JP2001079743A - Device for polishing glass - Google Patents

Device for polishing glass

Info

Publication number
JP2001079743A
JP2001079743A JP25765499A JP25765499A JP2001079743A JP 2001079743 A JP2001079743 A JP 2001079743A JP 25765499 A JP25765499 A JP 25765499A JP 25765499 A JP25765499 A JP 25765499A JP 2001079743 A JP2001079743 A JP 2001079743A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
drum
polishing
polishing tool
eccentric shaft
glass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25765499A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazutoshi Hase
和俊 長谷
Atsushi Hirano
淳 平野
Yasunari Ikuta
康成 生田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP25765499A priority Critical patent/JP2001079743A/en
Publication of JP2001079743A publication Critical patent/JP2001079743A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the biased abrasion of a polishing drum and to unify the polishing margin distribution of a glass object by providing a revolution mechanism operating the polishing drum in the direction perpendicular to the rotation axis of the polishing drum and in the axial direction of the rotation axis of the polishing drum. SOLUTION: A motor 38 is driven to rotate a polishing drum 12, and another motor is driven to drive a revolution mechanism 40, thereby the polishing drum 12 is revolved in the plane parallel with the plane of a turntable 16 around a main shaft driving an eccentric shaft while being rotated around its axis 12A by the motor 38, and it polishes the face surface 22A of a glass panel 22 in this state. The polishing drum 12 is operated in the direction X perpendicular to the axis 12A of the polishing drum 12 and in the direction Y of the axial direction of the polishing drum 12, the biased abrasion of the polishing drum 12 is prevented, and the polishing margin distribution of the face surface 22A is unified.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ブラウン管用ガラ
スパネルのフェース表面を研磨するガラス研磨装置に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glass polishing apparatus for polishing a face surface of a glass panel for a cathode ray tube.

【0002】[0002]

【従来の技術】テレビジョンやディスプレイ等のブラウ
ン管の画像表示部分を構成するブラウン管用ガラスパネ
ルは、1000°C前後に溶融したガラス塊を雌型に供
給し、これを雄型でプレスすることにより成形される。
2. Description of the Related Art A glass panel for a cathode ray tube, which constitutes an image display portion of a cathode ray tube such as a television or a display, supplies a lump of glass melted at about 1000 ° C. to a female mold and presses it with a male mold. Molded.

【0003】プレスによるガラスパネルの製造方法で
は、スクリーン又は画像表示部分として用いるガラスパ
ネルのフェース表面に微小な鋭い凹みの点欠陥や皺状の
線欠陥が生じやすいので、これらの欠陥を除去して光学
面品質を確保すべく、フェース表面に研磨処理が施され
ている。
In a method of manufacturing a glass panel by pressing, minute sharp point defects or wrinkle-like line defects are easily generated on the face surface of a glass panel used as a screen or an image display portion. The face surface is polished to ensure the optical surface quality.

【0004】斯かるフェース表面の研磨方法には、ゴム
又はフェルト製の円筒状ドラム研磨具を中心軸周りに回
転させながら、フェース表面に押し付けて研磨する方法
(以下、「ドラム研磨法」と称する)が知られている。
ドラム研磨法は、柔軟性を有する中空円筒状ドラム研磨
具に所定の内圧を加えた状態で、このドラム研磨具をガ
ラスパネルのフェース表面に押し付けて回転させ、且つ
所定の硬度と粒度を有するスラリ状の研磨剤を、その間
に供給して研磨する方法であり、フェース表面に対する
追従性が良く種々の曲率を有するガラスパネルの研磨方
法として利用されている。
[0004] Such a method of polishing the surface of the face includes a method of polishing by pressing against a face surface while rotating a cylindrical drum polishing tool made of rubber or felt around a central axis (hereinafter referred to as "drum polishing method"). )It has been known.
The drum polishing method is a method of applying a predetermined internal pressure to a flexible hollow cylindrical drum polishing tool, pressing the drum polishing tool against the face surface of a glass panel, rotating the polishing tool, and forming a slurry having a predetermined hardness and particle size. This is a method in which a polishing agent in the form of a liquid is supplied and polished in the meantime, and is used as a polishing method for a glass panel having a good followability to the face surface and having various curvatures.

【0005】このようなドラム研磨法は、フェース表面
が一つの曲率で形成される単一球面形状である場合には
効率良く研磨できるが、フェース表面が複数の曲率で形
成される非球面形状の場合には、研磨代分布がフェース
表面の全面において均一にならず、また、ドラム研磨具
の一部、特にフェース表面のエッジ部に当たる部分だけ
偏磨耗するので、ドラム研磨具の使用寿命が短くなると
いう欠点があった。
[0005] Such a drum polishing method can polish efficiently when the face surface has a single spherical shape formed with one curvature, but has an aspherical shape formed with a plurality of curvatures on the face surface. In this case, the polishing allowance distribution is not uniform over the entire surface of the face, and a part of the drum polishing tool, particularly, a portion corresponding to the edge of the face surface is unevenly worn, so that the service life of the drum polishing tool is shortened. There was a disadvantage.

【0006】そこで、フェース表面の研磨代分布を均一
にする装置として特開平9−192995号公報に提案
された研磨装置がある。この研磨装置は、ドラム研磨具
の回転軸と直交する方向にドラム研磨具を往復移動させ
ながらフェース表面を研磨するもので、フェース表面の
非球面に対するドラム研磨具の追従性が向上することか
ら、フェース表面の研磨代分布を均一にすることができ
る。
Therefore, there is a polishing apparatus proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-192959 as a device for making the polishing allowance distribution on the face surface uniform. This polishing apparatus polishes the face surface while reciprocating the drum polishing tool in a direction perpendicular to the rotation axis of the drum polishing tool.Because the followability of the drum polishing tool to the aspheric surface of the face surface is improved, The polishing allowance distribution on the face surface can be made uniform.

【0007】一方、ドラム研磨具の偏磨耗を防止する装
置として特開平9−131657号公報に提案された研
磨装置がある。この研磨装置は、ドラム研磨具の回転軸
の軸方向にドラム研磨具を往復揺動させながらフェース
表面を研磨するもので、フェース表面のエッジ部に対す
るドラム研磨具の偏当たりを防止できることから、ドラ
ム研磨具の偏磨耗を防止することができる。
On the other hand, as a device for preventing uneven wear of a drum polishing tool, there is a polishing device proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-131657. This polishing apparatus polishes the face surface while reciprocatingly swinging the drum polishing tool in the axial direction of the rotation axis of the drum polishing tool, and can prevent the drum polishing tool from hitting against the edge of the face surface. Uneven wear of the polishing tool can be prevented.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
9−192995号公報及び特開平9−131657号
公報の研磨装置は、ドラム研磨具の偏磨耗防止とフェー
ス表面の研磨代分布の均一化とを同時に達成することが
できないという欠点があった。
However, the polishing apparatuses disclosed in JP-A-9-192959 and JP-A-9-131657 are designed to prevent uneven wear of the drum polishing tool and to make the distribution of the stock removal on the face surface uniform. There was a disadvantage that it could not be achieved at the same time.

