JPH0995580A - ポリスチレン系樹脂組成物 - Google Patents
ポリスチレン系樹脂組成物Info
- Publication number
- JPH0995580A JPH0995580A JP25118395A JP25118395A JPH0995580A JP H0995580 A JPH0995580 A JP H0995580A JP 25118395 A JP25118395 A JP 25118395A JP 25118395 A JP25118395 A JP 25118395A JP H0995580 A JPH0995580 A JP H0995580A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- polystyrene
- silicon
- formula
- polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 熱特性に優れたポリスチレン系樹脂組成物を
提供する。 【解決手段】 一般式（１） で表される繰り返し構造を含むポリスチレン系ポリマー
またはポリスチレン系ポリマー共重合体１００重量部に
対して、０．００１〜５０重量部の一般式（２） （式中、Ｒ4は水素原子もしくは特定の基、Ｒ5は芳香族
基を含む特定の基を表す。）で表される繰り返し単位を
有する含ケイ素系ポリマーおよび／または、当該含ケイ
素系ポリマーの硬化物からなるポリスチレン系樹脂組成
物。
提供する。 【解決手段】 一般式（１） で表される繰り返し構造を含むポリスチレン系ポリマー
またはポリスチレン系ポリマー共重合体１００重量部に
対して、０．００１〜５０重量部の一般式（２） （式中、Ｒ4は水素原子もしくは特定の基、Ｒ5は芳香族
基を含む特定の基を表す。）で表される繰り返し単位を
有する含ケイ素系ポリマーおよび／または、当該含ケイ
素系ポリマーの硬化物からなるポリスチレン系樹脂組成
物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱特性に優れたポ
リスチレン系樹脂組成物に関する。
リスチレン系樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリスチレン系樹脂は日用品、外装材、
包装容器、電気部品など多岐多様に成形して使用されて
いる。一般に熱可塑性樹脂を射出成形などの方法により
成形加工する場合、成形温度が高いほど流動性が良くな
り、薄い部品や複雑な形状の部品が作り易くなる。従っ
て、より熱安定性が良い、即ち熱分解温度が高い樹脂が
望まれていた。
包装容器、電気部品など多岐多様に成形して使用されて
いる。一般に熱可塑性樹脂を射出成形などの方法により
成形加工する場合、成形温度が高いほど流動性が良くな
り、薄い部品や複雑な形状の部品が作り易くなる。従っ
て、より熱安定性が良い、即ち熱分解温度が高い樹脂が
望まれていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、前記課
題を解決するために鋭意検討した結果、特定の含ケイ素
系ポリマーを添加することにより、熱安定性が向上した
ポリスチレン系樹脂組成物が得られることを見いだし、
本発明に到達した。
題を解決するために鋭意検討した結果、特定の含ケイ素
系ポリマーを添加することにより、熱安定性が向上した
ポリスチレン系樹脂組成物が得られることを見いだし、
本発明に到達した。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式（１）
【０００５】
【化３】 （式中、Ｒ1、Ｒ2は水素原子またはメチル基、メトキシ
基、ハロゲン原子、Ｒ3はメチル基、メトキシ基、ビニ
ル基、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基，ニトロ基であ
る。ｍは０〜５の整数である。）で表される繰り返し構
造を含むポリスチレン系ポリマーまたはポリスチレン系
ポリマー共重合体１００重量部に対して、０．００１〜
５０重量部の一般式（２）
基、ハロゲン原子、Ｒ3はメチル基、メトキシ基、ビニ
ル基、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基，ニトロ基であ
る。ｍは０〜５の整数である。）で表される繰り返し構
造を含むポリスチレン系ポリマーまたはポリスチレン系
ポリマー共重合体１００重量部に対して、０．００１〜
５０重量部の一般式（２）
【０００６】
【化４】 （式中、Ｒ4は水素原子、炭素数１から３０のアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、Ｒ5はフェニレン基
やナフチレン基などの二価の芳香族基、芳香族基が直接
または架橋員により炭素数１から３０のアルキレン基、
アルケニレン基、アルキニレン基、芳香族基と連結した
基であり、これらの基はハロゲン原子、水酸基、アミノ
基、カルボキシル基などの置換基を含んでいてもよ
い。）で表される繰り返し単位を有する含ケイ素系ポリ
マーおよび／または、当該含ケイ素系ポリマーの硬化物
からなるポリスチレン系樹脂組成物を提供するものであ
る。
基、アルケニル基、アルキニル基、Ｒ5はフェニレン基
やナフチレン基などの二価の芳香族基、芳香族基が直接
または架橋員により炭素数１から３０のアルキレン基、
アルケニレン基、アルキニレン基、芳香族基と連結した
基であり、これらの基はハロゲン原子、水酸基、アミノ
基、カルボキシル基などの置換基を含んでいてもよ
い。）で表される繰り返し単位を有する含ケイ素系ポリ
マーおよび／または、当該含ケイ素系ポリマーの硬化物
からなるポリスチレン系樹脂組成物を提供するものであ
る。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明におけるポリスチレン系樹
脂組成物の一般式（１） （式中、Ｒ1、Ｒ2は水素原子
またはメチル基、メトキシ基、ハロゲン原子、Ｒ3はメ
チル基、メトキシ基、ビニル基、ハロゲン原子、水酸
基、アミノ基，ニトロ基である。ｍは０〜５の整数であ
る。）で表される繰り返し構造を含むポリスチレン系ポ
リマーは、具体的には、ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチ
ルスチレン）、ポリ（ｍ−メチルスチレン）、ポリ（ｏ
−メチルスチレン）、ポリ（ｐ−メトキシスチレン）、
ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ（ｐ−クロロス
チレン）、ポリ（２,５−ジクロロスチレン）、ポリ
（２,４−ジクロロスチレン）、ポリ（ｐ−ブロモスチ
レン）、ポリ（ｍ−ブロモスチレン）、ポリ（２,５−
ブロモスチレン）、ポリ（ｐ−フルオロメチルスチレ
ン）、ポリ（α−メチルスチレン）、ポリ（β−メチル
