JPH10116760A - Aligner and substrate holding device - Google Patents

Aligner and substrate holding device

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JPH10116760A
JPH10116760A JP26702396A JP26702396A JPH10116760A JP H10116760 A JPH10116760 A JP H10116760A JP 26702396 A JP26702396 A JP 26702396A JP 26702396 A JP26702396 A JP 26702396A JP H10116760 A JPH10116760 A JP H10116760A
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JP
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substrate
holding
adapter
photosensitive
stage
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Application number
JP26702396A
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Japanese (ja)
Inventor
Akimitsu Ebihara
明光 蛯原
Original Assignee
Nikon Corp
株式会社ニコン
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Publication date
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Exposure apparatus for microlithography
    • G03F7/70691Handling of masks or wafers
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    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/7075Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an aligner in which the substrate holding face of a substrate holder can be cleaned easily.
SOLUTION: An adaptor 18, for holding substrate, whose thickness and shape are nearly identical to those of a photosensitive substrate 15 and in which a substrate holding face is formed on the surface is prepared as a separate member. The adaptor 18 is vacuum-sucked into a base stage 17 at a substrate stage, and the photosensitive substrate 15 is vacuum-sucked and held on it. The adaptor 18 is removed from the base stage 17 so as to be conveyed inside an aligner by a substrate conveyance system, and it is conveyed into, and housed in, a cleaning part or a substrate housing box inside the aligner. An adaptor, for holding substrate, which is cleaned in the cleaning part and from which a foreign body is removed or the adaptor 18, which is cleaned so as to be returned to the substrate holding box is returned again onto the base stage 17 by the substrate conveyance system.
COPYRIGHT: (C)1998,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置や液晶表示装置の製造工程においてマスクに形成されたパターンを感光基板に露光するのに用いられる露光装置及び基板保持装置に関する。 The present invention relates to relates to an exposure apparatus and a substrate holding apparatus used a pattern formed on a mask in the manufacturing process of semiconductor devices and liquid crystal display device to expose the photosensitive substrate.

【0002】 [0002]

【従来の技術】半導体素子や液晶表示素子等の製造工程においては、ステッパー等の露光装置を用いてフォトマスク又はレチクル(以下、マスクという)に形成されたパターンを半導体ウエハ又はガラスプレート等の感光基板上に投影露光することが行われる。 In the manufacturing process, such as the Prior Art Semiconductor elements and liquid crystal display devices, photomasks or reticles using an exposure apparatus such as a stepper (hereinafter, referred to as mask) photosensitive semiconductor wafer or glass plate a pattern formed it is performed for projection exposure onto the substrate.

【0003】感光基板は、投影光学系の光軸に垂直な平面内を2次元的に移動する基板ステージ上に真空吸着保持される。 [0003] photosensitive substrate is vacuum-sucked and held on the substrate stage which moves the plane perpendicular to two-dimensionally on the optical axis of the projection optical system. 基板ステージの概略平面図である図14 Figure is a schematic plan view of a substrate stage 14
(a)及びその断面図である図14(b)を用いて、従来の基板ステージの構造及び基板ステージ上への感光基板の受け渡しの方法を説明する。 Using FIG 14 (b) is (a) and a sectional view thereof, illustrating a method of delivery of the photosensitive substrate onto the structure and the substrate stage of a conventional substrate stage. リニアガイド101に沿って矢印E方向に直線移動するスライダー102には、2本のフォーク部103a,103bが設けられ、 The slider 102 to move linearly in the direction of the arrow E along the linear guide 101, the two fork portions 103a, 103b are provided,
水平面内で一次元的に感光基板Wを搬送する。 Conveying the one-dimensionally photosensitive substrate W in a horizontal plane. フォーク部103a,103bの上面には感光基板を載置して固定する吸着孔104a,104bが形成されている。 Fork 103a, the upper surface of 103b suction holes 104a to fix in place the photosensitive substrate, 104b are formed. 2
次元的に移動する基板ステージSTは予め図14(a) Substrate stage ST in advance 14 to move dimensionally (a)
に示したローディング位置に位置決めされる。 It is positioned at the loading position shown in. フォーク部103a,103b上の感光基板Wは、基板ステージSTの上に設けられた基板ホルダーWHの真上の位置まで運ばれる。 Fork 103a, the photosensitive substrate W on 103b is carried to a position directly above the substrate holder WH provided on the substrate stage ST.

【0004】基板ホルダーWHの載置面105には細い溝106が環状に複数本形成され、この細い溝106は感光基板Wの裏面を吸着するために真空源によって減圧される。 [0004] narrow groove 106 on the mounting surface 105 of the substrate holder WH is a plurality of annularly formed, the narrow groove 106 is depressurized by a vacuum source to adsorb the back surface of the photosensitive substrate W. さらに、基板ホルダーWHの載置面105の中央部には、センターアップ部107が上下動可能に設けられている。 Further, in the central portion of the mounting surface 105 of the substrate holder WH, center-up portion 107 is vertically movable. フォーク部103a,103bが所定の位置に来ると、図14(b)に示すようにセンターアップ部107が載置面105、及びフォーク部103a,1 When the fork portion 103a, 103b comes to a predetermined position, center-up 107 mounting surface 105 as shown in FIG. 14 (b), and the fork portion 103a, 1
03bよりも上方に移動し、感光基板Wを受け取る。 Move upward than 03b, it receives the photosensitive substrate W.

【0005】この状態でセンターアップ部107は感光基板Wの裏面を真空吸着し、フォーク部103a,10 [0005] center-up unit 107 in this state the rear surface of the photosensitive substrate W by vacuum suction, the fork portion 103a, 10
3bは再び図14(a)の位置まで戻る。 3b is returned to the position shown in FIG. 14 (a) again. そして、最後にセンターアップ部107を載置面105よりも下方に移動させ、感光基板Wを基板ホルダーWHの載置面10 Finally, move below the surface 105 mounting the center-up 107, the mounting of the photosensitive substrate W of the substrate holder WH surface 10
5に受け渡し、溝106を減圧して感光基板Wを真空吸着保持する。 5 to the transfer, holding vacuum suction of the photosensitive substrate W by vacuum grooves 106. これによって、感光基板Wは載置面105 Thus, the photosensitive substrate W mounting surface 105
の平面度にならって平坦化矯正される。 It is planarized corrected following the flatness. また、載置面1 In addition, the mounting surface 1
05上の感光基板Wを取り出すときは、全く逆のシーケンスが行われる。 To remove the photosensitive substrate W on 05, reverse sequence takes place at all.

【0006】基板ステージSTは剛性の高いボディ構造のなかに設置され、ボディ構造には露光前に感光基板W [0006] The substrate stage ST is installed Some of the highly rigid body structure, the body structure photosensitive substrate W before exposure
を位置決めするためのアライメントセンサーや、感光基板の表面を投影光学系の結像面に合わせるための焦点検出センサーが基板ステージ上部に面して取り付けられている。 Alignment sensor and for positioning the focus detection sensor for adjusting the surface of the photosensitive substrate on the imaging plane of the projection optical system is mounted facing the upper substrate stage. また、露光装置の内部には、マスク収納ボックスや基板収納ボックスが配置され、マスク搬送系、基板搬送系等も配置されている。 Inside the exposure device, is arranged a mask storage box or substrate storage box, a mask conveying system is arranged also the substrate transfer system and the like. 装置全体はチャンバーの中に設置されて、温度を厳密に制御されている。 Whole apparatus is placed in the chamber, it is tightly controlled temperature.