【0009】そこで、前記欠点を解消する装置として、
X方向移動テーブルとY方向移動テーブルとを備えたX
Y移動機構によってドラム研磨具をXY方向に移動させ
ながらフェース表面を研磨する研磨装置が考えられる。
しかし、XY移動機構は、各々のテーブルを移動させる
ためのモータ及び移動機構が必要になるので、研磨装置
の構造が複雑になるという欠点があった。
Therefore, as an apparatus for solving the above-mentioned drawbacks,
X having an X-direction moving table and a Y-direction moving table
A polishing apparatus that polishes the face surface while moving the drum polishing tool in the XY directions by a Y moving mechanism is conceivable.
However, the XY moving mechanism requires a motor and a moving mechanism for moving each table, and thus has a drawback that the structure of the polishing apparatus is complicated.

【0010】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、ドラム研磨具の偏磨耗防止とガラス物品の研
磨代分布の均一化とを同時に達成することができる構造
の簡便なガラス研磨装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has a simple glass polishing structure having a structure capable of simultaneously preventing uneven wear of a drum polishing tool and uniforming a distribution of a stock removal of a glass article. It is intended to provide a device.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、ガラス物品を回転テーブル面上に載置固
定し、該回転テーブルを回転させながら前記ガラス物品
の表面に、回転する円筒状のドラム研磨具を押し付けて
該表面を研磨するガラス研磨装置において前記ガラス研
磨装置には、前記ドラム研磨具を公転運動させる公転運
動機構が設けられ、該公転運動機構は、偏心軸を備えて
おり、該偏心軸を駆動させる主軸を中心にドラム研磨具
を回転テーブル面に沿って公転運動させることを特徴と
するガラス研磨装置を提供する。
According to the present invention, in order to achieve the above object, a glass article is placed and fixed on a rotary table surface, and the glass article is rotated on the surface of the glass article while rotating the rotary table. In a glass polishing apparatus for polishing the surface by pressing a cylindrical drum polishing tool, the glass polishing apparatus is provided with a revolving motion mechanism for revolving the drum polishing tool, and the revolving motion mechanism includes an eccentric shaft. And a glass polishing apparatus characterized in that a drum polishing tool revolves around a rotary table surface around a main shaft for driving the eccentric shaft.

【0012】本発明によれば、ドラム研磨具を公転運動
機構によって、偏心軸を駆動させる主軸を中心に回転テ
ーブル面に沿って公転運動させながらガラス物品の表面
を研磨する。このようにドラム研磨具を公転運動させる
と、ドラム研磨具は、ドラム研磨具の回転軸と直交する
方向、及びドラム研磨具の回転軸の軸方向に動作するの
で、ドラム研磨具の偏磨耗防止とガラス物品の研磨代分
布の均一化とを同時に達成することができる。
According to the present invention, the surface of the glass article is polished while the drum polishing tool is revolved along the rotary table surface around the main shaft for driving the eccentric shaft by the revolving motion mechanism. When the drum polishing tool revolves in this way, the drum polishing tool operates in a direction orthogonal to the rotation axis of the drum polishing tool and in the axial direction of the rotation axis of the drum polishing tool, thereby preventing uneven wear of the drum polishing tool. And uniformity of the polishing allowance distribution of the glass article can be achieved at the same time.

【0013】また、好ましい公転運動機構は、ガラス研
磨装置の固定部とドラム研磨具が支持された支持部とを
連結する1本の駆動偏心軸と2本の従動偏心軸とからな
る構造なので、XY移動機構と比較して簡単な構造とな
り、且つ安定した公転運動が得られる。
Further, a preferable revolving motion mechanism has a structure including one driving eccentric shaft and two driven eccentric shafts for connecting a fixed portion of the glass polishing apparatus and a supporting portion on which the drum polishing tool is supported. The structure is simpler than that of the XY moving mechanism, and a stable revolving motion can be obtained.

【0014】公転運動機構について説明すると、駆動す
る駆動偏心軸のみを2本以上取り付ければ、ドラム研磨
具は自転することなく公転するが、この公転運動機構で
は構造が複雑になるので、1本の駆動偏心軸でドラム研
磨具を公転運動させる公転運動機構が望まれる。しか
し、駆動偏心軸が1本であると、ドラム研磨具が自転す
ることを防止する必要がある。自転防止策としては、駆
動しない従動偏心軸を取り付けることにより対処できる
が、従動偏心軸の取付位置について何も考慮することな
く従動偏心軸を取り付けると、ドラム研磨具の公転運動
を開始する位置によっては死点によるロックの恐れがあ
る。
The revolving motion mechanism will be described. If only two or more driving eccentric shafts are mounted, the drum polishing tool revolves without rotating, but the revolving motion mechanism has a complicated structure. A revolving motion mechanism for revolving a drum polishing tool with a drive eccentric shaft is desired. However, if there is one drive eccentric shaft, it is necessary to prevent the drum polishing tool from rotating on its own axis. As a measure to prevent rotation, it can be dealt with by installing a driven eccentric shaft that does not drive, but if the driven eccentric shaft is mounted without considering the mounting position of the driven eccentric shaft, depending on the position where the drum polishing tool starts revolving motion May be locked by dead center.

