JPH1010502A

JPH1010502A - 液晶表示装置およびその製造方法

Info

Publication number: JPH1010502A
Application number: JP16018596A
Authority: JP
Inventors: Nobuaki Yamada; 信明山田; Shuichi Kanzaki; 修一神崎
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1996-06-20
Filing date: 1996-06-20
Publication date: 1998-01-16

Abstract

(57)【要約】【課題】複雑な工程を必要とせず、しかも、注入口付
近で軸対称配向が破壊されてしまうことのないようにす
る。【解決手段】絵素が存在する表示領域のセル厚より、
シール材付近のセル厚を厚くする。これにより、シール
材付近を混合物が優先的に進行し、表示領域の周辺部か
ら絵素領域へと均一に混合物の進行を行わせることがで
きる。よって、注入口付近に集中していた液晶の流れ
が、周辺部に分散するために均一にしかも注入速度を落
とさずに、軸対称配向を形成することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば広視野角
を生かした平面ディスプレー（多人数で見る携帯情報端
末、パーソナルコンピュータ、ワードプロセッサ、アミ
ューズメント機器やテレビなど）、またはシャッタ効果
を利用した表示板や窓、扉、壁等に利用することが出来
る、広視角特性を持つ液晶表示装置およびその製造方法
に関する。より具体的には、広視角特性としては各絵素
が軸対称状に配向することにより得られたものである液
晶表示装置およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】上述した液晶表示装置は、一対の基板に
て液晶層が挟まれ、該液晶層が基板周縁部に設けられた
シール材にて封止されている基本構成をとる。そのなか
でも、高開口率化が可能なものとして、一対の基板の片
方が以下のように構成されたものが提案されている（特
開平４−１２０５１６号）。その構成は、基板上に走査
線および信号線が交差して設けられていると共に走査線
および信号線に接続してスイッチング素子が設けられ、
これら走査線、信号線およびスイッチング素子とは絶縁
層を介して設けられた絵素電極が、絶縁層に設けたコン
タクトホールによりスイッチング素子の出力端子と電気
的に接続された構成である。

【０００３】この構成として場合には、バスラインであ
る走査線や信号線と絵素電極とを異なる平面上に配する
ことが可能となり、バスライン上に絵素電極を覆う構造
にしてもショートすることがない。よって、従来のバス
ラインと絵素電極を同一平面上に配する構造のアクティ
ブ素子基板に対し、表示に使用する絵素電極の面積をよ
り大きくできるという特長がある。さらに、従来のアク
ティブ素子基板において発生する、絵素電極とバスライ
ンとの間の横電界による配向不良を、その横電界の軽減
により抑制できる効果もある。

【０００４】しかし、上述した提案の場合には、高開口
率化の実現が可能とはなっても、そのアクティブ素子基
板にＴＮモードを組み合わせた構成とされているため、
視角特性に問題がある。

【０００５】次に、その問題につき具体的に説明する。
従来より、電気光学効果を利用した液晶表示装置として
ネマティック液晶を用いたＴＮ型の液晶表示装置や、Ｓ
ＴＮ型の液晶表示装置が実用化されている。これらは、
偏光板を要する表示モードであり、また配向処理を必要
とするものである。また、これらの液晶表示装置は、図
１４（ａ）〜（ｃ）に示す配向状態となる。すなわち、
図１４（ａ）に示す初期配向状態においてプレチルト角
が付いており、図１４（ｂ）および（ｃ）に示す電圧印
加時に液晶分子が同方向に立ち上がってくる。このと
き、図１４（ｂ）のように異なる２つの視角方向Ａ、Ｂ
から観察者がセルを観察した場合、見かけ上の透過率が
変化する。さらに、図１４（ｂ）のような中間調状態に
おいては、視角方向によっては、反転現象など表示品位
を著しく低下させる現象が発生する。

