JPH0997781A - 流体加熱装置 - Google Patents
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Abstract
供する。 【解決手段】 外管１と、前記外管１内に配設された内
管２と、この内管２内に挿通せしめられ、端部を前記内
管端部に固定されたハロゲンランプ３と、前記外管と内
管との間にできる空間を流路４とし、加熱すべき流体を
供給し加熱するように構成された流体加熱装置におい
て、前記外管１は密閉容器内に収納され、前記ハロゲン
ランプ３は石英管５内にフィラメント７を配設してな
り、フィラメント両端に接続された電極部８を前記石英
管の両端に融着せしめられ、前記内管２は前記電極部８
に相当する領域に穴Ｈを具備し、前記穴Ｈに不活性ガス
を供給する不活性ガス供給手段を具備したことを特徴と
する。
Description
り、特に、流体加熱装置に用いられる有機薬液用ヒータ
の電極部の構造に関する。
い、素子パターンの微細化は高まる一方である。このよ
うな、半導体装置の製造における種々の処理工程におい
てフォトリソグラフィによるレジストパターンの形成、
これを用いたエッチングなどの選択的処理がたびたび用
いられる。フォトリソグラフィによるレジストパターン
の形成においては、レジスト塗布、露光マスクを用いた
選択的露光、現像という３つのステップで実行される。
そしてこのレジストパターンをマスクとして選択的エッ
チングがなされ、最後にレジストパターンの剥離がなさ
れる。このような工程においては、しばしば有機薬液が
用いられる。
ー処理装置において、温度制御は通常、温度制御装置を
用いて行われている。このような装置では、処理槽から
ポンプを用い、ステンレス配管を介して処理液を流体加
熱装置に導き、流体加熱装置で所望の温度に加熱すると
共にフィルタを介して処理槽に戻すように構成されてい
る。ここで流体加熱装置においては、例えば図１１に示
すように、外管１内に内管２を配設し、この内管内に熱
源としてのハロゲンランプ３を配設するとともに、この
外管１と内管２との間にできる空間を流路４とし、この
流路４内に、加熱すべき流体を供給し加熱するように構
成されている（特開平５−２３１７１２号）。１１は流
体供給口、１２は流体排出口である。ここでハロゲンラ
ンプ３は両端を溶融し、冷却成形して平坦部を形成した
石英管５内に、ハロゲンおよび不活性ガスが封入される
と共に、サポーター６で支持されたタングステンフィラ
メント７が配設され、フィラメント７の両端に接続され
たモリブデン製の電極部８が前記平坦部に封入されて構
成されている。ハロゲンランプは、ニクロム線等の電気
ヒータに比べ２〜３倍の高温で連続使用することがで
き、輻射光エネルギーを１６〜８１倍程度にまで向上す
ることができることから、小型で高効率のヒータとして
注目されている。
ブデンの酸化が生じたり、また、高温で使用可能である
ものの、加熱すべき流体が有機溶剤等の引火性物質であ
る場合には、引火防止あるいは防爆のための手段が必要
となるという問題があった。
置の製造工程で用いられる有機薬液は、所望の温度に加
熱して用いられることが多いが、引火温度が低く、燃え
たり爆発したりしやすいという問題がある。
で、取扱いが安全で、信頼性の高い加熱装置を提供する
ことを目的とする。
と、前記外管内に配設された内管と、この内管内に挿通
せしめられ、端部を前記内管端部に固定されたハロゲン
ランプと、前記外管と内管との間にできる空間を流路と
し、加熱すべき流体を供給し加熱するように構成された
流体加熱装置において、前記外管は密閉容器内に収納さ
れ、前記ハロゲンランプは石英管内にフィラメントを配
設してなり、フィラメント両端に接続された電極部を前
記石英管の両端に融着せしめられ、前記内管は前記電極
部に相当する領域に穴を具備し、前記穴に不活性ガスを
供給する不活性ガス供給手段を具備したことを特徴とす
る。
ラメント両端に接続された電極部を前記石英管の両端に
融着せしめられ平坦部を構成しており、前記穴は、前記
内管両端周面に、それぞれ相対向するように２つ形成さ
れており、前記穴を結ぶ線は前記平坦部と平行となるよ
うに構成されていることを特徴とする。
は、前記密閉容器内部で分岐せしめられ、流量が一定と
なるように構成されていることを特徴とする。
プの電極部は前記内管端部から突出してするように構成
され、前記電極部に不活性ガスを供給する不活性ガス供
給手段を具備したことを特徴とする。
ンランプの電極部を不活性ガスを噴射することにより冷
却するとともに、密閉容器内が不活性ガス雰囲気となる
ため、有機溶剤の加熱に用いる場合にも爆発のおそれも
なく安全で信頼性の高いものとなる。 望ましくは穴か
ら外管内に流入せしめられた不活性ガスは平坦部に沿っ
て層流をなすように流れるため、滞留を生じることなく
流出し、電極部を効率よく冷却することができるため、
ハロゲンランプの長寿命化をはかることが可能となる。
さらにまた流量が一定となるような分岐構造を構成す
ることによりより効率的に電極部の冷却を行うことが可
能となる。
から突出させて、この電極部に直接不活性ガスを供給す
るようにしているため、効率よく冷却することができ、
また内管に穴を形成したりする必要がなく加工が容易で
ある。
つつ詳細に説明する。本発明実施例の半導体薬液加熱装
置は、図１に全体図、図２に図１のＡ−Ａ部分拡大断面
図、図３に図１のＢ−Ｂ部分拡大断面図を示すように、
密閉容器１０内に、熱源としてハロゲンランプ３を用い
た加熱装置を配設するとともに、このハロゲンランプの
電極部８に窒素ガスを噴射し、密閉容器１０内に窒素ガ
スを満たすようにしたことを特徴とする。
納されており、外管１と前記外管１内に配設された内管
２と、この内管２内に挿通せしめられ、端部を前記内管
２端部に固定されたハロゲンランプ３と、前記外管と内
管との間にできる空間を流路４とし、この流路に加熱す
べき流体として、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を
供給し加熱するように構成されている。ここで流路４に
は流体供給口１１と流体排出口１２とが配設されそれぞ
れ配管に接続されているが、図１では紙面の向こう側に
配置されているため省略する。図４および図５に、密閉
容器１０から取り出した状態を示す。そして、前記ハロ
ゲンランプ３は、石英管５内にサポーター６に支持され
たフィラメント７が収納されてなり、石英管５は端部で
電極部８を融着して平坦部５Ｆを構成している。そし
て、この内管２の両端部には、前記電極部８に相当する
領域に、周面で相対向するように２つの穴Ｈが形成さ
れ、前記穴を結ぶ線は前記平坦部と平行になっており、
この穴Ｈの位置に窒素ガスを供給するガス供給ノズル１
３Ａを備えたガス供給管１３を配設している。このガス
供給管１３は、密閉容器内でＴ字状に分岐され、均一に
ガスを供給できるようになっている。また内管２の両端
の内壁には図６に示すように、クランプ９が挿入せしめ
られ、ハロゲンランプ３の石英管５両端の平坦部５Ｆに
接続されたベース１５を係止している。
ガスは図２に示すようにハロゲンランプ３の石英管の平
坦部５Ｆの平坦面に沿って層流を形成しながら、相対向
する穴Ｈにむけて効率よく流れ、滞留を生じることもな
く、冷却効率も高い。従ってＩＰＡのような引火性物質
の加熱に使用する場合にも、窒素ガスを１０〜２０リッ
トル／分程度流しておくことにより、外気温度４０℃程
度のときにもモリブデン製の電極部８の温度を３００〜
３５０℃以下に維持することができる。このようにし
て、本発明の流体加熱装置によれば、電極部の酸化を生
じることもなく、ハロゲンランプは長寿命を維持するこ
とができる。
２か所を冷却する場合にはＴ字状にすればよいが、冷却
する箇所の数に応じて、図７〜図１０に例を示すように
分岐構造を選択すればよい。
の穴から電極部にむけて不活性ガスを供給したが、ハロ
ゲンランプの両端の電極部を、内管から突出させて、こ
の電極部に直接不活性ガスを供給するようにしてもよ
い。この場合も、高温となりやすい電極部を効率よく冷
却することができ、また内管に穴を形成したりする必要
がなく加工が容易である。
置などにおいて、有機溶剤を加熱するのに極めて有効で
あり、前記実施例では有機溶剤としてＩＰＡを用いた
が、アルキルベンゼンスルホン酸（ＡＢＳ）、モノエタ
ノールアミン、メチルアルコール（ＣＨ3 ＯＨ）、 ア
セトン（ＣＨ3 ＣＯＣＨ3 ）、 フロンＲ−１１３（Ｃ
Ｃｌ2 ＦＣＣｌＦ3 ）、トリクロロエチレンなど、他の
有機溶剤にも適用可能である。
として窒素ガスを用いたが、窒素に限定されることな
く、アルゴンガスなど他の不活性ガスを用いてもよい。
ば、電極部を効率よく冷却することができるため、ハロ
ゲンランプの長寿命化をはかることが可能となる。
Claims (4)
- 【請求項１】 外管と、前記外管内に配設された内管
と、この内管内に挿通せしめられ、端部を前記内管端部
に固定されたハロゲンランプと、前記外管と内管との間
にできる空間を流路とし、加熱すべき流体を供給し加熱
するように構成された流体加熱装置において、 前記外管は密閉容器内に収納され、 前記ハロゲンランプは石英管内にフィラメントを配設し
てなり、フィラメント両端に接続された電極部を前記石
英管の両端に融着せしめられ、 前記内管は前記電極部に相当する領域に穴を具備し、前
記穴に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段を具備
したことを特徴とする流体加熱装置。 - 【請求項２】 前記ハロゲンランプは、フィラメント両
端に接続された電極部を前記石英管の両端に融着せしめ
られ平坦部を構成しており、 前記穴は、前記内管両端周面に、それぞれ相対向するよ
うに２つ形成されており、前記穴を結ぶ線は前記平坦部
と平行になるように構成されていることを特徴とする請
求項１に記載の流体加熱装置。 - 【請求項３】 前記不活性ガス供給手段は、前記密閉容
器内部で分岐せしめられ、流量が一定となるように構成
されていることを特徴とする請求項１に記載の流体加熱
装置。 - 【請求項４】 外管と、前記外管内に配設された内管
と、この内管内に挿通せしめられ、端部を前記内管端部
に固定されたハロゲンランプと、前記外管と内管との間
にできる空間を流路とし、加熱すべき流体を供給し加熱
するように構成された流体加熱装置において、 前記外管は密閉容器内に収納され、 前記ハロゲンランプは石英管内にフィラメントを配設し
てなり、フィラメント両端に接続された電極部を前記石
英管の両端に融着せしめられ、 前記電極部は前記内管端部から突出してするように構成
され、前記電極部に不活性ガスを供給する不活性ガス供
給手段を具備したことを特徴とする流体加熱装置。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP25354795A JP3719274B2 (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | 流体加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25354795A JP3719274B2 (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | 流体加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0997781A true JPH0997781A (ja) | 1997-04-08 |
| JP3719274B2 JP3719274B2 (ja) | 2005-11-24 |
Family
ID=17252893
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25354795A Expired - Fee Related JP3719274B2 (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | 流体加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3719274B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020525282A (ja) * | 2017-06-27 | 2020-08-27 | シジジー プラズモニクス インコーポレーティッド | 光触媒リアクタセル |
| KR20200119866A (ko) | 2018-04-04 | 2020-10-20 | 가부시키가이샤 케르쿠 | 유체 가열 장치 |
| KR102258142B1 (ko) * | 2021-01-21 | 2021-05-31 | 주식회사 에이치티아이티 | 유해가스 처리장치 |
-
1995
- 1995-09-29 JP JP25354795A patent/JP3719274B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020525282A (ja) * | 2017-06-27 | 2020-08-27 | シジジー プラズモニクス インコーポレーティッド | 光触媒リアクタセル |
| KR20200119866A (ko) | 2018-04-04 | 2020-10-20 | 가부시키가이샤 케르쿠 | 유체 가열 장치 |
| US11985736B2 (en) | 2018-04-04 | 2024-05-14 | Kelk Ltd. | Fluid heating device |
| KR102258142B1 (ko) * | 2021-01-21 | 2021-05-31 | 주식회사 에이치티아이티 | 유해가스 처리장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3719274B2 (ja) | 2005-11-24 |
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