【0015】そこで、本発明は、前記ロック現象を回避
するため、従動偏心軸を2本備え、且つ、2本の従動偏
心軸と駆動偏心軸とを結ぶ直線が一直線とならない位置
に2本の従動偏心軸を配置した。これにより、本発明の
公転運動機構は、前記ロック現象を回避でき、ドラム研
磨具がどの位置にあってもドラム研磨具を円滑に公転運
動させることができる。
Therefore, in order to avoid the locking phenomenon, the present invention provides two driven eccentric shafts, and the two driven eccentric shafts are located at positions where the straight line connecting the two driven eccentric shafts and the drive eccentric shaft is not straight. A driven eccentric shaft is arranged. Thus, the revolving motion mechanism of the present invention can avoid the locking phenomenon, and can smoothly revolve the drum polishing tool regardless of the position of the drum polishing tool.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
るガラス研磨装置の好ましい実施の形態について詳説す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of a glass polishing apparatus according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0017】図1は、本発明のガラス研磨装置が適用さ
れたガラス物品、例えばブラウン管用ガラスパネル(以
下「ガラスパネル」と称する)の研磨装置10を示す上
面図であり、図2はその側面図である。これらの図に示
す研磨装置10は、ドラム研磨具12を有する研磨部1
4、及び回転テーブル16を有するテーブル回転部18
から構成され、研磨部14及びテーブル回転部18は、
同一の基台20上に所定の間隔をもって設置されてい
る。
FIG. 1 is a top view showing a polishing apparatus 10 for a glass article, for example, a glass panel for a cathode ray tube (hereinafter referred to as "glass panel") to which the glass polishing apparatus of the present invention is applied, and FIG. FIG. The polishing apparatus 10 shown in these figures includes a polishing section 1 having a drum polishing tool 12.
4 and a table rotating unit 18 having a rotating table 16
And the polishing unit 14 and the table rotating unit 18
They are installed on the same base 20 at predetermined intervals.

【0018】ドラム研磨具12で研磨されるガラスパネ
ル22は、フェース表面22Aが非球面形状に形成され
たもので、そのフェース表面22Aを上方に向けた状態
で回転テーブル16面上に載置固定され、回転テーブル
16を回転させるモータ24の駆動力によって所定の回
転数で回転される。この回転数は5〜100rpmの範
囲が好ましく、10〜50rpmの範囲が特に好まし
い。5rpm未満では研磨効率が低下するためであり、
100rpmを超えると、回転テーブル16に対するガ
ラスパネル10の固定が困難になり、また、大容量のモ
ータ24が必要になる等の理由からである。
The glass panel 22 polished by the drum polishing tool 12 has a face surface 22A formed in an aspherical shape, and is placed and fixed on the surface of the rotary table 16 with the face surface 22A facing upward. Then, the rotary table 16 is rotated at a predetermined rotational speed by a driving force of a motor 24 for rotating the rotary table 16. This rotation speed is preferably in the range of 5 to 100 rpm, and particularly preferably in the range of 10 to 50 rpm. If it is less than 5 rpm, the polishing efficiency is reduced.
If the rotation speed exceeds 100 rpm, it becomes difficult to fix the glass panel 10 to the turntable 16 and a large-capacity motor 24 is required.

【0019】テーブル回転部18は、2台の回転テーブ
ル16、16、ターレット板26、及びモータ24等か
ら構成される。回転テーブル16は、回転テーブル16
よりも大径のターレット板26上に、ターレット板26
の回転軸28を挟んで2台設置されている。また、回転
テーブル16は、その軸30がターレット板26に軸支
されるとともにターレット板26に貫通して配置されて
いる。軸30の下部には、凹凸部が形成されたクラッチ
32が設けられ、このクラッチ32は、モータ24の出
力軸34の上部に設けられたクラッチ36に着脱自在に
連結される。クラッチ36にクラッチ32が連結される
と、モータ24の駆動力が出力軸34→クラッチ36→
クラッチ32→軸30を介して回転テーブル16に伝達
され、これによって、図2の左側の回転テーブル16が
前述した回転数で回転される。
The table rotating section 18 comprises two rotating tables 16, 16, a turret plate 26, a motor 24 and the like. The rotary table 16 is a rotary table 16
The turret plate 26 having a larger diameter than the turret plate 26
Are installed with the rotary shaft 28 interposed therebetween. The rotary table 16 has a shaft 30 pivotally supported by the turret plate 26 and is arranged so as to penetrate the turret plate 26. A clutch 32 having an uneven portion is provided below the shaft 30. The clutch 32 is detachably connected to a clutch 36 provided above an output shaft 34 of the motor 24. When the clutch 32 is connected to the clutch 36, the driving force of the motor 24 is changed to the output shaft 34 → the clutch 36 →
The power is transmitted from the clutch 32 to the rotary table 16 via the shaft 30, whereby the rotary table 16 on the left side in FIG. 2 is rotated at the above-described rotation speed.

【0020】この時、図2の右側の回転テーブル16
は、モータ24から退避した位置にあり、回転されてお
らず、この位置でガラスパネル22の受け渡しが行われ
る。即ち、前記左側の回転テーブル16上で研磨終了し
たガラスパネル22は、その回転テーブル16に載置固
定された状態で、ターレット板26の半回転動作によ
り、前記右側の前記受け渡し位置に位置される。この位
置で、研磨終了したガラスパネル22が回転テーブル1
6から取り外され、そして、研磨前のガラスパネル22
が回転テーブル16に載置固定される。このガラスパネ
ル22は、ターレット板26の半回転動作によって、図
2の左側の研磨位置に位置された後、その回転テーブル
16のクラッチ32にモータ24側のクラッチ36が連
結され、モータ24の駆動力により回転されながらドラ
ム研磨具12によって研磨される。
At this time, the right rotary table 16 in FIG.
Is at a position retracted from the motor 24 and is not rotated, and the glass panel 22 is delivered at this position. That is, the glass panel 22 that has been polished on the left turntable 16 is positioned at the transfer position on the right side by a half-turn operation of the turret plate 26 in a state of being fixedly mounted on the turntable 16. . At this position, the polished glass panel 22 is placed on the turntable 1.
6 and removed from the glass panel 22 before polishing
Is mounted and fixed on the turntable 16. After the glass panel 22 is positioned at the polishing position on the left side of FIG. 2 by the half rotation of the turret plate 26, the clutch 36 of the motor 24 is connected to the clutch 32 of the turntable 16, and the driving of the motor 24 is performed. Polished by the drum polishing tool 12 while being rotated by force.

【0021】研磨部14はドラム研磨具12、ドラム用
モータ38、公転運動機構40、空気ばね42、及びド
ラム昇降用シリンダ装置44等から構成される。
The polishing section 14 comprises the drum polishing tool 12, a drum motor 38, a revolving motion mechanism 40, an air spring 42, and a drum lifting / lowering cylinder device 44.

