JPH10128565A - レーザ加工装置及び合成移動速度算出装置 - Google Patents

レーザ加工装置及び合成移動速度算出装置

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JPH10128565A
JPH10128565A JP8290262A JP29026296A JPH10128565A JP H10128565 A JPH10128565 A JP H10128565A JP 8290262 A JP8290262 A JP 8290262A JP 29026296 A JP29026296 A JP 29026296A JP H10128565 A JPH10128565 A JP H10128565A
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laser
axis
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修 河野
Akira Ito
晃 伊藤
Toru Harada
徹 原田
Kazunari Kodama
一成 児玉
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 二次元の合成移動速度を簡単な構成で高速に
算出する。 【解決手段】 X軸カウンタ48及びY軸カウンタ50
は、移動方向信号40a,40bによりX軸ロータリ・
エンコーダ32及びY軸ロータリ・エンコーダ34の出
力パルスをアップ又はダウンカウントする。エンコーダ
32,34はレーザ加工ヘッドの移動量を示すパルス信
号を出力する。差分算出回路52,54はクロック40
cに従いカウンタ48,50の計数値の差分の絶対値Δ
x,Δyをクロック周期で算出する。ルックアップ・テ
ーブル56は、Δx,Δyの組み合わせに対する合成移
動速度vcの表データを記憶する。テーブル56は、ク
ロック40cに応じて回路52,54の出力Δx,Δy
に応じた合成移動速度vcを出力する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、紙などのシート材
をレーザ光により加工するレーザ加工装置及び、相対的
又は絶対的に複数次元で移動する物体の移動方向に沿っ
た合成移動速度を算出する合成移動速度算出装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】レーザ光は細いビームで被加工物に照射
することにより、高精度で所望のパターンを加工でき
る。例えば、用紙加工では、カット、ハーフ・カット及
びミシン目を任意のパターンで高速に形成できるという
利点がある。レーザ発振器は、通常、炭酸ガス・レーザ
であり、それをパルス発振させる。
【0003】レーザ出力を一定にしたままでは、レーザ
光を被加工用紙に照射するレーザ加工ヘッドと被加工用
紙との相対的な速度により、加工品質に違いが生じる。
レーザ出力は、励起パルスの周波数、パルス幅及びデュ
ーティ比などにより調整できるので、従来のレーザ加工
装置、例えば、用紙を縦方向(用紙移動方向)に沿って
加工する従来のレーザ加工装置では、被加工用紙の移動
速度に応じてレーザ出力値を適応的に制御するようにな
っている(例えば、平成4年特許出願公開第12834
号公報)。
【0004】また、レーザ・ビームを一方向に移動さ
せ、用紙をそれと直交する方向に移動させることで、用
紙を任意のパターンにレーザ加工するレーザ加工装置
が、昭和63年特許出願公開第177993号公報に記
載されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このように、レーザ・
ビーム(又は、レーザ光を被加工用紙に照射するレーザ
加工ヘッド)と被加工用紙が相対的に二次元的に移動す
るレーザ加工でも、2次元の合成移動速度に応じて適応
的にレーザ出力を制御するのが好ましい。そのために
は、レーザ加工ヘッドと被加工用紙との間の相対的な合
成速度を算出し、算出された合成移動速度に応じてレー
ザ出力を制御する必要がある。
【0006】合成速度を算出するのに、従来は、マイク
ロコンピュータ上のソフトウエアを使用していた。マイ
クロコンピュータ上のソフトウエアでは、時間がかかる