【０００６】そこで、このような狭い視角特性を改良す
る方法として、液晶分子を各絵素ごとに軸対称配向状態
とする種々の技術が提案されている。そのうち、複数の
各絵素を上下基板で放射状または同心円状に配向処理し
た液晶表示装置が、特開平６−３２４３３７、特開平６
−２６５９０２に開示されている。前者は、レジスト材
料で同心円状または放射状の細溝を基板上に形成して液
晶を軸対称状に配向させる技術であり、プレチルト角を
制御することが難しい。一方、後者も、基板上に各絵素
毎に同心円状または放射状に配向処理を施し、各絵素の
液晶部分を同心円状または放射状に配向させる技術であ
り、工業的に配向処理することが困難である。

【０００７】また、本願発明者らは、工業的に再現性よ
く作製でき、かつ、液晶分子の配向制御性の高い軸対称
配向を持つ液晶表示装置を提案している（特開平６−３
０１０１５号、特開平７−１２０７２８号、特願平６−
１７７０７５号）。この技術は、対向配設した一対の基
板の内面に凸状の高分子壁を設けておき、この状態の基
板間に少なくとも液晶と高分子材料との混合物を注入
し、液晶とモノマーとの相分離を利用して高分子壁中で
液晶分子を軸対称状に配列させる技術である。この技術
による液晶表示装置は、図１４（ｄ）に示すように視角
特性が著しく改善される。すなわち、図１４（ｄ）に示
すように、基板１、２で挟まれた表示媒体が、液晶領域
８と高分子領域７とからなり、液晶分子９が軸中心であ
るディスクリネーションライン１０に対して軸対称とな
った構造となる。そして、電圧を印加すると、図１４
（ｅ）および（ｆ）に示すように液晶分子の傾きが変化
し、２方向Ａ、Ｂで同様の表示が得られるようになる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した液晶
とモノマーとの相分離を利用する技術の場合には、セル
外にホトマスクを設けてそのホトマスク越しに紫外線露
光を行う工程、または温度と電圧との操作により軸対称
配向にする工程など、製造上複雑な工程が存在するた
め、容易に製造できないという問題があった。また、前
記技術による場合には、前記混合物を注入するための注
入口付近で軸対称配向が破壊されてしまうという現象が
あった。

【０００９】本発明は、このような従来技術の課題を解
決すべくなされたものであり、複雑な工程を必要とせ
ず、しかも、注入口付近で軸対称配向が破壊されてしま
うことのない液晶表示装置およびその製造方法を提供す
ることを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、一対の基板にて液晶層が挟まれ、該液晶層が基板周
縁部に設けられたシール材にて封止されている液晶表示
装置において、該一対の基板の少なくとも一方の基板上
で各絵素毎に液晶分子が軸対称状に配向し、かつ、両基
板の隙間であるセル厚の該シール材近傍部分の寸法を、
その更に内側の部分のセル厚寸法よりも大になしてあ
り、そのことにより上記目的が達成される。

【００１１】本発明の液晶表示装置において、前記一対
の基板の片方は、基板上に走査線および信号線が交差し
て設けられていると共に該走査線および該信号線に接続
してスイッチング素子が設けられ、該走査線、該信号線
および該スイッチング素子とは絶縁層を介して設けられ
た絵素電極が、該絶縁層に設けたコンタクトホールによ
り該スイッチング素子の出力端子と電気的に接続された
構成としてもよい。

【００１２】本発明の液晶表示装置において、前記絶縁
層の少なくとも一辺が前記シール材より内側に存在し、
該絶縁層の該辺と該シール材との間のセル厚が他の部分
よりも大きい寸法になっている構成としてもよい。

【００１３】本発明の液晶表示装置において、前記一対
の基板の片方にカラーフィルタが形成され、該カラーフ
ィルタの色層の周囲を覆うブラックマスクの外縁が前記
シール材料の内側に存在し、該カラーフィルタと該シー
ル材との間のセル厚が他の部分よりも大きい寸法になっ
ている構成としてもよい。