【0022】ドラム研磨具12は、図1の如く一対のア
ーム46、46に取り付けられた軸受48A、48B
に、その両端の軸12A、12Bが回転自在に支持され
るとともに、その軸12A、12Bが回転テーブル16
の面と平行になるように支持されている。また、軸12
Aは、軸受48Aから側方に突出され、その突出部12
Cにはプーリ50が固定されている。このプーリ50
は、ドラム用モータ38の出力軸52に取り付けられた
プーリ54にベルト56を介して連結されているので、
モータ38からの駆動力がプーリ54→ベルト56→プ
ーリ50を介してドラム研磨具12に伝達されると、ド
ラム研磨具12が所定の回転数で回転される。なお、モ
ータ38は、揺動板58上に固定され、また、この揺動
板58に前記アーム46、46が軸60を介して固定さ
れている。
The drum polishing tool 12 has bearings 48A, 48B attached to a pair of arms 46, 46 as shown in FIG.
The shafts 12A and 12B at both ends are rotatably supported, and the shafts 12A and 12B are
Is supported in parallel with the surface of Also, the shaft 12
A protrudes laterally from the bearing 48A, and its protruding portion 12A
A pulley 50 is fixed to C. This pulley 50
Is connected via a belt 56 to a pulley 54 attached to the output shaft 52 of the drum motor 38,
When the driving force from the motor 38 is transmitted to the drum polishing tool 12 via the pulley 54 → the belt 56 → the pulley 50, the drum polishing tool 12 is rotated at a predetermined rotation speed. The motor 38 is fixed on a rocking plate 58, and the arms 46 are fixed to the rocking plate 58 via a shaft 60.

【0023】ドラム研磨具12の直径は、300〜80
0mmの範囲が好ましい。300mm未満では、ドラム
研磨具12の周速度を上げることが困難であり、800
mmを超えると、ドラム研磨具12の内圧に対する強度
が低下するからである。ドラム研磨具12の長さは、ド
ラム研磨具12をガラスパネル22に押し付けた時、フ
ェース表面22Aに対する良好な追従性を得るためガラ
スパネル22の大きさに応じて決定する必要があり、ガ
ラスパネル22の対角径をA、ドラム研磨具12の長さ
をBとすると、1.5A<B<2.5Aとなる長さに設
定される。1.5A以下ではフェース表面22Aに対す
る追従性が不十分であり、2.5A以上ではドラム研磨
具12をガラスパネル22に押し付けた時のドラム研磨
具12の変形量が大きくなり、ドラム研磨具12の回転
による振動発生等の問題により研磨効率が低下するから
である。
The diameter of the drum polishing tool 12 is 300 to 80.
A range of 0 mm is preferred. If it is less than 300 mm, it is difficult to increase the peripheral speed of the drum polishing tool 12, and
This is because if it exceeds mm, the strength of the drum polishing tool 12 with respect to the internal pressure decreases. The length of the drum polishing tool 12 needs to be determined according to the size of the glass panel 22 in order to obtain good followability to the face surface 22A when the drum polishing tool 12 is pressed against the glass panel 22. Assuming that the diagonal diameter of 22 is A and the length of the drum polishing tool 12 is B, the length is set to 1.5A <B <2.5A. At 1.5 A or less, the ability to follow the face surface 22A is insufficient. At 2.5A or more, the amount of deformation of the drum polishing tool 12 when the drum polishing tool 12 is pressed against the glass panel 22 increases, and the drum polishing tool 12 This is because polishing efficiency decreases due to problems such as generation of vibrations due to rotation of.

【0024】ドラム研磨具12の回転数は100〜10
00rpmの範囲が好ましく、300〜800rpmの
範囲が特に好ましい。100rpm未満ではドラム研磨
具12の周速度が低下し研磨効率が低下するからであ
り、1000rpmを超えると振動発生等の理由で研磨
効率が低下するからである。
The rotational speed of the drum polishing tool 12 is 100 to 10
The range of 00 rpm is preferable, and the range of 300 to 800 rpm is particularly preferable. When the rotational speed is less than 100 rpm, the peripheral speed of the drum polishing tool 12 decreases, and the polishing efficiency decreases. When the rotational speed exceeds 1000 rpm, the polishing efficiency decreases due to generation of vibration and the like.

【0025】ドラム研磨具12は、フェース表面22A
の曲率の変化に対する良好な追従性が得られるように中
空のゴム製或いはフェルト製とするのが好ましく、所定
の内圧をかけて使用される。この内圧は0.2〜2kg
/cm2 の範囲が好ましく、0.4〜1.2kg/cm
2 の範囲が特に好ましい。0.2kg/cm2 未満で
は、押し付け力不足によって研磨効率が低下するからで
あり、2kg/cm2 を超えると、フェース表面22A
の曲率に対する追従性が低下するからである。
The drum polishing tool 12 has a face surface 22A.
Is preferably made of hollow rubber or felt so as to obtain a good followability with respect to the change in curvature, and is used by applying a predetermined internal pressure. This internal pressure is 0.2-2kg
/ Cm 2 is preferable, and 0.4 to 1.2 kg / cm 2
A range of 2 is particularly preferred. Is less than 0.2 kg / cm 2, is because the polishing efficiency by the pressing force deficit is decreased, when it exceeds 2 kg / cm 2, the face surface 22A
This is because the followability to the curvature of the image is reduced.

【0026】一方、前記揺動板58は、図2の如く空気
ばね42を介して支持板(支持部に相当)62に支持さ
れている。この空気ばね42は、ドラム研磨具12から
アーム46、46を介して揺動板58に伝達される、ガ
ラスパネル22からの反力を吸収する機能を有してい
る。即ち、空気ばね42は、エアバッグ状に構成されて
おり、収縮動作することにより前記反力を吸収する。こ
の空気ばね42の収縮動作によって揺動板58は、支持
板62に対して揺動され、これによって、ドラム研磨具
12がフェース表面22Aに沿って良好に追従動作す
る。なお、空気ばね42の内圧は、ドラム研磨具12の
内圧等に対応して設定されるが、ドラム研磨具12の前
記追従性を考慮すると、0.5〜2.0kg/cm2
設定するのが好ましい。
On the other hand, the swing plate 58 is supported by a support plate (corresponding to a support portion) 62 via the air spring 42 as shown in FIG. The air spring 42 has a function of absorbing the reaction force from the glass panel 22 transmitted from the drum polishing tool 12 to the rocking plate 58 via the arms 46, 46. That is, the air spring 42 is formed in an airbag shape, and absorbs the reaction force by performing a contracting operation. The swinging plate 58 is swung with respect to the support plate 62 by the contraction operation of the air spring 42, whereby the drum polishing tool 12 satisfactorily follows the face surface 22A. The internal pressure of the air spring 42 is set according to the internal pressure of the drum polishing tool 12 and the like, but is set to 0.5 to 2.0 kg / cm 2 in consideration of the followability of the drum polishing tool 12. Is preferred.