スチレン）、ポリ（ｐ−ジビニルベンゾール）、等が挙
げられる。重量平均分子量に特に制限はないが、好まし
くは１００００〜５００００００である。これらのポリ
マーとしては、一種または二種以上を共重合したものを
用いる。
脂組成物の一般式（１） （式中、Ｒ1、Ｒ2は水素原子
またはメチル基、メトキシ基、ハロゲン原子、Ｒ3はメ
チル基、メトキシ基、ビニル基、ハロゲン原子、水酸
基、アミノ基，ニトロ基である。ｍは０〜５の整数であ
る。）で表される繰り返し構造を含むポリスチレン系ポ
リマーは、具体的には、ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチ
ルスチレン）、ポリ（ｍ−メチルスチレン）、ポリ（ｏ
−メチルスチレン）、ポリ（ｐ−メトキシスチレン）、
ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）、ポリ（ｐ−クロロス
チレン）、ポリ（２,５−ジクロロスチレン）、ポリ
（２,４−ジクロロスチレン）、ポリ（ｐ−ブロモスチ
レン）、ポリ（ｍ−ブロモスチレン）、ポリ（２,５−
ブロモスチレン）、ポリ（ｐ−フルオロメチルスチレ
ン）、ポリ（α−メチルスチレン）、ポリ（β−メチル
スチレン）、ポリ（ｐ−ジビニルベンゾール）、等が挙
げられる。重量平均分子量に特に制限はないが、好まし
くは１００００〜５００００００である。これらのポリ
マーとしては、一種または二種以上を共重合したものを
用いる。
【０００８】また、ポリスチレン系ポリマー共重合体
は、具体的にはスチレン−アクリロニトリル共重合体
（ＡＳ樹脂）、スチレン−Ｎ−フェニルマレイミド共重
合体、スチレン−アクリロニトリル−アクリルアマイド
共重合体、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共
重合体（ＡＢＳ樹脂）、スチレン−アクリロニトリル−
ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエン−Ｎ−フェ
ニルマレイミド共重合体、スチレン−塩化ビニル共重合
体、スチレン−メタグリシジルアクリレート共重合体等
が挙げられる。
は、具体的にはスチレン−アクリロニトリル共重合体
（ＡＳ樹脂）、スチレン−Ｎ−フェニルマレイミド共重
合体、スチレン−アクリロニトリル−アクリルアマイド
共重合体、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共
重合体（ＡＢＳ樹脂）、スチレン−アクリロニトリル−
ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエン−Ｎ−フェ
ニルマレイミド共重合体、スチレン−塩化ビニル共重合
体、スチレン−メタグリシジルアクリレート共重合体等
が挙げられる。
【０００９】また、本発明で使用する一般式（２）
（式中、Ｒ4は水素原子、炭素数１から３０のアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、Ｒ5はフェニレン基
やナフチレン基などの二価の芳香族基、芳香族基が直接
または架橋員により炭素数１から３０のアルキレン基、
アルケニレン基、アルキニレン基、芳香族基と連結した
基であり、これらの基はハロゲン原子、水酸基、アミノ
基、カルボキシル基などの置換基を含んでいてもよ
い。）で表される繰り返し単位を有する含ケイ素系ポリ
マーは、具体的には繰り返し単位がシリレンエチニレン
−１,３−フェニレンエチニレン（化学式（３））
（式中、Ｒ4は水素原子、炭素数１から３０のアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、Ｒ5はフェニレン基
やナフチレン基などの二価の芳香族基、芳香族基が直接
または架橋員により炭素数１から３０のアルキレン基、
アルケニレン基、アルキニレン基、芳香族基と連結した
基であり、これらの基はハロゲン原子、水酸基、アミノ
基、カルボキシル基などの置換基を含んでいてもよ
い。）で表される繰り返し単位を有する含ケイ素系ポリ
マーは、具体的には繰り返し単位がシリレンエチニレン
−１,３−フェニレンエチニレン（化学式（３））
【００１０】
【化５】 、シリレンエチニレン−１,４−フェニレンエチニレ
ン、シリレンエチニレン−１,２−フェニレンエチニレ
ン、メチルシリレンエチニレン−１,３−フェニレンエ
チニレン（化学式（４））
ン、シリレンエチニレン−１,２−フェニレンエチニレ
ン、メチルシリレンエチニレン−１,３−フェニレンエ
チニレン（化学式（４））
【００１１】
【化６】 、メチルシリレンエチニレン−１,４−フェニレンエチ
ニレン、メチルシリレンエチニレン−１,２−フェニレ
ンエチニレン、フェニルシリレンエチニレン−１,３−
フェニレンエチニレン（化学式（５））
ニレン、メチルシリレンエチニレン−１,２−フェニレ
ンエチニレン、フェニルシリレンエチニレン−１,３−
フェニレンエチニレン（化学式（５））
【００１２】
【化７】 、フェニルシリレンエチニレン−１,４−フェニレンエ
チニレン、フェニルシリレンエチニレン−１,２−フェ
ニレンエチニレン、ヘキシルシリレンエチニレン−１,
３−フェニレンエチニレン、ビニルシリレンエチニレン
−１,３−フェニレンエチニレン、エチニルシリレンエ
チニレン−１,３−フェニレンエチニレン、２−プロペ
ニルシリレンエチニレン−１,３−フェニレンエチニレ
ン、２−プロピニルシリレンエチニレン−１,３−フェ
ニレンエチニレン、トリフルオメチルロシリレンエチニ
レン−１,３−フェニレンエチニレン、３,３,３−トリ
フルオロプロピルシリレンエチニレン−１,３−フェニ
レンエチニレン、４−メチルフェニルシリレンエチニレ
ン−１,３−フェニレンエチニレン（化学式（６））
チニレン、フェニルシリレンエチニレン−１,２−フェ
ニレンエチニレン、ヘキシルシリレンエチニレン−１,
３−フェニレンエチニレン、ビニルシリレンエチニレン
−１,３−フェニレンエチニレン、エチニルシリレンエ
チニレン−１,３−フェニレンエチニレン、２−プロペ
ニルシリレンエチニレン−１,３−フェニレンエチニレ
ン、２−プロピニルシリレンエチニレン−１,３−フェ
ニレンエチニレン、トリフルオメチルロシリレンエチニ
レン−１,３−フェニレンエチニレン、３,３,３−トリ
フルオロプロピルシリレンエチニレン−１,３−フェニ
レンエチニレン、４−メチルフェニルシリレンエチニレ
ン−１,３−フェニレンエチニレン（化学式（６））
【００１３】
【化８】 、４−ビニルフェニルシリレンエチニレン−１,３−フ
ェニレンエチニレン、シリレンエチニレン（５−メチル
−１,３−フェニレン）エチニレン、フェニルシリレン
エチニレン（５−メチル−１,３−フェニレン）エチニ
レン（化学式（７））
ェニレンエチニレン、シリレンエチニレン（５−メチル
−１,３−フェニレン）エチニレン、フェニルシリレン
エチニレン（５−メチル−１,３−フェニレン）エチニ