【００１４】本発明の液晶表示装置において、前記絵素
の存在する表示領域における前記信号線の付近に、液晶
と硬化性モノマーとの相分離を行うための壁が各絵素を
取り囲むように存在する構成としてもよい。

【００１５】本発明の液晶表示装置において、前記絶縁
層に、前記コンタクトホール以外に、絵素中央部分に１
つの軸対称配向用の凹みが存在する構成としてもよい。

【００１６】本発明の液晶表示装置において、前記セル
厚の前記シール材近傍部分の寸法を、その更に内側の部
分のセル厚寸法よりも大にする手段として、基板表面の
形状をすり鉢状にすることを利用するようにしてもよ
い。

【００１７】本発明の液晶表示装置において、前記走査
線および前記信号線の少なくとも一方の上に、セル厚調
整用のスペーサー、または、セル厚調整用の柱状物が存
在する構成としてもよい。

【００１８】本発明の液晶表示装置において、前記液晶
層が、一対の基板間で略９０°ねじれている構成として
もよい。

【００１９】本発明の液晶表示装置において、前記絵素
の各々に、少なくとも１つの軸対称配向が存在する構成
としてもよい。

【００２０】本発明の液晶表示装置において、前記絵素
の各々が、液晶材料を主とする液晶領域が高分子材料を
主とする高分子領域にて囲まれている構造を有するよう
にしてもよい。

【００２１】本発明の液晶表示装置の製造方法は、一対
の基板間に、液晶材料とモノマーとの混合物をネマティ
ック状態で注入するので、そのことにより上記目的が達
成される。

【００２２】本発明の液晶表示装置の製造方法におい
て、前記一対の基板間に前記混合物を、大気圧より低
く、かつ、１００Ｐａより高い注入圧力で注入するよう
にするのが好ましい。

【００２３】以下に本発明の作用につき説明する。

【００２４】本発明にあっては、軸対称配向を有する液
晶表示装置（ＡＳＭモード）を作製するときに、注入す
るだけで軸対称配向にできるセル構造としている。すな
わち、一対の基板の基板の隙間であるセル厚のシール材
近傍部分の寸法を、その更に内側の部分のセル厚寸法よ
りも大になしてある。

【００２５】このような構造としたのは、以下の理由に
よる。すなわち、従来において注入口付近で軸対称配向
が破壊されてしまうという現象が発生する理由を検討し
た結果、次のような結論が得られたからである。

【００２６】図１５（ａ）に示すように、表面エネルギ
ー（表面張力、段差など）の異なるパターンが表面上に
形成された基板を使用してセルを作製する。そして、そ
のセル中に液晶と硬化性樹脂との混合物を真空注入す
る。このとき、注入速度を制御して注入することによ
り、最初に、表面エネルギーの異なる（セル厚の狭い）
絵素の外周から混合物が侵入し、図１５（ｂ）に示すよ
うに、絵素内に真空気泡が形成される。

【００２７】次に、図１５（ｃ）示すように真空気泡が
混合物の侵入により小さくなり、最後には、図１５
（ｄ）に示すように消滅する。この過程において真空気
泡は、軸対称配向の中心軸として働き、軸形成に貢献す
る。しかし、従来のセル構造においては、一旦形成され
た軸対称配向も、さらに注入が進行する段階で液晶の流
れによる流れ配向により軸対称配向が破壊される。この
現象は、注入口付近で顕著である。

【００２８】そこで、本発明のようなセル構造とするこ
とにより、少なくとも注入口付近での流れを改善するこ
ととした。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施形態につき
説明する。

【００３０】（液晶表示装置の基本構造）本発明は、液
晶材料とモノマーとの混合物をセル内に注入する際、絵
素領域に混合物の進行速度を余り上げずに均一に軸対称
配向させ得るセル構造にしている。すなわち、図１に示
すように、絵素が存在する表示領域のセル厚より、シー
ル材付近のセル厚を厚くする。これにより、シール材付
近を混合物が優先的に進行し、表示領域の周辺部から絵
素領域へと均一に混合物の進行を行わせることができ
る。