【0027】支持板62の下方には、ベース板(固定部
に相当)64が配置され、このベース板64と支持板6
2との間に、公転運動機構40を構成する1本の駆動偏
心軸機構66と2本の従動偏心軸機構68、68(図1
参照)とが所定の位置に配設されている。この公転運動
機構40については後述する。
Below the support plate 62, a base plate (corresponding to a fixed portion) 64 is arranged.
1, one drive eccentric shaft mechanism 66 and two driven eccentric shaft mechanisms 68, 68 (FIG.
Are disposed at predetermined positions. The orbiting mechanism 40 will be described later.

【0028】ベース板64は、基台20に立設された支
柱70の上部に軸72を介して回動自在に支持される。
また、ベース板64は、ドラム昇降用シリンダ装置44
のロッド74の先端部にピン76を介して回動自在に連
結され、また、ドラム昇降用シリンダ装置44のシリン
ダ78は、ピン80を介して支柱70に回動自在に連結
されている。したがって、ドラム昇降用シリンダ装置4
4のロッド74が図2の伸長状態から収縮動作される
と、ベース板64がロッド74に引っ張られて図2にお
いて反時計回り方向に回動する。この動作によって、ベ
ース板64上に搭載されているドラム研磨具12が上昇
移動し、ガラスパネル22から退避する。
The base plate 64 is rotatably supported via a shaft 72 on an upper part of a column 70 erected on the base 20.
The base plate 64 is provided with the cylinder device 44 for raising and lowering the drum.
The rod 78 is rotatably connected to the distal end of a rod 74 via a pin 76, and the cylinder 78 of the drum lifting / lowering cylinder device 44 is rotatably connected to a support 70 via a pin 80. Therefore, the drum lifting / lowering cylinder device 4
When the rod 74 of FIG. 4 contracts from the extended state of FIG. 2, the base plate 64 is pulled by the rod 74 and rotates counterclockwise in FIG. With this operation, the drum polishing tool 12 mounted on the base plate 64 moves up and retreats from the glass panel 22.

【0029】次に、公転運動機構40について説明す
る。この公転運動機構40を構成する駆動偏心軸機構6
6は、図3の如く主軸82と、該主軸82と一体に形成
された主軸82に対してa量偏心された偏心軸84とを
備えている。
Next, the revolving motion mechanism 40 will be described. The drive eccentric shaft mechanism 6 constituting the revolving motion mechanism 40
6 includes a main shaft 82 as shown in FIG. 3 and an eccentric shaft 84 eccentric with respect to the main shaft 82 formed integrally with the main shaft 82.

【0030】主軸82は、ベース板64の上面にボルト
86で固定されたケース88に軸受90を介して回転自
在に支持され、一方、偏心軸84は、支持板62の下面
にボルト92で固定されたケース94に軸受96を介し
て回転自在に支持される。また、偏心軸84は、支持板
62に形成された貫通孔63を介して上方に突出されて
おり、この突出部85に、カップリング98及び減速機
構100を介してモータ102の出力軸104が連結さ
れている。このモータ102は、図2の如く支持板62
に設けられたモータ取付台106上に固定されている。
The main shaft 82 is rotatably supported via a bearing 90 on a case 88 fixed to the upper surface of the base plate 64 by bolts 86, while the eccentric shaft 84 is fixed to the lower surface of the support plate 62 by bolts 92. The case 94 is rotatably supported via a bearing 96. The eccentric shaft 84 protrudes upward through a through hole 63 formed in the support plate 62. The output shaft 104 of the motor 102 is connected to the protrusion 85 via a coupling 98 and a speed reduction mechanism 100. Are linked. The motor 102 includes a support plate 62 as shown in FIG.
Is fixed on a motor mounting base 106 provided in the motor.

【0031】したがって、斯かる構造の駆動偏心軸機構
66によれば、モータ102の回転力が図3の偏心軸8
4に伝達されると、主軸82が偏心軸84の軸芯84A
を中心に偏心回転しようとするが、主軸82はベース板
64によって偏心回転が規制されているので、その回転
力は主軸82から偏心軸84側に伝達される。これによ
り、偏心軸84が主軸82の軸芯82Aを中心に偏心回
転されるので、この偏心回転力がケース94を介して支
持板62に伝達され、よって、支持板62が主軸82の
軸芯82Aを中心に公転駆動される。したがって、支持
板62に搭載されているドラム研磨具12が、図4の如
く回転テーブル16面にほぼ直交する軸Aを中心とし
て、回転テーブル16面に沿って、公転半径aで公転駆
動される。そして、支持板62の公転駆動に伴う支持板
62の自転(偏心軸84の軸芯84Aを中心とする支持
板62の回転)が、図5の従動偏心軸機構68によって
防止される。
Therefore, according to the drive eccentric shaft mechanism 66 having such a structure, the rotational force of the motor 102 is controlled by the eccentric shaft 8 shown in FIG.
4, the main shaft 82 is moved to the axis 84A of the eccentric shaft 84.
However, since the main shaft 82 is restricted in eccentric rotation by the base plate 64, the rotational force is transmitted from the main shaft 82 to the eccentric shaft 84. As a result, the eccentric shaft 84 is eccentrically rotated about the axis 82A of the main shaft 82, so that the eccentric rotational force is transmitted to the support plate 62 via the case 94, and thus the support plate 62 is It is revolved around 82A. Accordingly, the drum polishing tool 12 mounted on the support plate 62 is driven to revolve around the axis A substantially perpendicular to the surface of the turntable 16 as shown in FIG. . Then, the rotation of the support plate 62 (the rotation of the support plate 62 about the axis 84A of the eccentric shaft 84) due to the revolving drive of the support plate 62 is prevented by the driven eccentric shaft mechanism 68 of FIG.

【0032】従動偏心軸機構68は、主軸110、及び
偏心軸112等から構成されている。主軸110は、ベ
ース板64の上面にボルト114で固定されたケース1
16に軸受118を介して回転自在に支持され、一方、
偏心軸112は、支持板62の下面にボルト120で固
定されたケース122に軸受124を介して回転自在に
支持される。主軸110の軸芯110Aに対する従動偏
心軸112の軸芯112の偏心量aは、図3に示した駆
動偏心軸機構66の偏心量aと等しく設定されている。
これにより、支持板62は、バランスよく公転駆動され
る。
The driven eccentric shaft mechanism 68 comprises a main shaft 110, an eccentric shaft 112 and the like. The main shaft 110 is a case 1 fixed to the upper surface of the base plate 64 with bolts 114.
16 is rotatably supported via bearings 118, while
The eccentric shaft 112 is rotatably supported via a bearing 124 on a case 122 fixed to the lower surface of the support plate 62 with bolts 120. The amount of eccentricity a of the shaft 112 of the driven eccentric shaft 112 with respect to the axis 110A of the main shaft 110 is set equal to the amount of eccentricity a of the drive eccentric shaft mechanism 66 shown in FIG.
Thus, the support plate 62 is driven to revolve in a well-balanced manner.

