JP2007103609A - Projection aligner - Google Patents
Projection aligner Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007103609A JP2007103609A JP2005290473A JP2005290473A JP2007103609A JP 2007103609 A JP2007103609 A JP 2007103609A JP 2005290473 A JP2005290473 A JP 2005290473A JP 2005290473 A JP2005290473 A JP 2005290473A JP 2007103609 A JP2007103609 A JP 2007103609A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposed
- suction
- hole
- exposure
- adapter sheet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 101001031591 Mus musculus Heart- and neural crest derivatives-expressed protein 2 Proteins 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 2
- 238000013316 zoning Methods 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000007666 vacuum forming Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
本発明は、大きさの異なる被露光物を露光テーブルに保持して、保持した被露光物に所望のパターンを投影露光する投影露光装置に関する。 The present invention relates to a projection exposure apparatus that holds exposure objects having different sizes on an exposure table and projects and exposes a desired pattern on the held exposure objects.
被露光物、特に、板状またはシート状の被露光物を露光テーブルに保持し、保持した被露光物に、露光部によって所望の回路パターンを投影露光する投影露光装置が普及している。この被露光物を露光テーブルに保持する方法として、真空吸引によって吸着保持させる方法が広く用いられている。
真空吸引による吸着保持方法では、真空ポンプや吸引ブロアを備えた真空生成手段と接続された吸引穴が、露光テーブルの搭載面に多数設けられていて、この吸引穴からの吸引力によって、露光テーブルの上に載せられた被露光物を吸着保持する。
2. Description of the Related Art Projection exposure apparatuses that hold an object to be exposed, in particular, a plate-shaped or sheet-shaped object to be exposed on an exposure table, and project and expose a desired circuit pattern to the held object to be exposed by an exposure unit have become widespread. As a method of holding the object to be exposed on the exposure table, a method of attracting and holding the object by vacuum suction is widely used.
In the suction holding method by vacuum suction, a number of suction holes connected to a vacuum generating means equipped with a vacuum pump or suction blower are provided on the mounting surface of the exposure table, and the exposure table uses the suction force from the suction holes. The object to be exposed placed on the substrate is sucked and held.
この場合、大きさの異なる被露光物を吸着するときには、被露光物に対応する領域だけに吸引力が生じるように、被露光物の大きさに合わせて吸引を行なう領域を変更して、真空ポンプや吸引ブロアによる過剰な吸引が起こらないようにする必要がある。
このような吸引領域を変更するために、通常、露光テーブルに設けられた吸引穴は複数のゾーンに区分けされており、オペレータが切替バルブを操作することにより、吸引するゾーンの変更を行なっている。また、オペレータの手動操作に代わって、保持装置により自動的に吸引するゾーンを変更することも提案されている。(例えば、特許文献1、2参照。)
In this case, when adsorbing objects to be exposed having different sizes, the suction area is changed in accordance with the size of the object to be exposed so that a suction force is generated only in the area corresponding to the object to be exposed. It is necessary to prevent excessive suction by a pump or a suction blower.
In order to change such a suction region, the suction hole provided in the exposure table is usually divided into a plurality of zones, and the operator changes the suction zone by operating the switching valve. . In addition, it has been proposed to change the zone to be automatically sucked by the holding device instead of the manual operation of the operator. (For example, see
しかし、特許文献1においても、特許文献2においても、吸引するゾーンを変更するためには、各ゾーンごとに吸引する系統を分離する構造が必要となり、更に、各ゾーンごとに制御バルブや複雑な配管を設置する必要がある。従って、被露光物の大きさを変更するたびに、様々な調整が必要となるので稼動効率は低下し、装置の構造が複雑になるので装置の製造コストが上昇し、メンテナンス性も悪化する問題が生じる。
However, in both Patent Document 1 and
従って、本発明の目的は上述の問題を解決して、簡単な構造を用いて、様々な大きさの被露光物を効率よく吸着保持することのできるメンテナンス性に優れた被露光物の保持機構を備えた投影露光装置を提供することにある。 Accordingly, the object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to use a simple structure to efficiently hold and hold an object to be exposed of various sizes. Is to provide a projection exposure apparatus comprising:
上術の問題を解決するため、本発明の投影露光装置の1つの実施態様は、真空生成手段に接続された真空吸引可能な吸引穴が、搭載面に複数設けられた露光テーブルと、前記登載面の上に設置され、前記吸引穴と連通して真空吸引可能な貫通穴が複数設けられたアダプタシートと、前記貫通穴による真空吸引によって、前記アダプタシート及び前記露光テーブルに保持された被露光物に、投影露光を行なう投影露光部と、を備え、前記貫通穴が、前記被露光物の接触面に対応する領域に設けられ、前記吸引穴が、前記貫通穴が設けられた領域を包含する領域に設けられることを特徴とする。 In order to solve the above-mentioned problem, one embodiment of the projection exposure apparatus according to the present invention includes an exposure table provided with a plurality of suction holes capable of vacuum suction connected to a vacuum generating means, and the mounting table. An adapter sheet provided on the surface and provided with a plurality of through-holes communicating with the suction holes and capable of being vacuum-sucked; and the object to be exposed held by the adapter sheet and the exposure table by vacuum suction by the through-holes A projection exposure unit that performs projection exposure on the object, wherein the through hole is provided in a region corresponding to a contact surface of the object to be exposed, and the suction hole includes a region in which the through hole is provided. It is provided in the area to be used.
ここで、「露光テーブル」は、被露光物を載せて保持することができる架台であって、投影露光を行なうための投影露光部に対向した位置に設置される。この露光テーブルは、水平に設置される場合だけでなく、垂直、斜めを含むあらゆる方向に設置することができる。
露光テーブルの搭載面の上に設置される「アダプタシート」は、樹脂、金属を始めとするあらゆる材料を用いることができ、被露光物を吸着した状態において、投影露光に適した所定の平面度を有するものであれば、あらゆる厚みのシートを用いることができる。また、被露光物と接触する面の摩擦係数を小さくすることによって、被露光物に塗布されたレジスト等の付着を防止することも考えられる。
Here, the “exposure table” is a gantry on which an object to be exposed can be placed and held, and is placed at a position facing a projection exposure unit for performing projection exposure. This exposure table can be installed not only horizontally but also in all directions including vertical and diagonal.