【００３１】よって、注入口付近に集中していた液晶の
流れが、周辺部に分散するために均一にしかも注入速度
を落とさずに、軸対称配向を形成することができる。

【００３２】（アクティブ素子側基板構造）アクティブ
素子基板としては、基板上に走査線と信号線と、走査線
及び信号線に接続されたスイッチング素子とが存在する
第１層と、絵素電極が存在する第２層との間に絶縁層が
存在し、かつ、第１層のスイッチング素子の出力端子と
絵素電極がコンタクトホールにより接続されている構造
が使用できる。

【００３３】このアクティブ素子基板は、絶縁層にコン
タクトホールが存在するために、フォトリソグラフィー
技術でパターン化されているのが一般的である。この絶
縁層を、図２に示すように、表示領域とシール材との間
に隙間が形成されるようにパターン化する。これによ
り、注入口付近、シール材付近のセル厚Ｄが表示領域の
セル厚Ｈに比べて大きくなる。従って、上記混合物は、
セル厚の厚い部分を優先的に通過し、結果的に上記目的
が達成される。

【００３４】上記絶縁層とのシール材との位置関係は、
図３に示すように、注入口の存在する面とそれに接する
面のみ隙間が形成されていてもよく、すくなくとも一辺
が隙間を有する構造であればよい。また、隙間間隔も等
間隔である必要はなく、注入口側から隙間が徐々に変化
してもよい。

【００３５】（カラーフィルタの設けられる対向基板の
構造）カラーフィルタの断面構造は、Ｒ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）の各色層と、その周縁を覆うＢＭ（ブ
ラックマトリックス）とを有する。このカラーフィルタ
が設けられた対向基板領域と外の領域とでは段差が存在
する。このような断差構造は、樹脂ＢＭを使用すること
により顕著であり、通常１μｍ〜３μｍの段差が存在す
る。この段差を利用して、本発明の要部であるシール材
周辺部分のセル厚を厚くすることができる。すなわち、
該段差をシール材の内側に存在させることにより、図４
に示すように、混合物が早く通過するシール材周辺部分
のセル厚を厚くすることができる。

【００３６】このようなカラーフィルタ側の対向基板と
上述した構造のアクティブ素子基板とを併せて用いる
と、より顕著に本発明の効果を引き出せることは言うま
でもない。

【００３７】（軸対称配向の軸位置制御）図５に示すよ
うに、軸対称配向の軸位置が各絵素で異なると、セルを
傾斜させて観察した場合、透過率の低い領域と高い領域
の面積が絵素ごとに変化し、ざらつきとして観察され
る。図５（ａ）は軸ずれのないものを正面から観察した
場合、図５（ｂ）は軸ずれありのものを正面から観察し
た場合であり、図５（ｃ）は軸ずれのないものを傾けて
観察した場合、図５（ｄ）は軸ずれありのものを傾けて
観察した場合である。なお、図５（ａ）および（ｂ）は
偏光板をパラレルニコル状態としており、図５（ｃ）お
よび（ｄ）は偏光板を直交ニコル状態としている。

【００３８】この軸ずれが発生する原因は、注入時の真
空気泡の消滅する位置と消滅後の混合物の流れとにより
軸対称配向の位置が決定されることにある。

【００３９】本発明では、後者の原因はセル構造により
緩和されるため、前者の原因が主因となる。そこで、前
者の原因を解消させるべく、絵素内の中心部分にセル厚
の厚い領域を作製する。その理由は、以下の通りであ
る。

【００４０】絵素領域のセル厚が均一な場合、真空気泡
の残存する位置が一定にならないために最終的に軸ずれ
が発生する。このとき、絵素内にセル厚の分布が存在す
る場合、セル厚の厚い領域に真空気泡が残存する傾向が
確認されている。この原理を利用して、本発明では、絵
素内の中心部分にセル厚の厚い領域を作製することとし
ている。これにより、軸位置を制御でき、かつ、その後
の混合物の流れに対して軸対称配向を安定化できる。