レン（化学式（７））
【００１４】
【化９】 、フェニルシリレンエチニレン（５−シリル−１,３−
フェニレン）エチニレン、フェニルシリレンエチニレン
（５−ヒドロキシ−１,３−フェニレン）エチニレン、
フェニルシリレンエチニレン−２,７−ナフチレンエチ
ニレン、シリレンエチニレン−５,１０−アントラセネ
ディルエチニレン、フェニルシリレンエチニレン−４,
４'−ビフェニレンエチニレン（化学式（８））
フェニレン）エチニレン、フェニルシリレンエチニレン
（５−ヒドロキシ−１,３−フェニレン）エチニレン、
フェニルシリレンエチニレン−２,７−ナフチレンエチ
ニレン、シリレンエチニレン−５,１０−アントラセネ
ディルエチニレン、フェニルシリレンエチニレン−４,
４'−ビフェニレンエチニレン（化学式（８））
【００１５】
【化１０】 、フェニルシリレンエチニレン−１,４−フェニレンメ
チレン−１',４'−フェニレンエチニレン、フェニルシ
リレンエチニレン−１,４−フェニレン−２,２−プロピ
リデン−１',４'−フェニレンエチニレン（化学式
（９））
チレン−１',４'−フェニレンエチニレン、フェニルシ
リレンエチニレン−１,４−フェニレン−２,２−プロピ
リデン−１',４'−フェニレンエチニレン（化学式
（９））
【００１６】
【化１１】 、フェニルシリレンエチニレン−１,４−フェニレンオ
キシ−１',４'−フェニレンエチニレン（化学式（１
０））
キシ−１',４'−フェニレンエチニレン（化学式（１
０））
【００１７】
【化１２】 、フェニルシリレンエチニレン−２,５−ピリジネディ
ルエチニレン、フェニルシリレンエチニレン−２,５−
チオフェネディリルエチニレン、メチルシリレンエチニ
レンメチレンエチニレン、フェニルシリレン−１,４−
フェニレン（フェニルシリレン）エチニレン−１',３'
−フェニレンエチニレン（化学式（１１））
ルエチニレン、フェニルシリレンエチニレン−２,５−
チオフェネディリルエチニレン、メチルシリレンエチニ
レンメチレンエチニレン、フェニルシリレン−１,４−
フェニレン（フェニルシリレン）エチニレン−１',３'
−フェニレンエチニレン（化学式（１１））
【００１８】
【化１３】 、フェニルシリレンオキシ（フェニルシリレン）エチニ
レン−１',３'−フェニレンエチニレン（化学式（１
２））
レン−１',３'−フェニレンエチニレン（化学式（１
２））
【００１９】
【化１４】 、フェニルシリレンオキシ（フェニルシリレン）エチニ
レン−１',４'−フェニレンエチニレン、フェニルシリ
レンイミノ（フェニルシリレン）エチニレン−１',３'
−フェニレンエチニレン（化学式（１３））
レン−１',４'−フェニレンエチニレン、フェニルシリ
レンイミノ（フェニルシリレン）エチニレン−１',３'
−フェニレンエチニレン（化学式（１３））
【００２０】
【化１５】 またはフェニルシリレンイミノ（フェニルシリレン）エ
チニレン−１',４'−フェニレンエチニレン等が挙げら
れる。重量平均分子量に特に制限はないが、好ましくは
５００〜５０００００である。これらの含ケイ素系ポリ
マーの形態は常温で固体もしくは液状である。
チニレン−１',４'−フェニレンエチニレン等が挙げら
れる。重量平均分子量に特に制限はないが、好ましくは
５００〜５０００００である。これらの含ケイ素系ポリ
マーの形態は常温で固体もしくは液状である。
【００２１】一般式（２）で表される繰り返し単位を有
する含ケイ素系ポリマーの製造方法としては、塩基性酸
化物を触媒としてジエチニル化合物とシラン化合物の脱
水素共重合を行う方法（特開平７−９００８５）や、有
機マグネシウム試薬とジクロロシラン類を反応させる方
法（特願平５−１７６４２１）、塩化第一銅と三級アミ
ンを触媒としてジエチニル化合物とシラン化合物の脱水
素共重合を行う方法（Hua Qin Liu and John F. Harro
d, The Canadian Journal of Chemistry, Vol.68, 1100
-1105(1990)）等が使用できるが、特にこれらの方法に
限定されるものではない。
する含ケイ素系ポリマーの製造方法としては、塩基性酸
化物を触媒としてジエチニル化合物とシラン化合物の脱
水素共重合を行う方法（特開平７−９００８５）や、有
機マグネシウム試薬とジクロロシラン類を反応させる方
法（特願平５−１７６４２１）、塩化第一銅と三級アミ
ンを触媒としてジエチニル化合物とシラン化合物の脱水
素共重合を行う方法（Hua Qin Liu and John F. Harro
d, The Canadian Journal of Chemistry, Vol.68, 1100
-1105(1990)）等が使用できるが、特にこれらの方法に
限定されるものではない。
【００２２】一般式（２） （式中、Ｒ4は水素原子、
炭素数１から３０のアルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、Ｒ5はフェニレン基やナフチレン基などの二価
の芳香族基、芳香族基が直接または架橋員により炭素数
１から３０のアルキレン基、アルケニレン基、アルキニ
レン基、芳香族基と連結した基であり、これらの基はハ
ロゲン原子、水酸基、アミノ基、カルボキシル基などの
置換基を含んでいてもよい。）で表される繰り返し単位
を有する含ケイ素系ポリマーの硬化物は、一般式（２）
で表される繰り返し単位を有する含ケイ素系ポリマーの
熱による硬化、遷移金属、遷移金属錯体またはラジカル
開始剤を用いた反応による硬化のような方法を用いて製
造できるが、本発明はこれらの製造方法に特に限定され
るものではない。
炭素数１から３０のアルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、Ｒ5はフェニレン基やナフチレン基などの二価
の芳香族基、芳香族基が直接または架橋員により炭素数
１から３０のアルキレン基、アルケニレン基、アルキニ
レン基、芳香族基と連結した基であり、これらの基はハ
ロゲン原子、水酸基、アミノ基、カルボキシル基などの
置換基を含んでいてもよい。）で表される繰り返し単位
を有する含ケイ素系ポリマーの硬化物は、一般式（２）
で表される繰り返し単位を有する含ケイ素系ポリマーの
熱による硬化、遷移金属、遷移金属錯体またはラジカル
開始剤を用いた反応による硬化のような方法を用いて製
造できるが、本発明はこれらの製造方法に特に限定され
るものではない。
【００２３】熱で硬化させる場合は窒素、アルゴン等の
不活性ガス中、または減圧下で行う。加熱温度は５０〜
７００℃が適切である。加熱時間については特に制限は
ないが、１分〜１００時間が適切である。温度や時間
は、含ケイ素高分子化合物の種類、形状、形態によって
異なる。
不活性ガス中、または減圧下で行う。加熱温度は５０〜
７００℃が適切である。加熱時間については特に制限は
ないが、１分〜１００時間が適切である。温度や時間
は、含ケイ素高分子化合物の種類、形状、形態によって