The “adapter sheet” installed on the mounting surface of the exposure table can be made of any material including resin and metal, and has a predetermined flatness suitable for projection exposure in a state where an object to be exposed is adsorbed. Any sheet having any thickness can be used. It is also conceivable to prevent adhesion of a resist or the like applied to the object to be exposed by reducing the friction coefficient of the surface in contact with the object to be exposed.
投影露光により所望の回路パターンが投影露光される「被露光物」は、感光性を有する母材であって、通常、板状またはシート状の形状を有しており、ロール状に巻かれた連続シートを用いることもできる。また、被露光物の厚みについては、ミクロンオーダーのものから、ミリオーダーのものまであらゆる厚みのものを用いることができる。
また、「真空形成手段」は、真空ポンプや吸引ブロアを備え、吸引穴及び貫通穴を通して被露光物を吸引する吸引力を生成し、被露光物をアダプタシート及び露光テーブルに吸着する。
The “object to be exposed” on which a desired circuit pattern is projected and exposed by projection exposure is a photosensitive base material and usually has a plate-like or sheet-like shape and is wound in a roll shape. A continuous sheet can also be used. Further, the thickness of the object to be exposed can be any thickness from micron order to millimeter order.
The “vacuum forming means” includes a vacuum pump and a suction blower, generates a suction force for sucking the object to be exposed through the suction hole and the through hole, and sucks the object to be exposed to the adapter sheet and the exposure table.
「貫通穴が、被露光物の接触面に対応する領域に設けられる」とは、原則として、過剰な吸引が起こらないように、貫通穴が被露光物に覆われる領域に設けられ、また、被露光物のそりが生じないように、貫通穴が被露光物の外周部の近傍に設けられていることを意味する。ただし、若干の貫通穴が被露光物に覆われる領域の外に設けられる場合もあり、その場合には、大気開放状態となった貫通穴が、過剰な吸引の問題を引き起こすほどの数は存在しないことを意味する。 "The through hole is provided in the area corresponding to the contact surface of the object to be exposed" means that, as a rule, the through hole is provided in an area covered with the object to be exposed so that excessive suction does not occur, It means that the through hole is provided in the vicinity of the outer peripheral portion of the object to be exposed so as not to warp the object to be exposed. However, there are cases where some through holes are provided outside the area covered by the object to be exposed. In such a case, the number of through holes that have been released into the atmosphere is high enough to cause excessive suction problems. It means not.
また、「吸引穴が、貫通穴が設けられた領域を包含する領域に設けられる」とは、吸引穴が、貫通穴が設けられた領域と同一の領域に設けられる場合と、貫通穴が設けられた領域とそれ以外の領域とを含む領域に設けられる場合が考えられる。
なお、吸引穴、貫通穴の断面形状は、円形、楕円形、多角形を始めとするあらゆる形状を有することができる。
In addition, “the suction hole is provided in the region including the region in which the through hole is provided” means that the suction hole is provided in the same region as the region in which the through hole is provided, and that the through hole is provided. The case where it is provided in the area | region containing the area | region and other area | regions other than that considered can be considered.
The cross-sectional shapes of the suction hole and the through hole can have any shape including a circle, an ellipse, and a polygon.
本実施態様によれば、アダプタシートを各々の被露光物に適合したものに交換することによって、真空吸引を行なうゾーンの変更等を行なうことなく、様々な大きさ、厚み、材質、平面度を有する被露光物を吸着して投影露光を行なうことができるので、投影露光の稼動効率を向上させることができる。また、装置の構造も複雑にならないので、装置の製造コストを低減し、メンテナンス性を向上させることもできる。 According to this embodiment, various sizes, thicknesses, materials, and flatnesses can be obtained by changing the adapter sheet to one suitable for each object to be exposed without changing the vacuum suction zone. Since the projection exposure can be performed by adsorbing the exposed object, the operation efficiency of the projection exposure can be improved. Further, since the structure of the apparatus is not complicated, the manufacturing cost of the apparatus can be reduced and the maintainability can be improved.
本発明の投影露光装置のその他の実施態様は、前記吸引穴による真空吸引によって、前記アダプタシートと前記被露光物とを同時に吸着することを特徴とする。 Another embodiment of the projection exposure apparatus of the present invention is characterized in that the adapter sheet and the object to be exposed are simultaneously sucked by vacuum suction using the suction holes.
ここで、吸引穴によりアダプタシートを吸引するためには、例えば、アダプタシートに設けられた貫通穴の大きさが吸引穴の大きさより小さい場合や、吸引穴が設けられているが貫通穴が設けられていない領域がある場合が考えられる。貫通穴の大きさが吸引穴の大きさより小さい場合には、吸引穴による真空吸引により、アダプタシートが吸引穴に吸い込まれて変形することが無いように、アダプタシートが所定の厚みを有する必要がある。ただし、厚みが増すとシートの平面度が低下する恐れもあるので、両方の要素を考慮して最適なアダプタシートの厚みを定める必要がある。 Here, in order to suck the adapter sheet through the suction hole, for example, when the size of the through hole provided in the adapter sheet is smaller than the size of the suction hole, or the suction hole is provided but the through hole is provided. There may be a case where there is an unregistered area. When the size of the through hole is smaller than the size of the suction hole, the adapter sheet needs to have a predetermined thickness so that the adapter sheet is not sucked into the suction hole and deformed by vacuum suction by the suction hole. is there. However, as the thickness increases, the flatness of the sheet may decrease, so it is necessary to determine the optimum adapter sheet thickness in consideration of both factors.
本実施態様によれば、吸引穴による真空吸引によって、被露光物だけでなくアダプタシートも吸着されるので、アダプタシートの位置ずれ、しわの発生等の問題を解消することができる。 According to this embodiment, not only the object to be exposed but also the adapter sheet is adsorbed by vacuum suction through the suction hole, so that problems such as misalignment of the adapter sheet and generation of wrinkles can be solved.
本発明の投影露光装置のその他の実施態様は、前記吸引穴が同一の真空生成ラインに接続されていることを特徴とする。
本実施態様によれば、露光テーブルに、異なる吸引ゾーンを設けるための構造が不要であり、異なる真空生成ラインを形成するための切替バルブや複雑な配管が不要なので、装置の製造コストを低減し、メンテナンス性を向上させることができる。
Another embodiment of the projection exposure apparatus of the present invention is characterized in that the suction holes are connected to the same vacuum generation line.