【００４１】絵素中心部分にセル厚の厚い領域を作製す
るのは、アクティブ素子基板側または対向基板側のいず
れか一方、または、両基板に形成してもよい。形状とし
ては、図６（ａ）に示すように絵素中心付近に凹部を形
成し、又は、図６（ｂ）に示すように絵素中心付近に凹
部を有する突起を形成してもよいし、また、図６（ｃ）
に示すように、連続的に絵素中心に向けて傾斜した、い
わゆるすり鉢状の形状でもよい。

【００４２】アクティブ素子基板側にセル厚の厚い領域
を形成する場合、一例として、絶縁層にコンタクトホー
ルを空ける工程時に同時に、絵素中央部に凹部を形成す
ることにより上記構造を作製することができる。また、
対向基板側にすり鉢状の形状を形成する場合、カラーフ
ィルタの着色層を作製するときに、すり鉢状に加工する
ことができる。

【００４３】（スペーサの固定方法）セル厚を一定にす
るためのビーズなどのスペーサーが絵素中に存在する
と、軸対称配向を形成するときに配向不良が起こるた
め、スペーサーは故意に絵素外の位置に固定する必要が
ある。この配置方法としては、以下の２つの手法を採用
できる。

【００４４】第１の手法は、まずスペーサーを混入した
レジストにて第１段目の壁を作製し、このとき、レジス
ト壁からはみ出しているスペーサーを覆うべく、レジス
トのみからなるもので第２段目の壁を作製する手法であ
る。

【００４５】第２の手法は、絵素外の領域に、スペーサ
ーに相当する厚みの柱状、または壁状の突起物をレジス
トなどにより作製してスペーサーとする手法である。

【００４６】このような手法を用いることにより、絵素
外にスペーサーを固定することができる。そのレジスト
壁の存在により、各絵素中に真空気泡が生成、消滅する
ことを可能にでき、さらに、液晶とモノマーとの相分離
を行わせることができる。

【００４７】（注入方法）液晶材料とモノマーとの混合
物をセルに注入する方法としては、図７に示すようにし
て真空注入を行うことを採用できる。図７（ａ）に示す
ように、ベルジャー内にセルをセットし、ベルジャー内
を真空状態にすることによりセル内を真空状態またはそ
れに近い状態にし、その後、図７（ｂ）に示すように混
合物からなる液中にセルの注入口を満たした後、図７
（ｃ）に示すように減圧度を大気圧に近付けて、セル内
と外部周囲との圧力差により混合物をセル内に注入する
方法である。

【００４８】本発明においては、注入中に軸対称配向を
形成させることをも目的としているため、注入過程で形
成される各絵素ごとの真空気泡を中心に配置させるべ
く、液晶相状態で注入する必要がある。さらに、注入速
度が早すぎると流れ配向が形成されるため、注入の最終
過程である減圧度を大気圧に近づけるとき、１００Ｐａ
から大気圧より低い圧力で注入する必要がある。このよ
うな範囲に注入圧力を限定するのは、次の理由による。
すなわち、１００Ｐａより低い真空度では、注入をセル
全体に行き渡らせることができない。逆に、大気圧より
高圧であれば、注入速度が早すぎて流れ配向を引き起こ
すからである。

【００４９】（駆動方法）本発明の液晶表示装置を駆動
する方法としては、ＴＦＴなどの３端子素子、ＭＩＭな
どの２端子素子などのアクティブ駆動法が適応できる。
特に、半導体層の材料にアモルファスＳｉや、低温ｐ−
Ｓｉ（ポリシリコン）、高温ｐ−Ｓｉなどの従来より使
用してきた材料を用いたアクティブ素子を使用するの
が、電気移動度の向上すなわち、高精細化を図るために
は好ましい。