異なる。
【００２４】次に遷移金属、遷移金属錯体またはラジカ
ル開始剤を用いた反応による硬化物の製造方法について
述べる。本発明は、下記の製造法の例のみに限定される
ものではない。反応容器内に一般式（２）で表される含
ケイ素高分子化合物、および遷移金属、遷移金属錯体ま
たはラジカル開始剤（触媒）および必要に応じて溶媒を
仕込む。これらの反応容器への仕込みの順序は特に限定
されるものではない。これらを同時に、または原料や遷
移金属、遷移金属錯体またはラジカル開始剤（触媒）な
いしは両方を反応中に連続してもしくは断続的に反応容
器内に供給してもよい。反応容器内は反応前に高純度窒
素、高純度アルゴン等の不活性ガスで置換することが好
ましい。反応容器を所定の反応温度に制御しつつ、攪拌
しながら所定の時間反応させる。目的の化合物は反応液
から濾過など通常の方法で容易に分離精製することがで
きる。
ル開始剤を用いた反応による硬化物の製造方法について
述べる。本発明は、下記の製造法の例のみに限定される
ものではない。反応容器内に一般式（２）で表される含
ケイ素高分子化合物、および遷移金属、遷移金属錯体ま
たはラジカル開始剤（触媒）および必要に応じて溶媒を
仕込む。これらの反応容器への仕込みの順序は特に限定
されるものではない。これらを同時に、または原料や遷
移金属、遷移金属錯体またはラジカル開始剤（触媒）な
いしは両方を反応中に連続してもしくは断続的に反応容
器内に供給してもよい。反応容器内は反応前に高純度窒
素、高純度アルゴン等の不活性ガスで置換することが好
ましい。反応容器を所定の反応温度に制御しつつ、攪拌
しながら所定の時間反応させる。目的の化合物は反応液
から濾過など通常の方法で容易に分離精製することがで
きる。
【００２５】遷移金属としては、周期律表の第８族の遷
移金属、例えば、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウ
ム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、
白金等が挙げられる。
移金属、例えば、鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウ
ム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、
白金等が挙げられる。
【００２６】また、遷移金属錯体としては、周期律表の
第８族の遷移金属の錯体、例えば、RhXL3（式中、Xはハ
ロゲン原子を、Lはホスフィン、ホスフィナイト、ホス
フォナイト、またはホスファイトを示す。以下同様）、
Rh4(CO)12、Rh6(CO)16、[RhX(CO)2]2、RhX(CO)L2、RhH
(CO)L3、[RhX(CH2=CH2)2]2、[RhX(COD)]2（式中、CODは
シクロオクタジエンを示す。以下同様）、[CpRhX2]
2（式中、Cpはシクロペンタジエニル基またはペンタメ
チルシクロペンタジエニル基を示す。以下同様）、CpRh
(CH2=CH2)2、RuX2L3、Ru(CO)5、Ru(CO)2L3、Ru(CO)4L、
Ru3(CO)12、RuL5、[RuX2(CO)3]2、RuXH(CO)L3、RuH
2L4、RuH4L3、RuX2(RCN)L2（式中、Rはアルキル基、ア
リール基またはアラルキル基を示す。以下同様）、[CpR
uX2]2、Ru(COD)(COT)（式中、COTはシクロオクタテトラ
エンを示す。以下同様）、Fe(CO)5、Fe(CO)3L2、Os3(C
O)12、OsH2(CO)L3、Co2(CO)8、Co2(CO)5L2、Co4(C
O)12、HCo(CO)4、CoXL3、Ir4(CO)12、IrX(CO)L2、[IrX
(CH2=CH2)2]2、IrX(CH2=CH2)L2、[IrX(COD)]2、IrXL3、
IrH5L2、Ni(CO)4、Ni(COD)2、Ni(CH2=CH2)L2、NiL4、Ni
X2L2、PdX2(RCN)2、PdX2L2、PdX2(RNC)2、Pd(OCOC
H3)2、PdL4、Pd(CO)L3、Pd(CH2=CH2)L2、Pd(COD)2、Pd
(dba)2（式中、dbaはジベンジリデンアセトンを示す。
以下同様）、PtX2(RCN)2、PtX2(COD)、PtX2L2、[PtX2(C
H2=CH2)]2、Pt(COD)2、PtL4、PtL3、Pt(CO)L3、PtHX
L2、Pt(dba)2などが挙げられるが、これらに限定される
ものではない。これらの触媒は助触媒として触媒の１〜
１０等量のNEt3、PPh3等の配位子を加えて用いてもよ
い。例を挙げれば、PtCl2(PPh3)2にNEt3を２等量加えて
用いる、Pd(dba)2にPPh3を２等量加えて用いる等であ
る。また、これらの錯体は単独で、もしくは２種以上の
混合物として用いることもできる。
第８族の遷移金属の錯体、例えば、RhXL3（式中、Xはハ
ロゲン原子を、Lはホスフィン、ホスフィナイト、ホス
フォナイト、またはホスファイトを示す。以下同様）、
Rh4(CO)12、Rh6(CO)16、[RhX(CO)2]2、RhX(CO)L2、RhH
(CO)L3、[RhX(CH2=CH2)2]2、[RhX(COD)]2（式中、CODは
シクロオクタジエンを示す。以下同様）、[CpRhX2]
2（式中、Cpはシクロペンタジエニル基またはペンタメ
チルシクロペンタジエニル基を示す。以下同様）、CpRh
(CH2=CH2)2、RuX2L3、Ru(CO)5、Ru(CO)2L3、Ru(CO)4L、
Ru3(CO)12、RuL5、[RuX2(CO)3]2、RuXH(CO)L3、RuH
2L4、RuH4L3、RuX2(RCN)L2（式中、Rはアルキル基、ア
リール基またはアラルキル基を示す。以下同様）、[CpR
uX2]2、Ru(COD)(COT)（式中、COTはシクロオクタテトラ
エンを示す。以下同様）、Fe(CO)5、Fe(CO)3L2、Os3(C
O)12、OsH2(CO)L3、Co2(CO)8、Co2(CO)5L2、Co4(C
O)12、HCo(CO)4、CoXL3、Ir4(CO)12、IrX(CO)L2、[IrX
(CH2=CH2)2]2、IrX(CH2=CH2)L2、[IrX(COD)]2、IrXL3、
IrH5L2、Ni(CO)4、Ni(COD)2、Ni(CH2=CH2)L2、NiL4、Ni
X2L2、PdX2(RCN)2、PdX2L2、PdX2(RNC)2、Pd(OCOC
H3)2、PdL4、Pd(CO)L3、Pd(CH2=CH2)L2、Pd(COD)2、Pd
(dba)2（式中、dbaはジベンジリデンアセトンを示す。
以下同様）、PtX2(RCN)2、PtX2(COD)、PtX2L2、[PtX2(C
H2=CH2)]2、Pt(COD)2、PtL4、PtL3、Pt(CO)L3、PtHX
L2、Pt(dba)2などが挙げられるが、これらに限定される
ものではない。これらの触媒は助触媒として触媒の１〜