だけでなく、比較的大掛かりな装置になっていた。
【0007】本発明は、被加工物に対してレーザ加工ヘ
ッドが相対的な二次元移動する場合に、レーザ出力を合
成移動速度に対して適応的に制御するレーザ加工装置を
提示することを目的とする。
【0008】本発明はまた、加工パターン・データの設
定が容易なレーザ加工装置を提示することを目的とす
る。
【0009】本発明はまた、相対的又は絶対的に複数次
元で移動する物体の合成移動速度をより簡単な構成でよ
り高速に算出できる合成移動速度算出装置を提示するこ
とを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明に係るレーザ加工
装置では、複数の移動軸のそれぞれについて軸移動速度
を検出する複数の軸移動速度検出手段と、当該複数の軸
速度検出手段の出力から移動方向の合成移動速度を算出
する合成移動速度算出手段とにより、移動方向の合成移
動速度を算出し、パワー制御手段が、算出された合成移
動速度に従い被加工物に照射すべきレーザ光のパワーを
調整する。これにより、二次元的な移動であり、その移
動速度が一定でなくても、一定品質でレーザ加工を行な
える。
【0011】また、 合成移動速度から移動距離を算出
し、その移動距離と加工線に沿った加工パターン・デー
タとを照合して、被加工物に対するレーザ光の照射を制
御する。これにより、加工パターン・データが、加工線
に沿ったデータでよくなり、かつまた、被加工物に対す
るレーザ光の照射の制御が容易且つ高速になる。
【0012】合成移動速度算出手段を、当該複数の移動
軸に沿った各軸移動速度の組み合わせに対する合成移動
速度のデータを記憶するメモリ装置とすることで、複雑
なディジタル演算など無しで、しかも高速に合成移動速
度を得ることが出来る。
【0013】パルス・レーザの場合には、パワー制御手
段が、合成移動速度に応じて、当該合成移動速度が速い
ほどパルス光のパルス幅を広くすると共にパルス光の繰
り返し周波数を高くすることにより、レーザ・スポット
が確実に連なるようにでき、カットの場合でもカット端
面を滑らかに形成できる。
【0014】各軸移動速度検出手段が、検出された軸移
動速度を、小さい速度では小さい刻みで、大きな速度に
対しては大きな刻みで出力するようにすることで、合成
移動速度算出のためのメモリ装置が小さくて済むように
なり、かつまた、広い速度範囲にわたり一定の精度を確
保できる。
【0015】合成移動速度から移動距離を算出し、その
移動距離と加工線に沿った加工パターン・データとを照
合して、被加工物に対するレーザ光の照射を制御するこ
とにより、加工パターン・データが、加工線に沿ったデ
ータでよくなり、かつまた、被加工物に対するレーザ光
の照射の制御が容易且つ高速になる。
【0016】本発明に係る合成移動速度算出装置では、
複数の移動軸に沿った各軸移動速度の組み合わせに対す
る合成移動速度のデータ表をメモリ装置に記憶してお
き、各移動軸で検出された軸移動速度を当該メモリ装置
の当該データ表に照合するだけで、各移動軸で検出され
た軸移動速度に対する合成移動速度が得られるので、簡
単な構成でしかも非常に高速に合成移動速度を得ること
ができる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態を詳細に説明する。
【0018】図1は、本発明の一実施例の斜視図、図2
は、本実施例の概略構成ブロック図を示す。
【0019】図1を先ず、説明する。本実施例では、レ
ーザ加工される用紙10は、プルロール方式によりガイ
ド・ローラ12,14の間でピンと張った状態に保たれ
る。用紙10は、レーザ加工時には、静止する。ガイド
・ローラ12,14の間の用紙10の上空に直交する2
方向の可動フレーム16,18が図示しないガイド・レ
ールにより支持されている。可動フレーム16の一端に
取り付けられたモータ20が、可動フレーム18をX軸
方向に移動させ、可動フレーム18の端部に取り付けら
れたモータ22が、レーザ加工ヘッド24をY軸方向に
移動させる。即ち、レーザ加工ヘッド24は、XYプロ
ッタ方式で、用紙10の上を二次元的に移動可能であ
る。
【0020】可動フレーム16の他端には、45度傾け
た反射ミラー26が固定されており、レーザ発振器28
のレーザ出力光が、反射ミラー30及び反射ミラー26