【0033】このように構成された従動偏心軸機構6
8、68は、図6に示すように駆動偏心軸機構66に対
して図6上右側位置に設置されている。また、駆動偏心
軸機構66の設置場所は図7においてA位置であり、従
動偏心軸機構68、68の設置場所はB位置とC位置で
ある。
The driven eccentric shaft mechanism 6 configured as described above
As shown in FIG. 6, the reference numerals 8 and 68 are provided at the right position in FIG. 6 with respect to the drive eccentric shaft mechanism 66. The installation location of the drive eccentric shaft mechanism 66 is the position A in FIG. 7, and the installation locations of the driven eccentric shaft mechanisms 68, 68 are the B position and the C position.

【0034】図7を参照して支持板62の公転ロック現
象の発生原因と、その防止策について説明する。
With reference to FIG. 7, a description will be given of the cause of the occurrence of the revolution locking phenomenon of the support plate 62 and a measure for preventing the phenomenon.

【0035】まず、公転ロック現象の発生原因について
説明すると、駆動偏心軸機構66の主軸82の軸芯82
Aと偏心軸84の軸芯84Aとを結ぶ直線の延長線L1
上に、1台の従動偏心軸機構(B位置の従動偏心軸機
構)68のみが配置されていると、支持板62の公転開
始時に、その従動偏心軸機構68が逆方向に回動する場
合がある。これにより、支持板62が公転せずロックす
る。これが公転ロック現象の発生原因である。
First, the cause of the occurrence of the revolution locking phenomenon will be described. The shaft 82 of the main shaft 82 of the drive eccentric shaft mechanism 66 will be described.
A and a straight extension line L1 connecting the eccentric shaft 84 and the shaft center 84A.
When only one driven eccentric shaft mechanism (the driven eccentric shaft mechanism at the position B) 68 is disposed above, when the driven eccentric shaft mechanism 68 rotates in the opposite direction when the support plate 62 starts revolving. There is. Thus, the support plate 62 is locked without revolving. This is the cause of the occurrence of the revolution locking phenomenon.

【0036】そこで、公転ロック現象の防止策として、
本実施の形態では、2本の従動偏心軸機構68、68と
駆動偏心軸機構66とを結ぶ直線が一直線とならない位
置に、2本の従動偏心軸機構68、68を配置した。原
理的には、前記延長線L1に重ならない位置に、2本目
の従動偏心軸機構(C位置の従動偏心軸機構)68を設
置すれば良いが、延長線L1に極めて近い位置では支持
板62がロックする恐れが生じたり、公転開始の動作に
悪影響を与えたりする場合がある。そこで、このような
観点から2本目の従動偏心軸機構68は、延長線L1に
対して63°の線L2上の位置に設置されている。な
お、実用的には、90°±45°の位置に2本の従動偏
心軸機構68、68を設置すれば良い。
In order to prevent the revolution locking phenomenon,
In the present embodiment, the two driven eccentric shaft mechanisms 68, 68 are arranged at positions where the straight lines connecting the two driven eccentric shaft mechanisms 68, 68 and the drive eccentric shaft mechanism 66 are not straight. In principle, the second driven eccentric shaft mechanism (the driven eccentric shaft mechanism at the position C) 68 may be installed at a position not overlapping with the extension line L1, but at a position very close to the extension line L1, the support plate 62 may be provided. May be locked or adversely affect the operation of revolving start. Therefore, from such a viewpoint, the second driven eccentric shaft mechanism 68 is installed at a position on a line L2 at 63 ° with respect to the extension line L1. In practice, two driven eccentric shaft mechanisms 68, 68 may be installed at 90 ° ± 45 °.

【0037】したがって、本実施の形態では、支持板6
2の公転ロックを防止するための最適な位置に前記2本
の従動偏心軸機構68、68を設置したので、支持板6
2の公転ロック現象、即ち、ドラム研磨具12の公転ロ
ック現象を確実に防止することができる。
Therefore, in the present embodiment, the support plate 6
Since the two driven eccentric shaft mechanisms 68, 68 are installed at the optimal positions for preventing the revolution lock of the support plate 6,
2 or the revolution locking phenomenon of the drum polishing tool 12 can be reliably prevented.

【0038】なお、本例では公転運動用のモータ102
を前記したようにモータ取付台106を介して支持板6
2に設置しているが、モータ102をベース板64の例
えば下方に設定し、主軸82を回転駆動させることによ
り公転運動させてもよい。このようにすれば、モータ1
02を主体とする駆動機構が公転運動から解放され、公
転運動機構を軽量化することができる。
In this embodiment, the motor 102 for revolving motion is used.
As described above, the support plate 6 is
2, the motor 102 may be set below the base plate 64, for example, and the main shaft 82 may be driven to rotate so that the motor 102 revolves. By doing so, the motor 1
The drive mechanism mainly composed of the orbit 02 is released from the orbital motion, and the orbital motion mechanism can be reduced in weight.

【0039】次に、前記の如く構成されたブラウン管用
ガラスパネルの研磨装置10の作用について説明する。
Next, the operation of the polishing apparatus 10 for a glass panel for a cathode ray tube configured as described above will be described.

【0040】まず、図2上右側の受け渡し位置に位置し
ている回転テーブル16上に、研磨前のガラスパネル2
2を載置して固定する。そして、ターレット板26を半
回転させて、前記ガラスパネル22を図2の左側の研磨
位置に位置させる。この時、ドラム研磨具12は、ドラ
ム昇降用シリンダ装置44によって上方に退避した待機
位置に逃げているので、ガラスパネル22はドラム研磨
具12に邪魔されることなく、研磨位置にセットされ
る。この後、回転テーブル16側のクラッチ32を、モ
ータ24側のクラッチ36に連結する。そして、ドラム
研磨具12を、ドラム昇降用シリンダ装置44によって
下方に進出移動させて、ガラスパネル22のフェース表
面22Aに押圧当接させるとともに研磨圧力を所定の圧
力に設定する。これにより、フェース表面22Aの研磨
準備が完了する。
First, the glass panel 2 before polishing is placed on the turntable 16 located at the transfer position on the upper right side in FIG.
Place 2 and fix. Then, the turret plate 26 is rotated half a turn to position the glass panel 22 at the polishing position on the left side of FIG. At this time, since the drum polishing tool 12 has escaped to the standby position retracted upward by the drum lifting / lowering cylinder device 44, the glass panel 22 is set at the polishing position without being disturbed by the drum polishing tool 12. Thereafter, the clutch 32 on the rotary table 16 side is connected to the clutch 36 on the motor 24 side. Then, the drum polishing tool 12 is moved downward by the drum lifting and lowering cylinder device 44 to press and contact the face surface 22A of the glass panel 22 and set the polishing pressure to a predetermined pressure. Thus, the preparation for polishing the face surface 22A is completed.