According to this embodiment, a structure for providing different suction zones on the exposure table is not necessary, and a switching valve and complicated piping for forming different vacuum generation lines are not required, thereby reducing the manufacturing cost of the apparatus. , Maintenance can be improved.
本発明の投影露光装置のその他の実施態様は、前記吸引穴が、投影露光を行なう前記被露光物のうち最も大きい前記被露光物の接触面に対応する領域に設けられることを特徴とする。 Another embodiment of the projection exposure apparatus of the present invention is characterized in that the suction hole is provided in a region corresponding to a contact surface of the object to be exposed that is the largest among the objects to be exposed that perform projection exposure.
「吸引穴が、最も大きな被露光物の接触面に対応する領域に設けられる」とは、原則として、過剰な吸引が起こらないように、吸引穴が、最も大きい被露光物に覆われる領域に設けられ、また、被露光物のそりが生じないように、吸引穴が、最も大きい被露光物の外周部の近傍に設けられていることを意味する。ただし、吸引穴が、最も大きい被露光物に覆われる領域の外に設けられている場合も含まれ、その場合には、大気開放状態になった貫通穴が、過剰な吸引の問題を引き起こすほどの数は存在しないことを意味する。なお、被露光物から外れた吸引穴をアダプタシートで覆うことによって、過剰吸引を防ぐことができる。 “The suction hole is provided in the area corresponding to the contact surface of the largest object to be exposed” means that, in principle, the suction hole is in the area covered by the largest object to be exposed so that excessive suction does not occur. This means that the suction hole is provided in the vicinity of the outer peripheral portion of the largest object to be exposed so as not to warp the object to be exposed. However, the case where the suction hole is provided outside the region covered with the largest object to be exposed is included, and in this case, the through hole that is opened to the atmosphere causes an excessive suction problem. Means that there is no number. It should be noted that excessive suction can be prevented by covering the suction hole that is removed from the object to be exposed with the adapter sheet.
本実施態様によれば、最も大きな被露光物に応じた無駄のないコンパクトな投影露光装置を実現することができる。 According to this embodiment, it is possible to realize a compact projection exposure apparatus with no waste corresponding to the largest exposure object.
本発明の投影露光装置のその他の実施態様は、前記貫通穴の大きさ及び設置数が、前記被露光物の接触面の面積、厚み、材質、及び/または平面度に基づいて定められることを特徴とする。
本実施態様では、被露光物に応じて、被露光物を変形させることなく確実に吸着することができるので、あらゆる種類の被露光物に適合したアダプタシートを提供することができる。
In another embodiment of the projection exposure apparatus of the present invention, the size and the number of the through holes are determined based on the area, thickness, material, and / or flatness of the contact surface of the object to be exposed. Features.
In this embodiment, according to the object to be exposed, the object to be exposed can be reliably adsorbed without being deformed, so that an adapter sheet suitable for all kinds of objects to be exposed can be provided.
なお、被露光物の変形を防ぐため、原則として、貫通穴は均等なピッチで設けられるが、例えば、被露光物に吸引で変形し易い領域がある場合には、その領域だけ、貫通穴を設けないようにすることもできる。また、貫通穴の大きさも、全て同じ大きさにする必要はなく、用途に応じて、任意の大きさの貫通穴を組み合わせることができる。例えば、投影パターンの形状に合わせて、投影パターンの存在する領域には小さな貫通穴を開けて、被露光物の変形を防ぎ、投影パターンの存在しない領域には大きな貫通穴を開けて、被露光物を強く吸引保持することが考えられる。 In order to prevent deformation of the object to be exposed, as a general rule, the through holes are provided at an equal pitch.For example, if there is an area that is easily deformed by suction in the object to be exposed, the through holes are formed only in that area. It can also be made not to provide. Moreover, it is not necessary for all the through holes to have the same size, and through holes of any size can be combined depending on the application. For example, according to the shape of the projection pattern, a small through hole is made in the area where the projection pattern exists to prevent deformation of the object to be exposed, and a large through hole is made in the area where the projection pattern does not exist. It is conceivable that the object is strongly sucked and held.
本発明の投影露光装置のその他の実施態様は、前記吸引穴による真空吸着とは別途の手段で、前記アダプタシートを前記露光テーブルに固定することを特徴とする。 Another embodiment of the projection exposure apparatus of the present invention is characterized in that the adapter sheet is fixed to the exposure table by means different from vacuum suction by the suction holes.
本実施態様では、例えば、ネジ、ビス、ボルトナットのような取付部品を用いて、アダプタシートを露光テーブルに固定することもできるし、クランプ装置のような機構を用いて固定することもできるし、真空吸引や電磁的な力を用いて固定することもできるし、その他のあらゆる固定方法を用いることができる。
本実施形態によれば、被露光物を吸着している場合でも吸着していない場合でも、被露光物の吸引状態に影響されることなく、確実にアダプタシートを露光テーブルに固定することができる。
In this embodiment, for example, the adapter sheet can be fixed to the exposure table using mounting parts such as screws, screws, and bolts and nuts, or can be fixed using a mechanism such as a clamp device. It can be fixed using vacuum suction or electromagnetic force, or any other fixing method can be used.
According to the present embodiment, the adapter sheet can be securely fixed to the exposure table without being affected by the suction state of the object to be exposed, regardless of whether the object to be exposed is sucked or not. .
本発明の投影露光装置のその他の実施態様は、前記吸引穴が接続された前記真空生成ラインとは別途の真空生成ラインを用いて前記アダプタシートの外周部を吸着して、前記アダプタシートを前記露光テーブルに固定することを特徴とする。
本実施態様によれば、確実にアダプタシートを露光テーブルに固定し、短時間にアダプタシートの交換を行なうことができる。
In another embodiment of the projection exposure apparatus of the present invention, the adapter sheet is adsorbed on the outer periphery of the adapter sheet using a vacuum generation line separate from the vacuum generation line to which the suction hole is connected, It is fixed to an exposure table.
According to this embodiment, the adapter sheet can be securely fixed to the exposure table, and the adapter sheet can be replaced in a short time.