により反射されてレーザ加工ヘッド24の頭部に入射
し、ここで垂直下方向に反射され用紙10に向けて照射
されるようになっている。
【0021】モータ20,22には、その回転角(即
ち、レーザ加工ヘッドの移動距離)を検出するロータリ
・エンコーダ32,34がそれぞれ一体化されている。
【0022】図2を説明する。図1と同じ構成要素に
は、同じ符号を付してある。システム制御回路(CP
U)40は、全体を制御する回路であり、入力された加
工データをメモリ42に記憶する。加工データは、加工
開始座標(X1,Y1)、加工終了座標(X2,Y2)
並びにその間の加工曲線データ及び加工パターン・デー
タからなる。加工パターン・データは、例えば、ミシン
目のタイ長とカット長であり、本実施例では、加工線に
沿った長さデータでよい。
【0023】システム制御回路40は、それぞれモータ
駆動回路44,46を介してX軸モータ20及びY軸モ
ータ22を駆動し、レーザ加工ヘッド24を移動可能な
範囲内の任意の位置に移動させることができる。
【0024】X軸カウンタ48及びY軸カウンタ50は
どちらも、アップカウントとダウンカウントを外部制御
できるアップダウン・カウンタからなり、システム制御
回路40からの移動方向信号40a,40bによりX軸
ロータリ・エンコーダ32及びY軸ロータリ・エンコー
ダ34の出力パルスをアップカウント又はダウンカウン
トする。ロータリ・エンコーダ32,34は、所定回転
角度当たり1つのパルスを出力する回転検出素子であ
り、その出力パルスを計数することで、回転量、即ち、
レーザ加工ヘッド24の移動量を検出できる。従って、
X軸カウンタ48及びY軸カウンタ50の出力はそれぞ
れ、レーザ加工ヘッド24のX軸方向の絶対位置x及び
Y軸方向の絶対位置yを示す。
【0025】システム制御回路40は、X軸カウンタ4
8及びY軸カウンタ50の出力x,yとメモリ42に記
憶される加工データとを照合して、指定の加工線に沿っ
て移動するように、X軸モータ20及びY軸モータ22
を制御する。このような制御方式自体は周知である。シ
ステム制御回路40は、X軸の移動方向を示す移動方向
信号40aをX軸カウンタ48のアップ/ダウン制御端
子に印加し、Y軸の移動方向を示す移動方向信号40b
をY軸カウンタ50のアップ/ダウン制御端子に印加す
る。
【0026】差分算出回路52,54は、システム制御
回路40からのクロック40cに従い、そのクロック4
0cの1周期内でのX軸カウンタ48及びY軸カウンタ
50の計数値の差分の絶対値Δx,Δyを算出する。即
ち、差分算出回路52は、所定単位時間内の、X軸方向
の移動距離Δxを算出し、差分算出回路52は、同じ所
定単位時間内の、Y軸方向の移動距離Δyを算出する。
従って、差分算出回路50,52の出力Δx,Δyは、
それぞれ、X軸方向及びY軸方向の移動速度をも示して
いる。
【0027】差分算出回路52,54の一例を図3に示
す。ラッチ回路80はシステム制御回路40からのクロ
ック40cの立ち下がりに応じて、カウンタ48,50
の出力値をラッチする。減算器82はカウンタ48,5
0の出力値からラッチ回路80の出力を減算し、絶対値
回路84は減算器82の出力を絶対値化する。ラッチ回
路86は、システム制御回路40からのクロック40c
の立ち上がりに応じて、絶対値回路86の出力をラッチ
する。これにより、差分算出回路52,54は、システ
ム制御回路40からのクロック40cの1周期を単位時
間とするX軸方向の移動距離Δx及びY軸方向の移動距
離Δyを逐次的に算出できる。
【0028】ルックアップ・テーブル56は、クロック
40cにより規定される単位時間の移動距離Δx,Δy
の組み合わせに対する合成移動速度vcの表データを記
憶するメモリ装置からなり、x入力にその差分算出回路
52の出力が入力すると共に、y入力に差分算出回路5
4の出力が入力し、x入力とy入力で特定されるアドレ
スに記憶されるデータを出力する。即ち、ルックアップ
・テーブル56は、クロック40cに応じて差分算出回
路52,54の出力Δx,Δyを取り込み、Δx,Δy
の値に応じた合成移動速度vcを出力する。合成移動速
度vcは、周知の通り、下記式で算出される。
【0029】
【数1】
【0030】本実施例では、ルックアップ・テーブル方
式で合成移動速度を算出するので、テーブル56を構成