【0007】 [0007]

【発明が解決しようとする課題】近年、半導体素子等の高集積化に伴って感光基板上の露光領域(ショット領域)に露光されるパターンの微細化が進み、露光装置は解像度を上げるために開口数の大きな投影光学系を使用するようになっている。 Recently [0005], the process proceeds miniaturization of a pattern to be exposed on the exposure area on the photosensitive substrate with the high integration of semiconductor devices (shot area), the exposure apparatus in order to increase the resolution It is adapted to use a large projection optical system of the numerical aperture. 開口数の大きな投影光学系では焦点深度が浅くなるため、露光領域を正確に投影光学系の焦点位置(焦点深度内)に位置づけることが望まれている。 Since the depth of focus becomes shallow in a large projection optical system NA, it is positioned exactly the focal position of the projection optical system exposure area (within the depth of focus) is desired. また、一方では露光装置による露光領域の大面積が進んでおり、それによって大型の素子の製造を可能にしたり、1回の露光で複数の素子のパターン露光を行って装置のスループットの向上を図ることが行われている。 Further, while the is progressing a large area of ​​the exposure region by the exposure device, reduce it or allows the production of large elements by, one to improve the throughput of the apparatus performing pattern exposure of a plurality of elements in the exposure it is being carried out. そのため、大型化する露光領域全体をより正確に投影光学系の焦点位置に位置づけることが望まれている。 Therefore, it is positioned across the exposure area to be large to more accurately focus position of the projection optical system are desired.

【0008】このように、感光基板の露光領域を投影露光装置の焦点位置に確実に位置づけるためには感光基板表面の平坦性を確保することが必要である。 [0008] Thus, in order to position the exposure area on the photosensitive substrate to ensure the focal position of the projection exposure apparatus, it is necessary to ensure the flatness of the photosensitive substrate surface. 感光基板の表面が曲面を描いていれば、露光領域の全体を投影光学系の焦点面内に位置づけることが困難だからである。 If the surface of the photosensitive substrate if drawing a curved surface, because it is difficult to position the entire exposure area in the focal plane of the projection optical system.

【0009】ところで、露光装置の運転を続ける間に、 [0009] By the way, while continuing the operation of the exposure apparatus,
基板ホルダーの基板保持面にゴミ等の異物が付着することがある。 Foreign matter such as dust on the substrate holding surface of the substrate holder may be attached. 基板ホルダーの基板保持面に異物が付着すると、その上に感光基板を載置して真空吸着したとき、異物のために感光基板が変形してフォーカスずれを生じてしまう。 When foreign material to the substrate holding surface of the substrate holder is attached, when vacuum suction by placing a photosensitive substrate thereon, a photosensitive substrate occurs defocus deformed for foreign matter. 異物の侵入を完全に防ぐことは現状では困難であるため、基板ホルダーの基板保持面を定期的に清掃する必要がある。 For preventing entry of foreign objects completely is difficult at present, it is necessary to periodically clean the substrate holding surface of the substrate holder. 現在、この清掃は人手によって行われている。 Currently, this cleaning is done by hand. しかし、基板ホルダーは露光装置の中央部に位置し、前述のように基板ステージの周囲には種々のユニットが配置されていてスペースがないため手が届きにくく、完全に清掃することが困難であった。 However, the substrate holder located in central exposure apparatus, it is difficult to inaccessible by for various units there is no space are arranged around the substrate stage as described above, it is thoroughly cleaned It was. また、完全に清掃するために基板ホルダーを取り外そうとすると、周囲のユニットを取り外したりする等の大がかりな作業が必要となり、その間、装置の運転を停止しなければならないため露光装置のスループットが低下してしまうという問題があった。 Further, Any attempt to remove the substrate holder to fully clean, requires extensive work such or remove the periphery of the unit, during which the throughput for the exposure apparatus must stop the operation of the apparatus there is a problem that decreases. 本発明はこのような従来技術の問題点に鑑みてなされたもので、基板ホルダーの基板保持面の清掃を容易に行うことのできる露光装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such problems of the prior art, and an object thereof is to provide an exposure apparatus capable of performing cleaning of the substrate holding surface of the substrate holder easily.

【0010】 [0010]

【課題を解決するための手段】上記問題を解決するために本発明では、感光基板と同程度の厚みと形状を有し、 In the present invention, in order to solve the above problems SUMMARY OF THE INVENTION comprises a photosensitive substrate about the same thickness and shape,
表面に基板保持面を形成した基板保持用アダプターを別部材として用意する。 Providing an adapter board holding forming a substrate holding surface on the surface as a separate member. そして、基板ステージ上に基板保持用アダプターを保持して真空吸着し、基板保持用アダプターの上に感光基板を載置して真空吸着保持するようにする。 Then, by vacuum suction to hold the adapter board held on the substrate stage, so as to hold vacuum suction by placing a photosensitive substrate on the adapter board holding. 基板保持用アダプターは感光基板と同様の形状を有し感光基板と同様に取り扱うことができるので、露光装置に備わっている基板搬送系によって基板ステージから取り外して露光装置内を自動搬送することができる。 Since the adapter board holding can be handled in the same manner as the photosensitive substrate has the same shape as the photosensitive substrate, it can be automatically conveyed in an exposure device removed from the substrate stage by the substrate transfer system is equipped in the exposure apparatus . 基板搬送系は、基板保持用アダプターを露光装置内に設けられた洗浄部もしくは基板収納ボックス内に搬送収納する。 Substrate transport system conveys accommodating the adapter board holding the cleaning unit or the substrate housing box provided in the exposure apparatus. 洗浄部で洗浄されて異物が除去された基板保持用アダプター、又は基板収納ボックスごと装置外部に取り出されて洗浄された基板保持用アダプターは、再び基板搬送系によって自動的に基板ステージ上に戻される。 Washed with a substrate holding adapter foreign matter has been removed by the cleaning unit or the substrate storage box each device substrate holding adapter that has been cleaned is taken out to the outside, it is automatically returned on the substrate stage again by the substrate transfer system .

【0011】すなわち、本発明は、マスクに形成されたパターンを感光基板上に投影する投影光学系と、感光基板を載置する基板ステージとを含む露光装置において、 [0011] Namely, the present invention provides an exposure apparatus comprising a projection optical system for projecting a pattern formed on a mask onto a photosensitive substrate, and a substrate stage for placing the photosensitive substrate,
基板ステージは、感光基板を保持する着脱自在な基板保持用アダプターと、基板保持用アダプターを固定する保持部とを備えていることを特徴とする。 The substrate stage is characterized in that it comprises an adapter board holding detachable for holding a photosensitive substrate, and a holding portion for fixing the adapter board holding. 基板ステージの保持部は、多数の微小突起と排気手段に連通する開口とを備え、多数の微小突起上に感光基板を載置した状態で開口から保持部と感光基板の間の空間を排気することにより感光基板を真空吸着して保持するタイプのもの、あるいは多孔質部材と、その多孔質部材と排気手段とを連通する流路とを有し、多孔質部材上に感光基板を載置した状態で多孔質部材内を排気することにより感光基板を真空吸着して保持するタイプのものとすることができる。 Holding of the substrate stage is provided with an opening communicating with the number of microprojections and exhaust means, for exhausting a space between the holding portion photosensitive substrate from the opening by a number of state of mounting the photosensitive substrate onto the microprojections of a type which holds the photosensitive substrate by vacuum suction by, or a porous member, and a flow passage for communicating the exhaust means and the porous member, placing the photosensitive substrate on the porous member a photosensitive substrate by evacuating the porous member may be of a type that holds the vacuum suction state.

【0012】感光基板には、例えば円形のウエハや矩形のガラスプレート等、種類によって外形が異なるものがあり、また寸法も種々のものがある。 [0012] a photosensitive substrate, for example a circular wafer or a rectangular glass plate or the like, there are outer shape different depending on the type and dimensions there are various ones. 露光装置の基板ステージは、これら形状の異なる感光基板を保持する必要があるため、基板保持用アダプターも感光基板の形状に応じたものを複数種類用意しておき、露光する感光基板の形状に合わせたものを使用するのがよい。 A substrate stage of the exposure apparatus, it is necessary to hold the different photosensitive substrate of these shapes, also adapter board holding keep those corresponding to the shape of the photosensitive substrate a plurality of types prepared, according to the shape of the photosensitive substrate to be exposed it is preferable to use the thing was. また、基板ステージの保持部を複数の領域に分割しておき、排気する領域を基板保持用アダプターの形状に応じて選択可能とするのが好ましい。 Alternatively, it is acceptable to divide the holding portion of the substrate stage in a plurality of regions, preferably be selected according to the area for exhausting the shape of the adapter board holding.