本発明の投影露光装置のその他の実施態様は、前記アダプタシートが、前記被露光物との接触面に帯電防止膜を備えることを特徴とする。
本実施態様によれば、静電気による問題を起こさずに、確実に被露光物を露光テーブルにセットすることができる。
In another embodiment of the projection exposure apparatus according to the present invention, the adapter sheet includes an antistatic film on a contact surface with the object to be exposed.
According to this embodiment, the object to be exposed can be reliably set on the exposure table without causing a problem due to static electricity.
本発明の投影露光装置では、アダプタシートを各々の被露光物に適合したものに交換することによって、真空吸引を行なうゾーンの変更等を行なうことなく、様々な大きさ、厚み、材質、平面度を有する被露光物を吸着して投影露光を行なうことができるので、投影露光の稼動効率を向上させることができる。また、装置の構造も複雑にならないので、装置の製造コストを低減し、メンテナンス性を向上させることもできる。 In the projection exposure apparatus of the present invention, various sizes, thicknesses, materials, and flatnesses can be obtained without changing the zone for vacuum suction by replacing the adapter sheet with one that is suitable for each object to be exposed. Projection exposure can be performed by adsorbing an object to be exposed having the above, so that the operation efficiency of projection exposure can be improved. Further, since the structure of the apparatus is not complicated, the manufacturing cost of the apparatus can be reduced and the maintainability can be improved.
本発明の投影露光装置について、以下に図面を用いながら詳細に説明する。 The projection exposure apparatus of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
(投影露光装置全体の説明)
まず、図1を用いて、本発明の投影露光装置の1つの実施形態の概要を説明する。図1は、この投影露光装置の露光テーブル廻りの構造を示す斜視図である。投影露光装置1は、主に、露光テーブル4と、露光テーブル4の上に設置されたアダプタシート8と、アダプタシート8の上方に設置された投影露光部と、被露光物2を搬送する搬送装置(図示せず)から構成される。
(Description of the entire projection exposure apparatus)
First, the outline of one embodiment of the projection exposure apparatus of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a perspective view showing a structure around an exposure table of the projection exposure apparatus. The projection exposure apparatus 1 mainly transports the exposure table 4, the
搬送装置は、矢印Aに示すように、被露光物2をアダプタシート6上の露光位置まで搬送する入側搬送装置(図示せず)と、矢印Bに示すように、投影露光が行なわれた被露光物2を露光位置から搬出する出側搬送装置(図示せず)から構成される。本実施形態では、被露光物2として板状の基板が用いられているが、ロール状に巻かれた連続シートを用いることもできる。また、被露光物2は、ミクロンオーダーの厚みのものからミリオーダーの厚みのものまで、あらゆる厚みのものを用いることができる。
As shown by the arrow A, the conveying device is subjected to the projection exposure as shown by the entry side conveying device (not shown) for conveying the
投影露光部は、光源(図示せず)と、レチクルステージ(図示せず)に取り付けられたレチクル12と、投影レンズ14とを備え、露光位置に搬送された被露光物2に投影露光を行なう。投影露光に際しては、被露光物2は、アダプタシート8及び露光テーブル4に保持された状態になっている。なお、被露光物2を保持する保持機構については、追って詳述する。
The projection exposure unit includes a light source (not shown), a
投影露光部による投影露光を更に詳しく説明すると、レチクル12には所定の回路パターンが描かれており、光源から出力された光がレチクル12へ照射され、その透過光が投影レンズ14を通過して被露光物2に照射される。これにより、レチクル12に描かれた回路パターンが被露光物2上に投影露光され、被露光物2に投影パターンが形成される。なお、投影露光に際しては、レチクルステージまたは露光テーブル4を動かすことによって、被露光物2の位置決め調整を行なう。
The projection exposure by the projection exposure unit will be described in more detail. A predetermined circuit pattern is drawn on the
(被露光物の保持機構の説明)
次に、図2から図5を用いて、本発明に係る被露光物の保持機構の実施形態について説明する。まず、図2を用いて、本発明に係る保持機構の1との実施形態の構造を説明する。
(Explanation of exposure object holding mechanism)
Next, an embodiment of a holding mechanism for an object to be exposed according to the present invention will be described with reference to FIGS. First, the structure of the embodiment of the holding mechanism 1 according to the present invention will be described with reference to FIG.
ここで、図2(a)は、搭載面4aの上にアダプタシート8が設置される前の状態を示す。図2(a)に示すように、露光テーブル4の搭載面4aには、複数の吸引穴6が設けられており、各吸引穴6は、真空ポンプを備えた真空生成手段(図示せず)に接続されている。真空生成手段によって発生する最大吸引力は、原則として、投影露光を行なう被露光物2のうち、最も大きな被露光物2を確実に吸着保持することができるように設定される。
ただし、厚みの厚い被露光物や、硬い材質の被露光物や、そりの大きい被露光物は、より大きな吸引力を要するので、真空生成手段の最大吸引力は、被露光物2の接触面の面積、厚み、材質、平面度を総合的に考慮して定められる。
Here, Fig.2 (a) shows the state before the adapter sheet |
However, since a thick exposure object, an exposure object made of a hard material, or an exposure object having a large warp requires a larger suction force, the maximum suction force of the vacuum generating means is the contact surface of the
露光テーブル4の搭載面4aに設けられた吸引穴6は、投影露光を行なう被露光物2のうち、最も大きい被露光物2の接触面に対応する領域に設けられる。つまり、吸引穴6は、原則として、最も大きい被露光物2に覆われる領域に均等なピッチで設けられ、特に、吸引穴6を被露光物2の接触面の外周部の近傍にも設けて、被露光物2のそりを防止することが望ましい。
The
また、若干の吸引穴6が、最の大きい被露光物2から外れる領域に設けられる場合も考えられるが、その場合であっても、真空ポンプの容量を越えた過剰な吸引が生じることがないようにする必要がある。