するメモリ素子のアドレス取り込みとデータ出力に要す
る時間で合成移動速度を出力でき、ディジタル演算又は
ソフトウエア演算に比べ、高速であるだけでなく、構成
も簡潔に出来る。
【0031】積分回路58は、テーブル56から出力さ
れる合成移動速度vcを積算し、移動距離Lを算出す
る。但し、システム制御回路40は、加工線のスタート
時に、積分回路58にクリア信号40dを供給し、積分
回路58の移動距離Lをクリアする。これにより、積分
回路58は、加工線単位で移動距離を算出する。例え
ば、ミシン目加工では、タイ長及びカット長として加工
パターンが決定される。その場合、指定されるタイ長又
はカット長をX軸方向及びY軸方向の範囲に換算して、
レーザ出力のオン/オフを制御してもよいが、そうする
と、換算に時間がかかるだけでなく、レーザ加工ヘッド
24が加工を行なう位置にあるかどうかを2次元で逐次
モニタしなければならず、システム制御回路又はCPU
の負担が大きい。また、本実施例のようにすることで、
簡単な構成で且つ短時間でレーザ出力のオン/オフを制
御できる。
【0032】レーザ制御装置60は、レーザ発振器28
の出力電力を制御するパワー制御回路62と、レーザ発
振器28のレーザ出力のオン/オフを制御するオン/オ
フ制御回路64と、パワー制御回路62から出力される
レーザ励起電流パルスをオン/オフ制御回路64の出力
の制御下で通過/遮蔽するゲート回路66とを具備す
る。
【0033】レーザ加工ヘッド24の移動速度に関わら
ず、加工品質を維持するには、レーザ加工ヘッド24の
移動速度が高速になるほどレーザ発振器28の出力パワ
ーを上げる必要がある。また、レーザ発振器28をパル
ス発振させ、レーザ・パルスによるスポットを連続させ
ることで連続加工する場合には、レーザ加工ヘッド24
の移動速度が高速になるほど、パルス発振間隔を狭くす
る必要がある。レーザ・パルスによるスポットがつなが
らなくなり、加工端面がスムーズに連続しなくなること
があるからである。この点は、用紙送り方向の加工に関
して、同一出願人に係る平成7年特許出願第19460
9号に詳細に説明されている。そこで、パワー制御回路
62は、テーブル56から出力される合成移動速度vc
に応じて、レーザ発振器28に印加すべき励起電流パル
スのパルス幅とその周波数を制御する。具体的には、合
成移動速度vcが速くなるほど、励起電流パルスのパル
ス幅を広くすると共に繰り返し周波数を高くし、レーザ
・ビームによるスポットが連続しつつ、被加工物に照射
されるレーザ・パワーが被加工物に適切な値になるよう
にする。どの程度のレーザ出力が適切かは、予め調査
し、パワー制御回路62に設定しておく。
【0034】システム制御回路40は、加工線の加工開
始直前にその加工線の、加工線に沿った加工パターン・
データをオン/オフ制御回路64にセットする。オン/
オフ制御回路64は、積分回路58から出力される移動
距離Lと、システム制御回路40からの加工パターン・
データとを照合し、ゲート回路66の開閉を制御する。
例えば、ミシン目では、オン/オフ制御回路64は、タ
イ長部分ではゲート回路66を閉じ、カット長部分では
ゲート回路66を開ける。
【0035】このようにして、パワー制御回路62によ
りパルス幅及び繰り返し周波数を制御された励起電流パ
ルスが、ゲート回路66の開いている間、レーザ発振器
28に印加される。レーザ発振器28は、印加される励
起電流パルスに応じてパルス・レーザ発振し、レーザ・
パルスを出力する。
【0036】なお、レーザ発振器によっては、パルス駆
動で、レーザ発振しない期間にも、極く短いパルス幅の
励起電流パルスを印加しておく必要があるものがある。
そのようなレーザ発振器に対しては、オン/オフ制御回
路64の出力をパワー制御回路62に印加し、レーザ出
力を禁止すべき期間については、パワー制御回路62の
出力する励起電流パルスをその極く短いパルス幅に強制
するようにして、ゲート回路66を除去すればよい。
【0037】単位時間の移動距離Δx,Δyを線形にと
ると、過剰な精度になり、ルックアップ・テーブル56
も巨大なものになってしまうことがある。例えば1〜
1,000mm/sの速度範囲で測定誤差を2%に抑え
るには、速度ステップを0.02mm/sとする必要が
ある。しかし、この速度ステップは、1,000mm/
sに対しては0.002%となり、過剰な精度となる。