【0013】感光基板と基板保持用アダプターとは、上下動機構により基板ステージ上で別々に上下動させることができる。 [0013] The photosensitive substrate and the substrate holding adapter, can be moved up and down separately on the substrate stage by vertical movement mechanism. 感光基板は、この上下動機構を用いることにより、基板ステージ上の保持部に固定された基板保持用アダプター上にロードしたり、アンロードしたりすることができる。 Photosensitive substrate, by using the vertical movement mechanism, load on the substrate holding adapter, which is fixed to the holding portion on the substrate stage, or can be unloaded. 同様に、基板保持用アダプターは、この上下動機構により、基板ステージの保持部にロードしたり、アンロードしたりすることができる。 Similarly, the adapter board held by the vertical movement mechanism, to load into the holding portion of the substrate stage, or can be unloaded. また、本発明による基板保持装置は、基板を保持する着脱自在な基板保持用アダプターと、基板保持用アダプターを固定する保持部とを備えることを特徴とする。 The substrate holding device according to the invention is characterized in that it comprises a removable substrate holder adapter for holding a substrate, and a holding portion for fixing the adapter board holding. この基板保持装置は、前記露光装置に装着して用いられる。 The substrate holding device is used by mounting on the exposure apparatus.

【0014】本発明によると、基板保持用アダプターが感光基板と同じような形状をしているので、清掃時に基板保持用アダプターの真空吸着保持を解除し、感光基板を搬送する基板搬送系をそのまま利用して基板保持用アダプターを基板収納ボックスに回収できる。 [0014] According to the present invention, since the adapter board holding are similar shape as the photosensitive substrate, to release the vacuum suction holding of the adapter board held during cleaning, the substrate transport system for transporting a photosensitive substrate as it the adapter for the substrate holding can be recovered to the substrate storage box to use. そのまま基板洗浄装置にかけ、清掃後、元の位置に戻せば、基板搬送系が自動的に基板保持用アダプターを基板ステージ上に搬送してくれる。 Subjected to substrate cleaning apparatus as it is, after cleaning, it is returned to its original position, the substrate transport system us to automatically transported adapter substrate held on the substrate stage. あるいは、基板ステージから取り外した基板保持用アダプターを露光装置内に設けられた洗浄部に搬送し、洗浄した後、再び基板搬送系によって基板ステージ上に戻すこともできる。 Alternatively, conveying the adapter substrate holding detached from the substrate stage to the cleaning unit provided in the exposure apparatus, after washing, it may be returned on the substrate stage again by the substrate transfer system. 基板保持部アダプターを再度基板ステージ上に真空吸着保持すれば、その上に感光基板を堅固に保持することが可能になる。 If vacuum suction held on the back substrate stage substrate holder adapter, it is possible to firmly hold the photosensitive substrate thereon.

【0015】このようにして、基板ステージの周囲のユニットを取り外したり、人手を介したりすることなく、 [0015] In this manner, or remove the unit around the substrate stage, without or through human intervention,
基板ステージの基板保持面を清掃することができる。 It is possible to clean the substrate holding surface of the substrate stage. また、基板保持用アダプターを基板洗浄装置で清掃することができるので、異物の除去効果も大きく、デバイス製造の歩留まりも向上する。 Moreover, since the adapter board holding can be cleaned by the substrate cleaning apparatus, the effect of removing foreign matters is large, thereby improving the yield of device production.

【0016】 [0016]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, an embodiment of the present invention with reference to the drawings. 図1は、本発明による露光装置の一例を模式的に示した略図である。 Figure 1 is a schematic diagram of an example of an exposure apparatus according to the present invention is shown schematically. 露光装置は、露光光でマスク12を照射する照明系11、所定位置にマスク11を保持するマスクステージ13、感光基板15を保持する基板ステージ16、マスク12に形成されたパターンを感光基板15上に投影するための投影光学系14 Exposure apparatus, an exposure illumination system 11 for illuminating the mask 12 with light, a mask stage 13 for holding the mask 11 in position, the substrate stage 16 for holding a photosensitive substrate 15, the mask 12 to the formed pattern a photosensitive substrate 15 on the projection optical system 14 for projecting the
等を含む。 And the like. 感光基板15は、ベースステージ17と基板保持用アダプター18を備える基板ステージ16上に真空吸着保持されている。 Photosensitive substrate 15 is vacuum suction held on the substrate stage 16 with the base stage 17 and the substrate holding adapter 18. 基板ステージ16に設けられたベースステージ17と基板保持用アダプター18の詳細については後述する。 For more information on the base stage 17 provided on the substrate stage 16 and the substrate holding adapter 18 will be described later.

【0017】基板ステージ16はモータ等の駆動手段2 The driving means of the substrate stage 16 such as a motor 2
1によって投影光学系14の光軸と直交する方向に2次的に移動可能になっている。 It is movable secondarily in a direction perpendicular to the optical axis of the projection optical system 14 by one. また、基板ステージ16には移動鏡22が固定されていて、この移動鏡22との間の距離をレーザ干渉計23で計測することにより、基板ステージ16の2次元座標位置が検出される。 Furthermore, the substrate stage 16 is fixed is movable mirror 22, by measuring the distance between the moving mirror 22 in the laser interferometer 23, the two-dimensional coordinate position of the substrate stage 16 is detected. 基板ステージ16は剛性の高いボディ構造25のなかに設置され、ボディ構造25には露光前に感光基板15を位置決めするためのアライメントセンサー26や、感光基板1 The substrate stage 16 is placed within a high body structure 25 rigid, and the alignment sensor 26 for positioning the photosensitive substrate 15 before the exposure to the body structure 25, a photosensitive substrate 1
5の表面を投影光学系14の結像面に合わせるための焦点検出センサー27が基板ステージ上部に面して取り付けられている。 Focus detection sensor 27 to match the surface to the image plane of the projection optical system 14 5 is attached facing the upper substrate stage.

【0018】また、ボディ構造25の周囲には、複数種類のマスクを保管するマスク収納ボックス31、マスク収納ボックス31から次に使用するマスクを取り出してマスクステージ13上に搬送したり、マスクステージ1 [0018] Around the body structure 25, a plurality of kinds of storing mask mask storage box 31, or conveyed on the mask stage 13 is taken out of the mask to be used next from the mask storage box 31, the mask stage 1
3上のマスク12をマスク収納ボックス31に戻すためのマスク搬送系32、複数枚の感光基板を収納した基板収納ボックス34、基板収納ボックス34から未露光の感光基板を取り出して基板ステージ16上に載置し、また露光済みの感光基板を基板収納ボックス34の所定位置に戻すための基板搬送系35、超音波洗浄装置などを備えた洗浄部36等が配置されている。 3 mask transport system for the mask 12 back to the mask storage box 31 on 32, a substrate storage box 34 for housing a plurality of photosensitive substrate, on the substrate stage 16 is taken out of the photosensitive substrate unexposed from the substrate storage box 34 placed thereon, also the substrate transport system 35 for returning to the predetermined position of the exposed photosensitive substrate board storage box 34, such as the cleaning unit 36 ​​is provided with an ultrasonic cleaning device is disposed. 洗浄部36への基板等の搬送は基板搬送系35によって行われる。 Transport, such as a substrate to the cleaning unit 36 ​​is performed by the substrate transfer system 35. 装置全体はチャンバー10の中に設置されて、厳密な温度制御がなされている。 The entire apparatus is placed in the chamber 10, and strict temperature control is performed.

【0019】図2は、基板ステージの周辺の斜視図であり、図は感光基板15が基板ステージ16の上方で基板搬送系の搬送アーム45によって保持されている状態を示す。 [0019] Figure 2 is a perspective view of the periphery of the substrate stage, the figure shows a state in which the photosensitive substrate 15 is held by the transfer arm 45 of the substrate transport system above the substrate stage 16. 基板ステージ16はXY平面内を2次元方向に移動可能であり、上部にベースステージ17と基板保持用アダプター18を備える。 Substrate stage 16 is movable in the XY plane in two dimensions, comprising a base stage 17 and the substrate holding adapter 18 in the upper. 感光基板15は、基板保持用アダプター18の上に載置され、真空吸引保持される。 Photosensitive substrate 15 is placed on the substrate holding adapter 18 is vacuum suction held.
基板ステージ16はX駆動手段21XによってX方向に駆動されるとともに、Y駆動手段21YによってY方向に駆動される。 With the substrate stage 16 is driven in the X direction by the X drive means 21X, is driven in the Y direction by a Y drive unit 21Y. 駆動手段21X,21Yは、基板ステージ駆動制御装置41によって制御される。 Drive means 21X, 21Y are controlled by the substrate stage drive control unit 41.