本実施形態では、吸引穴6は、最も大きい被露光物2の接触面よりもやや広い領域に設けられているが、アダプタシート8によって、最も大きい被露光物2から外れた吸引穴6を覆うことができるようになっている。この設定によって、もし、当初の計画よりも大きな被露光物2を投影露光する必要が生じた場合であっても、新たな被露光物2に対応した領域に貫通穴10を有するアダプタシート8を用意することによって、適切に対応することができる。
Further, there may be a case where some
In the present embodiment, the
また、吸引穴6の大きさ、設置個数に関しては、真空生成手段の最大吸引力の場合と同様に、被露光物2の接触面の面積、厚み、材質、平面度を総合的に考慮して定められる。なお、本実施形態では、各吸引穴6は同一の真空生成ラインに接続されており、異なる真空の状態を形成するためのゾーン分け等は一切行なわれていない。
Further, regarding the size and number of the suction holes 6, the area, thickness, material and flatness of the contact surface of the object to be exposed 2 are comprehensively considered as in the case of the maximum suction force of the vacuum generating means. Determined. In the present embodiment, each
吸引穴6が設けられた搭載面4aの上には、複数の貫通穴10が設けられたアダプタシート8が設置される。図2(b)は、搭載面4aの上にアダプタシート8が設置された状態を示す。図2(b)に示すように、貫通穴10は露光テーブル4に設けられた吸引穴6と連通しており、真空生成手段による吸引力を伝達して、アダプタシ−ト8の上に載せられた被露光物2を吸着保持することができる。
An
つまり、入側搬送装置によって露光位置へ搬送された被露光物2は、必要に応じて位置決め調整を行なわれた後、貫通穴10による吸着によって、アダプタシート8及び露光テーブル4に保持される。そして、被露光物2は、露光部によって投影露光を行なわれた後、貫通穴10による吸着保持が解除され、出側搬送装置によって露光位置から搬出される。
In other words, the object to be exposed 2 conveyed to the exposure position by the entry-side conveying device is held on the
アダプタシ−ト8は、樹脂、金属を始めあらゆる材料を用いることができる。また、アダプタシ−ト8の厚みは、吸引穴6による真空吸引によって、吸引穴6の内部へ吸い込まれて変形することがない強度を有するだけの厚みを有する必要がある。一般的に、厚みが厚い方が強度が増すが、厚みが増すと平面度が低下する恐れもあるので、両方の観点から最適な厚みを定める必要がある。
The
アダプタシート8に設けられた貫通穴10は、投影露光を行なう被露光物2の接触面に対応する領域に設けられ、吸引穴6が設けられた領域は、貫通穴10が設けられた領域を包含することになる。なお、この「包含する」には、吸引穴6が設けられた領域と、貫通穴10が設けられた領域が同一の領域となる場合も含まれる。
The through
ここで、「被露光物2の接触面に対応する領域」を、更に詳細に説明すれば、例えば、貫通穴10が設けられる領域が被露光物2の接触面よりかなり小さい場合には、被露光物2の端部が吸着されないので、そりが発生する恐れがある。一方、貫通穴10が設けられる領域が、被露光物2の接触面よりも広い場合には、被露光物2から外れた大気開放状態の貫通穴10が多数あると、真空生成手段の吸引能力を超えた過剰な吸引が生じる恐れがある。
従って、「被露光物2の接触面に対応した領域」とは、貫通穴10が、被露光物2の接触面の外周部近傍にまで設けられ、被露光物2を外れる貫通穴10が、真空生成手段の吸引能力を超えた過剰な吸引を引き起こすほど存在しないことを意味する。
Here, the “region corresponding to the contact surface of the object to be exposed 2” will be described in more detail. For example, when the region where the through
Therefore, the “region corresponding to the contact surface of the object to be exposed 2” means that the through
図2〜5に示すように、アダプタシート8は、投影露光を行なう被露光物2の大きさ、厚み等が異なるごとに、貫通穴10が設けられた領域、貫通穴10の大きさ、設定数の異なる複数種類のアダプタシート8が備えられる。大きさや厚みの異なる被露光物2を投影露光する場合には、その被露光物2に適合したアダプタシート8を露光テーブル4の搭載面4a上に設置する。本実施形態では、アダプタシート8は、その周囲部が、図示されない押え板で押さえられており、その上からビス止めで露光テーブル4の搭載面4aに固定されている。
As shown in FIGS. 2 to 5, the
また、図2〜5に示すアダプタシート8は、被露光物2との接触面の摩擦係数を小さくすることによって、被露光物2に塗布されたレジスト等の付着を防止するようになっており、更に、被露光物2との接触面に帯電防止膜を備えて、静電気による問題を起こさずに、確実に被露光物2を露光テーブル4にセットすることができるようになっている。
Moreover, the
以下に、図2〜5を用いて、様々な大きさ、厚みの被露光物2を投影露光する場合の実施形態を説明する。なお、露光テーブル4、露光テーブル4の搭載面4aに設けられた吸引穴6は、図2〜5において全て同一である。被露光物2に対応して、各々、異なるアダプタシート8が用いられている。
図2、3は、共にサイズの大きな被露光物2に投影露光を行なう場合を示した実施形態であり、被露光物2の接触面の形状(寸法)は同一である。ただし、図2に示す被露光物2の方が、図3に示す被露光物2よりも、平面度が悪くそりが大きいため、より強い吸引力を要する基板である点が異なる。また、図3には、サイズの小さい被露光物2を投影露光する実施形態を示し、図4には、連続シート状の被露光物2を投影露光する実施形態を示す。
Below, the embodiment in the case of carrying out projection exposure of the to-
2 and 3 show an embodiment in which projection exposure is performed on an
<サイズの大きな被露光物を投影露光する場合>
まず、図2及び図3を用いて、サイズの大きな被露光物2を投影露光する場合の実施形態の説明を行なう。なお、図2、3(a)は、露光テーブル4の搭載面4aにアダプタシート8が設置される前の状態を示し、図2、3(b)は、露光テーブル4の搭載面4aにアダプタシート8が設置された状態を示す。
<When projecting and exposing a large object to be exposed>
First, with reference to FIGS. 2 and 3, an embodiment in the case of performing projection exposure on a large-
本実施形態で用いる被露光物2は比較的サイズの大きな基板であって、図2に示す被露光物2も、図3に示す被露光物2も、アダプタシート8との接触面の形状(寸法)は同一である。ただし、図2に示す被露光物2は、図3に示す被露光物2に比べて、平面度が悪くそりが大きいため、より強い吸引力を要する基板である。また、被露光物2の平面度だけでなく、被露光物2の厚みが厚い場合や、硬い材質の場合においても、より強い吸引力を要することになる。 The object to be exposed 2 used in this embodiment is a relatively large substrate, and both the object to be exposed 2 shown in FIG. 2 and the object to be exposed 2 shown in FIG. Dimensions) are the same. However, the object to be exposed 2 shown in FIG. 2 is a substrate that requires a stronger suction force because it has a lower flatness and a larger warp than the object to be exposed 2 shown in FIG. Further, not only the flatness of the object to be exposed 2 but also the case where the object to be exposed 2 is thick or a hard material requires a stronger suction force.