【００５０】（基板材料）アクティブ素子基板や対向基
板の材料としては、可視光が透過する透明固体であれば
よく、ガラス、石英、プラスチック基板などを用いるこ
とができる。

【００５１】以下に、本発明のより詳細な実施形態を説
明する。但し、本発明は以下の実施形態に限定されるも
のではない。

【００５２】（実施形態１）本実施形態では、以下のよ
うにして液晶表示装置を作製した。

【００５３】まず、図２に示したように、ガラスや石
英、プラスチックなどからなる基板上に、信号線や走査
線、アクティブ素子としてのＴＦＴ素子などを形成し、
この上に絶縁層を形成した。

【００５４】次に、その絶縁層に、図８に示すように、
コンタクトホールと軸対称配向用の凹部とを形成し、続
いて、絶縁層の上に、ＩＴＯなどの材料を使用して絵素
電極を形成した。このとき、絵素電極は、コンタクトホ
ールを介してＴＦＴ素子の出力端子（ドレイン電極）と
電気的に接続される。

【００５５】次に、図９に示すように、その基板上に、
スペーサーが絵素外に位置するようにレジスト壁を形成
する。この場合のレジスト壁は、４μｍのスペーサーが
混在するレジスト材料（ＯＭＲ８３：東京応化社製）に
て第１段目のレジスト壁を形成し、続いて、スペーサー
の無いレジスト（上記と同一のもの）で第１段目のレジ
スト壁を覆うように第２段目のレジスト壁を形成するこ
とにより作製した。次に、この基板と、予め作製してい
た対向基板とを対向配設して貼り合わせてセルを作製し
た。このとき、上記絶縁層は、前述した図２に示したよ
うに、シール材の内側にパターン化されており、その断
面形状は、図２に示したとおり、表示領域のセル厚Ｈよ
りシール付近のセル厚Ｄより厚くなっていた。

【００５６】次に、そのセルを前記ベルジャー内にセッ
トし、セル中に、以下の混合物を上述したようにして真
空注入した。なお、注入時のセル外の圧力は５００ｍｍ
Ｈｇにして、注入速度の抑制を図った。また、混合物
は、Ｒ−６８４（日本化薬社製）を０．１ｇと、ｐ−フ
ェニルスチレンを０．１ｇと、下記化合物１を０．０６
ｇと、さらに液晶材料ＺＬＩ−４７９２（メルク社製：
Ｓ−８１１によりカイラルビッチが９０°になるように
調整）を３．７４ｇと、光重合開始剤Ｉｒｕｇａｃｕｒ
ｅ６５１を０．０２ｇとを混合したものである。

【００５７】

【化１】

【００５８】この状態において、顕微鏡で液晶層を観察
したところ、すべての絵素部分が軸対称配向化してお
り、かつ、軸位置が正確に絵素中央部に位置制御されて
いた。

【００５９】次に、温度を上昇させ、軸対称配向した液
晶相領域が、所定の絵素の大きさ一杯になったところ
で、アクティブ素子基板側から高圧水銀ランプ下３ｍＷ
／ｃｍ²（波長：３６５ｎｍ）で３０分間紫外線を照射
して樹脂を硬化させた。

【００６０】次に、室温（２５℃）に戻し、さらに同じ
紫外線照射装置で紫外線照射を１０分間行い、硬化を完
璧にした。これら照射時には、ＴＦＴや信号線、走査線
などにより陰となる部分が生じるため、斜めから紫外線
照射してもよいし、散乱したＵＶ光源を用いてもよい。

【００６１】以上のようにして作製したセルを、偏光顕
微鏡で観察したところ、一区画ごとに、図５（ａ）に示
したようにモノドメイン状態で、かつ、各絵素ごとに液
晶分子が軸対称状に配向していた。

【００６２】次に、作製したセルの両側に、偏光板を貼
り合わせて液晶表示装置を作製した。この液晶表示装置
の表示特性を測定したところ、非常に広い視角特性を有
する液晶表示装置であることがわかった。