【0041】次に、モータ38を駆動してドラム研磨具
12を回転させるとともに、モータ102を駆動して公
転運動機構40を駆動する。また、ガラスパネル22を
モータ24によって回転させる。これにより、ドラム研
磨具12は、モータ38によってその軸12A、12B
を中心に回転されながら、図4の軸A(請求項1の偏心
軸を駆動させる主軸に相当)を中心に回転テーブル16
面と平行な面内で公転運動され、この状態でフェース表
面22Aを研磨する。
Next, the motor 38 is driven to rotate the drum polishing tool 12, and the motor 102 is driven to drive the revolving motion mechanism 40. Further, the glass panel 22 is rotated by the motor 24. Thus, the drum polishing tool 12 is driven by the motor 38 so that the shafts 12A, 12B
While rotating about the axis A in FIG. 4 (corresponding to the main shaft for driving the eccentric shaft in claim 1),
The revolving motion is performed in a plane parallel to the plane, and the face surface 22A is polished in this state.

【0042】このようにドラム研磨具12を公転運動さ
せると、ドラム研磨具12は、ドラム研磨具12の軸1
2A、12Bと直交するX方向(水平方向、図1参
照)、及びドラム研磨具12の軸方向であるY方向に動
作する(実際には、X方向とY方向とが合成された方向
に動作する)ので、ドラム研磨具12の偏磨耗防止とフ
ェース表面22Aの研磨代分布の均一化とを同時に達成
できる。
When the drum polishing tool 12 is revolved as described above, the drum polishing tool 12 is moved to the axis 1 of the drum polishing tool 12.
It operates in the X direction (horizontal direction, see FIG. 1) orthogonal to 2A and 12B and in the Y direction which is the axial direction of the drum polishing tool 12 (actually, it operates in a direction in which the X direction and the Y direction are combined). Therefore, it is possible to simultaneously prevent uneven wear of the drum polishing tool 12 and uniformize the distribution of the stock removal on the face surface 22A.

【0043】また、本実施の形態の公転運動機構40
は、1本の駆動偏心軸機構66と2本の従動偏心軸機構
68、68とからなる構造なので、X方向移動テーブル
とY方向移動テーブルとを備えたXY移動機構と比較し
て簡単な構造になり、これによって、研磨装置10の全
体構造を簡素化できる。
Further, the revolving motion mechanism 40 of the present embodiment
Is a structure composed of one drive eccentric shaft mechanism 66 and two driven eccentric shaft mechanisms 68, 68, and therefore has a simple structure as compared with an XY movement mechanism having an X-direction movement table and a Y-direction movement table. Accordingly, the overall structure of the polishing apparatus 10 can be simplified.

【0044】なお、本実施の形態では、フェース表面2
2Aが非球面形状に形成されたガラスパネル22につい
て説明したが、これに限られるものではなく、フェース
表面が単一球面形状に形成されたガラスパネルでもよ
く、また、フェース表面がフラットのガラスパネルでも
適用することができる。
In the present embodiment, the face surface 2
Although the glass panel 22 whose 2A is formed in an aspherical shape has been described, the glass panel 22 is not limited to this, and may be a glass panel whose face surface is formed in a single spherical shape, or a glass panel whose face surface is flat. But it can be applied.

【0045】また、本実施の形態では、ガラス物品とし
てブラウン管用ガラスパネル22を例示したが、これに
限られるものではなく、表面研磨を必要とするガラス物
品であれば適用することができる。
In this embodiment, the glass panel 22 for a cathode ray tube is exemplified as a glass article. However, the present invention is not limited to this, and any glass article that requires surface polishing can be applied.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上説明したように本発明に係るガラス
研磨装置によれば、ドラム研磨具を公転運動機構によっ
て、ドラム研磨具の回転軸と直交する方向、及びドラム
研磨具の回転軸の軸方向に動作させたので、ドラム研磨
具の偏磨耗防止とガラス物品の研磨代分布の均一化とを
同時に達成することができ、また、公転運動機構は、1
本の駆動偏心軸と2本の従動偏心軸とからなる簡単な構
造なので、ガラス研磨装置の全体構造を簡素化できる。
As described above, according to the glass polishing apparatus of the present invention, the drum polishing tool is rotated by the revolving motion mechanism in the direction perpendicular to the rotation axis of the drum polishing tool and the axis of the rotation axis of the drum polishing tool. , The prevention of uneven wear of the drum polishing tool and the uniformization of the polishing allowance distribution of the glass article can be achieved at the same time.
Since it has a simple structure including two drive eccentric shafts and two driven eccentric shafts, the overall structure of the glass polishing apparatus can be simplified.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態のブラウン管用ガラスパネ
ルの研磨装置の上面図
FIG. 1 is a top view of a glass panel polishing apparatus for a cathode ray tube according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示した研磨装置の側面図FIG. 2 is a side view of the polishing apparatus shown in FIG. 1;

【図3】公転運動機構を構成する駆動偏心軸機構の断面
FIG. 3 is a cross-sectional view of a drive eccentric shaft mechanism constituting a revolution motion mechanism.

【図4】ドラム研磨具の公転軌跡を示す説明図FIG. 4 is an explanatory diagram showing a revolution locus of a drum polishing tool.

【図5】公転運動機構を構成する従動偏心軸機構の断面
FIG. 5 is a cross-sectional view of a driven eccentric shaft mechanism constituting a revolving motion mechanism.

【図6】駆動偏心軸機構と従動偏心軸機構の各偏心軸の
公転軌跡を示す説明図
FIG. 6 is an explanatory diagram showing the revolving locus of each eccentric shaft of the drive eccentric shaft mechanism and the driven eccentric shaft mechanism.