貫通穴10が設けられた領域については、図2に示すアダプタシート8も図3に示すアダプタシート8も、貫通穴10が被露光物2の接触面とほぼ同一の領域に設けられていて、被露光物2にそりが生じたり、過剰な吸引が生じるのを防ぐようになっている。また、個々の貫通穴10の大きさについては、被露光物2の厚み、材質、及び平面度に基づいて定められるが、図2に示すアダプタシート8の方が、図3に示すアダプタシート8に比べてより大きな穴が設けられている。
As for the region in which the through
ここで、貫通穴10の大きさの違いによる被露光物2の吸引の影響を、図4に示す。図4(a)は、適切な大きさの貫通穴10により被露光物2が吸引されているところを示し、図4(b)は貫通穴10の大きさが小さすぎた場合を示し、図4(c)は貫通穴10の大きさが大きすぎた場合を示す。
図4(b)では、十分な吸引力が得られないので、被露光物2のそりが残ったままになっており、均一な露光距離が得られず適切な投影露光が行なえない状態を示している。一方、図4(c)では、吸引力により被露光物2が貫通穴10の内部へ吸い込まれるため、やはり均一な露光距離が得られず適切な投影露光が行なえない状態を示している。なお、図2、3に示す実施形態では、図4(a)に示すように、それぞれの被露光物2に対して最適な大きさの貫通穴10が設けられている。
Here, the influence of the suction of the
FIG. 4B shows a state in which a sufficient suction force cannot be obtained, so that the warp of the object to be exposed 2 remains, a uniform exposure distance cannot be obtained, and appropriate projection exposure cannot be performed. ing. On the other hand, FIG. 4C shows a state where the
なお、図2に示すアダプタシート8においても、図3に示すアダプタシート8においても、貫通穴10の大きさは、吸引穴6の大きさより小さくなっている。従って、吸引穴6による吸引力によって、被露光物2だけでなくアダプタシート8も、露光テーブル4に吸着保持される。また、アダプタシート8の被露光物2を外れた領域では貫通穴10が設けられていないので、この領域においても、吸引穴6による吸引力によって、アダプタシート8が露光テーブル4に吸着保持される。
In both the
一方、貫通穴10の設置個数については、図2に示す被露光物2の方がより強い吸引力を要するので、図2に示すアダプタシートは、図3に示すアダプタシートに比べて約3倍の貫通穴10が設けられている。なお、貫通穴10の設置個数については、被露光物2の接触面の面積、厚み、材質、平面度に基づいて最適な個数が定められる。また、被露光物2の変形を防ぐため、原則として、貫通穴10は均等なピッチで設けられるが、例えば、被露光物2に吸引で変形し易い領域がある場合には、その領域だけ、貫通穴10を設けないようにすることもできる。
On the other hand, as for the number of through
<サイズの小さな被露光物を投影露光する場合>
次に、図5を用いて、サイズの小さな被露光物2を投影露光する場合の実施形態を説明する。なお、図5(a)は、露光テーブル4の搭載面4aにアダプタシート8が設置される前の状態を示し、図5(b)は、露光テーブル4の搭載面4aにアダプタシート8が設置された状態を示す。
本実施形態で用いる被露光物2は、比較的サイズの小さな基板である。貫通穴10の設置領域については、貫通穴10が被露光物2の接触面とほぼ同一の領域に設けられていて、被露光物2にそりが生じたり、過剰な吸引が生じるのを防ぐようになっている。また、貫通穴10の大きさと設置数は、被露光物2の接触面の面積、厚み、材質、平面度等に基づいて、最適な値が定められている。なお、被露光物2の変形を防ぐため、原則として、貫通穴10は均等なピッチで設けられるが、例えば、被露光物2に吸引で変形し易い領域がある場合には、その領域だけ、貫通穴10を設けないようにすることもできる。
<When projecting and exposing a small-sized exposure object>
Next, with reference to FIG. 5, an embodiment in the case of performing projection exposure on the
The
<連続シート状の被露光物を投影露光する場合>
次に、図6を用いて、連続シート状の被露光物2を投影露光する場合の実施形態を説明する。なお、図6(a)は、露光テーブル4の搭載面4aにアダプタシート8が設置される前の状態を示し、図6(b)は、露光テーブル4の搭載面4aにアダプタシート8が設置された状態を示す。
本実施形態で用いる被露光物2は、連続ワークシートである。貫通穴10が設けられた領域については、貫通穴10が、連続シート状の被露光物2の露光領域に該当する領域に設けられており、この露光領域において、被露光物2にそりが生じたり、過剰な吸引が生じるのを防ぐようになっている。また、貫通穴10の大きさと設置数は、被露光物2の接触面の面積、厚み、材質、平面度に基づいて最適な値が定められている。なお、被露光物2の変形を防ぐため、原則として、貫通穴10は均等なピッチで設けられるが、例えば、被露光物2に吸引で変形し易い領域がある場合には、その領域だけ、貫通穴10を設けないようにすることもできる。
<When projecting a continuous sheet-shaped object to be exposed>
Next, an embodiment in the case of performing projection exposure on the continuous sheet-shaped
The object to be exposed 2 used in the present embodiment is a continuous worksheet. About the area | region in which the through-
以上のように、本発明に係る被露光物2の保持機構を用いれば、露光テーブル4、露光テーブル4の搭載面4aに設けられた吸引穴6、真空生成手段といった装置自体は一切変更せずに、搭載面4aに設置するアダプタシート8を交換するだけで、様々な大きさ、厚み、材質、平面度を有する被露光物2を最適な状態で吸着保持し、投影露光を行なうことができるので、高い稼動効率を得ることができる。また、露光テーブル4でゾーン分けのための構造を有さず、1つの真空生成ラインを用いているので、切替バルブや複雑な配管を要さず、装置の製造コストを低減し、メンテナンス性にも優れている。
As described above, if the holding mechanism for the object to be exposed 2 according to the present invention is used, the apparatus itself such as the exposure table 4, the
<アダプタシートのその他の実施形態>
上述の実施形態では、原則として、アダプタシートに同じ大きさの貫通穴が設けられているが、例えば、被露光物2に投影される投影パターンの形状に合わせて、大きさの異なる貫通穴を設けることもできる。図7には、被露光物2に投影される投影パターン16の形状に合わせて、大きさの異なる貫通穴10a及び10bが設けられたアダプタシート8の実施形態を示す。
<Other embodiments of adapter sheet>
In the above-described embodiment, as a rule, through holes of the same size are provided in the adapter sheet. However, for example, through holes having different sizes are formed in accordance with the shape of the projection pattern projected onto the
図7に示す被露光物2では、露光パターン16が存在しない領域、つまり回路パターンの投影露光がなされない領域が、被露光物2の周囲部、及び矢印Aに示す部分に存在する。
この領域では、図4(c)に示すような吸引よる変形に関して、露光パターン16が存在する領域のような繊細な管理を要しないので、より強い吸引を行なって、被露光物2を強く保持することができる。
つまり、投影パターン16が存在する領域に、小さな径の貫通穴10a(着色した穴)を設け、投影パターン16が存在しない領域に、大きな径の貫通穴10b(着色しない穴)を設けることにより、被露光物2を確実に保持しながら、適切な投影露光を行なうことができる。
In the
In this region, since the delicate control as in the region where the
That is, by providing a small diameter through
(アダプタシートの固定機構のその他の実施形態の説明)
上述の実施形態においては、押え板とビスを用いてアダプタシート8を露光テーブル4に固定しているが、次に、図8を用いて、アダプタシートの固定機構のその他の実施形態を説明する。本実施形態では、真空吸引を用いてアダプタシート8を露光テーブル4に固定する。
(Description of Other Embodiments of Adapter Sheet Fixing Mechanism)
In the above-described embodiment, the
図8に示すように、本実施形態では、露光テーブル4の搭載面4aにおいて、アダプタシート8の外周部に当る領域に、上述の吸引穴6とは別途に、アダプタシート固定用吸引穴20が設けられている。ここで、アダプタシート8に設けられた貫通穴10を介して被露光物2を吸引する吸引穴6は、真空ポンプ22a、制御バルブ22bを含む第1の真空生成ラインと接続されている。一方、アダプタシート固定用吸引穴20は、第1の真空生成ラインとは別途の、真空ポンプ24a、制御バルブ24bを含む第2の真空生成ラインと接続されている。
