JPH10113525A - 空気清浄化方法とその装置 - Google Patents
空気清浄化方法とその装置Info
- Publication number
- JPH10113525A JPH10113525A JP8270126A JP27012696A JPH10113525A JP H10113525 A JPH10113525 A JP H10113525A JP 8270126 A JP8270126 A JP 8270126A JP 27012696 A JP27012696 A JP 27012696A JP H10113525 A JPH10113525 A JP H10113525A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- air
- gas
- fine
- pure water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Gas Separation By Absorption (AREA)
- Separation Of Particles Using Liquids (AREA)
Abstract
分を含めて空気中の不純物を除去し、清浄な空気環境を
形成する。 【解決手段】 微細水滴発生装置1と、気流発生装置7
と、気液分離装置2と、純水製造装置12とを有してい
る。純水製造装置12は、原水を純水に処理して微細水
滴発生装置1に供給する。微細水滴発生装置1は、供給
された純水を微細水滴に分裂させ、気流発生装置7から
吸引した不純物を含む空気流に微細水滴を混合して気液
分離装置2に送り込み、気液分離装置2で、微細水滴を
捕捉して微細水滴に取り込まれた不純物を空気中から除
去する。
Description
特に電子部品の製造工場用クリーンルームに適用して好
適な空気清浄化方法とその装置に関する。
場のクリーンルームにおいては、高性能の微粒子除去フ
ィルター(HEPA,ULPA等)が使用され、空気中
の微細粒子,ミスト,ヒュームに関してはこれらを極限
にまで除去する技術が確立し、清浄度クラス1以下のク
リーンルームが実用化されている。
ーンルームといえども、空気中に含まれた他の成分、例
えば、有機物成分,分子イオン成分,ガス状金属成分が
除去されているわけではない。
(N2:O2:Ar:CO2:他成分=78.08:2
0.95:0.934:.0.314:0.0046)
と、水分や微粒子,ミスト,ヒューム以外にも有機物成
分,分子イオン成分,ガス状金属成分が含まれており、
有機物成分,分子イオン成分,ガス状金属成分は、微粒
子除去用フィルターでは除去できない。
カルフィルターを用いてこれを除去したという多数の報
告があり、アンモニア,弗酸,塩素などの特定の分子イ
オン成分については個別に除去することができる。
分,ガス状金属成分などが空気の清浄度に無関係ではあ
り得ない。これらの成分がクリーンルーム内の製品や部
品に与える影響について、例えばアンモニアは、半導体
製造プロセスに用いる化学増殖型レジストに影響を与え
てこれを変質させるという問題がある。この問題に関し
ては解明が進み、化学増殖型レジストに影響を与えない
空気中のアンモニア濃度は、約1μg/m3であるとさ
れている(主催 株式会社リアライズ,1995年10
月30日開催,半導体製造クリーンルームの微量化学汚
染の評価と対策,UCTカレッジNo.18資料集,p
10)。アンモニアの除去に関する限り、アルカリ性ガ
スフィルターを使用すれば、フィルターの入口での濃度
が約10μg/m3であれば、除去率95%で除去して
フィルターの出口に濃度を0.5μg/m3に低減する
ことができ、空気中のアンモニアに関する限り、その対
策は可能である。
酸イオンが存在し、状況によっては大気中のアルカリイ
オン,酸イオンがクリーンルーム内に送入されることが
ある。また、クリーンルーム内では、製品の製造工程あ
るいは処理のために化学薬品やガスが使用され、製品の
製造または処理に使用された化学薬品やガスが漏洩して
クリーンルーム内に拡散することがある。確かにケミカ
ルフィルターによれば、アンモニアのような既知の特定
の物質の除去に関しては有効である。
ルフィルターは、その特性上、アルカリ性ガス用と、酸
性ガス用とに大別される。このため、アルカリ性ガス用
又は酸性ガス用のケミカルフィルターが選定使用された
ときに除去対象とするガス以外のアルカリ性ガス又は酸
性ガスはケミカルフィルターと干渉し、除去対象とする
ガスの除去率は不確定となり、性能が劣化するという問
題があるが、その実体が十分に把握されているわけでは
ない。
揮発性の有機物(DOP,シロキサン等)が半導体ウェ
ハ表面に吸着すると、そのデバイスの特性を変化または
劣化させるという報告があるが、これらの有機物を効率
的に除去する技術は未だ確立されているわけではない。