１０等量のNEt3、PPh3等の配位子を加えて用いてもよ
い。例を挙げれば、PtCl2(PPh3)2にNEt3を２等量加えて
用いる、Pd(dba)2にPPh3を２等量加えて用いる等であ
る。また、これらの錯体は単独で、もしくは２種以上の
混合物として用いることもできる。
【００２７】また、ラジカル開始剤としては、ジ−ｔ−
ブチルペルオキシド、クメンペルオキシド、シクロヘキ
サンペルオキシド、メチルエチルケトンペルオキシド、
ジクミルペルオキシド、ｔ−ブチルヒドロペルオキシ
ド、クメンヒドロペルオキシドなど、過酸化ベンゾイ
ル、過酸化ラウロイル、次亜硝酸ｔ−ブチル、アゾビス
イソブチロニトリル、アゾビスジメチルバレロニトリ
ル、アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロ
ニトリル）、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、
アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、アゾビスイソ
酪酸ジメチル、アゾビスアミジノプロパン塩酸塩、アゾ
ビスシアノ吉草酸、アゾビス［２−（２−イミダゾリン
−２−イル)プロパン］、アゾビス［２−メチル−Ｎ−
（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド］、アゾビ
ス［２−（ヒドロキシメチル）プロピオニトリル］、ア
ゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）、過硫酸ア
ンモン、過硫酸カリウムなどの過硫酸塩、過酸化水素-
鉄（II）塩、過硫酸塩−亜硫酸水素ナトリウム、クメン
ヒドロペルオキシド−鉄（II）塩、過酸化ベンゾイル−
ジメチルアニリンなど、ジイソプロピルペルオキシジカ
ルボナート、ジシクロヘキシルペルオキシジカルボナー
トなど、過酸化物（過酸化水素、ｔ−ブチルヒドロペル
オキシドなど）−金属アルキル（トリエチルアルミニウ
ム、トリエチルホウ素、ジエチル亜鉛など）、酸素−金
属アルキル、過酸化アセチルなどがある。好ましくは、
アゾビスイソブチロニトリルである。
ブチルペルオキシド、クメンペルオキシド、シクロヘキ
サンペルオキシド、メチルエチルケトンペルオキシド、
ジクミルペルオキシド、ｔ−ブチルヒドロペルオキシ
ド、クメンヒドロペルオキシドなど、過酸化ベンゾイ
ル、過酸化ラウロイル、次亜硝酸ｔ−ブチル、アゾビス
イソブチロニトリル、アゾビスジメチルバレロニトリ
ル、アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロ
ニトリル）、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、
アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、アゾビスイソ
酪酸ジメチル、アゾビスアミジノプロパン塩酸塩、アゾ
ビスシアノ吉草酸、アゾビス［２−（２−イミダゾリン
−２−イル)プロパン］、アゾビス［２−メチル−Ｎ−
（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド］、アゾビ
ス［２−（ヒドロキシメチル）プロピオニトリル］、ア
ゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）、過硫酸ア
ンモン、過硫酸カリウムなどの過硫酸塩、過酸化水素-
鉄（II）塩、過硫酸塩−亜硫酸水素ナトリウム、クメン
ヒドロペルオキシド−鉄（II）塩、過酸化ベンゾイル−
ジメチルアニリンなど、ジイソプロピルペルオキシジカ
ルボナート、ジシクロヘキシルペルオキシジカルボナー
トなど、過酸化物（過酸化水素、ｔ−ブチルヒドロペル
オキシドなど）−金属アルキル（トリエチルアルミニウ
ム、トリエチルホウ素、ジエチル亜鉛など）、酸素−金
属アルキル、過酸化アセチルなどがある。好ましくは、
アゾビスイソブチロニトリルである。
【００２８】また、この場合更に助触媒（促進剤）とし
てジメチルアニリン、CoもしくはMnナフテートなどを用
いることができる。また、反応速度をコントロールする
ために、反応抑制剤としてメルカプタン類、芳香族ニト
ロ化合物などを同時に用いることができる。
てジメチルアニリン、CoもしくはMnナフテートなどを用
いることができる。また、反応速度をコントロールする
ために、反応抑制剤としてメルカプタン類、芳香族ニト
ロ化合物などを同時に用いることができる。
【００２９】遷移金属または遷移金属錯体の使用量は一
般式（２）で表される繰り返し単位１ｍｏｌに対して
０．０００１〜０．５ｍｏｌ、好ましくは０．００１〜
０．１ｍｏｌである。ラジカル開始剤の使用量は一般式
（２）で表される含ケイ素高分子化合物１ｇに対して
０．０００１〜０．５ｇ、好ましくは０．００１〜０．
１ｇである。
般式（２）で表される繰り返し単位１ｍｏｌに対して
０．０００１〜０．５ｍｏｌ、好ましくは０．００１〜
０．１ｍｏｌである。ラジカル開始剤の使用量は一般式
（２）で表される含ケイ素高分子化合物１ｇに対して
０．０００１〜０．５ｇ、好ましくは０．００１〜０．
１ｇである。
【００３０】溶媒はベンゼンやトルエン等の芳香族系溶
剤、シクロヘキサンやｎ−ヘプタン等の飽和炭化水素系
溶剤、ジエチルエーテルやテトラヒドロフラン等のエー
テル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド
系溶剤等が有効に用いられる。溶媒の量は一般式（２）
で表される含ケイ素高分子化合物１ｇに対して１〜５０
００ｍｌ、好ましくは５〜１０００ｍｌである。
剤、シクロヘキサンやｎ−ヘプタン等の飽和炭化水素系
溶剤、ジエチルエーテルやテトラヒドロフラン等のエー
テル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド
系溶剤等が有効に用いられる。溶媒の量は一般式（２）
で表される含ケイ素高分子化合物１ｇに対して１〜５０
００ｍｌ、好ましくは５〜１０００ｍｌである。
【００３１】反応温度は遷移金属、遷移金属錯体または
ラジカル開始剤の種類によって決まるが、−５０〜５０
０℃、好ましくは−３０〜２００℃である。反応させる
ときの圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれでもよいが、
常圧が好ましい。反応時間は仕込んだ化合物や触媒の量
にもよるが１分〜１００時間、好ましくは１０分〜５０
時間が適当である。
ラジカル開始剤の種類によって決まるが、−５０〜５０
０℃、好ましくは−３０〜２００℃である。反応させる
ときの圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれでもよいが、
常圧が好ましい。反応時間は仕込んだ化合物や触媒の量
にもよるが１分〜１００時間、好ましくは１０分〜５０
時間が適当である。
【００３２】これらの含ケイ素系ポリマーおよび／また
は、当該含ケイ素系ポリマーの硬化物の使用量として
は、一般式（１）で表される繰り返し構造を含むポリス
チレン系ポリマーまたはポリスチレン系ポリマー共重合
体１００重量部に対して、０．００１〜５０重量部、好
ましくは０．０１〜１０重量部である。
は、当該含ケイ素系ポリマーの硬化物の使用量として
は、一般式（１）で表される繰り返し構造を含むポリス
チレン系ポリマーまたはポリスチレン系ポリマー共重合
体１００重量部に対して、０．００１〜５０重量部、好
ましくは０．０１〜１０重量部である。
【００３３】本発明の組成物を調製する方法としては、
通常公知の方法により製造できるが、例えば次に示す方
法等は好ましい方法である。 （１）ポリスチレン系ポリマーまたはポリスチレン系ポ
リマー共重合体をあらかじめ有機溶剤に溶解もしくは懸
濁させ、この溶液に含ケイ素系ポリマーを添加し、均一
に溶解あるいは分散させた後、溶媒を除去または貧溶媒
中で分散析出して粉状とする。 （２）ポリスチレン系ポリマーまたはポリスチレン系ポ
リマー共重合体の樹脂粉末と含ケイ素系ポリマー粉末を
乳鉢、ヘンシェルミキサー、ドラムブレンダー、タンブ
ラーブレンダー、ボールミルリボンブレンダー等を用い
て予備混練し粉状とする。
通常公知の方法により製造できるが、例えば次に示す方
法等は好ましい方法である。 （１）ポリスチレン系ポリマーまたはポリスチレン系ポ
リマー共重合体をあらかじめ有機溶剤に溶解もしくは懸
濁させ、この溶液に含ケイ素系ポリマーを添加し、均一
に溶解あるいは分散させた後、溶媒を除去または貧溶媒
中で分散析出して粉状とする。 （２）ポリスチレン系ポリマーまたはポリスチレン系ポ
リマー共重合体の樹脂粉末と含ケイ素系ポリマー粉末を
乳鉢、ヘンシェルミキサー、ドラムブレンダー、タンブ
ラーブレンダー、ボールミルリボンブレンダー等を用い
て予備混練し粉状とする。
【００３４】（１）において、ポリマーを溶解する場合
に使用できる有機溶剤としては、ベンゼン、トルエン、
キシレンなどの芳香族系溶媒、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンなどのエーテル系溶媒、アセトン、シクロヘキ
サノンなどのケトン系溶媒、Ｎ,Ｎ−ジメチルイミダゾ
リディノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、Ｎ−メチルピロリドンなどの有機極性溶媒などが
挙げられる。また、ポリマーを分散析出する場合に使用
できる貧溶媒にはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オク
タンなどの脂肪族炭化水素やメタノール、エタノール、
プロパノールなどの脂肪族アルコールが挙げられる。
に使用できる有機溶剤としては、ベンゼン、トルエン、
キシレンなどの芳香族系溶媒、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンなどのエーテル系溶媒、アセトン、シクロヘキ
サノンなどのケトン系溶媒、Ｎ,Ｎ−ジメチルイミダゾ
リディノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、Ｎ−メチルピロリドンなどの有機極性溶媒などが
挙げられる。また、ポリマーを分散析出する場合に使用
できる貧溶媒にはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オク
タンなどの脂肪族炭化水素やメタノール、エタノール、
プロパノールなどの脂肪族アルコールが挙げられる。
【００３５】このようにして得られた粉状ポリスチレン
系樹脂組成物は、そのまま各種成形用途、即ち射出成
形、圧縮成形、トランスファー成形、押出成形などに用
いられるが、溶融ブレンドしてから用いるのは更に好ま
しい方法である。ことに前記組成物を混合調製するにあ
たり、粉どうし、ペレットどうし、あるいは粉とペレッ
トを混合溶融するのも簡易な方法である。
系樹脂組成物は、そのまま各種成形用途、即ち射出成
形、圧縮成形、トランスファー成形、押出成形などに用
いられるが、溶融ブレンドしてから用いるのは更に好ま
しい方法である。ことに前記組成物を混合調製するにあ
たり、粉どうし、ペレットどうし、あるいは粉とペレッ
トを混合溶融するのも簡易な方法である。
【００３６】溶融ブレンドには通常のプラスチック類ま
たはゴム類を溶融ブレンドするのに用いられる装置、例
えば、熱ロール、バンバリーミキサー、ブラベンダー、
押し出し機を利用することもできる。溶融温度は配合系
が溶融可能な温度以上で、かつ配合系が熱分解し始める
温度以上に設定されるが、その温度は１５０〜３１０
℃、好ましくは１８０〜２８０℃である。本発明の樹脂
組成物の成形方法としては、均一溶融ブレンド体を形成
し、かつ生産性の高い押出成形、または射出成形が適用
であるが、その他、トランスファー成形、圧縮成形等も
使用可能である。なお、本発明のポリスチレン系樹脂に
対して、本発明の目的を損なわない範囲で可塑剤、酸化
防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、難燃性剤、難燃助
剤、帯電防止剤、潤滑剤、着色剤を一種または二種以上
添加することができる。
たはゴム類を溶融ブレンドするのに用いられる装置、例
えば、熱ロール、バンバリーミキサー、ブラベンダー、
押し出し機を利用することもできる。溶融温度は配合系
が溶融可能な温度以上で、かつ配合系が熱分解し始める
温度以上に設定されるが、その温度は１５０〜３１０
℃、好ましくは１８０〜２８０℃である。本発明の樹脂
組成物の成形方法としては、均一溶融ブレンド体を形成
し、かつ生産性の高い押出成形、または射出成形が適用
であるが、その他、トランスファー成形、圧縮成形等も
使用可能である。なお、本発明のポリスチレン系樹脂に
対して、本発明の目的を損なわない範囲で可塑剤、酸化
防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、難燃性剤、難燃助
剤、帯電防止剤、潤滑剤、着色剤を一種または二種以上
添加することができる。
【００３７】
【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例によって説
明する。 合成例１ 特開平７−９００８５号に記載されている方法に基づき
ポリ（フェニルシリレンエチニレン−１,３−フェニレ
ンエチニレン）を合成した。粒径が３０〜６０メッシュ
の水酸化マグネシウム７．２ｇを石英焼成管に仕込み、
０．３ｍｍＨｇの減圧下において３５０℃で３時間熱分
解して５．０ｇの酸化マグネシウムを得た。１００ｍｌ
のガラス製容器の内部に磁気攪拌子を設置し、容器内を
高純度窒素ガスで置換した。続いて容器内に原料のジエ
チニルベンゼン２．５２ｇ（２０ｍｍｏｌ）とフェニル
シラン２．１６ｇ（２０ｍｍｏｌ）及び溶媒としてトル
エン４０ｍｌを仕込み、攪拌しながら先に得た酸化マグ
ネシウム５．０ｇを窒素シール下で加えた。３０℃で１
時間、４０℃で１時間、５０℃で１時間、６０℃で１時
間、さらに８０℃で２時間攪拌後、反応液をガラスフィ
ルターで濾過し触媒を除去した。さらに反応液を濃縮
後、ヘプタン２００ｍｌ中でポリマーを析出させ２．８
１ｇの目的生成物であるポリ（フェニルシリレンエチニ
レン−１,３−フェニレンエチニレン）（以後ＭＳＰ−
１と略称する。）が得られた。収率は６１％であった。
ＧＰＣ（ゲル透過クロマトグラフィー）によるポリスチ
レン換算重量平均分子量は６９００であった。
明する。 合成例１ 特開平７−９００８５号に記載されている方法に基づき
ポリ（フェニルシリレンエチニレン−１,３−フェニレ
ンエチニレン）を合成した。粒径が３０〜６０メッシュ
の水酸化マグネシウム７．２ｇを石英焼成管に仕込み、
０．３ｍｍＨｇの減圧下において３５０℃で３時間熱分
解して５．０ｇの酸化マグネシウムを得た。１００ｍｌ
のガラス製容器の内部に磁気攪拌子を設置し、容器内を
高純度窒素ガスで置換した。続いて容器内に原料のジエ
チニルベンゼン２．５２ｇ（２０ｍｍｏｌ）とフェニル
シラン２．１６ｇ（２０ｍｍｏｌ）及び溶媒としてトル
エン４０ｍｌを仕込み、攪拌しながら先に得た酸化マグ
ネシウム５．０ｇを窒素シール下で加えた。３０℃で１
時間、４０℃で１時間、５０℃で１時間、６０℃で１時
間、さらに８０℃で２時間攪拌後、反応液をガラスフィ
ルターで濾過し触媒を除去した。さらに反応液を濃縮
後、ヘプタン２００ｍｌ中でポリマーを析出させ２．８
１ｇの目的生成物であるポリ（フェニルシリレンエチニ
レン−１,３−フェニレンエチニレン）（以後ＭＳＰ−
１と略称する。）が得られた。収率は６１％であった。
ＧＰＣ（ゲル透過クロマトグラフィー）によるポリスチ
レン換算重量平均分子量は６９００であった。
【００３８】実施例１ 重量平均分子量３５万のポリスチレンを１．８０ｇと合
成例１で得られたＭＳＰ−１を０．２０ｇをテトラヒド
ロフラン１０ｍｌに溶かし、メタノール１００ｍｌ中で
析出させた。得られたポリスチレン系樹脂を真空乾燥器
により６０℃で一晩乾燥させた。 （メタノールを蒸発
させたところ残滓は、０．０２ｇであった。） 次に、このポリスチレン系樹脂の熱物性をＴＧＡ（熱重
量分析）−ＤＴＡ（示差熱分析）により空気及びアルゴ
ン気流中でＪＩＳ規格に基づき測定した。空気気流中に
おける熱分解温度を表１及び図１、アルゴン気流中にお
ける熱分解温度を表２及び図２に示した。
成例１で得られたＭＳＰ−１を０．２０ｇをテトラヒド
ロフラン１０ｍｌに溶かし、メタノール１００ｍｌ中で
析出させた。得られたポリスチレン系樹脂を真空乾燥器
により６０℃で一晩乾燥させた。 （メタノールを蒸発
させたところ残滓は、０．０２ｇであった。） 次に、このポリスチレン系樹脂の熱物性をＴＧＡ（熱重
量分析）−ＤＴＡ（示差熱分析）により空気及びアルゴ
ン気流中でＪＩＳ規格に基づき測定した。空気気流中に
おける熱分解温度を表１及び図１、アルゴン気流中にお
ける熱分解温度を表２及び図２に示した。
【００３９】実施例２ 重量平均分子量３５万のポリスチレンを２．００２４ｇ
と合成例１で得られたＭＳＰ−１を０．２ｍｇをテトラ
ヒドロフラン５ｍｌに溶かし、ガラス板上で蒸発乾燥さ
せてフィルム状にした。 得られたポリスチレン系樹脂
を真空乾燥器により６０℃で一晩乾燥させた後、空気中
における熱物性を測定した。結果を表１示した。
と合成例１で得られたＭＳＰ−１を０．２ｍｇをテトラ
ヒドロフラン５ｍｌに溶かし、ガラス板上で蒸発乾燥さ
せてフィルム状にした。 得られたポリスチレン系樹脂
を真空乾燥器により６０℃で一晩乾燥させた後、空気中
における熱物性を測定した。結果を表１示した。
【００４０】実施例３〜４ ポリスチレンとＭＳＰ−１の混合比率を変え、その他は
実施例２と同じ条件にしてポリスチレン系樹脂組成物を
作成し空気気流中における熱物性を測定した。混合比率
と熱分解温度を表１に示した。
実施例２と同じ条件にしてポリスチレン系樹脂組成物を
作成し空気気流中における熱物性を測定した。混合比率
と熱分解温度を表１に示した。
【００４１】実施例５ ポリスチレンとＭＳＰ−１の混合比率を変え、その他は
実施例１と同じ条件にしてポリスチレン系樹脂組成物を
作成し（メタノールを蒸発させたところ残滓は、０．０
２ｇであった。）空気気流中における熱物性を測定し
た。 混合比率と熱分解温度を表１に示した。
実施例１と同じ条件にしてポリスチレン系樹脂組成物を
作成し（メタノールを蒸発させたところ残滓は、０．０
２ｇであった。）空気気流中における熱物性を測定し
た。 混合比率と熱分解温度を表１に示した。
【００４２】実施例６ ポリスチレンを０．４５ｇとＭＳＰ−１を０．０５ｇを
乳鉢でよく混練し、アルゴン気流中における熱物性を測
定した。測定結果を表２に示す。
乳鉢でよく混練し、アルゴン気流中における熱物性を測
定した。測定結果を表２に示す。
【００４３】比較例１ ポリスチレン２．００ｇを実施例１と同様の処理を行い
（メタノールを蒸発させたところ残滓は、０．０２ｇで
あった。）空気及びアルゴン気流中の熱物性を測定し
た。空気気流中における熱分解温度を表１及び図１に、
アルゴン気流中における熱分解温度を表２及び図２に示
した。
（メタノールを蒸発させたところ残滓は、０．０２ｇで
あった。）空気及びアルゴン気流中の熱物性を測定し
た。空気気流中における熱分解温度を表１及び図１に、
アルゴン気流中における熱分解温度を表２及び図２に示
した。
【００４４】
【表１】
【００４５】
【表２】
【００４６】
【発明の効果】ポリスチレン系樹脂に含ケイ素系ポリマ
ーを添加することにより、熱安定性に優れたポリスチレ
ン系樹脂組成物を提供することが出来た。
ーを添加することにより、熱安定性に優れたポリスチレ
ン系樹脂組成物を提供することが出来た。
【図１】比較例１で調製したポリスチレン及び実施例１
で調製したＭＳＰ-１を１０％含むポリスチレン樹脂組
成物の空気気流中におけるＴＧＡ曲線である。
で調製したＭＳＰ-１を１０％含むポリスチレン樹脂組
成物の空気気流中におけるＴＧＡ曲線である。
【図２】比較例１で調製したポリスチレン及び実施例１
で調製したＭＳＰ-１を１０％含むポリスチレン樹脂組
成物のアルゴン気流中におけるＴＧＡ曲線である。
で調製したＭＳＰ-１を１０％含むポリスチレン樹脂組
成物のアルゴン気流中におけるＴＧＡ曲線である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩田 健二 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 伊藤 正義 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 雨宮 英夫 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2は水素原子またはメチル基、メトキシ
基、ハロゲン原子、Ｒ3はメチル基、メトキシ基、ビニ
ル基、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基，ニトロ基であ
る。ｍは０〜５の整数である。）で表される繰り返し構
造を含むポリスチレン系ポリマーまたはポリスチレン系
ポリマー共重合体１００重量部に対して、０．００１〜
５０重量部の一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ4は水素原子、炭素数１から３０のアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、Ｒ5はフェニレン基
やナフチレン基などの二価の芳香族基、芳香族基が直接
または架橋員により炭素数１から３０のアルキレン基、
アルケニレン基、アルキニレン基、芳香族基と連結した
基であり、これらの基はハロゲン原子、水酸基、アミノ
基、カルボキシル基などの置換基を含んでいてもよ
い。）で表される繰り返し単位を有する含ケイ素系ポリ
マーおよび／または、当該含ケイ素系ポリマーの硬化物
からなるポリスチレン系樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25118395A JPH0995580A (ja) | 1995-09-28 | 1995-09-28 | ポリスチレン系樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25118395A JPH0995580A (ja) | 1995-09-28 | 1995-09-28 | ポリスチレン系樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0995580A true JPH0995580A (ja) | 1997-04-08 |
Family
ID=17218922
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25118395A Pending JPH0995580A (ja) | 1995-09-28 | 1995-09-28 | ポリスチレン系樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0995580A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7539376B2 (en) | 2002-11-27 | 2009-05-26 | International Business Machines Corporation | Optically connectable circuit board with optical component(s) mounted thereon |
-
1995
- 1995-09-28 JP JP25118395A patent/JPH0995580A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7539376B2 (en) | 2002-11-27 | 2009-05-26 | International Business Machines Corporation | Optically connectable circuit board with optical component(s) mounted thereon |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3953522B2 (ja) | 熱可塑性成形材料 | |
| EP1854814A1 (en) | Hyper-branched polymer and process for production of the same | |
| JP2000355605A (ja) | マクロモノマー連鎖移動剤を用いる重合方法、およびその方法により得られる重合体 | |
| CN101484477B (zh) | 产生聚合材料的方法、聚合物、单体化合物和制备单体化合物的方法 | |
| US3179640A (en) | Hydroxyfluoroalkyl-substituted styrenes, their polymers and their preparation | |
| JP6203391B2 (ja) | 共役ジエン系重合体、その製造方法及びそれを含む組成物 | |
| JPH0995580A (ja) | ポリスチレン系樹脂組成物 | |
| KR100604087B1 (ko) | 고유동, 고광택 고무 변성 스티렌계 수지의 연속 제조방법 | |
| KR100751022B1 (ko) | 초고광택 고무 변성 스티렌계 수지의 연속 제조 방법 | |
| TWI242577B (en) | Rubber modified styrene system resin composition | |
| TWI247021B (en) | Flame retardant styrenic resin composition | |
| JP2017145409A (ja) | 開環メタセシス共重合体の水素添加物の製造方法およびその水素添加物 | |
| JPS63275614A (ja) | パラ置換フェニルアセチレン類重合体の製造方法 | |
| KR20010013165A (ko) | 장쇄 분지 신디오택틱 비닐 방향족 중합체 | |
| KR101727351B1 (ko) | 감소된 오염물 입자 함량을 갖는 무수물-함유 비닐방향족-비닐 시아니드 공중합체의 제조 방법 | |
| US2865889A (en) | Reduced copolymers | |
| KR100587650B1 (ko) | 실용충격강도가 우수한 고무변성 스티렌계 수지의 연속제조 방법 | |
| JPH07304875A (ja) | 含ケイ素高分子化合物の硬化物 | |
| US5306794A (en) | Method of producing copolymer | |
| JPS614701A (ja) | 高分子量熱可塑性樹脂の製造方法 | |
| JP2833202B2 (ja) | アクリロニトリル―ビニル芳香族―ジエン含有エラストマー系樹脂組成物 | |
| JP3487518B2 (ja) | 熱可塑性共重合体の製造方法 | |
| JP3367575B2 (ja) | 熱可塑性共重合体組成物 | |
| JPS62235302A (ja) | カルボキシル基末端を有するポリスチレンの製造方法 | |
| JP3776462B2 (ja) | 共重合体の製造方法 |