As shown in FIG. 8, in the present embodiment, the adapter sheet fixing
従って、吸引穴6に接続された第1の真空生成ラインは、被露光物2の投影露光が終了するたびに吸引を停止する必要があるが、アダプタシート固定用吸引穴20に接続された第2の真空生成ラインは、第1の真空生成ラインとは個別に、常に真空吸引を行なってアダプタシート8を露光テーブル4に固定することができる。本実施形態によれば、ビス等を用いてアダプタシート8を露光テーブル4に固定する場合に比べて、短時間にアダプタシート8の交換を行なうことができる。
なお、本実施形態では、第1の真空生成ラインと第2の真空生成ラインで別個の真空ポンプを備えているが、1つの真空ポンプを用いて制御バルブの切り替えによって、独立した真空生成系統を形成することもできる。
Therefore, the first vacuum generation line connected to the
In this embodiment, the first vacuum generation line and the second vacuum generation line are provided with separate vacuum pumps. However, an independent vacuum generation system is provided by switching control valves using a single vacuum pump. It can also be formed.
(本発明の投影露光装置のその他の実施形態の説明)
なお、本発明の投影露光装置は、上述の実施形態だけでなく、その他の様々な実施形態が含まれる。
(Description of Other Embodiments of Projection Exposure Apparatus of the Present Invention)
The projection exposure apparatus of the present invention includes not only the above-described embodiments but also various other embodiments.
1 投影露光装置
2 被露光物
4 露光テーブル
4a 搭載面
6 吸引穴
8 アダプタシート
10 貫通穴
12 レチクル
14 投影レンズ
16 投影パターン
20 アダプタシート固定用吸引穴
22 第1の真空生成手段
22a 真空ポンプ
22b 制御バルブ
24 第2の真空生成手段
24a 真空ポンプ
24b 制御バルブ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (8)
前記登載面の上に設置され、前記吸引穴と連通して真空吸引可能な貫通穴が複数設けられたアダプタシートと、
前記貫通穴による真空吸引によって、前記アダプタシート及び前記露光テーブルに保持された被露光物に、投影露光を行なう投影露光部と、
を備え、
前記貫通穴が、前記被露光物の接触面に対応する領域に設けられ、
前記吸引穴が、前記貫通穴が設けられた領域を包含する領域に設けられることを特徴とする投影露光装置。 An exposure table in which a plurality of suction holes capable of vacuum suction connected to the vacuum generating means are provided on the mounting surface;
An adapter sheet provided on the mounting surface and provided with a plurality of through holes communicating with the suction holes and capable of vacuum suction;
A projection exposure unit that performs projection exposure on the object to be exposed held by the adapter sheet and the exposure table by vacuum suction by the through hole;
With
The through hole is provided in a region corresponding to a contact surface of the object to be exposed;
The projection exposure apparatus, wherein the suction hole is provided in a region including a region in which the through hole is provided.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005290473A JP4629548B2 (en) | 2005-10-03 | 2005-10-03 | Projection exposure equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005290473A JP4629548B2 (en) | 2005-10-03 | 2005-10-03 | Projection exposure equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007103609A true JP2007103609A (en) | 2007-04-19 |
JP4629548B2 JP4629548B2 (en) | 2011-02-09 |
Family
ID=38030263
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005290473A Active JP4629548B2 (en) | 2005-10-03 | 2005-10-03 | Projection exposure equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4629548B2 (en) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009059444A2 (en) * | 2007-11-08 | 2009-05-14 | Medela Holding Ag | Test unit for wound drainage coverings |
JP2009255533A (en) * | 2008-03-21 | 2009-11-05 | Kawakami Sangyo Co Ltd | Width changing device of cap film by apron sheet |
JP2009297855A (en) * | 2008-06-16 | 2009-12-24 | Disco Abrasive Syst Ltd | Method of correcting end surface of flange |
WO2015170208A1 (en) * | 2014-05-03 | 2015-11-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Film-like member support apparatus |
JP2016039296A (en) * | 2014-08-08 | 2016-03-22 | 豊田合成株式会社 | Base board sucking-fixing base and base board sucking-fixing device |
WO2017178005A1 (en) * | 2016-04-12 | 2017-10-19 | Laser Imaging Systems Gmbh | Apparatus for fixing objects by means of vacuum |
NL2021859B1 (en) * | 2018-10-23 | 2020-05-13 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Fixation system, support plate and method for production thereof |
CN111913363A (en) * | 2019-05-09 | 2020-11-10 | 株式会社阿迪泰克工程 | Direct writing type exposure device |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10116760A (en) * | 1996-10-08 | 1998-05-06 | Nikon Corp | Aligner and substrate holding device |
JP2001007186A (en) * | 1999-06-25 | 2001-01-12 | Topcon Corp | Adapter having contact surface different in size and foreign matter inspecting equipment using the same |
JP2001068541A (en) * | 1999-08-26 | 2001-03-16 | Tatsumo Kk | Processed substrate tray |
JP2002033372A (en) * | 2000-07-17 | 2002-01-31 | Apic Yamada Corp | Conveyance jig of work |
-
2005
- 2005-10-03 JP JP2005290473A patent/JP4629548B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10116760A (en) * | 1996-10-08 | 1998-05-06 | Nikon Corp | Aligner and substrate holding device |