一方の軸の1,000mm/sに対して2%の誤差とす
ると、データ量が約50,000になり、2軸では5
0,000×50,000個になってしまう。
【0038】そこで、広い速度範囲内で所望の精度しつ
つ速度算出テーブルのデータ量を大幅に削減することが
望まれる。図4は、そのような課題を解決する本発明の
第2実施例の概略構成ブロック図を示す。図2と同じ構
成要素には同じ符号を付してある。
【0039】図4に示す実施例では、量子化回路70,
72が差分算出回路52,54の出力Δx,Δyを、所
望の精度になるように非線形で量子化する。例えば、Δ
x,Δyの大きさに応じて複数の区画に区分し、必要な
範囲で所望の精度以上となるように、Δx,Δyが大き
くなるほどステップを粗くする。量子化回路70,72
の出力が、ルックアップ・テーブル74のそれぞれx入
力及びy入力にそれぞれ印加される。
【0040】例えば、速度換算(単位は、mm/s)
で、 0.20未満:0.002刻み 0.20以上、0.40未満:0.004刻み 0.40以上、1.00未満:0.008刻み 1.00以上、2.00未満:0.020刻み 2.00以上、4.00未満:0.040刻み 4.00以上、10.0未満:0.080刻み 10.0以上、20.0未満:0.2刻み 20.0以上、40.0未満:0.4刻み 40.0以上、100.0未満:0.8刻み 100以上、200未満:2刻み 200以上、400未満:4刻み 400以上:8刻み とする。刻みに丁度合致する移動速度でない場合には、
直近の移動速度と近似する。例えば、0.123mm/
sに相当する移動距離に対しては、0.122mm/s
又は0.124mm/s相当とする。
【0041】好ましくは、量子化回路70,72は、刻
みに合致する移動距離を示すコード信号を出力する。こ
れにより、移動距離をルックアップ・テーブル74のア
ドレスに変換する手間が省ける。
【0042】量子化回路70,72により、広い速度範
囲に渡り一定以上の精度を確保でき、特定の速度で過剰
に精度がよくなったり悪くなると言うことが無くなる。
更には、所望の速度範囲でルックアップ・テーブル74
のx入力及びy入力のデータ数が削減されるので、ルッ
クアップ・テーブル74に格納すべきデータ数も大幅に
削減できる。
【0043】これ以外の動作は、図2に示す実施例と全
く同じであるので、説明を省略する。
【0044】
【発明の効果】以上の説明から容易に理解できるよう
に、本発明によれば、被加工物に対してレーザ加工ヘッ
ドが相対的な二次元移動する場合の合成移動速度に対し
てレーザ出力を適応的に制御できる。これにより、加工
線に沿った加工データにより加工パターンを指定できる
ようになるだけでなく、より簡略化した構成で、より高
速にレーザ出力を制御できる。
【0045】また、2次元的に移動する物体の合成移動
速度をより簡単な構成でより高速に算出できる。所望の
範囲で一定以上の精度を確保しつつ、構成を簡略化でき
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例の機構部分の斜視図であ
る。
【図2】 本実施例の概略構成ブロック図である。
【図3】 差分算出回路52,54の回路例である。
【図4】 本発明の変更実施例の概略構成ブロック図で
ある。
【符号の説明】
10:加工対象の用紙 12,14:ガイド・ローラ 16,18:可動フレーム 20:X軸モータ 22:Y軸モータ 24:レーザ加工ヘッド 26:反射ミラー 28:レーザ発振器 30:反射ミラー 32,34:ロータリ・エンコーダ 40:システム制御回路(CPU) 40a,40b:移動方向信号 40c:クロック 40d:クリア信号 42:メモリ 44,46:モータ駆動回路 48:X軸カウンタ 50:Y軸カウンタ 52,54:差分算出回路 56:ルックアップ・テーブル 58:積分回路 60:レーザ制御装置 62:パワー制御回路 64:オン/オフ制御回路 66:ゲート回路 70,72:量子化回路 74:ルックアップ・テーブル 80:ラッチ回路 82:減算器 84:絶対値回路 86:ラッチ回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 児玉 一成 秋田県秋田市土崎港西2−12−48サン・コ ーポラス土崎3−301