【0020】基板ステージ16上には、X方向に垂直な反射面を有する移動鏡22Xと、Y方向に垂直な反射面を有する移動鏡22Yとがそれぞれ固設されている。 [0020] On the substrate stage 16, a moving mirror 22X having a reflecting surface perpendicular to the X direction, and a movable mirror 22Y having a reflecting surface perpendicular to the Y direction are fixed respectively. レーザ干渉計23Xは移動鏡22Xにレーザ光を投射し、 Laser interferometer 23X is projected laser light onto the movement mirror 22X,
その反射鏡を受光して基板ステージ16のX方向の位置を検出し、レーザ干渉計23Yは移動鏡22Yにレーザ光を投射し、その反射光を受光して基板ステージのY方向の位置を検出するように構成されている。 Detecting the position of the X direction of the substrate stage 16 by receiving its reflection mirror, a laser interferometer 23Y is a laser beam is projected onto the movement mirror 22Y, detects the Y position of the substrate stage receives the reflected light It is configured to. レーザ干渉計23X,23Yによって検出された基板ステージ16 Laser interferometer 23X, the substrate was detected by 23Y stage 16
の2次元位置検出信号は主制御系42に供給される。 2-dimensional position detection signal is supplied to the main control system 42. 主制御系42はステージ駆動制御装置41を介してX駆動装置21X及びY駆動装置21Yを駆動し、基板ステージ16の位置を制御する。 The main control system 42 drives the X drive 21X and Y drive 21Y via the stage drive control unit 41 controls the position of the substrate stage 16.

【0021】基板ステージ16には3本の基板上下ピン51a,51b,51cが設けられている。 [0021] The substrate stage 16 three at the upper and lower pins 51a, 51b, 51c are provided. 基板上下ピン51a,51b,51cは基板保持用アダプター18 Substrate vertical pins 51a, 51b, 51c the adapter board holding 18
に設けられた円形開口62a,62b,62cに遊嵌し、図示しない伸縮機構により基板保持用アダプター1 Circular opening 62a provided in the, 62b, loosely fitted to 62c, the substrate holding adapter 1 by the expansion and contraction mechanism (not shown)
8に接触することなく上下動することができる。 It can be moved up and down without touching the 8. 3本の基板上下ピン51a,51b,51cの先端にはそれぞれ真空吸着用の吸着孔が設けられ、それらの先端は感光基板15の受け渡し時には搬送アーム45との間で受け渡しのできる高さまで上昇し、感光基板15を基板保持用アダプター18の基板保持面に載置する際には、基板保持面より低い位置まで下降する。 Three at the upper and lower pins 51a, 51b, each of the tips of 51c is suction holes for vacuum suction provided, their tips during transfer of the photosensitive substrate 15 rises to a height that can pass between the transport arm 45 , when mounting the photosensitive substrate 15 to the substrate holding surface of the substrate holding adapter 18 is lowered to a position lower than the substrate holding surface. このとき基板上下ピン51a,51b,51cの先端を真空吸引することにより、基板上下ピンの上に保持した感光基板15がずれないようにされる。 In this case the substrate vertically pins 51a, 51b, by vacuum suction the front end of 51c, the photosensitive substrate 15 held on the substrate vertical pin is prevented deviation.

【0022】搬送アーム45から感光基板15を基板保持用アダプター18の基板保持面上に受け取るとき、主制御系42は図示しない伸縮機構を介して基板上下ピン51a,51b,51cを上方に移動させる。 [0022] When receiving from the transfer arm 45 of the photosensitive substrate 15 on the substrate holding surface of the substrate holding adapter 18, the main control system 42 moves the substrate up and down pin 51a via a telescopic mechanism (not shown), 51b, and 51c upwardly . そして、 And,
基板上下ピン51a,51b,51cが搬送アーム45 Substrate vertical pins 51a, 51b, 51c transfer arm 45
から感光基板15を受け取ると、搬送アーム45を基板ステージ16の上方から退避させる。 Upon receiving the photosensitive substrate 15 from retracting the transfer arm 45 from above the substrate stage 16. 基板上下ピン51 Substrate vertical pins 51
a,51b,51cは感光基板15を受け取ると下方へ下がり、感光基板15を基板保持用アダプター18の基板保持面上に載置する。 a, 51b, 51c drops downward when receiving the photosensitive substrate 15, placing the photosensitive substrate 15 on the substrate holding surface of the substrate holding adapter 18. 基板ステージ16が基板保持用アダプター18の基板保持面に感光基板15を受け取ると、真空吸着によって基板保持面に感光基板15を吸着して保持する。 When the substrate stage 16 receives the photosensitive substrate 15 to the substrate holding surface of the substrate holding adapter 18 and holds by adsorbing the photosensitive substrate 15 to the substrate holding surface by vacuum suction. 感光基板15が基板ステージ16上に載置されると、主制御系42は基板ステージ16を投影光学系14の下方に移動して、アライメント動作やフォーカス動作、及び露光動作を行う。 When the photosensitive substrate 15 is placed on the substrate stage 16, the main control system 42 moves the substrate stage 16 below the projection optical system 14 performs the alignment operation or focus operation, and the exposure operation.

【0023】図3は基板保持用アダプターの説明図であり、図3(a)は全体の斜視図、図3(b)は図3 FIG. 3 is an explanatory view of an adapter board holding, 3 (a) shows the entire perspective view, FIG. 3 (b) 3
(a)のA−A断面図、図3(c)は図3(a)のB− A-A sectional view of (a), FIG. 3 (c) Figure 3 (a) B-
B断面図である。 B is a cross-sectional view. 基板保持用アダプター18は感光基板15と同程度の厚みと形状を有する、例えばセラミック製の部材からなり、その表面の基板保持面に感光基板を真空吸着保持するものである。 Substrate holding adapter 18 has a comparable thickness and shape as the photosensitive substrate 15, for example, a ceramic member, is to hold vacuum suction of the photosensitive substrate on the substrate holding surface of the surface. 基板保持面には複数の真空吸着用の溝60が設けられ、さらに3本の基板上下ピン51a,51b,51cを遊嵌する3個の円形開口6 The substrate holding surface groove 60 for a plurality of vacuum suction are provided, three circular openings to loosely further three at the upper and lower pins 51a, 51b, a 51c 6
2a,62b,62cが設けられている。 2a, 62b, 62c are provided. 真空吸着用の溝60には各々1箇所又は数箇所の真空吸引孔61が裏面まで貫通して設けられている。 Vacuum ports 61 of each one point or several points in the groove 60 for vacuum suction is provided through to the back.

【0024】図4は、ベースステージの一例を示す斜視図である。 FIG. 4 is a perspective view showing an example of the base stage. ベースステージ17の上面、すなわち基板保持用アダプター18を載置して真空吸着により固定する保持部は、一面に多数の突起70が設けられ、この多数の突起70によって基板保持用アダプター18の下面を多点支持することで、基板保持用アダプター18を平面性を保った状態で保持する。 The upper surface of the base stage 17, i.e. the holding portion for fixing by vacuum suction by placing the substrate holding adapter 18 includes a plurality of projections 70 are provided on one surface, a lower surface of the substrate holding adapter 18 by the plurality of protrusions 70 by supporting multiple points, which holds the substrate holding adapter 18 while keeping the flatness. また、ベースステージ17 In addition, the base stage 17
には3本の基板上下ピンを通す3箇所の貫通孔72a, Through holes 72a of the three through three at the upper and lower pins in,
72b,72cと、基板保持用アダプター18の真空吸引孔61に接続される複数の小孔71が設けられている。 72b, and 72c, a plurality of small holes 71 connected to a vacuum suction hole 61 of the substrate holding adapter 18 is provided. 基板上下ピンを通す貫通孔72a,72b,72c Through hole 72a through which the substrate vertical pins, 72b, 72c
の各々は、ベースステージ17の中心に対して例えば3 Each may, for example 3 with respect to the center of the base stage 17
0°の角度を張るように円周方向に延びた細長い形状をしている。 As tension the angle of 0 ° is an elongated shape extending in the circumferential direction. 保持部の外周部分74、3箇所の貫通孔72 The outer peripheral portion 74,3 points of the holding portion through hole 72
a,72b,72cの周壁部分73a,73b,73 a, 72b, 72c of the peripheral wall portion 73a, 73b, 73
c、及び複数の小孔71の周囲部分75は、多数の突起70が設けられたベースステージ17の保持部に基板保持用アダプター18を真空吸引したとき、それらの箇所から空気漏れが生じないように気密な壁部で囲まれている。 c, and the peripheral portion of the plurality of small holes 71 75, when the vacuum suction of substrate holding adapter 18 in the holding portion of the base stage 17 a large number of projections 70 are provided, so that air leakage does not occur from those portions They are surrounded in an airtight wall to.