さらに、ガス状金属成分の除去に関しては、空気中の金
属成分の多くは酸化衝突凝集によって微粒子化し、これ
は高性能のフィルターで除去できるものと一般には考え
られているが、数ng/m3の極微量領域でのガス状金
属成分が製品に与える影響やこれを捕捉する技術に関し
ては全く未知の領域であり、その挙動は明らかにされて
いない。このように、クリーンルーム内の空気中に含ま
れる不純物を如何に除去するかについては、未だ未解決
のままに残されているのが実情である。
させ、その微細水滴を浮遊させた多湿の空気に物体の清
浄作用があるとして微細水滴の製造装置がにわかに注目
を浴びるようになった(特公平3−76993号,特公
平3−76994号,特開昭62−685105号,特
開平4−118068号ほか)。
イオン(陰イオン)が発生していることが見出された
(特開平4−141179号)。最近の研究では、負イ
オンには除塵効果,除菌効果,脱臭及びガス成分除去効
果,調湿効果,帯電防止効果があることがわかるように
なってきた。
る噴射水に純水を使用して空気中の有機物成分,分子イ
オン成分,ガス状金属成分や微粒子を低減して米国連邦
規格209Dに定義されている清浄度クラス1000以
下を実現する空気清浄化方法とその装置を提供すること
にある。
め、本発明による空気清浄化方法においては、気液接触
処理と、気液分離処理とを有する空気清浄化方法であっ
て、気液接触処理は、不純物を含む空気流に水を接触さ
せる処理であり、不純物は水に捕捉されて空気中から除
去され、気液分離処理は、気液接触処理によって生じた
水分及び微細水滴を空気中から除去して超微細水滴を含
む多湿の空気を外部へ送出する処理であり、気液接触処
理に用いる水は純水である。
多湿の空気は、外部の空気中の不純物を捕捉同伴し、空
気流として再び気液接触処理が行われるものである。
し、浄化処理して純水に再生し、再生した純水を気液接
触処理に用いるものである。
ては、気流発生装置と、微細水滴発生装置と、気液分離
装置と、純水製造装置とを有する空気清浄化装置であっ
て、気流発生装置は、外部の空気を吸引して微細水滴発
生装置に供給するものであり、微細水滴発生装置は、気
流発生装置から送り込まれた空気に水を接触させるとと
もに微細水滴を生じて空気中の不純物を捕捉するもので
あり、気液分離装置は、微細水滴発生装置から送り出さ
れた空気中の水分及び微細水滴を除去して、超微細水滴
を含む多湿の空気を外部へ送出するものであり、純水製
造装置は、原水から純水を製造し、これを微細水滴及び
超微細水滴の原料として微細水滴発生装置に給水するも
のである。
水タンクを有し、ノズルは、水を噴射して微細水滴及び
超微細水滴を発生させるものであり、噴射水タンクは、
ノズルに供給すべき水を収容し、かつノズルから噴射さ
れた水の一部を回収するものであり、純水製造装置は、
製造した純水を噴射水タンクに供給し、噴射水タンク内
の水の一部を回収して純水を製造するものである。
処理部とからなり、前処理部は、原水を一定の純度の水
に精製するものであり、純水処理部は、前処理部で精製
された水及び噴射水タンクから戻された水を純水に処理
して噴射水タンクに供給するものである。
発生装置に発生した水滴のうち、パーティクルカウンタ
ーで測定してほぼ1μm以上の粒子として計測されるも
のであり、さらに超微細水滴とはほぼ0.5μm以下の
粒子として計測されるものをいい、実質的にはCNCカ
ウンターで計測される計測限界(0.005μm)以下
の気相水クラスターが大部分であるものをいう。なお、
水分とは、これら計測器で計測されない大きな水の粒子
をいう。
よって説明する。図1において、本発明による空気清浄
化システムは、微細水滴発生装置1と気液分離装置2と
の組合せを有している。微細水滴発生装置1は、例えば
図2に示すようにモータ3aに駆動されて回転する撹拌
羽根3を有し、ノズル4から噴射した水を撹拌羽根3に
衝突させて微細な水滴に分裂させる装置である。水は噴
射水タンク5内に充填され、送水ポンプ6で汲み上げら
れ、送水管27を通してノズル4に供給される。微細水
滴発生装置1にはまた、気流発生装置7が接続されてい
る。該気流発生装置7は、クリーンルーム8内の空気を
吸引して微細水滴発生装置1に送気し、該装置1内の水
分,微細水滴及び超微細水滴に接触させ、気液分離装置
2へ圧送する。
される空気流をノズル4から噴出した水に接触させ、空
気流中に含まれた不純物を水中に取り込ませる処理であ
る。不純物を取り込んだ水は、噴射水タンク5内に戻さ
れる。特にノズル4から噴射した水は、撹拌羽根3に衝
突して水分,微細水滴及び超微細水滴に分裂し、撹拌羽
根3の回転によって十分な気液混合が行われて、空気中
に含まれる微細な不純物は、微細水滴に捕捉されて空気
中から除去される。
空気中に含まれた水分及び微細水滴を除去するものであ
り、サイクロンセパレータやエリミネータを用いる。気