【００６３】また、比較例１として、図１０に示すよう
に絶縁層をシール材より外側に配置し、他は実施形態１
と同様にした液晶表示装置を作製した。この比較例１の
液晶表示装置では、注入口付近に流れ配向（軸対称配向
不良領域）が見られ、軸対称配向となっていない。した
がって、図１１に示す領域においてざらつきが観察され
た。

【００６４】（実施形態２）本実施形態では、実施形態
１のスペーサーに替えて、ホトリソグラフィーを用い
て、図１２に示す柱状のレジスト壁を作製した。さら
に、実施形態１と同様に２段目のレジスト壁を形成して
以降、実施形態１と同様な処理を行った。

【００６５】本実施形態により得られた液晶表示装置に
おいても、混合物を注入するだけで軸対称配向が得られ
た。

【００６６】（実施形態３）本実施形態は、実施形態１
で使用したアクティブ素子基板と、樹脂ＢＭからなるカ
ラーフィルターを有する対向基板とでセルを作製した。

【００６７】上記樹脂ＢＭとシール材との境界を図１３
に示すように設定した。該カラーフィルターの表面形状
は、各絵素ごとにすり鉢状になっている構造を使用し
た。該セルを用いて実施形態１と同様にして液晶表示装
置を作製した。

【００６８】得られた液晶表示装置においては、均一な
軸対称配向が、混合物を注入するだけで実現できた。さ
らに、その液晶表示装置による表示は、ざらつきが全く
なく均一な表示状態であった。

【００６９】（実施形態４）本実施形態は、実施形態１
で作製したアクティブ素子基板に代えて、絵素電極が信
号線や走査線などと同一平面上にあるアクティブ素子基
板を使用した。そして、そのアクティブ素子基板と、実
施形態３で用いた、カラーフィルタを有する対向基板と
により、図４に示したセルを構成した。その後、該セル
を用いて実施形態１と同様にして液晶表示装置を作製し
た。

【００７０】得られた液晶表示装置は、均一な軸対称配
向が、混合物を注入するだけで実現できていた。

【００７１】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明による場合
には、混合物を注入するだけで、自動的に軸対称配向さ
せることのでき、注入口付近の材料の流れによる配向の
破壊が起こらず、均一な軸対称配向が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）は本発明の液晶表示装置の基本構造を示
す平面図であり、（ｂ）はそのＡ−Ａ′線による断面図
である。

【図２】（ａ）は本発明の他の液晶表示装置を示す平面
図、（ｂ）はそのＢ−Ｂ′線による断面図である。

【図３】（ａ）は本発明の更に他の液晶表示装置を示す
平面図、（ｂ）はそのＣ−Ｃ′線による断面図である。

【図４】（ａ）は本発明の更に他の液晶表示装置を示す
平面図、（ｂ）はそのＤ−Ｄ′線による断面図である。

【図５】ざらつきの生じる原理を説明するための図であ
り、（ａ）は軸ずれのないものを正面から観察した場
合、（ｂ）は軸ずれありのものを正面から観察した場
合、（ｃ）は軸ずれのないものを傾けて観察した場合、
（ｄ）は軸ずれありのものを傾けて観察した場合であ
る。

【図６】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）の各々は、本発明
の要部である、セル厚の厚い領域を作製するのに必要な
部分を示す断面図である。

【図７】本発明の製造方法において使用する真空注入を
説明するための工程図である。

【図８】実施形態１の液晶表示装置における絵素付近の
断面図である。

【図９】実施形態１で使用したアクティブ素子基板の構
造を示す平面図である。

【図１０】（ａ）は比較例１のセル構造を示す平面図で
あり、（ｂ）はそのＥ−Ｅ′線による断面図である。

【図１１】図１０の比較例１において観察された軸対称
配向不良領域を示す平面図である。

【図１２】本発明の液晶表示装置において柱状構造によ
るセル厚を均一化する場合を示す平面図である。

【図１３】（ａ）は実施形態３のセル構造を示す平面図
であり、（ｂ）はそのＦ−Ｆ′線による断面図である。

【図１４】（ａ）〜（ｃ）は従来当所の液晶表示装置に
おける液晶分子の配向状態を示す図であり、（ｄ）〜
（ｆ）は広視角モードに視角特性が改善された場合にお
ける液晶分子の配向状態を示す図である。