【0025】基板保持用アダプター18は、ベースステージ17上に位置決めされて載置される。 The substrate holding adapter 18 is mounted is positioned on the base stage 17. すなわち、図5に示すように、基板保持用アダプター18の3つの開口62a,62b,62cの位置をベースステージ17 That is, as shown in FIG. 5, three openings 62a of the substrate holding adapter 18, 62b, based on the position of 62c stage 17
の保持部に設けられた3箇所の貫通孔72a,72b, Through holes 72a, 72b of the three places provided on the holding portion,
72cの位置にそれぞれ一致させ、また、基板保持用アダプター18の基板保持面に設けられた真空吸着用の溝60に連通する複数の真空吸引孔61を各々ベースステージ17の保持面に設けられた複数の小孔71にそれぞれ位置合わせした状態で載置される。 Each match in 72c position, also provided on the holding surface of the plurality of vacuum suction holes 61 each base stage 17 which communicates with the groove 60 for vacuum suction provided on the substrate holding surface of the substrate holding adapter 18 It is placed in alignment to the plurality of small holes 71.

【0026】図6は、基板ステージ16に設けられたベースステージ17上面の保持部に基板保持用アダプター18を真空吸着保持し、さらに基板保持用アダプター1 [0026] Figure 6, the substrate holding adapter 18 held vacuum suction holding of the base stage 17 top provided on the substrate stage 16, more substrate holding adapter 1
8の基板保持面に感光基板15を真空吸着保持している状態を模式的に示した断面図である。 The photosensitive substrate 15 on the substrate holding surface 8 is a cross-sectional view of the state holding vacuum suction shown schematically. 3本(図には2本のみ図示)の基板上下ピン51a,51bは下方位置にある。 Substrate upper and lower pins 51a of the three (only two shown in FIG.), 51b is in the lower position. ベースステージ17上面の保持部には、一面に設けられた多数の突起70の上に基板保持用アダプター1 The holding portion of the base stage 17 top, the substrate holding adapter 1 on a large number of projections 70 provided on one surface
8が平面性を保って多点支持されている。 8 is supported multipoint keep the flatness. このとき、ベースステージ17の保持部と基板保持用アダプター18 At this time, the holding portion of the base stage 17 and the substrate holding adapter 18
の下面との間に形成される空間は閉じた空間となり、外部の真空排気ポンプに連通する排気通路76からこの空間を真空排気することで、基板保持用アダプター18はベースステージ17の保持部に真空吸着保持される。 Space formed becomes closed space between the lower surface of the space from the exhaust passage 76 communicating with the outside of the vacuum pump by vacuum evacuation, the substrate holding adapter 18 in the holding portion of the base stage 17 is vacuum suction held. また、外部の真空排気ポンプに連通する他の排気通路77 Another exhaust passage communicating with the outside of the vacuum pump 77
から、ベースプレート17の小孔71及び基板保持用アダプター18の真空吸引孔61を介して基板保持用アダプター18の基板保持面の溝60を真空排気することで、基板保持用アダプター18の基板保持面に感光基板15が真空吸着保持される。 From the small holes 71 and via the vacuum suction holes 61 of the substrate holding adapter 18 the groove 60 of the substrate holding surface of the substrate holding adapter 18 by evacuating, the substrate holding surface of the substrate holding adapter 18 of the base plate 17 photosensitive substrate 15 is held vacuum suction.

【0027】この例のように多数の突起70の上に基板保持用アダプター18を支持すると、仮に基板保持用アダプター18の下面や突起70の上に異物が付着していたとしても、異物が基板保持用アダプター18の下面と突起70の頂部の間に挟まって基板保持用アダプター1 [0027] supports the substrate holding adapter 18 on a large number of projections 70 as in this example, even if foreign matter on the bottom surface and the projections 70 of the substrate holding adapter 18 was attached, foreign matter substrate It caught lower surface of the holding adapter 18 and between the top portion of the projection 70 substrate holding adapter 1
8を変形させる可能性が小さくなる。 Possibility of deforming the 8 decreases. 3本の基板上下ピン51a,51b,51cは一体として、ベースプレート18の中心の回りに約30度回動可能になっている。 Three at the upper and lower pins 51a, 51b, 51c are integrally, are enabled about 30 degrees rotation about the center of the base plate 18.
そして、基板上下ピンの回転方向位置を選択することにより、基板上下ピン51a,51b,51cと基板搬送系の搬送アーム45との間に感光基板15の受け渡しを行ったり、基板保持用アダプター18の受け渡しを行ったりすることができる。 Then, by selecting the rotational position at the upper and lower pins, the upper and lower parts pins 51a, 51b, and go to transfer the photosensitive substrate 15 between 51c and the transfer arm 45 of the substrate transport system, the substrate holding adapter 18 it can be and go passing.

【0028】基板ステージ16を上方から見た図7及び図8を用いて、基板保持用アダプター18の着脱方法について説明する。 [0028] with reference to FIGS viewed substrate stage 16 from above, it will be described mounting and detaching of the substrate holding adapter 18. 図7は感光基板15の受け渡しを行うように基板上下ピンの位置が設定された基板ステージの上面図であり、図8は基板保持用アダプターの受け渡しを行うように基板上下ピンの位置が設定された基板ステージの上面図である。 Figure 7 is a top view of a substrate stage positioned at the upper and lower pins is configured to perform the transfer of the photosensitive substrate 15, FIG. 8 is located at the upper and lower pins is configured to perform transfer of the adapter board holding and a top view of the substrate stage. 感光基板15の受け渡しを行うときは、図7に示したように、3本の基板上下ピン51 When for transferring the photosensitive substrate 15, as shown in FIG. 7, three at the upper and lower pins 51
a,51b,51cの回転方向位置が円周方向に細長い貫通孔72a,72b,72cの例えば右端部分に設定されており、基板上下ピン51a,51b,51cの位置が基板保持用アダプター18の開口62a,62b, a, 51b, elongate holes 72a rotational position of 51c is circumferentially, 72b, is set to, for example, the right end portion of the 72c, the substrate vertical pins 51a, 51b, the position of 51c is a substrate holding adapter 18 opening 62a, 62b,
62cの位置と一致している。 It is consistent with the position of 62c. この状態では、基板上下ピン51a,51b,51cは基板ステージ16のベースステージ17及び基板保持用アダプター18を貫通して上下動することができ、図2に示したように、基板搬送系の搬送アーム45との間で感光基板15の受け渡しを行うことができる。 In this state, the substrate vertical pins 51a, 51b, 51c can be moved up and down through the base stage 17 and the substrate holding adapter 18 of the substrate stage 16, as shown in FIG. 2, the conveyance of the substrate transport system between the arm 45 can deliver the photosensitive substrate 15.