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被加工物にレーザ光を照射するレーザ加
    工ヘッドと当該被加工物が相対的に二次元的に移動して
    当該被加工物をレーザ加工するレーザ加工装置であっ
    て、 複数の移動軸のそれぞれについて軸移動速度を検出する
    複数の軸移動速度検出手段と、 当該複数の軸速度検出手段の出力から移動方向の合成移
    動速度を算出する合成移動速度算出手段と、 当該合成移動速度に従い、当該被加工物に照射すべきレ
    ーザ光のパワーを調整するパワー制御手段とを具備する
    ことを特徴とするレーザ加工装置。
  2. 【請求項2】 上記合成移動速度算出手段が、当該複数
    の移動軸に沿った各軸移動速度の組み合わせに対する合
    成移動速度のデータを記憶するメモリ装置からなる請求
    項1に記載のレーザ加工装置。
  3. 【請求項3】 当該複数の軸移動速度検出手段のそれぞ
    れが、検出された軸移動速度を、小さい速度では小さい
    刻みで、大きな速度に対しては大きな刻みで出力する請
    求項2の何れか1項に記載のレーザ加工装置。
  4. 【請求項4】 当該被加工物に照射すべきレーザ光がパ
    ルス光であり、当該パワー制御手段は、当該合成移動速
    度に応じて、当該合成移動速度が速いほど、当該パルス
    光のパルス幅を広くすると共に当該パルス光の繰り返し
    周波数を高くする請求項1乃至3の何れか1項に記載の
    レーザ加工装置。
  5. 【請求項5】 更に、当該合成移動速度算出手段の出力
    を積分し、移動距離を算出する移動距離算出手段と、当
    該移動距離算出手段により算出された移動距離と加工線
    に沿った加工パターン・データに従い、当該被加工物に
    対するレーザ光の照射を制御するレーザ照射制御手段と
    を具備する請求項1乃至4の何れか1項に記載のレーザ
    加工装置。
  6. 【請求項6】 被加工物にレーザ光を照射するレーザ加
    工ヘッドと当該被加工物が相対的に二次元的に移動して
    当該被加工物をレーザ加工するレーザ加工装置であっ
    て、 複数の移動軸のそれぞれについて軸移動速度を検出する
    複数の軸移動速度検出手段と、 当該複数の軸速度検出手段の出力から移動方向の合成移
    動速度を算出する合成移動速度算出手段と、 当該合成移動速度算出手段の出力を積分し、移動距離を
    算出する移動距離算出手段と、 当該移動距離算出手段により算出された移動距離と加工
    線に沿った加工パターン・データに従い、当該被加工物
    に対するレーザ光の照射を制御するレーザ照射制御手段
    とを具備することを特徴とするレーザ加工装置。
  7. 【請求項7】 上記合成移動速度算出手段が、当該複数
    の移動軸に沿った各軸移動速度の組み合わせに対する合
    成移動速度のデータを記憶するメモリ装置からなる請求
    項6に記載のレーザ加工装置。
  8. 【請求項8】 当該複数の軸移動速度検出手段のそれぞ
    れが、検出された軸移動速度を、小さい速度では小さい
    刻みで、大きな速度に対しては大きな刻みで出力する請
    求項6又は7に記載のレーザ加工装置。
  9. 【請求項9】 相対的又は絶対的に複数次元で移動する
    物体の移動方向に沿った合成移動速度を算出する合成移
    動速度算出装置であって、 当該複数次元の各移動軸のそれぞれについて軸移動速度
    を検出する複数の軸移動速度検出手段と、 当該複数の移動軸に沿った各軸移動速度の組み合わせに
    対する合成移動速度のデータ表を記憶するメモリ装置と
    からなり、当該複数の軸移動速度検出手段により検出さ
    れた複数の軸移動速度を当該メモリ装置の当該データ表
    に照合することを特徴とする合成移動速度算出装置。
  10. 【請求項10】 当該複数の軸移動速度検出手段のそれ
    ぞれが、検出された軸移動速度を、小さい速度では小さ
    い刻みで、大きな速度に対しては大きな刻みで出力する
    請求項9に記載の合成移動速度算出装置。
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