JP2001007186A (en) * | 1999-06-25 | 2001-01-12 | Topcon Corp | Adapter having contact surface different in size and foreign matter inspecting equipment using the same |
JP2001068541A (en) * | 1999-08-26 | 2001-03-16 | Tatsumo Kk | Processed substrate tray |
JP2002033372A (en) * | 2000-07-17 | 2002-01-31 | Apic Yamada Corp | Conveyance jig of work |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009059444A2 (en) * | 2007-11-08 | 2009-05-14 | Medela Holding Ag | Test unit for wound drainage coverings |
WO2009059444A3 (en) * | 2007-11-08 | 2009-10-22 | Medela Holding Ag | Test unit for wound drainage coverings |
US8647327B2 (en) | 2007-11-08 | 2014-02-11 | Medela Holding Ag | Test unit for wound drainage dressings |
JP2009255533A (en) * | 2008-03-21 | 2009-11-05 | Kawakami Sangyo Co Ltd | Width changing device of cap film by apron sheet |
JP2009297855A (en) * | 2008-06-16 | 2009-12-24 | Disco Abrasive Syst Ltd | Method of correcting end surface of flange |
US10040175B2 (en) | 2014-05-03 | 2018-08-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Film-like member support apparatus |
WO2015170208A1 (en) * | 2014-05-03 | 2015-11-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Film-like member support apparatus |
JP2016039296A (en) * | 2014-08-08 | 2016-03-22 | 豊田合成株式会社 | Base board sucking-fixing base and base board sucking-fixing device |
WO2017178005A1 (en) * | 2016-04-12 | 2017-10-19 | Laser Imaging Systems Gmbh | Apparatus for fixing objects by means of vacuum |
US11417560B2 (en) | 2016-04-12 | 2022-08-16 | Laser Imagine Systems GmbH | Apparatus for fixing objects by means of vacuum |
NL2021859B1 (en) * | 2018-10-23 | 2020-05-13 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Fixation system, support plate and method for production thereof |
AT521797A3 (en) * | 2018-10-23 | 2021-11-15 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Fixation system, platen and manufacturing process |
CN111913363A (en) * | 2019-05-09 | 2020-11-10 | 株式会社阿迪泰克工程 | Direct writing type exposure device |
JP2020184045A (en) * | 2019-05-09 | 2020-11-12 | 株式会社アドテックエンジニアリング | Direct drawing type exposure device |
JP7239388B2 (en) | 2019-05-09 | 2023-03-14 | 株式会社アドテックエンジニアリング | Direct exposure system |
TWI834858B (en) * | 2019-05-09 | 2024-03-11 | 日商亞多特克工程股份有限公司 | Direct exposure device |
CN111913363B (en) * | 2019-05-09 | 2024-05-17 | 株式会社阿迪泰克工程 | Direct-writing type exposure device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4629548B2 (en) | 2011-02-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4629548B2 (en) | Projection exposure equipment | |
JP4025105B2 (en) | Sheet material fixing device | |
TWI383272B (en) | Sealing-contact type exposure apparatus | |
US20100194009A1 (en) | Substrate holding platen with adjustable shims | |
JP2010153419A (en) | Workpiece stage and exposure apparatus using the workpiece stage | |
TW201411296A (en) | Photo-mask, photo-mask set, exposure apparatus and exposure method | |
JP6774714B2 (en) | Work stage and exposure equipment | |
TW486608B (en) | Contact exposure method | |
US20160154313A1 (en) | Holding device, lithography apparatus, and method for manufacturing item | |
TW200832602A (en) | Substrate-retaining unit | |
TW201544898A (en) | Pellicle production apparatus | |
JP2023055817A (en) | Platen substrate adhesion prevention film, substrate handling device and substrate handling method | |
JP2007053405A (en) | Substrate attracting device | |
JP5292980B2 (en) | Work stage and exposure apparatus using this work stage | |
JP6894034B2 (en) | Work suction holding method, work stage and exposure equipment | |
JP2002134597A (en) | Stage apparatus | |
JP2011081156A (en) | Exposure apparatus | |
JP2013125079A (en) | Exposure device | |
CN114253091B (en) | Full-automatic double-sided digital photoetching method | |
JP2015222778A (en) | Holding device lithographic apparatus, and method of manufacturing article | |
JP2013041947A (en) | Lithographic device and article manufacturing method | |
JP4959271B2 (en) | Exposure system and work transfer method | |
JP2007043206A (en) | Substrate chucking device | |
JP2005138255A (en) | Suction device | |
JP2005138254A (en) | Suction device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080130 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100527 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100601 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100726 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101102 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131119 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4629548 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |