JPH0996907A - Photosensitive film - Google Patents

Photosensitive film

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JPH0996907A
JPH0996907A JP25508595A JP25508595A JPH0996907A JP H0996907 A JPH0996907 A JP H0996907A JP 25508595 A JP25508595 A JP 25508595A JP 25508595 A JP25508595 A JP 25508595A JP H0996907 A JPH0996907 A JP H0996907A
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JP
Japan
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film
photosensitive composition
composition layer
photosensitive
layer
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP25508595A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshinori Kanamaki
義則 金巻
Masae Takahashi
誠恵 高橋
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Tamapoly Co Ltd
Original Assignee
Tamapoly Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0996907A publication Critical patent/JPH0996907A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0073Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
    • H05K3/0079Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the method of application or removal of the mask

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the occurrence of unevenness in the thickness of a photosensitive compsn. layer caused by winding strain after laminating by coating a face of a laminated film contg. a biaxially stretched polyester film with the photosensitive compsn. layer and then winding the laminated film. SOLUTION: A face of a laminated film 15 obtd. by laminating a polyethylene film 14 on a biaxially stretched polyester film 12 is coated with a photosensitive compsn. layer 16. After drying, the laminated film 15 is wound as it is. The winding tension of the photosensitive compsn. layer 16 can be regulated only by controlling the tension of the polyester-polyethylene laminated body having flexibility and the effect of tension at the time of laminating a polyethylene protective film is eliminated. The photosensitive compsn. layer 16 is peeled from the substrate 15 after etching and a fine circuit is formed on the substrate 15. Even when the layer 16 is thin, the occurrence of defective parts is suppressed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、 プリント配線板に
回路を形成するための感光性フィルムに関するものであ
り、特に、ドライフィルムレジストと呼ばれる感光性フ
ィルムに関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photosensitive film for forming a circuit on a printed wiring board, and more particularly to a photosensitive film called a dry film resist.

【0002】[0002]

【従来の技術】感光性レジスト材料によるプリント配線
板等への回路形成の方法として、近年、ドライフィルム
レジストと呼ばれる感光性フィルムを用いる方法が採用
されている。
2. Description of the Related Art In recent years, a method using a photosensitive film called a dry film resist has been adopted as a method for forming a circuit on a printed wiring board or the like using a photosensitive resist material.

【0003】このドライフィルムレジスト(感光性フィ
ルム)は、例えば、図6に示すように3層構成からな
り、ベースフィルムであるポリエステルフィルム(通常
0.025mm)52の上にフォトレジスト(PR)層
(通常0.02ないし0.05mm)54が塗布され、
この感光性組成物層としてのフォトレジスト54に保護
フィルムであるポリエチレンフィルム(通常0.025
ないし0.04mm)56がラミネートされている。
This dry film resist (photosensitive film) has, for example, a three-layer structure as shown in FIG. 6, and a photoresist (PR) layer is formed on a polyester film (usually 0.025 mm) 52 which is a base film. 54 (usually 0.02 to 0.05 mm) is applied,
The photoresist 54 as the photosensitive composition layer is provided with a polyethylene film (usually 0.025) as a protective film.
To 0.04 mm) 56 is laminated.

【0004】この感光性フィルムによるレジスト像形成
工程は、まず、層間接着力がPR/PE(ポリエチレン
フィルム上にフォトレジスト層が形成されているもの)
よりPR/PET(ポリエステルフィルム上にフォトレ
ジスト層が形成されているもの)の方が大きいため、図
7(A)に示す如く、ポリエチレンフィルム56を剥離
して配線基盤58にラミネートされる。次いで、図7
(B)に示す如く、マスク60をセットした状態で露光
する。その後、図7(C)に示す如く、ポリエステルフ
ィルム52を剥離した後、現像し(図7(D)参照)、
さらにエッチング処理が施される。
In the step of forming a resist image using this photosensitive film, the interlayer adhesive force is PR / PE (a photoresist film is formed on a polyethylene film).
Since PR / PET (having a photoresist layer formed on a polyester film) is larger than that, the polyethylene film 56 is peeled off and laminated on the wiring board 58, as shown in FIG. Then, FIG.
As shown in (B), exposure is performed with the mask 60 set. After that, as shown in FIG. 7C, the polyester film 52 is peeled off and then developed (see FIG. 7D).
Further, an etching process is performed.

【0005】そして、エッチング終了後にフォトレジス
ト層54が基盤58上から剥離され、基盤58上に微細
回路が形成される。
After the etching is completed, the photoresist layer 54 is peeled off from the substrate 58, and a fine circuit is formed on the substrate 58.

【0006】この感光性フィルムの製造は、ポリエステ
ルフィルム52に感光性組成溶液を塗工し、乾燥後、ポ
リエチレンフィルム56を貼り合わせ巻取りし、所定幅
にスリットすることによりなされる。
This photosensitive film is manufactured by coating the polyester film 52 with a photosensitive composition solution, drying it, and then laminating and winding a polyethylene film 56 and slitting it into a predetermined width.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】この種の感光性フィル
ムは、保護フィルムとのラミネート張力、巻張力などに
よるラミネート後の巻歪みのため、フォトレジスト層5
4の厚みむらや、フォトレジスト層54の破壊が起こ
る。このため、この問題点を解消するために、各種の技
術改良が実施されている。
This type of photosensitive film has a photoresist layer 5 due to winding strain after laminating due to laminating tension with the protective film and winding tension.
4 and unevenness of the photoresist layer 54 occur. Therefore, various technical improvements have been implemented in order to solve this problem.

【0008】しかしながら、従来の技術改良では、以下
のような問題がある。従来、例えば、保護フィルムとし
て、ポリプロピレンフィルムが用いられているが、これ
によれば、保護フィルムとしてのラミネート時の張力制
御は容易であり、しかも、ラミネート後の巻張力の変化
は少なく好ましいものの、ポリプロピレンフィルムが本
来有する硬さのため、剥離時にフォトレジスト層54を
破壊するという問題がある。
However, the conventional technical improvements have the following problems. Conventionally, for example, a polypropylene film is used as a protective film, but according to this, tension control at the time of lamination as a protective film is easy, and moreover, a change in winding tension after laminating is small, which is preferable. Due to the inherent hardness of the polypropylene film, there is a problem that the photoresist layer 54 is destroyed during peeling.

【0009】また、感光性フィルムのフォトレジスト層
の厚みは、上記の如く、0.02ないし0.05mmで
あり、このようのレベルの厚さ故に、フォトレジスト層
の製品コストにしめる比率が大きくなっている。このた
め、フォトレジスト層の厚さを薄くしたいという要請が
ある。しかしながら、フォトレジスト層54の厚さが薄
くなればなるほど、上記問題点である、フォトレジスト
層54の厚みむらや、フォトレジスト層の破壊、さらに
は、保護フィルムを剥離する際の保護フィルムによるフ
ォトレジスト層54の破壊等の問題点が顕著に発現す
る。このため、フォトレジスト層の厚みを0.02mm
以下まで薄くすることは困難であった。
Further, the thickness of the photoresist layer of the photosensitive film is 0.02 to 0.05 mm as described above, and due to such a level of thickness, the ratio of the photoresist layer to the product cost becomes large. ing. Therefore, there is a demand to reduce the thickness of the photoresist layer. However, the thinner the photoresist layer 54 is, the more uneven the thickness of the photoresist layer 54 is, the destruction of the photoresist layer, and the more the photo film formed by the protective film when the protective film is peeled off. Problems such as breakage of the resist layer 54 remarkably occur. Therefore, the thickness of the photoresist layer is 0.02 mm.
It was difficult to reduce the thickness to below.

【0010】[0010]

【発明の目的】そこで、本発明の目的は、フォトレジス
ト層の肉厚を薄くするという条件下で、ラミネート後の
巻歪みに起因する感光性組成物層の厚みむら及び感光性
組成物層の破壊、さらには、保護フィルムの剥離時にお
ける保護フィルムによる感光性組成物層の破壊が発生す
ることのない感光性フィルムを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a photosensitive composition layer with uneven thickness due to roll distortion after lamination and to reduce the thickness of the photosensitive composition layer under the condition that the thickness of the photoresist layer is reduced. It is an object of the present invention to provide a photosensitive film that is free from destruction and further from destruction of the photosensitive composition layer due to the protective film when the protective film is peeled off.

【0011】[0011]

【課題を達成するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために提案されたものであり、下記の構成からな
ることを特徴とするものである。すなわち、本発明によ
れば、感光性組成物層を含み前記感光性組成物層に積層
されたフィルムと前記感光性組成物層とが剥離可能で可
撓性を有する感光性フィルムにおいて、二軸延伸ポリエ
ステルフィルムとポリエチレンフィルムからなる積層フ
ィルムの何れかの面に前記感光性組成物層が塗布され、
この感光性組成物層が形成された積層フィルムを巻取っ
て形成されてなることを特徴とする感光性フィルムが提
供される。
The present invention has been proposed to achieve the above object, and is characterized by having the following constitution. That is, according to the present invention, a photosensitive film having a photosensitive composition layer and laminated on the photosensitive composition layer and the photosensitive composition layer are peelable and have flexibility, The photosensitive composition layer is applied to either surface of a laminated film composed of a stretched polyester film and a polyethylene film,
A photosensitive film is provided which is formed by winding the laminated film having the photosensitive composition layer formed thereon.

【0012】また、本発明によれば、請求項1記載の感
光性フィルムであって、積層フィルムの前記二軸延伸ポ
リエステルフィルムの表面に前記感光性組成物層が塗布
され、かつ、前記二軸延伸ポリエステルフィルムと感光
性組成物層との接着力が、前記ポリエチレンフィルムと
二軸延伸ポリエステルフィルムとの接着力よりも大きく
されている感光性フィルムが提供される。
According to the present invention, the photosensitive film according to claim 1, wherein the photosensitive composition layer is applied to the surface of the biaxially stretched polyester film of a laminated film, and the biaxially stretched polyester film is applied. Provided is a photosensitive film in which the adhesive strength between the stretched polyester film and the photosensitive composition layer is made larger than the adhesive strength between the polyethylene film and the biaxially stretched polyester film.

【0013】また、本発明によれば、請求項1記載の感
光性フィルムであって、積層フィルムの前記ポリエチレ
ンフィルムの表面に前記感光性組成物層が塗布され、か
つ、二軸延伸ポリエステルフィルムとポリエチレンフィ
ルムとの接着力が、前記ポリエチレンフィルムと感光性
組成物層との接着力よりも大である感光性フィルムが提
供される。
According to the present invention, the photosensitive film according to claim 1, wherein the surface of the polyethylene film of the laminated film is coated with the photosensitive composition layer, and the biaxially stretched polyester film is used. Provided is a photosensitive film having an adhesive strength with a polyethylene film larger than an adhesive strength between the polyethylene film and the photosensitive composition layer.

【0014】また、本発明によれば、感光性組成物層を
含み前記感光性組成物層に積層されたフィルムと前記感
光性組成物層とが剥離可能で可撓性を有する感光性フィ
ルムにおいて、片面に剥離材が塗布された二軸延伸ポリ
エステルフィルムの何れかの面に、前記感光性組成物層
が塗布され、前記感光性組成物層が塗布された前記二軸
延伸ポリエステルフィルムを巻取って形成されることを
特徴とする感光性フィルムが提供される。
According to the present invention, a photosensitive film having a photosensitive composition layer and laminated on the photosensitive composition layer and the photosensitive composition layer are peelable and flexible. The biaxially stretched polyester film coated with the photosensitive composition layer on any one surface of the biaxially stretched polyester film coated with a release material on one surface thereof, and the biaxially stretched polyester film coated with the photosensitive composition layer is wound up. A photosensitive film is provided.

【0015】また、本発明によれば、感光性組成物層を
含み前記感光性組成物層に積層されたフィルムと前記感
光性組成物層とが剥離可能で可撓性を有する感光性フィ
ルムにおいて、第1層が二軸延伸ポリエステルフィル
ム、第2層が感光性組成物層、第3層が保護フィルムか
らなる積層シートであり、前記保護フィルムが、ヤング
率が10,000Kg/cm2 以上、厚みが0.005
mmから0.2mmのプラスチックフィルムにポリエチ
レンフィルムが積層されてなり、前記ポリエチレンフィ
ルムが前記感光性組成物層と接することを特徴とする感
光性フィルムが提供される。
Further, according to the present invention, there is provided a flexible photosensitive film comprising a photosensitive composition layer and a film laminated on the photosensitive composition layer, wherein the photosensitive composition layer is peelable. A first layer is a biaxially stretched polyester film, a second layer is a photosensitive composition layer, and a third layer is a protective film, and the protective film has a Young's modulus of 10,000 Kg / cm 2 or more, Thickness is 0.005
A polyethylene film is laminated on a plastic film having a thickness of mm to 0.2 mm, and the polyethylene film is in contact with the photosensitive composition layer to provide a photosensitive film.

【0016】また、本発明によれば、感光性組成物層を
含み前記感光性組成物層に積層されたフィルムと前記感
光性組成物層とが剥離可能な感光性フィルムにおいて、
二軸延伸ポリエステルフィルムに感光性組成物層が塗工
され、前記二軸延伸ポリエスエルフィルムの感光性組成
物層塗布面と、溶融押出ポリエチレンをTダイより押し
出した膜とがインラインで積層されてなることを特徴と
する感光性フィルムが提供される。
Further, according to the present invention, a photosensitive film comprising a photosensitive composition layer and laminated on the photosensitive composition layer and the photosensitive composition layer can be peeled off,
A biaxially stretched polyester film is coated with a photosensitive composition layer, and the photosensitive composition layer coated surface of the biaxially stretched polyester film and a film obtained by extruding melt extruded polyethylene through a T die are laminated in-line. A photosensitive film is provided.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】感光性組成物層を含む剥離性可と
うシートである感光性フィルム(ドライフィルムレジス
ト)の現在までに開示されている技術では、我々が求め
る感光性組成物層の薄膜化、積層時の感光性組成物層の
部分的欠陥の排除、剥離時の感光性組成物層の欠陥の発
生の排除はなかなか困難である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the technology disclosed up to now for a photosensitive film (dry film resist) which is a peelable flexible sheet containing a photosensitive composition layer, the thin film of the photosensitive composition layer which is required by us is used. It is quite difficult to eliminate partial defects in the photosensitive composition layer during stacking and lamination, and to eliminate the occurrence of defects in the photosensitive composition layer during peeling.

