の昇降加圧機構により所定量下降さ
せ、前記定盤32を前記ワークテーブル18上に固定さ
れたワーク12に所定圧で圧接する。そして、その接触
面に図示しないスラリ供給手段から、スラリ(加工液)
を供給することにより、前記ワーク12の表面を研磨す
る。
As described above, while the surface plate 32 is eccentrically rotated, the surface plate 32 is lowered by a predetermined amount by the lifting / lowering pressing mechanism of the surface plate 32, and the surface plate 32 is moved to the work 12 fixed on the work table 18. Pressure contact with a predetermined pressure. Then, a slurry (working fluid) is supplied to the contact surface from slurry supply means (not shown).
To polish the surface of the work 12.

【0018】このように、本実施の形態の研磨装置によ
れば、定盤32を1軸で偏芯揺動させる機構を採用して
いるため、従来の平行2軸を用いて定盤32を偏芯揺動
させる研磨装置に比べ、製作に際して、高い部品精度や
組立精度は要求されない。したがって、従来機に比べ、
製作がきわめて容易になり、同時にコストダウンも図る
ことができる。
As described above, according to the polishing apparatus of the present embodiment, since the mechanism for eccentrically swinging the surface plate 32 about one axis is employed, the surface plate 32 is formed by using the conventional two parallel axes. Higher component accuracy and assembly accuracy are not required in manufacturing, as compared to a polishing device that oscillates eccentrically. Therefore, compared to the conventional model,
The production becomes extremely easy, and at the same time the cost can be reduced.

【0019】また、1軸で偏芯揺動させることにより、
平行2軸の平行運動動作を適用した従来機に比べ、各ベ
アリングにかかる負荷を低減させることができ、装置寿
命を延ばすことができる。なお、本実施の形態では、出
力軸28の自転を防止する機構として、出力軸28の基
端部をユニバーサルジョイント36を介してハウジング
40に固定したが、ユニバーサルジョイント36に変え
て、自在継手又はオルダム軸継手等を使用しても同様の
効果を得ることができる。
By eccentrically swinging about one axis,
The load on each bearing can be reduced, and the life of the device can be extended, as compared with a conventional machine to which a parallel motion operation of two parallel axes is applied. In the present embodiment, as a mechanism for preventing the rotation of the output shaft 28, the base end of the output shaft 28 is fixed to the housing 40 via the universal joint 36, but instead of the universal joint 36, a universal joint or The same effect can be obtained by using an Oldham shaft coupling or the like.

【0020】図3は、本発明に係る研磨装置の第2の実
施の形態の構成を示す側面断面図である。同図に示すよ
うに、第2の実施の形態の研磨装置60は、前記第1の
実施の形態の研磨装置10に対して、出力軸28の自転
防止機構のみが異なる。したがって、前記第1の実施の
形態の研磨装置10と同一、類似部材には、同一符号を
付してその説明は省略する。
FIG. 3 is a side sectional view showing the configuration of a polishing apparatus according to a second embodiment of the present invention. As shown in the figure, the polishing apparatus 60 of the second embodiment differs from the polishing apparatus 10 of the first embodiment only in the mechanism for preventing the output shaft 28 from rotating. Therefore, the same or similar members as those of the polishing apparatus 10 of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0021】第2の実施の形態の研磨装置60は、出力
軸28の自転を差動歯車機構を用いて防止している。図
3に示すように、主軸22の軸心OM と偏芯した位置に
回転自在に支持された出力軸28には、その基端部に出
力ギアCが一体形成されている。また、前記主軸22に
回転力を伝達する入力軸46には、その中央部近傍に第
2入力ギアDが一体形成されている。
In the polishing apparatus 60 of the second embodiment, the rotation of the output shaft 28 is prevented by using a differential gear mechanism. As shown in FIG. 3, an output gear C is integrally formed at the base end of the output shaft 28 rotatably supported at a position eccentric to the axis O M of the main shaft 22. A second input gear D is integrally formed near the center of the input shaft 46 for transmitting the rotational force to the main shaft 22.