液分離装置2を経由して気液分離された多湿の空気は、
クリーンルーム8内に戻される。この多湿空気は、除
塵,除菌,脱臭及びガス成分除去効果を有しており、ク
リーンルーム8内を一巡し、不純物を捕捉して再び微細
水滴発生装置1内へ導入される。
内の空気を吸気管路10a内に強制的に吸引して微細水
滴発生装置1へ圧送し、クリーンルーム8と微細水滴発
生装置1間を循環させるほかに、別に気流発生装置7a
を設けて外気を吸引し、これを微細水滴発生装置1に送
り込んでもよい。また、微細水滴発生装置1は、噴射水
を撹拌羽根3に衝突させる形式のものには限らない。空
気の旋回流中に水を噴射して微細水滴に分裂させる形式
のものであってもよい。なお、微細水滴発生装置1には
冷凍機9を設け、気液分離装置2と、クリーンルーム8
とをつなぐ送気管路10bには加熱器11を装備し、空
気温度を制御してクリーンルーム8内に送り込む多湿空
気の相対湿度を調節するようになっている。
に供給する水に純水を用いるものである。純水とは、不
純物をできるだけ除いて純粋の水とほとんど同一とみな
せる水である。この実施形態においては、純水製造装置
12を用い、市水を原水として純水を製造している。純
水製造装置12は、前処理部13と、純水処理部14と
から構成されている。前処理部13は、市水を比抵抗値
で1MΩ・cm以上に精製処理する部分であり、原水の
受入タンク15内に充填した市水をポンプ(P)16で
汲み出してメンプレンフィルター(MF)17を通過さ
せ、次いで高圧ポンプ(P)18をもって逆浸透膜(R
O)19,イオン交換樹脂(CP)20,メンプレンフ
ィルター(MF)21を順次通過させてその処理水を被
処理水受入タンク22内に圧送するものである。純水処
理部14は、前処理部13で製造した水と、噴射水タン
ク5内から戻された水との混合水を比抵抗値で15MΩ
・cm以上の純水に処理して噴射水タンク5内に供給す
る部分であり、被処理水受入タンク22内の水をサーク
ルポンプ23で汲み出し、紫外線殺菌灯(UV)24,
イオン交換樹脂(CP)25,限外濾過膜(UF)26
を経由させて製造された純水を給水管28aから噴射水
タンク5に供給している。噴射水タンク5内の水は、送
水ポンプ6で汲み上げられ、送水管27を通り、微細水
滴発生装置1のノズル4に供給されるが、送水ポンプ6
で汲み上げられた一部の水は、戻り管28bを通じて被
処理水受入タンク22内に返還され、これを前処理部1
3を経由した処理水とともに繰返し純水処理部14で処
理して噴射水タンク5内の純水を一定の水質に保持して
いる。被処理水受入タンク22は必ずしも必要ではな
く、前処理部12と、純水処理部14とを配管でつな
ぎ、その配管に戻り管28bを接続して噴射水タンク5
内の水を戻してもよい。
処理水受入タンク22内の水が一定の水位以下になった
ときには、市水を前処理部12で比抵抗値1MΩ・cm
以上の水に処理してこれを該タンク22に補給する。
せる噴射水に純水を用いることにより、クリーンルーム
内の空気中の不純物が除去され、したがって、クリーン
ルーム8内を高度の清浄度に保つことが可能となる。
タンク内の水の導電率を連続的に計測した。比較のた
め、噴射水に市水を用いた場合の噴射水タンク内の市水
の導電率を測定した。結果を図3に示す。なお、比較例
においては、噴射水タンク内の水は浄化処理しないた
め、時間の経過とともに空気中の不純物に汚染される。
水を用いた比較例では、運転当初から280μS/cm
以上と高く、微細水滴発生装置の運転を続けるにしたが
って、徐々に導電率は上昇してゆく。これに対し、図3
(b)の実施例では純水を用い、しかも、連続的に浄化
処理をしているために導電率は1〜2μS/cmのレベ
ルで安定して一定の水質を保持している。実施例におい
て、導電率が1〜2μS/cmの値になるのは、空気中
の二酸化炭素の溶解によるものと思われる。このことは
以下の事情から推測できる。すなわち、大気中の二酸化
炭素の濃度は、場所によって異り、都心での濃度は約
0.05%である。二酸化炭素の水に対する溶解度は、
大気圧の下、水温が10℃のときに1.2ppmであ
る。1.2ppmを水の導電率に変換すると、1.25
μS/cmとなり、実測値1〜2μS/cmとほぼ同等
の値を示す。ちなみに純水処理部にて浄化処理した直後
の水の比抵抗値は、17〜18MΩ・cmであった。こ
の値は理論純水にほぼ近い値である。
置を約6時間運転したときの外気中及びクリーンルーム
内の空気中に含まれる不純物の種類とその量を測定し
た。その結果を表1に示す。
いて捕捉した。不純物の捕捉液には超純水を用い、空気
通気量を3l/minに設定した。分析には以下の器具