【0018】我々は、感光性組成物層を含む剥離性可と
うシートである感光性フィルムの全体の構成物の厚みを
低減し、機能を維持し安価に供給する方法を検討した結
果、本発明を完成するに至った。
As a result of studying a method of reducing the thickness of the entire composition of the photosensitive film, which is a peelable flexible sheet containing a photosensitive composition layer, maintaining its function and supplying at low cost, the present invention Has been completed.

【0019】すなわち、請求項1の発明では、公知であ
るところの二軸延伸ポリエステルフィルムに感光性組成
物層を塗工後、ポリエチレン保護フィルムを積層する方
法に反し、あらかじめ図1に示す二軸延伸ポリエステル
フィルム12にポリエチレンフィルム14を積層した積
層フィルム15のポリエステルフィルム12面あるいは
ポリエチレンフィルム12面に感光性組成物層16を塗
布し、乾燥後そのまま巻取る方法を提供するというもの
である(図1では、二軸延伸ポリエステルフィルム12
に感光性組成物層16が積層された場合が示されてい
る。)。
That is, in the invention of claim 1, contrary to the known method of laminating a polyethylene protective film after coating a photosensitive composition layer on a biaxially stretched polyester film, the biaxially oriented polyester film shown in FIG. It is intended to provide a method in which a photosensitive composition layer 16 is applied to the polyester film 12 side or the polyethylene film 12 side of a laminated film 15 in which a polyethylene film 14 is laminated on a stretched polyester film 12 and the film is wound as it is after being dried (Fig. 1, the biaxially stretched polyester film 12
The case where the photosensitive composition layer 16 is laminated is shown. ).

【0020】すなわち、この方法によれば、感光性組成
物層16の塗工時の巻取張力は、可撓性を有するポリエ
ステル/ポリエチレンの積層体の張力制御のみで加工す
ることが出来、従来とは異なり、ポリエチレン保護フィ
ルム積層時の様な張力の影響がない。図2(A)に示さ
れる如く、感光性フィルムを基盤15にラミネートする
場合には、ポリエチレンフィルム14が、二軸延伸ポリ
エステルフィルム12から剥離される。次いで、図1
(B)に示す如く、マスク11がセットされた状態で露
光し、図1(C)に示す如く、ポリエステルフィルム1
2を剥離した後、現像し(図1(D)参照)、さらにエ
ッチング処理が施される。
That is, according to this method, the winding tension at the time of coating the photosensitive composition layer 16 can be processed only by controlling the tension of the flexible polyester / polyethylene laminate. Unlike the above, there is no influence of tension like when laminating a polyethylene protective film. As shown in FIG. 2A, when laminating the photosensitive film on the substrate 15, the polyethylene film 14 is peeled from the biaxially stretched polyester film 12. Then, FIG.
As shown in FIG. 1B, exposure is performed with the mask 11 set, and as shown in FIG.
After peeling off No. 2, it is developed (see FIG. 1D) and further subjected to etching treatment.

【0021】そして、エッチング終了後に感光性組成物
層16が基盤15上から剥離され、基盤15上に微細回
路が形成される。
After the etching is completed, the photosensitive composition layer 16 is peeled off from the substrate 15 to form a fine circuit on the substrate 15.

【0022】二軸延伸ポリエステルフィルム12は感光
性組成物層16から容易に剥離し(感光性組成物層16
が、ポリエチレンフィルム14に積層されている場合に
は、ポリエチレンフィルム14が感光性組成物層16か
ら容易に剥離し、)感光性組成物層の肉厚が薄い場合で
あっても欠陥部の発生の低減が得られる。
The biaxially stretched polyester film 12 is easily peeled off from the photosensitive composition layer 16 (the photosensitive composition layer 16).
However, when the polyethylene film 14 is laminated on the polyethylene film 14, the polyethylene film 14 is easily peeled from the photosensitive composition layer 16, and a defect is generated even when the thickness of the photosensitive composition layer is thin. Is obtained.

【0023】なお、上記具体例では、感光性フィルムを
プリント基板上にラミネートする時点で、ポリエステル
フィルム12からポリエチレンフィルム14を剥離除去
しているが、積層のままであってもよく、後の露光技術
により何れを採用するか使い分けるのが好ましい。
In the above specific example, the polyethylene film 14 is peeled off from the polyester film 12 at the time of laminating the photosensitive film on the printed circuit board, but it may be laminated and may be exposed later. It is preferable to properly use which is adopted depending on the technology.

【0024】なお、二軸延伸ポリエステルフィルム12
とポリエチレンフィルム14との積層フィルムとして
は、両者を溶融押出しラミネート法にて積層したフィル
ム、ポリエステル樹脂とポリエチレン樹脂を共押出して
得られるフィルム、及び共押出後に二軸延伸したフィル
ムを使用できる。
The biaxially stretched polyester film 12
As the laminated film of the polyethylene film 14 and the polyethylene film 14, a film obtained by melt-extruding the both and laminated by a laminating method, a film obtained by coextruding a polyester resin and a polyethylene resin, and a film biaxially stretched after the coextrusion can be used.

【0025】ポリエステルフィルムにポリエチレンフィ
ルムを溶融押出ラミネートする場合、ポリエステル樹脂
とポリエチレン樹脂を共押出する場合のいずれも、特に
その層間については意図的な接着剤や接着樹脂の使用は
不要である。この感光性フィルムの製造は、積層フィル
ム15を図3に示す巻出し部17にセットし、積層フィ
ルム15を、塗工機18に送り出す。塗工機18では、
感光性組成物層を形成する材料の溶液が、積層フィルム
15の二軸延伸ポリエステル12表面又は、ポリエチレ
ンフィルム14表面に塗布される。溶液塗布後のフィル
ムは、乾燥機19へ搬送され、乾燥機19で乾燥された
部位がさらに巻取機20へと搬送され、この巻取機20
において層状に巻き取られる。このようにして、ロール
状の感光性フィルムが得られる。
In either case of melt extrusion laminating a polyethylene film on a polyester film or coextrusion of a polyester resin and a polyethylene resin, it is not necessary to intentionally use an adhesive or an adhesive resin especially between the layers. In the production of this photosensitive film, the laminated film 15 is set in the unwinding section 17 shown in FIG. 3, and the laminated film 15 is fed to the coating machine 18. In coating machine 18,
The solution of the material forming the photosensitive composition layer is applied to the surface of the biaxially stretched polyester 12 of the laminated film 15 or the surface of the polyethylene film 14. The film on which the solution has been applied is conveyed to the drier 19, and the portion dried by the drier 19 is further conveyed to the winding device 20.
Is wound in layers at. In this way, a roll-shaped photosensitive film is obtained.

【0026】請求項2の発明では、請求項1記載の発明
において、積層フィルムの二軸延伸ポリエステルフィル
ムの表面に前記感光性組成物層が塗布され、かつ、二軸
延伸ポリエステルフィルムと感光性組成物層との接着力
が、前記ポリエチレンフィルムと二軸延伸ポリエステル
フィルムとの接着力よりも大きくされている。このた
め、基板の金属膜に感光性組成物層を、ラミネートし、
表面のポリエチレンフィルムを剥離して露光させる場合
に、ポリエチレンフィルムのみを円滑に剥離できる。
According to a second aspect of the invention, in the first aspect of the invention, the surface of the biaxially stretched polyester film of the laminated film is coated with the photosensitive composition layer, and the biaxially stretched polyester film and the photosensitive composition are combined. The adhesive force with the object layer is made larger than the adhesive force between the polyethylene film and the biaxially stretched polyester film. Therefore, the photosensitive composition layer is laminated on the metal film of the substrate,
When the polyethylene film on the surface is peeled off and exposed, only the polyethylene film can be smoothly peeled off.

【0027】また、請求項3の発明では、請求項1記載
の感光性フィルムにおいて、積層フィルムにおけるポリ
エチレンフィルムの表面に感光性組成物層が塗布され、
かつ、二軸延伸ポリエステルフィルムとポリエチレンフ
ィルムとの接着力が、前記ポリエチレンフィルムと感光
性組成物層との接着力よりも大きくされている。このた
め、フィルムを感光性組成物層側から基板の金属膜にラ
ミネートする場合に、感光性組成物層と、ポリエチレン
フィルムとを容易に剥離できる。
Further, in the invention of claim 3, in the photosensitive film according to claim 1, a photosensitive composition layer is applied to the surface of the polyethylene film in the laminated film,
Moreover, the adhesive force between the biaxially stretched polyester film and the polyethylene film is made larger than the adhesive force between the polyethylene film and the photosensitive composition layer. Therefore, when the film is laminated on the metal film of the substrate from the photosensitive composition layer side, the photosensitive composition layer and the polyethylene film can be easily peeled off.

【0028】また、請求項4の発明に係る感光性フィル
ムの第1の態様は、二軸延伸ポリエステルフィルムの片
面にポリオルガノシロキサンのような離型剤を塗布し乾
燥後非離型処理面に感光性組成物を塗工し、そのまま巻
き取る事により、感光性フィルムを提供するものであ
る。この感光性フィルムは、単一フィルムに塗工するだ
けの工程のため、塗工巻き取り後の巻き歪みによる感光
性組成物層の厚みむらや欠陥部位の発現が起こりにくい
特徴があり、感光性組成物層の薄膜化が可能である。ま
た、積層体ロールからのロール剥離性もよく、基板に容
易に積層できる。
The first aspect of the photosensitive film according to the invention of claim 4 is to apply a release agent such as polyorganosiloxane to one surface of a biaxially stretched polyester film, and after drying, apply the release agent to the non-release treated surface. A photosensitive film is provided by coating a photosensitive composition and winding it as it is. This photosensitive film is characterized by the fact that unevenness in the thickness of the photosensitive composition layer and the appearance of defective portions due to winding distortion after coating and winding are less likely to occur because it is a process of only coating a single film. The composition layer can be thinned. Further, the roll peelability from the laminate roll is good, and the laminate can be easily laminated on the substrate.

【0029】また、本発明の第2の態様では、剥離処理
面に、感光性組成物層が塗工され巻き取られる。この場
合、感光性組成物層と非離型処理面間の接着力は、剥離
処理面と感光性組成物層との間の接着力よりも大きく設
定される。
In the second aspect of the present invention, the photosensitive composition layer is coated on the release treated surface and wound up. In this case, the adhesive force between the photosensitive composition layer and the non-release treated surface is set to be larger than the adhesive force between the release treated surface and the photosensitive composition layer.

【0030】請求項5の発明では、感光性組成物層を含
み剥離性を有する可とう性シートにおいて、二軸延伸ポ
リエステルと感光性組成物層と保護フィルムの三層構成
の保護フィルムが、特定の物性を有することを特徴とし
ている。すなわち、本発明では、保護フィルムを構成す
るプラスチックフィルムのヤング率が10,000Kg
/cm2 以上であり、特に20,000Kg/cm2
上とするのが貼り合せ張力をより微妙に制御できる点で
好ましい。
In a fifth aspect of the present invention, in a flexible sheet containing a photosensitive composition layer and having releasability, a protective film having a three-layer structure of a biaxially stretched polyester, a photosensitive composition layer and a protective film is specified. It is characterized by having the following physical properties. That is, in the present invention, the Young's modulus of the plastic film constituting the protective film is 10,000 Kg.
/ Cm 2 or more, and particularly preferably 20,000 Kg / cm 2 or more in terms of more delicate control of the bonding tension.

【0031】また、本発明では、保護フィルムの厚み
が、0.005mmないし0.2mmのプラスチックフ
ィルムにポリエチレンフィルム(厚みが例えば、0.0
05mmないし0.03mm)を積層した複合フィルム
が使用される。保護フィルムのプラスチックの厚みが上
記範囲を外れ、0.005mmよりも小さいと感光性組
成物層と貼り合せる張力制御が困難となる傾向にあり、
0.2mmを超えると、積層基板に感光性組成物層を積
層する工程で、保護フィルムを剥離させる時に肝心の感
光性組成物層を破壊し、ピンホールを発生させる傾向に
ある。一方、ポリエチレンフィルムの厚みは、安定した
フィルムが得れれる範囲が0.005mmないし0.0
3mmであり、0.03mm以上は厚みの均一性が得ら
れにくく好ましくない。
In the present invention, the protective film has a thickness of 0.005 mm to 0.2 mm and a polyethylene film (for example, a thickness of 0.05 mm to 0.2 mm).
A composite film in which (05 mm to 0.03 mm) is laminated is used. When the thickness of the plastic of the protective film is out of the above range and is smaller than 0.005 mm, it tends to be difficult to control the tension for bonding with the photosensitive composition layer,
If the thickness exceeds 0.2 mm, the photosensitive composition layer, which is the core of the process when the protective film is peeled off in the step of laminating the photosensitive composition layer on the laminated substrate, tends to be destroyed and pinholes tend to be generated. On the other hand, the thickness of the polyethylene film is 0.005 mm to 0.0 so that a stable film can be obtained.
It is 3 mm, and if it is 0.03 mm or more, it is difficult to obtain uniform thickness, which is not preferable.

【0032】この保護フィルムは、片面にポリエチレン
フィルムを有することが特徴であり、このフィルムの積
層は、二軸延伸フィルムに接着剤を用いての溶融押出ラ
ミネートでもドライラミネートでもよく、さらには、共
押出法によるものでもよい。
This protective film is characterized in that it has a polyethylene film on one side, and the film may be laminated by melt extrusion lamination or dry lamination using an adhesive on the biaxially stretched film. It may be an extrusion method.

【0033】二軸延伸ポリエステルフィルムに感光性組
成物層を塗工し上記保護フィルムを積層する場合、積層
時の張力制御が容易で、感光性組成物の厚み変動が少な
く、剥離時の感光性組成物の破壊も少ない。
When a photosensitive composition layer is applied to a biaxially stretched polyester film and the above-mentioned protective film is laminated, tension control during lamination is easy, variation in thickness of the photosensitive composition is small, and photosensitivity at the time of peeling is improved. Less destruction of the composition.

【0034】この保護フィルムに用いるプラスチックフ
ィルムは、二軸延伸ポリエステルフィルム、二軸ポリプ
ロピレンフィルム、未延伸ポリプロピレンフィルム等が
上記厚みの範囲で使用でき、特に二軸延伸ポリエステル
フィルムがフィルムの表面平滑性が優れる点で好まし
い。また、感光性組成物層と接する層に位置したポリエ
チレンフィルムは、特に限定されるものではないが、好
ましくは、低密度ポリエチレンで、かつ、熱安定剤以外
の添加剤を含まないものがより好ましく選定される。
As the plastic film used for this protective film, a biaxially stretched polyester film, a biaxial polypropylene film, an unstretched polypropylene film or the like can be used within the above-mentioned thickness range. In particular, the biaxially stretched polyester film has a surface smoothness. It is preferable because it is excellent. The polyethylene film located in the layer in contact with the photosensitive composition layer is not particularly limited, but is preferably low density polyethylene, and more preferably contains no additives other than the heat stabilizer. Selected.

【0035】この保護フィルムにおいて、感光性組成物
層と接するポリエチレンフィルムは、平滑性と柔軟性に
富み、かつ剥離性がよい。
In this protective film, the polyethylene film in contact with the photosensitive composition layer is rich in smoothness and flexibility and has good peeling property.

【0036】また、請求項6の発明では、感光性組成物
層を含み剥離性を有する可とう性シートにおいて、二軸
延伸プラスチックフィルムと感光性組成物と保護フィル
ムの三層構成の構築にあたり、二軸延伸ポリエステルフ
ィルムに感光性組成物を塗工しつつ、その上にインライ
ンにてポリエチレンをTダイより溶融押出した膜を連続
して積層する。
In a sixth aspect of the present invention, in a flexible sheet containing a photosensitive composition layer and having releasability, in constructing a three-layer constitution of a biaxially stretched plastic film, a photosensitive composition and a protective film, While coating the biaxially stretched polyester film with the photosensitive composition, a film obtained by melt-extruding polyethylene from a T die in-line is continuously laminated thereon.

【0037】この場合、感光性組成物の熱破壊を防止す
るために、押出溶融膜が感光性組成物と接する温度は6
0℃以下が望ましい。
In this case, in order to prevent the thermal destruction of the photosensitive composition, the temperature at which the extruded molten film contacts the photosensitive composition is 6
0 ° C or lower is desirable.

【0038】上記の感光性組成物層を含み剥離性を有す
る可とう性シートは、本発明の目的を満たすものであ
る。感光性組成物については、ビスジアゾニウム塩、ニ
トロ芳香族組成物等を使用できる。
The flexible sheet containing the above-mentioned photosensitive composition layer and having a peeling property satisfies the object of the present invention. As the photosensitive composition, a bisdiazonium salt, a nitro aromatic composition or the like can be used.

【0039】[0039]

【実施例】以下、本発明を実施例に基づき詳細に説明す
るが、本発明の技術思想を超えない限り、これに限定さ
れるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described below in detail based on examples, but the invention is not limited to these examples as long as the technical idea of the invention is not exceeded.

【0040】実施例1 厚み0.025mmの二軸延伸ポリエステルフィルム
に、密度0.920g/cm3 の低密度ポリエチレンを
溶融押出法により0.02mm厚みにてTダイ押出しコ
ーティングを施し、二層フィルムを得た。この二層フィ
ルムの両面を超音波クリーナーで洗浄後、ポリエステル
面に、ポリメチルメタアクリレートをバインダーとし、
架橋剤としてトリメチロールプロパントリアクリレー
ト、光重合開始剤としてアントラキセノン、安定剤とし
てハイドロキノン、着色剤としてメチルバイオレットか
らなる感光性組成物を暗室にて0.02mm、0.01
mmの二種の厚みにてロールコーティングし巻取りロー
ルを得た。48時間後、暗室にて幅400mmにスリッ
トし、巻外よりPE/PET/感光性組成物の小幅ロー
ルを得、遮光包装し評価に供した。
Example 1 A biaxially stretched polyester film having a thickness of 0.025 mm was coated with a low-density polyethylene having a density of 0.920 g / cm 3 by a T-die extrusion coating at a thickness of 0.02 mm by a melt extrusion method to form a two-layer film. Got After cleaning both sides of this two-layer film with an ultrasonic cleaner, on the polyester side, using polymethylmethacrylate as a binder,
A photosensitive composition consisting of trimethylolpropane triacrylate as a cross-linking agent, anthraxenone as a photopolymerization initiator, hydroquinone as a stabilizer, and methyl violet as a colorant was prepared in a dark room at 0.02 mm, 0.01
The roll was coated with two thicknesses of mm to obtain a winding roll. After 48 hours, the film was slit into a width of 400 mm in a dark room to obtain a narrow roll of PE / PET / photosensitive composition from the outside of the roll, which was light-shielded and packaged for evaluation.

【0041】実施例2 厚み0.025mmの二軸延伸ポリエステルフィルム
に、光重合触媒を添加したジメチルポリシロキサンをオ
フセットロールコーターで0.001ないし0.002
mm厚みにコーティングした後、UV照射し片面剥離型
ポリエステルフィルムを得た。この非コート面に、実施
例1と同様にして感光性組成物層をコートした巻取りロ
ールを得た。この巻取りロールとして、感光性組成物層
の厚みが0.01mmのものと、0.02mmのものを
得た。
Example 2 A biaxially stretched polyester film having a thickness of 0.025 mm was coated with dimethylpolysiloxane containing a photopolymerization catalyst in an offset roll coater of 0.001 to 0.002.
After coating to a thickness of mm, it was irradiated with UV to obtain a single-sided peelable polyester film. This uncoated surface was coated with a photosensitive composition layer in the same manner as in Example 1 to obtain a winding roll. As the take-up roll, a photosensitive composition layer having a thickness of 0.01 mm and a photosensitive composition layer having a thickness of 0.02 mm were obtained.

【0042】実施例3 図4に示す如く、厚み0.025mmの二軸延伸ポリエ
ステルフィルム22に、実施例1と同様に感光性組成物
層24をコーティングし、コート面の保護層として、厚
み0.02mmの延伸ポリプロピレンフィルム26に接
着剤を塗布し、その上に密度0.920g/cm3 の低
密度ポリエチレン28を溶融押出法により、0.02m
mのTダイ押出コーティングを行った二層フィルムのポ
リエチレンが感光性組成物層24と接するよう積層し、
図4に示すポリエステルフィルム/感光性組成物層/ポ
リエチレン/ポリプロピレンフィルムの構造の巻取ロー
ルを得た。この巻取りロールとして、感光性組成物層の
厚みが0.01mmのものと、0.02mmのものを得
た。
Example 3 As shown in FIG. 4, a biaxially stretched polyester film 22 having a thickness of 0.025 mm was coated with a photosensitive composition layer 24 in the same manner as in Example 1, and a thickness of 0 was used as a protective layer for the coated surface. An adhesive is applied to a 0.02 mm stretched polypropylene film 26, and a low density polyethylene 28 having a density of 0.920 g / cm 3 is melt-extruded to 0.02 m.
m of T-die extrusion coated polyethylene of a two-layer film is laminated so as to be in contact with the photosensitive composition layer 24,
A winding roll having the structure of polyester film / photosensitive composition layer / polyethylene / polypropylene film shown in FIG. 4 was obtained. As the take-up roll, a photosensitive composition layer having a thickness of 0.01 mm and a photosensitive composition layer having a thickness of 0.02 mm were obtained.

【0043】なお、本実施例に係る感光性組成物を用い
て基盤30に回路パターンを形成する場合には、図5
(A)に示す如く、延伸ポリプロピレンフィルム26と
低密度ポリエチレンフィルム28との積層フィルムを剥
離した状態で感光性フィルムを基盤30にラミネートす
る。次いで、図5(B)に示す如く、マスク32をセッ
トした状態で露光し、露光後に図5(C)に示す如く、
二軸延伸ポリエステルフィルム22を剥離した後、現像
し(図5(D)参照)、さらにエッチング処理を施す。
When a circuit pattern is formed on the substrate 30 by using the photosensitive composition according to this embodiment, the process shown in FIG.
As shown in (A), the photosensitive film is laminated on the substrate 30 with the laminated film of the stretched polypropylene film 26 and the low density polyethylene film 28 peeled off. Next, as shown in FIG. 5B, exposure is performed with the mask 32 set, and after exposure, as shown in FIG.
After the biaxially stretched polyester film 22 is peeled off, it is developed (see FIG. 5D) and further subjected to etching treatment.

【0044】そして、エッチング終了後に感光性組成物
層24が基盤30上から剥離し、基盤30上に微細回路
が形成される。
After the etching is completed, the photosensitive composition layer 24 is peeled off from the substrate 30, and a fine circuit is formed on the substrate 30.

【0045】実施例4 厚み0.025mmの二軸延伸ポリエステルフィルム
に、実施例1と同様に感光性組成物層をコーティング
し、コート面の保護層として、厚み0.02mm、密度
0.920g/cm3 の低密度ポリエチレンを溶融押出
法により冷却ロール上にTダイ押出しフィルムを成型
し、冷却ロールの円周上で連続して感光性組成物層と積
層し、巻取ロールを得た。この時のポリエチレンの溶融
温度はTダイ出口で240℃、冷却ロール上の積層時の
ポリエチレン膜の温度は60℃であった。なお、巻取り
ロールとして、感光性組成物層の厚みが0.01mmの
ものと、0.02mmのものを得た。
Example 4 A biaxially stretched polyester film having a thickness of 0.025 mm was coated with a photosensitive composition layer in the same manner as in Example 1, and a protective layer for the coated surface had a thickness of 0.02 mm and a density of 0.920 g / cm 3 of low-density polyethylene was melt-extruded to form a T-die extruded film on a cooling roll, which was continuously laminated with the photosensitive composition layer on the circumference of the cooling roll to obtain a winding roll. At this time, the melting temperature of polyethylene was 240 ° C. at the T-die outlet, and the temperature of the polyethylene film during lamination on the cooling roll was 60 ° C. As the take-up roll, one having a photosensitive composition layer having a thickness of 0.01 mm and one having a photosensitive composition layer of 0.02 mm were obtained.

【0046】比較例1 厚み0.025mmの二軸延伸ポリエステルフィルム
に、実施例1と同様に感光性組成物をコーティングし、
コート面の保護層として、厚み0.025mm、密度
0.920g/cm3 の低密度ポリエチレンをインフレ
ーション成型したフィルムを用い積層した巻取ロールを
得た。なお、巻取りロールとして、感光性組成物層の厚
みが0.01mmのものと、0.02mmのものを得
た。
Comparative Example 1 A biaxially stretched polyester film having a thickness of 0.025 mm was coated with a photosensitive composition in the same manner as in Example 1,
As a protective layer on the coated surface, a take-up roll was obtained by laminating a film obtained by inflation-molding low-density polyethylene having a thickness of 0.025 mm and a density of 0.920 g / cm 3 . As the take-up roll, one having a photosensitive composition layer having a thickness of 0.01 mm and one having a photosensitive composition layer of 0.02 mm were obtained.

【0047】比較例2 コートの保護層として、厚み0.025mmの二軸延伸
ポリエステルフィルムを用い、比較例1と同様にして積
層し、巻取ロールを得た。なお、巻取りロールとして、
感光性組成物層の厚みが0.02mmのものを得た。
Comparative Example 2 A biaxially stretched polyester film having a thickness of 0.025 mm was used as the protective layer of the coat and laminated in the same manner as in Comparative Example 1 to obtain a winding roll. As a winding roll,
A photosensitive composition layer having a thickness of 0.02 mm was obtained.

【0048】比較例3 コート面の保護層として、厚み0.02mmの二軸延伸
ポリプロピレンフィルムを用い、比較例1と同様にして
積層し、巻取ロールを得た。なお、巻取りロールとし
て、感光性組成物層の厚みが0.01mmのものと、
0.02mmのものを得た。
Comparative Example 3 A biaxially stretched polypropylene film having a thickness of 0.02 mm was used as a protective layer on the coated surface and laminated in the same manner as in Comparative Example 1 to obtain a winding roll. In addition, as a winding roll, a photosensitive composition layer having a thickness of 0.01 mm,
A product having a thickness of 0.02 mm was obtained.

【0049】これらの実施例、比較例について、ガラス
エポキシ積層銅箔の銅箔面に、感光性組成物層が接する
ように小幅巻取ロールを剥離しつつ積層し、パターン露
光により、その評価を行った結果を表1に示す。
In these Examples and Comparative Examples, the narrow width take-up roll was peeled off so that the photosensitive composition layer was in contact with the copper foil surface of the glass epoxy laminated copper foil, and the evaluation was conducted by pattern exposure. The results obtained are shown in Table 1.

【0050】なお、評価方法は次のように実施した。 *剥離性:銅箔へ積層する工程での感光性組成物と保護
体との剥離状況を比較例1を○として、これより劣る場
合を×とした。 *ピンホール発生:感光性組成物を含む巻取りロールか
ら、幅400mm、長さ1000mmの積層フィルムを
採取し、強制露光させ、感光性組成膜のピンホール欠陥
部をカウントした。 *厚みむら:感光性組成物を含む巻取りロールから、幅
400mm、長さ1000mmの積層フィルムを採取
し、強制露光させ、感光性組成膜の光硬化に拠る着色濃
度むらにより膜の厚みむらを○、×、△にて判定した。
ただし、○は露光による着色むらがみられないことを示
しており、×は露光による着色むらがはっきりみられる
ことを、△は露光による着色むらが少しみられることを
示している。 *回路形成性:回路形成性の欄において、○は回路露
光、エッチング後の、回路線の切断、線間距離の不均一
がみられないことを示しており、×は回路露光、エッチ
ング後の、回路の切断、線間距離の不均一がはっきりみ
られることを、△は回路露光、エッチング後の、回路の
切断、線間距離の不均一が少しみられることを示してい
る。
The evaluation method was carried out as follows. * Peelability: The peeling state between the photosensitive composition and the protective body in the step of laminating on the copper foil was marked with "◯" in Comparative Example 1, and marked with "x" when it was inferior to this. * Pinhole generation: A laminated film having a width of 400 mm and a length of 1000 mm was sampled from a winding roll containing the photosensitive composition, and forced exposure was performed, and pinhole defect portions of the photosensitive composition film were counted. * Thickness unevenness: A laminated film having a width of 400 mm and a length of 1000 mm was taken from a winding roll containing the photosensitive composition, and forced exposure was carried out to cause unevenness in the film thickness due to uneven coloring density due to photocuring of the photosensitive composition film. It was judged by ○, ×, and △.
However, ◯ indicates that there is no uneven coloring due to exposure, × indicates that uneven coloring due to exposure is clearly seen, and Δ indicates that there is slight uneven coloring due to exposure. * Circuit formability: In the column of circuit formability, ○ indicates that the circuit line was not cut and the distance between the lines was not uneven after the circuit exposure and etching, and × was after the circuit exposure and etching. , The disconnection of the circuit and the nonuniformity of the line distance are clearly seen, and the triangle indicates that the circuit is cut and the nonuniformity of the line distance is slightly observed after the circuit exposure and etching.

【0051】[0051]

【表1】 [Table 1]

【0052】上記表1より、感光性組成物の厚みを0.
02まで、薄くしても、実施例1ないし4のいずれの実
施例においても、剥離性、厚みむら等において、良好で
あり、総合評価で○レベル、すなわち高水準であること
が明らかとなった。これに対して、すべての比較例、す
なわち、比較例1ないし3において、総合評価の点で○
レベルのものはなく、中水準(△)、低水準(×)のも
のしかなかった。また、実施例1ないし4において、感
光性組成物の厚みをさらに、半分の肉厚まで薄くしても
(0.01mm)、実施例1ないし3において、総合評
価において○レベルであった。また、実施例4において
も総合評価において、△のレベルが維持された。
From Table 1 above, the thickness of the photosensitive composition was 0.
Up to 02, even in any of Examples 1 to 4, the peelability, thickness unevenness, and the like were good, and it was clarified that the comprehensive evaluation was at a ◯ level, that is, a high level. . On the other hand, in all Comparative Examples, that is, Comparative Examples 1 to 3, in terms of comprehensive evaluation,
There were no levels, only medium levels (△) and low levels (x). Further, in Examples 1 to 4, even when the thickness of the photosensitive composition was further reduced to half the thickness (0.01 mm), the comprehensive evaluation in Examples 1 to 3 was ◯ level. Also, in Example 4, the level of Δ was maintained in the comprehensive evaluation.

【0053】[0053]

【発明の効果】本発明によれば、感光性組成物層の肉厚
を薄くするという条件下で、ラミネート後の巻歪みに起
因する感光性組成物層の厚みむら及び感光性組成物層の
破壊、さらには、保護フィルムの剥離時における保護フ
ィルムによる感光性組成物層の破壊が発生することのな
い感光性フィルムを提供できる。
According to the present invention, under the condition that the thickness of the photosensitive composition layer is made thin, unevenness of the thickness of the photosensitive composition layer due to winding distortion after lamination and the formation of the photosensitive composition layer. It is possible to provide a photosensitive film that does not break, and further does not break the photosensitive composition layer by the protective film when the protective film is peeled off.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る感光性フィルムの斜視
図である。
FIG. 1 is a perspective view of a photosensitive film according to an embodiment of the present invention.

【図2】(A)ないし(D)は、図1の感光性フィルム
を用いて、基盤に回路パターンを形成する場合の工程図
である。
2A to 2D are process diagrams in the case of forming a circuit pattern on a substrate using the photosensitive film of FIG.

【図3】感光性フィルムの製造装置の概略図である。FIG. 3 is a schematic view of an apparatus for producing a photosensitive film.

【図4】本発明の他の実施例に係る感光性フィルムの斜
視図である。
FIG. 4 is a perspective view of a photosensitive film according to another embodiment of the present invention.

【図5】(A)ないし(D)は、図4の感光性フィルム
を用いて、基盤に回路パターンを形成する場合の工程図
である。
5A to 5D are process diagrams in the case of forming a circuit pattern on a substrate using the photosensitive film of FIG.

【図6】従来の感光性フィルムの斜視図である。FIG. 6 is a perspective view of a conventional photosensitive film.

【図7】(A)ないし(D)は、図6の感光性フィルム
を用いて、基盤に回路パターンを形成する場合の工程図
である。
7A to 7D are process diagrams in the case of forming a circuit pattern on a substrate using the photosensitive film of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12 二軸延伸ポリエステルフィルム 14 ポリエチレンフィルム 16 感光性組成物層 12 Biaxially Stretched Polyester Film 14 Polyethylene Film 16 Photosensitive Composition Layer

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─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成7年10月4日[Submission date] October 4, 1995

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0009[Correction target item name] 0009

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0009】また、感光性フィルムのフォトレジスト層
の厚みは、上記の如く、0.02ないし0.05mmで
あり、このようなレベルの厚さ故に、フォトレジスト層
の製品コストにしめる比率が大きくなっている。このた
め、フォトレジスト層の厚さを薄くしたいという要請が
ある。しかしながら、フォトレジスト層54の厚さが薄
くなればなるほど、上記問題点である、フォトレジスト
層54の厚みむらや、フォトレジスト層の破壊、さらに
は、保護フィルムを剥離する際の保護フィルムによるフ
ォトレジスト層54の破壊等の問題点が顕著に発現す
る。このため、フォトレジスト層の厚みを0.02mm
以下まで薄くすることは困難であった。
Further, the thickness of the photoresist layer of the photosensitive film is 0.02 to 0.05 mm as described above, and due to such a level of thickness, the ratio of the photoresist layer to the product cost becomes large. ing. Therefore, there is a demand to reduce the thickness of the photoresist layer. However, the thinner the photoresist layer 54 is, the more uneven the thickness of the photoresist layer 54 is, the destruction of the photoresist layer, and the more the photo film formed by the protective film when the protective film is peeled off. Problems such as breakage of the resist layer 54 remarkably occur. For this reason, the thickness of the photoresist layer is 0.02 mm.
It was difficult to reduce the thickness to below.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 感光性組成物層を含み前記感光性組成物
層に積層されたフィルムと前記感光性組成物層とが剥離
可能で可撓性を有する感光性フィルムにおいて、二軸延
伸ポリエステルフィルムとポリエチレンフィルムからな
る積層フィルムの何れかの面に前記感光性組成物層が塗
布され、この感光性組成物層が形成された積層フィルム
を巻取って形成されてなることを特徴とする感光性フィ
ルム。
1. A biaxially stretched polyester film comprising a photosensitive film which includes a photosensitive composition layer and is laminated on the photosensitive composition layer, and the photosensitive composition layer is peelable from the film so as to have flexibility. And a polyethylene film, the photosensitive composition layer is applied to either surface of the laminated film, and the photosensitive film is formed by winding the laminated film having the photosensitive composition layer formed thereon. the film.
【請求項2】 前記積層フィルムの前記二軸延伸ポリエ
ステルフィルムの表面に前記感光性組成物層が塗布さ
れ、かつ、前記二軸延伸ポリエステルフィルムと感光性
組成物層との接着力が、前記ポリエチレンフィルムと二
軸延伸ポリエステルフィルムとの接着力よりも大である
請求項1記載の感光性フィルム。
2. The surface of the biaxially stretched polyester film of the laminated film is coated with the photosensitive composition layer, and the adhesive force between the biaxially stretched polyester film and the photosensitive composition layer is the polyethylene. The photosensitive film according to claim 1, which has a larger adhesive force between the film and the biaxially stretched polyester film.
【請求項3】 前記積層フィルムの前記ポリエチレンフ
ィルムの表面に前記感光性組成物層が塗布され、かつ、
二軸延伸ポリエステルフィルムとポリエチレンフィルム
との接着力が、前記ポリエチレンフィルムと感光性組成
物層との接着力よりも大きくされている請求項1記載の
感光性フィルム。
3. The surface of the polyethylene film of the laminated film is coated with the photosensitive composition layer, and
The photosensitive film according to claim 1, wherein the adhesive force between the biaxially stretched polyester film and the polyethylene film is made larger than the adhesive force between the polyethylene film and the photosensitive composition layer.
【請求項4】 感光性組成物層を含み前記感光性組成物
層に積層されたフィルムと前記感光性組成物層とが剥離
可能で可撓性を有する感光性フィルムにおいて、片面に
剥離材が塗布された二軸延伸ポリエステルフィルムの何
れかの面に、前記感光性組成物層が塗布され、前記感光
性組成物層が塗布された前記二軸延伸ポリエステルフィ
ルムを巻取って形成されることを特徴とする感光性フィ
ルム。
4. A photosensitive film which includes a photosensitive composition layer and is laminated on the photosensitive composition layer and the photosensitive composition layer is peelable, and has flexibility, wherein a release material is provided on one side. The photosensitive composition layer is coated on either surface of the coated biaxially stretched polyester film, and the photosensitive composition layer is formed by winding the biaxially stretched polyester film coated. Characteristic photosensitive film.
【請求項5】 感光性組成物層を含み前記感光性組成物
層に積層されたフィルムと前記感光性組成物層とが剥離
可能で可撓性を有する感光性フィルムにおいて、第1層
が二軸延伸ポリエステルフィルム、第2層が感光性組成
物層、第3層が保護フィルムからなる積層シートであ
り、前記保護フィルムが、ヤング率が10,000Kg
/cm2 以上、厚みが0.005mmないし0.2mm
のプラスチックフィルムにポリエチレンフィルムが積層
されてなり、前記ポリエチレンフィルムが前記感光性組
成物層と接することを特徴とする感光性フィルム。
5. A photosensitive film which includes a photosensitive composition layer and is laminated on the photosensitive composition layer and the photosensitive composition layer is peelable from each other and has flexibility, and the first layer is a second layer. An axially-stretched polyester film, a second layer is a photosensitive composition layer, and a third layer is a protective sheet comprising a protective film. The protective film has a Young's modulus of 10,000 Kg.
/ Cm 2 or more, thickness 0.005 mm to 0.2 mm
A polyethylene film is laminated on the plastic film, and the polyethylene film is in contact with the photosensitive composition layer.
【請求項6】 感光性組成物層を含み前記感光性組成物
層に積層されたフィルムと前記感光性組成物層とが剥離
可能で可撓性を有する感光性フィルムにおいて、二軸延
伸ポリエステルフィルムに感光性組成物層が塗工され、
前記二軸延伸ポリエステルフィルムの感光性組成物層塗
布面と、溶融押出ポリエチレンをTダイより押し出した
膜とがインラインで積層されてなることを特徴とする感
光性フィルム。
6. A biaxially stretched polyester film comprising a photosensitive film which includes a photosensitive composition layer and is laminated on the photosensitive composition layer and the photosensitive composition layer is peelable and flexible. Is coated with a photosensitive composition layer,
A photosensitive film comprising a biaxially stretched polyester film coated with a photosensitive composition layer and a film obtained by extruding a melt extruded polyethylene through a T die in-line.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0809151A1 (en) * 1996-05-20 1997-11-26 Teijin Limited Photoresist layer supporting film and photoresist film laminate
JP2001175000A (en) * 1999-10-12 2001-06-29 E I Du Pont De Nemours & Co Composite photosensitive element
JP2003029396A (en) * 2001-07-11 2003-01-29 Asahi Kasei Corp Structure for printing having non-infrared ray shielding layer
WO2006011548A1 (en) * 2004-07-30 2006-02-02 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive film, photosensitive film laminate and photosensitive film roll
JP2007279207A (en) * 2006-04-04 2007-10-25 Fujifilm Corp Photosensitive resin transfer material, color filter and method for producing the same, and image display device
JP2019511002A (en) * 2016-02-10 2019-04-18 マクダーミッド グラフィックス ソリューションズ エルエルシー Customizable printing plate and manufacturing method thereof

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0809151A1 (en) * 1996-05-20 1997-11-26 Teijin Limited Photoresist layer supporting film and photoresist film laminate
US5994027A (en) * 1996-05-20 1999-11-30 Teijin Limited Photoresist layer supporting film and photoresist film laminate
EP0961173A1 (en) * 1996-05-20 1999-12-01 Teijin Limited Photoresist layer supporting film
US6140013A (en) * 1996-05-20 2000-10-31 Teijin Limited Photoresist layer supporting film and photoresist film laminate
JP2001175000A (en) * 1999-10-12 2001-06-29 E I Du Pont De Nemours & Co Composite photosensitive element
JP2003029396A (en) * 2001-07-11 2003-01-29 Asahi Kasei Corp Structure for printing having non-infrared ray shielding layer
JP4610132B2 (en) * 2001-07-11 2011-01-12 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Printing composition having non-infrared shielding layer
WO2006011548A1 (en) * 2004-07-30 2006-02-02 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive film, photosensitive film laminate and photosensitive film roll
JP2007279207A (en) * 2006-04-04 2007-10-25 Fujifilm Corp Photosensitive resin transfer material, color filter and method for producing the same, and image display device
JP2019511002A (en) * 2016-02-10 2019-04-18 マクダーミッド グラフィックス ソリューションズ エルエルシー Customizable printing plate and manufacturing method thereof

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