【0022】この出力ギアCと第2入力ギアDは、ドー
ナツ状に形成されたアイドルギアEを介して互いにギア
結合されており、前記出力ギアCは、前記アイドルギア
Eの内周部に形成された内歯EINに噛合されている。ま
た、前記第2入力ギアDは、前記アイドルギアEの外周
に形成された外歯EOUT に噛合されている。前記出力ギ
アCと第2入力ギアDとの間に介在するアイドルギアE
は、支軸64の先端部に一体形成されている。この支軸
64は、前記主軸22と同軸上に配設されており、ベア
リング66、66を介して本体ケーシング26に回転自
在に支持されている。
The output gear C and the second input gear D are gear-coupled to each other via an idle gear E formed in a donut shape. The output gear C is formed on an inner peripheral portion of the idle gear E. Is meshed with the set internal teeth E IN . Further, the second input gear D is meshed with external teeth E OUT formed on the outer periphery of the idle gear E. An idle gear E interposed between the output gear C and the second input gear D;
Are formed integrally with the tip of the support shaft 64. The support shaft 64 is disposed coaxially with the main shaft 22, and is rotatably supported by the main body casing 26 via bearings 66, 66.

【0023】以上の構成により、入力軸46が回転する
と、その入力軸46の回転が主軸22に伝達されて主軸
22が回転し、出力軸28が主軸22の軸心OM を中心
とした偏芯回転を行なう。ここで、前記出力軸28が偏
芯回転すると、その基端部に一体形成された出力ギアC
は、前記アイドルギアEの内周に沿って公転する。
[0023] With the above arrangement, when the input shaft 46 rotates, the polarization rotation of the input shaft 46 is the main shaft 22 is rotated transmitted to the main shaft 22, the output shaft 28 around the axis O M of the main shaft 22 Perform core rotation. Here, when the output shaft 28 rotates eccentrically, an output gear C integrally formed at the base end thereof is formed.
Revolves along the inner circumference of the idle gear E.

【0024】一方、前記アイドルギアEは、その外周に
形成された外歯EOUT に前記入力軸46に一体形成され
た第2入力ギアDが噛合されているため、前記入力軸4
6が回転することにより、その入力軸46の回転が伝達
されて回転する。したがって、このアイドルギアEの内
周に沿って公転する出力ギアCも、前記アイドルギアE
が回転することにより、その回転が伝達されて回転する
(自転する)。
On the other hand, since the second input gear D formed integrally with the input shaft 46 meshes with the external teeth E OUT formed on the outer periphery of the idle gear E, the input shaft 4
The rotation of the input shaft 46 is transmitted by the rotation of 6 so that the input shaft 46 rotates. Therefore, the output gear C that revolves along the inner periphery of the idle gear E is also
Is rotated, the rotation is transmitted to rotate (rotate).

【0025】ところで、本実施の形態の研磨装置では、
定盤32を偏芯揺動、すなわち、その姿勢を一定に保持
した状態で偏芯回転を行なわせる必要がある。このた
め、出力軸28の自転を防止して、出力軸28に偏芯回
転のみを与える必要がある。そこで、前記構成の差動歯
車機構において、次の設定を行なうことにより、偏芯回
転する出力軸28の自転を防止する。
By the way, in the polishing apparatus of the present embodiment,
It is necessary to make the surface plate 32 eccentrically oscillate, that is, to perform eccentric rotation while keeping its posture constant. For this reason, it is necessary to prevent rotation of the output shaft 28 and to give only eccentric rotation to the output shaft 28. Therefore, in the differential gear mechanism having the above-described configuration, the following setting is performed to prevent the output shaft 28 that rotates eccentrically from rotating.

【0026】前記出力軸28の自転を防止するために
は、入力軸46の回転角速度と出力軸28の回転角速度
の関係式を求め、出力軸28の回転角速度がゼロとなる
条件を求めればよい。図4に示すように、前記差動歯車
機構では、第2入力ギアDとアイドルギアEの外歯E
OUT が噛み合い()、メインギアAと第1入力ギアB
が噛み合い()、出力ギアCとアイドルギアEの内歯
IN()が噛み合っている。
In order to prevent the rotation of the output shaft 28, a relational expression between the rotation angular speed of the input shaft 46 and the rotation angular speed of the output shaft 28 is obtained, and the condition that the rotation angular speed of the output shaft 28 becomes zero may be obtained. . As shown in FIG. 4, in the differential gear mechanism, external teeth E of a second input gear D and an idle gear E are provided.
OUT meshes (), main gear A and first input gear B
Are meshed (), and the internal gear E IN () of the output gear C and the idle gear E are meshed.

【0027】ここで、前記メインギアAのピッチ円半径
をrA 、第1入力ギアBのピッチ円半径をrB 、出力ギ
アCのピッチ円半径をrC 、アイドルギアEの内歯EIN
のピッチ円半径をrE(IN) 、外歯EOUT のピッチ円半径
をrE(OUT)、第2出力ギアDのピッチ円半径をrD
し、入力軸46の角速度をωIN、出力軸28の角速度を
ωOUT 、主軸22(メインギアA)の角速度をωA 、ア
イドルギアEの角速度をωE とすると、前記各噛み合い
において、速度が等しいので、次の式が成り立つ。
Here, the pitch circle radius of the main gear A is r A , the pitch circle radius of the first input gear B is r B , the pitch circle radius of the output gear C is r C , and the internal teeth E IN of the idle gear E.
The pitch circle radius r E (IN), the pitch circle radius of the external teeth E OUT r E (OUT), the pitch circle radius of the second output gear D and r D, the angular velocity of the input shaft 46 omega IN, output Assuming that the angular velocity of the shaft 28 is ω OUT , the angular velocity of the main shaft 22 (main gear A) is ω A , and the angular velocity of the idle gear E is ω E , the speeds are equal in each meshing, so the following equation is established.

【0028】すなわち、前記第2入力ギアDとアイドル
ギアEの外歯EOUT との噛み合いにおいて、
That is, in the engagement between the second input gear D and the external teeth E OUT of the idle gear E,

【0029】[0029]

【数1】rD ・ωIN=rE(OUT)・ωE … 前記メインギアAと第1入力ギアBとの噛み合いにおい
て、
## EQU1 ## r D · ω IN = r E (OUT) · ω E In the engagement between the main gear A and the first input gear B,

【0030】[0030]

【数2】rB ・ωIN=rA ・ωA … 前記出力ギアCとアイドルギアEの内歯EINとの噛み合
いにおいて、
R B · ω IN = r A · ω A In the engagement between the output gear C and the internal teeth E IN of the idle gear E,

【0031】[0031]

【数3】 rE(IN) ・ωE =rC ・ωOUT +(rE(IN) −rC )・ωA … の関係式が成り立つ。上式〜から、ωE (アイドル
ギアEの角速度)とωA (主軸の角速度)を消去する
と、
[Number 3] r E (IN) · ω E = r C · ω OUT + (r E (IN) -r C) · ω A ... is true of the relationship. From the above equation, when ω E (angular velocity of idle gear E) and ω A (angular velocity of main shaft) are deleted,

【0032】[0032]

【数4】 上式で、入力軸46の角速度ωINの値にかかわらず、
出力軸28の角速度ω OUT をゼロとするためには、中カ
ッコ{ }内の項がゼロであればよい。すなわち、
(Equation 4)In the above equation, the angular velocity ω of the input shaft 46INRegardless of the value of
Angular velocity ω of output shaft 28 OUTIn order to make
It is sufficient that the term in {} is zero. That is,

【0033】[0033]

【数5】 となればよい。(Equation 5) It should just be.

【0034】また、図4に示すように、幾何学的な関
係、すなわち、入力軸46と主軸22の軸間距離が一定
という関係から、次式を導くことができる。
Further, as shown in FIG. 4, the following equation can be derived from the geometric relationship, that is, the relationship that the distance between the input shaft 46 and the main shaft 22 is constant.

【0035】[0035]

【数6】rD +rE(OUT)=rB +rA … したがって、出力軸28の自転を防止して、出力軸28
に偏芯回転のみを与えるためには、上式とを満たす
ように、各ギアA〜Eのピッチ円半径rA 〜r E を決定
すればよい。
[Equation 6] rD+ RE (OUT)= RB+ RA ... Therefore, the rotation of the output shaft 28 is prevented, and the output shaft 28
To give only eccentric rotation to
Thus, the pitch circle radius r of each of the gears A to EA~ R EDecide
do it.

【0036】以上の構成により、出力軸28は、自転せ
ずに偏芯回転のみ行ない、この結果、定盤32は偏芯揺
動する。したがって、本第2の実施の形態の研磨装置6
0も、前記第1の実施の形態の研磨装置10と同様に、
1軸で定盤32を偏芯揺動させることができる。なお、
本実施の形態で説明したピッチ円半径の設定方法におい
て、式及びを満たすようなピッチ円半径rA 〜rE
の組合せは無数に存在するが、研磨装置60の仕様等を
考慮して決定する。
With the above configuration, the output shaft 28 performs only eccentric rotation without rotating, and as a result, the surface plate 32 eccentrically swings. Therefore, the polishing apparatus 6 of the second embodiment
0 is the same as in the polishing apparatus 10 of the first embodiment.
The platen 32 can be eccentrically swung by one axis. In addition,
In the method of setting the pitch circle radius described in the present embodiment, the pitch circle radii r A to r E satisfying the formulas and
Are innumerable, but are determined in consideration of the specifications of the polishing apparatus 60 and the like.