を用いた。 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 測定対象 使用器具 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ TOC 高圧加圧湿式酸化方式のTOC計 金属成分 原子吸光およびICP−MS イオン成分 イオンクロマトグラフィー ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
ても、空気中の不純物を除去しうる能力を有しているこ
とが分かるが、噴射水に純水を用いることによって、金
属成分(Na,K,Ca)の除去率が非常に高くなるこ
とと、外気中に含有される濃度が他の不純物と比べて、
1桁高いTOC成分の除去率が市水よりも15%高くな
っている。外気中のTOC成分は下記分析法で測定し
た。 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 測定対象 分析方法 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ TOC成分 1.不揮発性成分 熱分解型GC−MS 2.揮発性成分 パージアンドトラップGC−MS ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 外気中に含まれる揮発性成分としては、アセトーン,フ
タル酸ジ−2−エチルヘキシン(DOP)等が検出され
ており、これら水溶性成分については、湿式洗浄方式で
も水中に捕捉されることがすでに報告されている。一
方、外気中に含まれる不揮発成分としては、ベンゼン,
1−メチルピペリジン,ベンゾイックアシッド,エチル
フェノキシ,フェノール等多数の成分が検出されてお
り、これら成分は、難又は不水溶性成分である。一般的
にこれら成分は、従来の湿式洗浄方式では除去されない
ことが報告されている。しかし、本法では、市水で83
%さらに純水の場合は98%とほぼ100%近い除去率
を示している。このことは、超微細水滴あるいは気相状
態の水クラスターがこれら不揮発成分を捕捉同伴するこ
とにより、水側に移行して除去されるものと考えられ
る。
水滴の原料の違いによるクリーンルームの清浄度を図4
に示す。図4は、ノズル4の噴射水に純水を使用したも
のと、低純度純水を使用したものと、市水を使用したも
のとの比較である。図4中、「純水」は、ノズルの噴射
水に純水を用い、噴射水タンク内の水を浄化処理する場
合であり、「低純度純水」はノズルの噴射水に純水を用
いるが、噴射水タンク内の水は浄化処理しない場合であ
る。「市水」については、ノズルの噴射水に市水を用
い、噴射水タンク内の水は浄化処理をしていない。
水中に含まれる不純物の総量であり、縦軸は、クリーン
ルーム内の空気中のダストの量である。ダスト量とはパ
ーティクルカウンターで測定される粒子数のことであっ
て、固体粒子と液体粒子とが測定されている。図4よ
り、噴射水に純水を使用すれば、クリーンルーム内のダ
ストの量を低減できることが分かる。水中の不純物濃度
が上がると、粒子成分が水による質量増加現象をおこ
し、パーティクルカウンターで計測される粒子数が増え
るものと考えられる。つまり、噴射水の水質と、クリー
ンルーム内の清浄度とには非常に強い相関関係があるこ
とを意味している。表2に、噴射水に用いた純水,低純
度純水,市水による噴射水タンク内の水質の分析結果を
示す。
水を用いることによって、ダスト除去用のHEPA,U
LPAフィルターを用いることなく、クラス1000レ
ベルの清浄度のクリーンルームを実現できることが分か
る。
気清浄化システムの微細水滴発生装置に発生させる微細
水滴の噴射水に純水を用いて、微粒子,ミスト,ヒュー
ムをはじめ、有機物成分,分子イオン成分,ガス状金属
成分含有量が少ない空気環境を形成するため、電子部品
製造あるいは処理用のクリーンルームに適用して米国連
邦規格209Dで定義されている清浄度クラス1000
以下の不純物の無い清浄空間を実現することができる。
また、微細水滴発生装置に供給する純水は、純水製造装
置を用い、市水を原料とし、また、微細水滴発生装置よ
り戻された水を被処理として純水を製造しつつ、これを
噴射水タンク内に供給するため、噴射水タンク内の水中
に汚染物質や不純物が蓄積されず、所期の空気清浄化機
能を維持できる効果を有する。
は実施例の純水の導電率の変化を示す図である。
スト量との関係を示す図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 気液接触処理と、気液分離処理とを有す
る空気清浄化方法であって、 気液接触処理は、不純物を含む空気流に水を接触させる
処理であり、不純物は水に捕捉されて空気中から除去さ
れ、 気液分離処理は、気液接触処理によって生じた水分及び
微細水滴を空気中から除去して超微細水滴を含む多湿の
空気を外部へ送出する処理であり、 気液接触処理に用いる水は純水であることを特徴とする