【0029】一方、図8では、図7の状態から基板上下ピン51a,51b,51cが反時計回りに回転して、 On the other hand, in FIG. 8, substrate vertical pin 51a from the state of FIG. 7, 51b, 51c is rotated counterclockwise,
基板上下ピンの位置が円周方向に細長い貫通孔72a, Elongated holes 72a located at the upper and lower pins in the circumferential direction,
72b,72cの例えば左端部分に設定されている。 72b, is set to, for example, the left end portion of the 72c. この状態では、基板上下ピン51a,51b,51cの位置は基板保持用アダプター18に設けられた開口62 In this state, opening the upper and lower parts pins 51a, 51b, the position of 51c is provided in the substrate holding adapter 18 62
a,62b,62cの位置と一致せず、基板上下ピンを上昇させたとき先端が基板保持用アダプターの下面と衝突する。 a, 62b, does not coincide with the position of 62c, the tip collides with the lower surface of the adapter holding substrate when raising the substrate vertical pin. したがって、ベースプレート17と基板保持用アダプター18との間の真空吸着を解除したうえで基板上下ピン51a,51b,51cを上昇させると、図9 Accordingly, the substrate vertical pin 51a upon releasing the vacuum suction between the base plate 17 and the substrate holding adapter 18, 51b, is raised to 51c, Fig. 9
に示すように、基板上下ピン51a,51b,51c As shown, the substrate vertically pins 51a, 51b, 51c
(図9には51a及び51bのみを図示)によって基板保持用アダプター18を持ち上げ、基板搬送系の搬送アーム45に受け渡すことができる。 Lift the substrate holding adapter 18 by (only shown 51a and 51b in FIG. 9), it can be passed to the transport arm 45 of the substrate transport system.

【0030】図10は、基板保持用アダプター18が基板ステージ16の上方で基板搬送系の搬送アーム45によって保持されている状態を示す斜視図である。 FIG. 10 is a perspective view showing a state where the substrate holding adapter 18 is held by the transfer arm 45 of the substrate transport system above the substrate stage 16. 基板保持用アダプター18は感光基板と同様の厚さ及び形状を有するため、露光装置内で感光基板と同様に取り扱うことができ、図10に示すように、基板搬送系のアーム4 Since the substrate holding adapter 18 having the same thickness and shape as the photosensitive substrate, can be handled in the same manner as the photosensitive substrate in the exposure apparatus, as shown in FIG. 10, the arms 4 of the substrate transport system
5によって搬送することが可能である。 It can be carried by 5. 基板ステージ1 The substrate stage 1
6のベースステージ17上面の保持部から除去された基板保持用アダプター18は、基板搬送系35のアーム4 Base stage 17 top substrate holding adapter 18 removed from the holding portion of the 6, the arm 4 of the substrate transport system 35
5に載置されて露光装置内の洗浄部36(図1参照)に搬送され、そこで例えば超音波洗浄などによって付着した異物の洗浄除去が行われる。 5 is placed is transported to the cleaning section 36 in the exposure device (see FIG. 1), where for example, cleaning and removing foreign matter adhering by ultrasonic cleaning is performed. 異物除去が終了した基板保持用アダプター18は、再び基板搬送系35の搬送アーム45によって基板ステージ上に搬送され、図2に示した感光基板の受け渡しと同様の手順によって基板ステージ16のベースステージ17上に載置され、前述のように保持部に真空吸着保持される。 Substrate holding adapter 18 in which the foreign substance removal is completed, it is conveyed onto the substrate stage by the transfer arm 45 of the substrate transport system 35 again, the base stage of the substrate stage 16 by a procedure similar to that of the transfer of the photosensitive substrate shown in FIG. 2 17 It is placed above the vacuum suction held by the holder as described above. このように、感光基板と同様の形状の基板保持アダプター18を用いることにより、人手を介することなく基板保持面を清掃することができる。 Thus, by using the substrate holding adapter 18 having the same shape as the photosensitive substrate, it is possible to clean the substrate holding surface without human intervention.

【0031】また、基板ステージ16から取り外した基板保持用アダプター18は、露光装置内の洗浄部36に搬送せず、図1に示した基板収納ボックス34内に回収することも可能である。 Further, the substrate holding adapter 18 removed from the substrate stage 16 is not transferred to the cleaning unit 36 ​​of the exposure apparatus, it is also possible to recover in the substrate storage box 34 shown in FIG. その後、露光装置から基板収納ボックス34を取り出し、その中に納められた基板保持用アダプターを装置外部に設置された基板洗浄機にかける。 Thereafter, the substrate storage box 34 from the exposure device was taken out and subjected to substrate cleaning machine installed adapter substrate holding that housed therein outside the apparatus. 基板洗浄機で洗浄して異物が除去された基板保持用アダプター18を再び基板収納ボックス34に収納し、 Washed with substrates washer substrate holding adapter 18 which foreign matter has been removed again stored in the substrate storage box 34,
その基板収納ボックス34を露光装置の元の位置に設置すれば、その後は感光基板を基板ステージに搬送するのと同様の手順で、基板搬送系35により基板保持用アダプター18を基板ステージ16のベースステージ17上面の保持部に搬送することができる。 By installing the substrate storage box 34 to the original position of the exposure apparatus, then the same procedure as for transporting a photosensitive substrate on the substrate stage, the base substrate holding adapter 18 of the substrate stage 16 by the substrate transport system 35 it can be conveyed to the holding portion of the stage 17 top surface.

【0032】図11は、ベースステージの他の例を説明する斜視図である。 [0032] FIG. 11 is a perspective view illustrating another example of the base stage. この例においては、基板保持用アダプターを載置して真空吸着により固定するベースステージ17Aの保持部は、一定の厚さの多孔質セラミックス80で構成されている。 In this example, the holding portion of the base stage 17A which is fixed by vacuum suction by placing the adapter substrate holding is composed of porous ceramics 80 having a constant thickness. ベースステージ17Aには3本の基板上下ピン51a,51b,51cを通す3箇所の貫通孔82a,82b,82cと、基板保持用アダプター18の真空吸引孔61に接続される複数の小孔81が設けられている。 Three at the upper and lower pins 51a on the base stage 17A, 51b, the through hole 82a of three passing 51c, 82b, and 82c, a plurality of small holes 81 connected to a vacuum suction hole 61 of the substrate holding adapter 18 It is provided. 基板上下ピンを通す貫通孔82a,8 Through hole 82a through which the substrate vertical pins, 8
2b,82cは、ベースステージ17Aの中心に対して例えば30°の角度をなすように各々円周方向に延びた細長い形状をしている。 2b, 82c has an elongated shape extending in each circumferentially at an angle with respect to for example 30 ° around the base stage 17A. ベースステージ17Aの保持部の外周部分84、3箇所の貫通孔82a,82b,82 Through hole 82a of the outer peripheral portion 84,3 points of the holding portion of the base stage 17A, 82b, 82
cの周壁83a,83b,83c、及び複数の小孔81 c of the peripheral wall 83a, 83 b, 83c and a plurality of small holes 81,
の周囲部分85は、保持部に基板保持用アダプター18 The peripheral portion 85, a substrate holder holding adapter 18
を真空吸引したときそれらの箇所から空気漏れが生じないように、例えば多孔質セラミックスに樹脂を充填して空気の透過を防止する処理を施したり、あるいは空気を透過しないように多孔質ではない材料によって構成されている。 The so as not air leakage occurs from their locations when vacuum suction, for example by filling a resin into the porous ceramic or subjected to a treatment for preventing the transmission of air, or not porous so as not to transmit the air material It is constituted by.

【0033】基板保持用アダプター18は、3つの開口62a,62b,62cの位置をベースステージ17A The substrate holding adapter 18, three openings 62a, 62b, the position of the base stage 17A of 62c
の保持部に設けられた3箇所の貫通孔82a,82b, Through holes 82a, 82b of the three places provided on the holding portion,
82cの位置にそれぞれ一致させ、また、基板保持用アダプター18の基板保持面に設けられた真空吸着用の溝60に連通する複数の真空吸引孔61を保持部に設けられた複数の小孔81にそれぞれ位置合わせした状態でベースステージ17Aの保持部に載置される。 Each match in 82c position, also a plurality of small holes 81 a plurality of vacuum suction holes 61 provided in the holding portion communicating with the groove 60 for vacuum suction provided on the substrate holding surface of the substrate holding adapter 18 It is placed on the holding portion of the base stage 17A in alignment respectively.

【0034】図12は、図11に示したベースステージ17Aの保持部に基板保持用アダプター18を真空吸着保持し、さらにその上に感光基板15を真空吸着保持している状態を模式的に示した断面図である。 [0034] FIG. 12 is a substrate holding adapter 18 held vacuum suction holding of the base stage 17A shown in FIG. 11, further state that holds vacuum suction of the photosensitive substrate 15 thereon shown schematically and is a cross-sectional view. 基板上下ピン51a,51bは下方位置にある。 Substrate vertical pins 51a, 51b is in the lower position. ベースステージ1 Base stage 1
7A上面の多孔質セラミックス80かならる保持部には、基板保持用アダプター18が平面性を保って支持されている。 The 80 or Nararu holder porous ceramics 7A top, the substrate holding adapter 18 is supported while maintaining the flatness. このとき、上部の開放面を基板保持用アダプター18によって塞がれたベースステージ17Aの多孔質セラミックス80を外部の真空排気ポンプに連通する排気通路86から真空排気することで、基板保持用アダプター18はベースステージ17Aの保持面に真空吸着保持される。 In this case, by evacuating from the exhaust passage 86 that communicates the porous ceramics 80 of the base stage 17A which block the upper portion of the open surface by the substrate holding adapter 18 to the outside of the vacuum pump, the substrate holding adapter 18 is vacuum-sucked and held on the holding surface of the base stage 17A. また、外部の真空排気ポンプに連通する他の排気通路87から、ベースプレート17Aの小孔81 Also, from other exhaust passage 87 communicating with the outside of the vacuum pump, the small holes 81 of the base plate 17A
及び基板保持用アダプター18の真空吸引孔61を介して基板保持用アダプター18の基板保持面の溝60を真空排気することで、基板保持用アダプター18の基板保持面に感光基板15が真空吸着保持される。 And a groove 60 of the substrate holding surface of the substrate holding adapter 18 via the vacuum suction holes 61 of the substrate holding adapter 18 by evacuating the photosensitive substrate 15 is vacuum suction held on the substrate holding surface of the substrate holding adapter 18 It is.

【0035】この場合にも、基板保持用アダプター18 [0035] Also in this case, the substrate holding adapter 18
の下面やベースステージ17Aの保持面に付着した異物が保持面と基板保持用アダプター18の下面との間に挟まって、基板保持用アダプター18を変形させる可能性が小さくなる。 Foreign matter adhered on the holding surface of the lower surface and the base stage 17A is sandwiched between the lower surface of the holding surface and the substrate holding adapter 18, likely to deform the substrate holding adapter 18 is reduced. 基板保持用アダプター18を清掃する時の一連の動作は先の例と同じである。 A series of operation for cleaning the substrate holding adapter 18 is the same as the previous example. ところで露光装置で扱う感光基板には、円形をしたウエハーや矩形のガラスプレート等、種類によって外形が異なるものがある。 However the photosensitive substrate handled in the exposure apparatus, there is a wafer or a rectangular glass plate or the like in which the circular, outer shape according to the type different.
その寸法も3インチ、6インチ、8インチ、12インチなどと種々のものがある。 Its dimensions 3 inches 6 inches 8 inches, there is such a various 12 inches. 露光装置の基板ステージ16 The substrate stage 16 of the exposure apparatus
は、これら形状の異なる感光基板を保持する必要があるため、基板保持用アダプター18も感光基板の形状に応じたものを複数種類用意しておき、露光する感光基板の形状に合わせたものを使用するのがよい。 , These because the need to maintain different photosensitive substrate shape, substrate holding adapter 18 also leave a plurality of types prepared those corresponding to the shape of the photosensitive substrate, using the one that matches the shape of the photosensitive substrate to be exposed it is preferable to.

【0036】図13は、複数の基板保持用アダプターを交換して使用する場合に好適なベースステージを説明する上面図である。 [0036] FIG. 13 is a top view illustrating the preferred base stage when used to replace the adapter for a plurality of substrates held. 図は、基板保持用アダプターとして直径の異なる2種類の円形のものを使用する場合のベースステージを示す。 The figure shows a base stage of using two circular ones having different diameters as an adapter board holding. ベースステージ90保持部は気密な境界壁96によって複数の領域、図の場合は内側領域97 A plurality of regions based stage 90 holding portion by airtight boundary wall 96, the inner region 97 in the case of FIG.
と外側領域98の2つの領域に分割され、この2つの領域97,98は各々独立して真空排気手段に接続されるようになっている。 And is divided into two regions of the outer region 98, the two regions 97 and 98 is adapted to be connected to a vacuum exhaust means each independently. 基板上下ピンを貫通させる貫通孔9 Through-holes pass through the substrate up and down pin 9
2a,92b,92cは保持部の内側領域97に設けられている。 2a, 92b, 92c are provided in the inner area 97 of the holding portion. 小径の基板保持用アダプター18aを用いる場合は、保持部の内側領域97のみを使用する。 In the case of using the small diameter of the substrate holding adapter 18a, using only the inner region 97 of the holding portion. すなわち、基板保持用アダプター18aをその周辺部が境界壁96の上に乗るようにしてベースステージ90の保持部に載置し、保持部の内側領域97のみを排気して基板保持用アダプター18aを真空吸着保持する。 That is, the base stage is placed on the holding portion 90, is evacuated only inside region 97 of the holding portion substrate holding adapter 18a as ride over the periphery boundary wall 96 of the substrate holding adapter 18a held vacuum suction.

【0037】一方、大径の基板保持用アダプター18b [0037] On the other hand, a large-diameter substrate holding adapter 18b
を使用するときは、保持部の内側領域97及び外側領域18bの2つの領域を同時に排気してベースステージ9 When using the two regions of the inner region 97 and an outer area 18b of the holding portion simultaneously evacuated to base stage 9
0の保持部の全面に基板保持用アダプター18bを真空吸着保持する。 Retaining vacuum suction of the substrate holding adapter 18b on the entire surface of the holding portion of the 0. このようにベースステージ上面の保持部を複数の領域に分割しておき、排気する領域を基板保持用アダプターの形状に応じて選択可能とすることで、大きさの異なる基板保持用アダプターを交換して使用することができる。 Thus advance by dividing the holding portion of the base stage top surface into a plurality of regions, a region for exhausting With selected depending on the shape of the adapter board holding, replace the different adapters substrate holding sizes it is possible to use Te.

【0038】ここでは、感光基板が円形であり、従って基板保持用アダプターもベースステージも円形である場合について説明した。 [0038] Here, the photosensitive substrate is circular, thus been described also adapters substrate holding base stage is also circular. しかし、本発明は円形の感光基板に対してだけでなく、矩形等他の形状の感光基板に対しても適用することができる。 However, the present invention can be applied to the photosensitive substrate in circular well to the photosensitive substrate, such as rectangular other shapes. その場合、基板保持用アダプターやベースステージの形状は感光基板の形状と相似形にするのが好都合である。 In that case, the shape of the adapter and the base stage substrate holding is advantageous to the shape similar to the shape of the photosensitive substrate.

【0039】 [0039]

【発明の効果】本発明によれば、基板ステージ周囲のユニットを取り外したり、人手を介したりすることなく基板ステージの基板保持面を清掃することができる。 According to the present invention, or remove the unit around the substrate stage, it is possible to clean the substrate holding surface of the substrate stage without or through human intervention. また、基板保持用アダプターを基板洗浄装置で清掃することができるので、異物の除去効果も大きく、半導体製造の歩留まりを向上させることができる。 Moreover, since the adapter board holding can be cleaned by the substrate cleaning apparatus, the effect of removing foreign matters is large, it is possible to improve the yield of semiconductor manufacturing.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明による露光装置の一例を模式的に示した略図。 Figure 1 is a schematic representation of an arrangement of the apparatus according to the present invention is shown schematically.

【図2】感光基板が基板ステージの上方で搬送アームによって保持されている状態を示す基板ステージの周辺の斜視図。 2 is a perspective view of the periphery of the substrate stage showing a state held by the photosensitive substrate transport arm above the substrate stage.

【図3】基板保持用アダプターの説明図であり、(a) [Figure 3] is an explanatory view of the adapter board holding, (a)
は全体の斜視図、(b)はA−A断面図、(c)はB− Is a perspective view of the entire, (b) is a sectional view taken along A-A, (c) the B-
B断面図。 B sectional view.