【0037】[0037]

【発明の効果】以上説明したように本発明に係る研磨装
置によれば、駆動軸を1軸とすることにより、高い部品
精度と組立精度を要求されない簡易な構成の研磨装置を
提供することができる。
As described above, according to the polishing apparatus of the present invention, by using a single drive shaft, it is possible to provide a polishing apparatus having a simple configuration that does not require high component precision and assembly precision. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る研磨装置の第1の実施の形態の構
成を示す側面断面図
FIG. 1 is a side sectional view showing a configuration of a polishing apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】偏芯揺動する定盤の軌跡を表した図FIG. 2 is a diagram showing a trajectory of an eccentric oscillating surface plate.

【図3】差動歯車機構の構成を説明する説明図FIG. 3 is an explanatory diagram illustrating a configuration of a differential gear mechanism.

【図4】ガラス板表面の形状測定結果を示す説明図FIG. 4 is an explanatory view showing a shape measurement result of a glass plate surface;

【符号の説明】 10、60…研磨装置 12…ワーク 18…ワークテーブル 22…主軸 26…本体ケーシング 28…出力軸 36…ユニバーサルジョイント 46…入力軸 50…駆動ギア 56…モータ A…メインギア B…第1入力ギア C…出力ギア D…第2入力ギア E…アイドルギア EIN…アイドルギアの内歯 EOUT …アイドルギアの外歯[Description of Signs] 10, 60 Polishing device 12 Work 18 Work table 22 Main shaft 26 Body casing 28 Output shaft 36 Universal joint 46 Input shaft 50 Drive gear 56 Motor A Main gear B 1st input gear C ... output gear D ... 2nd input gear E ... idle gear EIN ... internal gear of idle gear EOUT ... external gear of idle gear

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回転駆動源と、 前記回転駆動源によってその軸心を中心に回転駆動され
る主軸と、 前記主軸に回転自在に支持されるとともに、該主軸の回
転中心と偏芯した位置に回転自在に支持された出力軸
と、 前記出力軸に設けられるとともに、前記主軸の回転で生
じる前記出力軸の共回りを防止する回り止め機構と、 前記出力軸の端部に設けられ、その表面に研磨具を備え
た定盤と、 前記定盤と対向した位置に設けられ、ワークを支持する
ワークテーブルと、からなり、前記定盤を前記ワークテ
ーブル上に支持されたワークに圧接させることにより、
前記ワークの表面を研磨することを特徴とする研磨装
置。
A rotary drive source; a main shaft rotatably driven by the rotary drive source around an axis thereof; rotatably supported by the main shaft, at a position eccentric to the rotation center of the main shaft. An output shaft rotatably supported, a rotation preventing mechanism provided on the output shaft and preventing co-rotation of the output shaft caused by rotation of the main shaft, and a rotation preventing mechanism provided at an end of the output shaft and a surface thereof. A work table provided with a polishing tool, and a work table provided at a position opposed to the work table and supporting a work, by pressing the work table against the work supported on the work table. ,
A polishing apparatus for polishing a surface of the work.
【請求項2】 前記回り止め機構は、ユニバーサルジョ
イントで構成され、該ユニバーサルジョイントは、一端
が前記出力軸に連結され、他端が前記研磨装置本体に固
定されることを特徴とする請求項1記載の研磨装置。
2. The device according to claim 1, wherein the rotation preventing mechanism comprises a universal joint, one end of which is connected to the output shaft and the other end of which is fixed to the polishing apparatus main body. The polishing apparatus according to the above.
【請求項3】 前記主軸は、前記回転駆動源に連結され
て回転する入力軸とギア連結されるとともに、前記回り
止め機構は、前記入力軸に設けられた入力ギアと、前記
出力軸に設けられた出力ギアと、ドーナツ状に形成さ
れ、その外周に形成された外歯が前記入力ギアと噛合す
るとともに、その内周に形成された内歯が前記出力ギア
と噛合するアイドルギアと、からなる差動歯車機構で構
成され、該差動歯車機構は、前記出力ギアの自転角速度
がゼロとなるように前記各ギアのピッチ円半径が設定さ
れていることを特徴とする請求項1記載の研磨装置。
3. The main shaft is gear-connected to an input shaft that is connected to the rotary drive source and rotates, and the detent mechanism is provided on an input gear provided on the input shaft and on the output shaft. And an idle gear that is formed in a donut shape and whose outer teeth formed on the outer circumference mesh with the input gear, and whose inner teeth formed on the inner circumference mesh with the output gear. 2. The differential gear mechanism according to claim 1, wherein the pitch circle radius of each gear is set such that the rotation angular velocity of the output gear becomes zero. Polishing equipment.
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