【図１５】従来において、表面張力の異なるパターンを
有する基板を用いたセルに、液晶材料と高分子材料との
混合物を注入した場合における工程変化を示す図であ
る。

【符号の説明】

１、２基板７高分子領域８液晶領域９液晶分子１０ディスクリネーションライン

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一対の基板にて液晶層が挟まれ、該液晶
層が基板周縁部に設けられたシール材にて封止されてい
る液晶表示装置において、該一対の基板の少なくとも一方の基板上で各絵素毎に液
晶分子が軸対称状に配向し、かつ、両基板の隙間である
セル厚の該シール材近傍部分の寸法を、その更に内側の
部分のセル厚寸法よりも大になしてある液晶表示装置。
【請求項２】前記一対の基板の片方は、基板上に走査
線および信号線が交差して設けられていると共に該走査
線および該信号線に接続してスイッチング素子が設けら
れ、該走査線、該信号線および該スイッチング素子とは
絶縁層を介して設けられた絵素電極が、該絶縁層に設け
たコンタクトホールにより該スイッチング素子の出力端
子と電気的に接続された構成となっている請求項１に記
載の液晶表示装置。
【請求項３】前記絶縁層の少なくとも一辺が前記シー
ル材より内側に存在し、該絶縁層の該辺と該シール材と
の間のセル厚が他の部分よりも大きい寸法になっている
請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】前記一対の基板の片方にカラーフィルタ
が形成され、該カラーフィルタの色層の周囲を覆うブラ
ックマスクの外縁が前記シール材料の内側に存在し、該
カラーフィルタと該シール材との間のセル厚が他の部分
よりも大きい寸法になっている請求項１〜３のいずれか
一つに記載の液晶表示装置。
【請求項５】前記絵素の存在する表示領域における前
記信号線の付近に、液晶と硬化性モノマーとの相分離を
行うための壁が各絵素を取り囲むように存在する請求項
１〜４のいずれか一つに記載の液晶表示装置。
【請求項６】前記絶縁層に、前記コンタクトホール以
外に、各絵素内の透光領域の中央部分に１つの軸対称配
向用の凹みが存在する請求項２、３または５に記載の液
晶表示装置。
【請求項７】前記セル厚の前記シール材近傍部分の寸
法を、その更に内側の部分のセル厚寸法よりも大にする
手段として、基板表面の形状をすり鉢状にすることを利
用する請求項１〜６のいずれか一つに記載の液晶表示装
置。
【請求項８】前記走査線および前記信号線の少なくと
も一方の上に、セル厚調整用のスペーサー、または、セ
ル厚調整用の柱状物が存在する請求項１〜７のいずれか
一つに記載の液晶表示装置。
【請求項９】前記液晶層が、一対の基板間で略９０°
ねじれている請求項１〜８のいずれか一つに記載の液晶
表示装置。
【請求項１０】前記絵素の各々に、少なくとも１つの
軸対称配向が存在する請求項１〜８のいずれか一つに記
載の液晶表示装置。
【請求項１１】前記絵素の各々が、液晶材料を主とす
る液晶領域が高分子材料を主とする高分子領域にて囲ま
れている構造を有する請求項９または１０に記載の液晶
表示装置。
【請求項１２】請求項１〜１１に記載の液晶表示装置
を製造する方法であって、一対の基板間に、液晶材料とモノマーとの混合物をネマ
ティック状態で注入する液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】前記一対の基板間に前記混合物を、大
気圧より低く、かつ、１００Ｐａより高い注入圧力で注
入する請求項１２に記載の液晶表示装置の製造方法。