【図4】ベースステージの一例を示す斜視図。 Figure 4 is a perspective view showing an example of the base stage.

【図5】ベースステージと基板保持用アダプターの位置合わせを説明する図。 [5] the base stage and diagrams illustrating the positioning of the adapter board holding.

【図6】ベースステージの保持部に基板保持用アダプターを真空吸着保持し、その上に感光基板を真空吸着保持している状態を模式的に示した断面図。 [6] retaining vacuum suction adapter board held by the holding portion of the base stage, sectional view a state holding vacuum suction schematically showing a photosensitive substrate thereon.

【図7】感光基板の受け渡しを行うように基板法下ピンの位置が設定された基板ステージの上面図。 Figure 7 is a top view of the substrate stage the position of the substrate normal under pin is configured to perform the transfer of the photosensitive substrate.

【図8】基板保持用アダプターの受け渡しを行うように基板法下ピンの位置が設定された基板ステージの上面図。 Figure 8 is a top view of the substrate stage the position of the substrate normal under pin is configured to perform transfer of the adapter board holding.

【図9】基板上下ピンによって基板保持用アダプターを持ち上げた状態を示す略断面図。 [9] a schematic cross-sectional view showing a state in which lift the adapter substrate held by a substrate vertical pin.

【図10】基板保持用アダプターが基板ステージの上方で搬送アームによって保持されている状態を示す斜視図。 Figure 10 is a perspective view of an adapter board held showing a state held by the transfer arm above the substrate stage.

【図11】ベースステージの他の例を説明する斜視図。 Figure 11 is a perspective view illustrating another example of the base stage.

【図12】ベースステージの保持部に基板保持用アダプターを真空吸着保持し、その上に感光基板を真空吸着保持している状態を模式的に示した断面図。 [12] held vacuum suction adapter board held by the holding portion of the base stage, sectional view a state holding vacuum suction schematically showing a photosensitive substrate thereon.

【図13】複数の基板保持用アダプターを交換して使用する場合に好適なベースステージを説明する上面図。 Figure 13 is a top view illustrating a preferred base stage when used to replace the adapter for a plurality of substrates held.

【図14】(a)は従来の基板ステージの概略平面図、 [14] (a) is a schematic plan view of a conventional substrate stage,
(b)はその断面図。 (B) is a cross sectional view thereof.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

11…照明系、12…マスク、13…マスクステージ、 11 ... the illumination system, 12 ... mask, 13 ... mask stage,
14…投影光学系、15…感光基板、16…基板ステージ、17…ベースステージ、18…基板保持用アダプター、21…駆動手段、22…移動鏡、23…レーザ干渉計、25…ボディ構造、26…アライメントセンサー、 14 ... projection optical system, 15 ... photosensitive substrate, 16 ... substrate stage, 17 ... base stage, 18 ... substrate holding adapter, 21 ... drive unit, 22 ... moving mirror, 23 ... laser interferometer, 25 ... body structure, 26 ... alignment sensor,
27…焦点検出センサー、31…マスク収納ボックス、 27 ... focus detection sensor, 31 ... mask storage box,
32…マスク搬送系、34…基板収納ボックス、35… 32 ... mask conveying system, 34 ... substrate storage box, 35 ...
基板搬送系、36…基板洗浄部、41…ステージ駆動制御装置、42…主制御系、45…搬送アーム、51a, Substrate transfer system, 36 ... substrate cleaning unit, 41 ... stage drive control device 42 ... main control system, 45 ... transfer arms, 51a,
51b,51c…基板上下ピン、60…溝、61…真空吸引孔、62a,62b,62c…円形開口、70…突起、71…小孔、72a,72b,72c…貫通孔、7 51b, 51c ... substrate vertical pin 60 ... groove, 61 ... vacuum ports, 62a, 62b, 62c ... circular opening, 70 ... projection, 71 ... small hole, 72a, 72b, 72c ... through-hole, 7
6,77…排気通路、80…多孔質セラミックス、81 6,77 ... exhaust passage, 80 ... porous ceramics, 81
…小孔、82a,82b,82c…貫通孔、86,87 ... small hole, 82a, 82b, 82c ... through-hole, 86, 87
…排気通路、90…ベースステージ、92a,92b, ... exhaust passage, 90 ... base stage, 92a, 92b,
92c…貫通孔、96…境界壁、97…内側領域、98 92c ... through hole, 96 ... boundary wall, 97 ... inner region, 98
…外側領域、101…リニアガイド、102…スライダー、103a,103b…フォーク部、105…載置面、106…溝、107…センターアップ部、ST…基板ステージ、W…感光基板、WH…基板ホルダー ... outer region, 101 ... linear guide 102 ... sliders, 103a, 103b ... fork, 105 ... mounting surface, 106 ... groove, 107 ... center-up unit, ST ... substrate stage, W ... photosensitive substrate, WH ... substrate holder

Claims (7)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 マスクに形成されたパターンを感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を載置する基板ステージとを含む露光装置において、 前記基板ステージは、前記感光基板を保持する着脱自在な基板保持用アダプターと、前記基板保持用アダプターを固定する保持部とを備えたことを特徴とする露光装置。 And 1. A projection optical system for projecting a pattern formed on a mask onto a photosensitive substrate, the exposure apparatus including a substrate stage for placing said photosensitive substrate, wherein the substrate stage holds the photosensitive substrate and the adapter board holding detachable, exposure apparatus characterized by comprising a holding portion for fixing the adapter for the substrate holding.
  2. 【請求項2】 前記保持部は、多数の微小突起と排気手段に連通する開口とを備え、前記多数の微小突起上に前記感光基板を載置した状態で前記開口から前記保持部と前記感光基板の間の空間を排気することにより前記感光基板を真空吸着して保持することを特徴とする請求項1 Wherein said holding portion is provided with an opening communicating with the large number of minute projections and exhaust means, the photosensitive through the opening in a state of mounting the photosensitive substrate on the plurality of minute projections and the holding portion claim, characterized in that holding by vacuum suction the photosensitive substrate by evacuating the space between the substrate 1
    記載の露光装置。 The exposure apparatus according.
  3. 【請求項3】 前記保持部は、多孔質部材と、該多孔質部材と排気手段とを連通する流路とを有し、前記多孔質部材上に前記感光基板を載置した状態で前記多孔質部材内を排気することにより前記感光基板を真空吸着して保持することを特徴とする請求項1記載の露光装置。 Wherein the holding portion includes a porous member, the porous and member and exhaust means and a flow path communicating with said porous the porous on the member in a state of mounting the photosensitive substrate the exposure apparatus according to claim 1, wherein the holding by vacuum suction the photosensitive substrate by evacuating the quality members.
  4. 【請求項4】 前記基板保持用アダプターは、前記感光基板の形状に応じたものが複数種類用意されていることを特徴とする請求項1、2又は3記載の露光装置。 Wherein adapter the substrate holding, the exposure apparatus according to claim 1, 2 or 3, wherein one corresponding to the shape of the photosensitive substrate is characterized in that it is a plurality of types prepared.
  5. 【請求項5】 前記保持部は複数の領域に分割されており、排気する領域を前記基板保持用アダプターの形状に応じて選択可能であることを特徴とする請求項2、3又は4記載の露光装置。 Wherein said holding portion is divided into a plurality of areas, according to claim 2, 3 or 4, wherein the depending area for exhausting the shape of the adapter board holding is selectable exposure apparatus.
  6. 【請求項6】 前記感光基板と前記基板保持用アダプターとを別々に上下動する上下動機構を備えることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項記載の露光装置。 Wherein said photosensitive substrate with the exposure apparatus of any one of claims 1-5, characterized in that it comprises a vertical movement mechanism for vertically moving separately and the adapter board holding.
  7. 【請求項7】 基板を保持する着脱自在な基板保持用アダプターと、前記基板保持用アダプターを固定する保持部とを備えることを特徴とする基板保持装置。 7. A adapter board holding detachable for holding a substrate, a substrate holding device characterized by comprising a holding portion for fixing the adapter for the substrate holding.
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