【図7】駆動偏心軸機構に対する従動偏心軸機構の配置
位置を示す説明図
FIG. 7 is an explanatory diagram showing an arrangement position of a driven eccentric shaft mechanism with respect to a drive eccentric shaft mechanism.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…ブラウン管用ガラスパネルの研磨装置、12…ド
ラム研磨具、14…研磨部、16…回転テーブル、18
…テーブル回転部、22…ブラウン管用ガラスパネル、
22A…フェース表面、40…公転運動機構、66…駆
動偏心軸機構、68…従動偏心軸機構
DESCRIPTION OF REFERENCE NUMERALS 10: glass panel polishing apparatus for cathode ray tube, 12: drum polishing tool, 14: polishing section, 16: rotary table, 18
... Table rotating unit, 22 ... CRT glass panel,
22A: face surface, 40: revolving motion mechanism, 66: drive eccentric shaft mechanism, 68: driven eccentric shaft mechanism

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 生田 康成 千葉県船橋市北本町1丁目10番1号 旭硝 子株式会社内 Fターム(参考) 3C049 AA03 AA11 AA16 AB06 CA06 CB01 CB03  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Yasunari Ikuta 1-1-10 Kitahonmachi, Funabashi-shi, Chiba F-term in Asahi Glass Co., Ltd. (reference) 3C049 AA03 AA11 AA16 AB06 CA06 CB01 CB03

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガラス物品を回転テーブル面上に載置固
定し、該回転テーブルを回転させながら前記ガラス物品
の表面に、回転する円筒状のドラム研磨具を押し付けて
該表面を研磨するガラス研磨装置において、 前記ガラス研磨装置には、前記ドラム研磨具を公転運動
させる公転運動機構が設けられ、該公転運動機構は、偏
心軸を備えており、該偏心軸を駆動させる主軸を中心に
ドラム研磨具を回転テーブル面に沿って公転運動させる
ことを特徴とするガラス研磨装置。
1. A glass polishing apparatus for mounting and fixing a glass article on a rotary table surface, and pressing a rotating cylindrical drum polishing tool against the surface of the glass article while rotating the rotary table to polish the surface. In the apparatus, the glass polishing apparatus is provided with a revolving motion mechanism that revolves the drum polishing tool, the revolving motion mechanism includes an eccentric shaft, and the drum polishing device rotates the drum polishing tool around a main shaft that drives the eccentric shaft. A glass polishing apparatus characterized by revolving a tool along a rotating table surface.
【請求項2】 前記公転運動機構は、前記ガラス研磨装
置の固定部と前記ドラム研磨具が支持された支持部とを
連結する1本の駆動偏心軸と2本の従動偏心軸とを備
え、該2本の従動偏心軸と駆動偏心軸とを結ぶ直線が一
直線とならない位置に2本の従動偏心軸が配置されたこ
とを特徴とする請求項1記載のガラス研磨装置。
2. The revolving motion mechanism includes one drive eccentric shaft and two driven eccentric shafts connecting a fixed portion of the glass polishing apparatus and a support portion on which the drum polishing tool is supported, 2. The glass polishing apparatus according to claim 1, wherein the two driven eccentric shafts are arranged at positions where a straight line connecting the two driven eccentric shafts and the drive eccentric shaft is not straight.
JP25765499A 1999-09-10 1999-09-10 Device for polishing glass Pending JP2001079743A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25765499A JP2001079743A (en) 1999-09-10 1999-09-10 Device for polishing glass

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25765499A JP2001079743A (en) 1999-09-10 1999-09-10 Device for polishing glass

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001079743A true JP2001079743A (en) 2001-03-27

Family

ID=17309263

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25765499A Pending JP2001079743A (en) 1999-09-10 1999-09-10 Device for polishing glass

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001079743A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101823224A (en) * 2010-04-21 2010-09-08 中国人民解放军国防科学技术大学 Planetary wheel numerical control polishing removal function generator
CN102350664A (en) * 2011-10-26 2012-02-15 宁国市晨曦机械有限公司 Grinder assembly with main shaft eccentric device
CN102744663A (en) * 2012-07-30 2012-10-24 中国人民解放军国防科学技术大学 Flat-rotating polishing fairing device
CN104290004A (en) * 2014-10-17 2015-01-21 天津大学 Robotic planetary polishing unit for polishing of large-diameter aspheric surfaces
CN109571224A (en) * 2018-12-14 2019-04-05 东旭科技集团有限公司 curved glass polishing machine

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101823224A (en) * 2010-04-21 2010-09-08 中国人民解放军国防科学技术大学 Planetary wheel numerical control polishing removal function generator
CN102350664A (en) * 2011-10-26 2012-02-15 宁国市晨曦机械有限公司 Grinder assembly with main shaft eccentric device
CN102744663A (en) * 2012-07-30 2012-10-24 中国人民解放军国防科学技术大学 Flat-rotating polishing fairing device
CN104290004A (en) * 2014-10-17 2015-01-21 天津大学 Robotic planetary polishing unit for polishing of large-diameter aspheric surfaces
CN109571224A (en) * 2018-12-14 2019-04-05 东旭科技集团有限公司 curved glass polishing machine
CN109571224B (en) * 2018-12-14 2024-03-22 东旭光电科技股份有限公司 Curved glass polishing machine

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6500055B1 (en) Oscillating orbital polisher and method
EP0940221A2 (en) Polishing machine
US6830505B2 (en) Polishing machine
JP2001079743A (en) Device for polishing glass
JP2017121689A (en) Ball screw polishing method and its device
JP2001293656A (en) Continuous-type polishing device of plate-like body, and its method
JP3074377B2 (en) End face polishing apparatus and polishing method
CN111055187A (en) Polishing head capable of rotating and revolving for precision polishing of optical element
JP3233262B2 (en) Edge polishing machine
JP2004148425A (en) Both-sided polishing device
JP3773072B2 (en) Polishing apparatus and polishing method
JPH11300590A (en) Grinding device
JP2000061795A (en) Autorotation preventing device of rotary plate
JPH09192995A (en) Polishing method and device for glass panel for cathode-ray tube
JPS63288657A (en) Polishing device
CN217702909U (en) Adjusting roll burnishing device
JPH0318124Y2 (en)
JPH09131657A (en) Grinding device of glass panel for cathode ray tube
JP3326442B2 (en) Polishing method and apparatus
JPH0424183B2 (en)
JPH03234457A (en) Polishing device for connected end face of optical fiber
JPH0731179U (en) Roll brush cleaning device
JPH1199454A (en) Polishing device and polishing method
JP3729538B2 (en) Polishing equipment
JPH10286763A (en) Grinding device of substrate