空気清浄化方法。 - 【請求項2】 気液接触処理後、外部へ送出された多湿
の空気は、外部の空気中の不純物を捕捉同伴し、空気流
として再び気液接触処理が行われるものであることを特
徴とする請求項1に記載の空気清浄化方法。 - 【請求項3】 気液接触処理に用いられた水を回収し、
浄化処理して純水に再生し、再生した純水を気液接触処
理に用いることを特徴とする請求項1又は2に記載の空
気清浄化方法。 - 【請求項4】 気流発生装置と、微細水滴発生装置と、
気液分離装置と、純水製造装置とを有する空気清浄化装
置であって、 気流発生装置は、外部の空気を吸引して微細水滴発生装
置に供給するものであり、 微細水滴発生装置は、気流発生装置から送り込まれた空
気に水を接触させるとともに微細水滴を生じて空気中の
不純物を捕捉するものであり、 気液分離装置は、微細水滴発生装置から送り出された空
気中の水分及び微細水滴を除去して、超微細水滴を含む
多湿の空気を外部へ送出するものであり、 純水製造装置は、原水から純水を製造し、これを微細水
滴及び超微細水滴の原料として微細水滴発生装置に給水
するものであることを特徴とする空気清浄化装置。 - 【請求項5】 微細水滴発生装置は、ノズルと噴射水タ
ンクを有し、 ノズルは、水を噴射して微細水滴及び超微細水滴を発生
させるものであり、 噴射水タンクは、ノズルに供給すべき水を収容し、かつ
ノズルから噴射された水の一部を回収するものであり、 純水製造装置は、製造した純水を噴射水タンクに供給
し、噴射水タンク内の水の一部を回収して純水を製造す
るものであることを特徴とする請求項4に記載の空気清
浄化装置。 - 【請求項6】 純水製造装置は、前処理部と、純水処理
部とからなり、 前処理部は、原水を一定の純度の水に精製するものであ
り、 純水処理部は、前処理部で精製された水及び噴射水タン
クから戻された水を純水に処理して噴射水タンクに供給
するものであることを特徴とする請求項5に記載の空気
清浄化装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27012696A JP3393211B2 (ja) | 1996-10-11 | 1996-10-11 | 空気清浄化方法とその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27012696A JP3393211B2 (ja) | 1996-10-11 | 1996-10-11 | 空気清浄化方法とその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10113525A true JPH10113525A (ja) | 1998-05-06 |
JP3393211B2 JP3393211B2 (ja) | 2003-04-07 |
Family
ID=17481921
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27012696A Expired - Fee Related JP3393211B2 (ja) | 1996-10-11 | 1996-10-11 | 空気清浄化方法とその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3393211B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004181455A (ja) * | 2002-12-05 | 2004-07-02 | Samsung Electronics Co Ltd | 汚染制御装置、及びこれを利用した基板処理設備の空調システム、外気空調システム、ならびに空気制御方法 |
JP2004337846A (ja) * | 2003-04-14 | 2004-12-02 | Tatsuo Okazaki | 炭酸水生成方法及び装置 |
JP2014057935A (ja) * | 2012-09-19 | 2014-04-03 | Panasonic Corp | 排気浄化方法 |
CN113941203A (zh) * | 2021-10-09 | 2022-01-18 | 大连理工大学 | 基于等离子体产生活化水处理污染物的空气净化装置 |
-
1996
- 1996-10-11 JP JP27012696A patent/JP3393211B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004181455A (ja) * | 2002-12-05 | 2004-07-02 | Samsung Electronics Co Ltd | 汚染制御装置、及びこれを利用した基板処理設備の空調システム、外気空調システム、ならびに空気制御方法 |
JP2004337846A (ja) * | 2003-04-14 | 2004-12-02 | Tatsuo Okazaki | 炭酸水生成方法及び装置 |
JP2014057935A (ja) * | 2012-09-19 | 2014-04-03 | Panasonic Corp | 排気浄化方法 |
CN113941203A (zh) * | 2021-10-09 | 2022-01-18 | 大连理工大学 | 基于等离子体产生活化水处理污染物的空气净化装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3393211B2 (ja) | 2003-04-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR920008079B1 (ko) | 가스터어빈의 유입공기 청정방법 | |
US7959884B2 (en) | Apparatus for purifying air and purifying method thereof | |
JP2001149749A (ja) | Pfcガスの処理方法及び処理装置 | |
KR20140030124A (ko) | 원하지 않는 성분들로부터 공기를 정화하고 그 성분들을 제거하기 위한 장치 및 방법 | |
KR20100068977A (ko) | 휘발성 유기화합물 제거장치 | |
US6645273B2 (en) | Method for removing impurity contents in the air | |
JP2003250876A (ja) | 空気清浄方法とその装置 | |
JP4158322B2 (ja) | 空気中不純物成分の除去装置 | |
JPH1071318A (ja) | 空気清浄機 | |
JP3393211B2 (ja) | 空気清浄化方法とその装置 | |
JPH0970516A (ja) | 空気清浄器 | |
JP2008062129A (ja) | 脱臭システム | |
JPH1057835A (ja) | 油性ヒューム捕集装置 | |
JP2004181455A (ja) | 汚染制御装置、及びこれを利用した基板処理設備の空調システム、外気空調システム、ならびに空気制御方法 | |
JPH06269491A (ja) | 空気清浄装置 | |
JPH10272333A (ja) | ガス精製方法、空気浄化方法、及びそれらの装置 | |
JP2018102888A (ja) | 室内空間にナノ微細粒子水を噴霧し、空間に浮遊している、細菌・臭気・粉塵・pm・coガス・油煙・ホルムアルデヒト・voc等の汚染物質をその微細水に捕捉、吸着回収する。その回収装置の製造方法。 | |
KR102560591B1 (ko) | 공기정화장치 | |
JPH0325702B2 (ja) | ||
JP5202208B2 (ja) | 脱臭システム、脱臭装置及び脱臭方法 | |
WO2001058558A2 (en) | Process for removing volatile organic compounds from an air stream and apparatus therefor | |
JPH1015333A (ja) | 空気清浄化方法とその装置 | |
JP2000167416A (ja) | ドラフト装置及びドラフト装置排気処理方法 | |
JPH1024286A (ja) | 脱炭酸装置 | |
JP3843568B2 (ja) | 気体中の微量成分の捕集装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100131 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100131 Year of fee payment: 7 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100131 Year of fee payment: 7 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100131 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110131 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120131 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120131 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130131 Year of fee payment: 10 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |