JPH098286A - 電界効果トランジスタ - Google Patents

電界効果トランジスタ

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JPH098286A
JPH098286A JP15958595A JP15958595A JPH098286A JP H098286 A JPH098286 A JP H098286A JP 15958595 A JP15958595 A JP 15958595A JP 15958595 A JP15958595 A JP 15958595A JP H098286 A JPH098286 A JP H098286A
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JP
Japan
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gate electrode
transmission line
semiconductor substrate
input signal
impedance
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP15958595A
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English (en)
Inventor
Kiyoshi Nagai
清 長井
Tomoji Hamada
智次 濱田
Seiji Nishi
清次 西
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Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Publication date
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  • Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 FETを用いて高周波用増幅器を構成する場
合、入力部に入力信号の伝送線路とのインピーダンス整
合部を設けなければならないという点を解決し、FET
の内部にインピーダンス整合部を設ける。 【構成】 ゲート電極端子15とゲート電極14との間
にインピーダンス変換部16が設けられ、入力信号を伝
送する第1の伝送線路と、ソース電極12とゲート電極
14とで構成される第2の伝送線路とのインピーダンス
の不整合が抑制される。更に、ゲート電極14とソース
電極12間に、該ゲート電極14と該ソース電極12と
で構成された第2の伝送線路の特性インピーダンスZ1
に抵抗値が一致するように設定された抵抗体17が接続
されているので、該第2の伝送線路が終端され、伝送信
号の反射が抑制される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば高周波回路等に
使用される高周波用の電界効果トランジスタ(以下、F
ETという)に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図2は、従来のFETの一例を示す構造
図である。このFETでは、半導体基板1の一方の面全
体に図示しないグランドプレーンが形成され、他方の面
のソース領域上にソース電極2及びドレイン領域上にド
レイン電極3が設けられている。更に、ソース電極2と
ドレイン電極3との間にゲート電極4が配置され、該ゲ
ート電極4に電圧を印加するためのゲート電極端子5が
設けられている。このFETを例えばソース接地型増幅
器に使用する場合、ソース電極2を接地し、ゲート電極
4を信号入力部、及びドレイン電極3を信号出力部とし
て使用する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図2の
FETでは、次のような課題があった。即ち、高周波回
路では、通常、特性インピーダンスが50Ωの信号ライ
ンを使用して信号の伝送を行う。ところが、図2に示す
構造のFETでは、入力インピーダンスであるゲートと
ソース間のインピーダンスは、略ゲート電極4のインダ
クタンス成分及び該ゲート電極4とソース電極2間の静
電容量成分で決まる。そのため、入力インピーダンスは
周波数特性をもち、50Ωとは大きく異なるので、伝送
信号の反射が生じる。この反射を防止するためには、例
えばインダクタンスやキャパシタンス等を用いてゲート
電極端子5の外部に50Ωラインとの整合回路を設ける
必要がある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するために、半導体基板と、前記半導体基板の一方の
面に形成されたドレイン電極と、前記半導体基板の一方
の面に形成されたソース電極と、前記ドレイン電極と前
記ソース電極との間に形成され、該ドレイン電極と該ソ
ース電極との間の抵抗値を入力信号の電圧に基づいて制
御するゲート電極と、前記半導体基板の一方の面に形成
され、前記ゲート電極に前記入力信号の電圧を印加する
ためのゲート電極端子と、前記半導体基板の他方の面の
前記ドレイン電極、前記ソース電極、前記ゲート電極、
及び前記ゲート電極端子に対して十分広い領域に導電体
を用いて形成されたグランドプレーンとを、備えた電界
効果トランジスタにおいて、次のような手段を設けてい
る。即ち、前記ゲート電極端子と前記ゲート電極の前記
入力信号を入力する送端とを接続するように形成され、
前記入力信号を前記ゲート電極端子へ入力する第1の伝
送線路の特性インピーダンスと前記ドレイン電極又は前
記ソース電極と前記ゲート電極とで構成される第2の伝
送線路の特性インピーダンスとの相乗平均で決定される
特性インピーダンスを有し、かつ該特性インピーダンス
と前記半導体基板の誘電率及び厚さとに基づいて決定さ
れる幅を有し、かつ前記入力信号の前記半導体基板上に
おける波長の1/4の奇数倍の長さを有するインピーダ
ンス変換部と、前記第2の伝送線路の受端に接続され、
該第2の伝送線路の特性インピーダンスと同一の抵抗値
を有する抵抗体とを、設けている。
【0005】
【作用】本発明によれば、以上のようにFETを構成し
たので、半導体基板の一方の面に形成されたグランドプ
レーンとインピーダンス変換部とでマイクロストリップ
ラインが構成され、該マイクロストリップラインが第1
の伝送線路と第2の伝送線路との特性インピーダンス整
合する働きをする。更に、第2の伝送線路の受端に接続
された該第2の伝送線路の特性インピーダンスと同一の
抵抗値を有する抵抗体は、該第2の伝送線路を終端し、
伝送信号の反射を抑制する働きをする。従って、前記課
題を解決できるのである。
【0006】
【実施例】図1は、本発明の実施例を示すFETの一例
を示す構造図である。このFETでは、半導体基板11
の一方の面全体に図示しないグランドプレーンが形成さ
れ、他方の面にソース電極12及びドレイン電極13が
設けられている。更に、ソース電極12とドレイン電極
13との間にゲート電極14が配置され、該ゲート電極
14の一方の端部(即ち、送端)がインピーダンス変換
部16を介してゲート電極端子15に接続されている。
ゲート電極14とソース電極12間は、該ゲート電極1
4のインダクタンス成分及び該ゲート電極14とソース
電極12間の静電容量成分によって伝送線路を構成して
いると考えることができる。以下、この伝送線路を第2
の伝送線路と呼ぶ。ゲート電極端子15に接続される第
1の伝送線路には、通常、特性インピーダンスが50Ω
の伝送線路が使用されている。一方、第2の伝送線路の
特性インピーダンスZ1は50Ωとは異なる。このた
め、図1のFETでは、これらの2つの特性インピーダ
ンスを整合させるために、前記インピーダンス変換部1
6が設けられている。
【0007】インピーダンス変換部16は、その特性イ
ンピーダンスZ2が次式(1)で決まり、長さは、入力
信号の半導体基板11上における波長の1/4になるよ
うに設定する。
【0008】
【数1】 但し、 Z0;第1の伝送線路の特性インピーダンス Z1;第2の伝送線路の特性インピーダンス 又、インピーダンス変換部16のラインの幅は、特性イ
ンピーダンスZ2、半導体基板の誘電率、及び該半導体
基板の厚さに基づいて決定される。更に、ゲート電極1
4とソース電極12とで構成された第2の伝送線路の受
端には、該第2の伝送線路の特性インピーダンスと同一
の抵抗値を有する抵抗体17が接続されている。抵抗体
17の形成方法は、例えば、半導体基板11上にTaN
(窒化タンタル)等の金属被膜を蒸着やスパッタリング
等で形成する方法や、半導体基板11の抵抗率を変えて
抵抗体とする方法等がある。
【0009】次に、動作を説明する。図1に示すFET
を例えばソース接地型増幅器に使用する場合、ソース電
極12Aを接地し、ゲート電極14を信号入力部、及び
ドレイン電極13を信号出力部として使用する。このF
ETでは、ゲート電極端子15とゲート電極14との間
に、インピーダンス変換部16が設けられているので、
半導体基板11の一方の面に形成されたグランドプレー
ンとインピーダンス変換部16とでマイクロストリップ
ラインが構成され、該マイクロストリップラインが第1
の伝送線路と第2の伝送線路との特性インピーダンスを
整合する働きをする。更に、このFETでは、ゲート電
極14とソース電極12間に、ゲート電極14とソース
電極12とで構成された第2の伝送線路の特性インピー
ダンスZ1に一致するように抵抗値が設定された抵抗体
17が接続されているので、該第2の伝送線路が終端さ
れ、伝送信号の反射が抑制される。以上のように、本実
施例では、次のような利点がある。
【0010】(1) ゲート電極端子15とゲート電極
14との間に、インピーダンス変換部16を設けたの
で、第1の伝送線路と第2の伝送線路とのインピーダン
スの不整合が抑制される。 (2) 第2の伝送線路の受端に該第2の伝送線路の特
性インピーダンスと同一の抵抗値を有する抵抗体17を
接続したので、該第2の伝送線路が終端される。そのた
め、伝送信号の反射が抑制される。 (3) 前記(1)及び(2)から、FETの外部にイ
ンピーダンス整合回路を設ける必要がなくなる。 尚、本発明は上記実施例に限定されず、種々の変形が可
能である。その変形例としては、例えば次のようなもの
がある。
【0011】(a) 実施例では、ゲート電極14の一
方の端部にインピーダンス変換部16を設ける場合を示
したが、インピーダンス変換部がゲート電極14の中央
部に接続されるような構造についても、該インピーダン
ス変換部の両側にソース電極をそれぞれ設け、該各ソー
ス電極とゲート電極14の両端とをそれぞれ抵抗体を介
して接続することにより、実施例とほぼ同様の作用、効
果が得られる。 (b) インピーダンス変換部16の長さは、入力信号
の半導体基板11上における波長の1/4に限らず、そ
の奇数倍の長さでもよい。 (c) 実施例では、FETをソース接地型増幅器に使
用する場合を示したが、このFETをドレイン接地型増
幅器に使用する場合は、ゲート電極14とソース電極1
3とで構成される伝送線路の受端に、この伝送線路の伝
送線路の特性インピーダンスと同一の抵抗値を有する抵
抗体を接続する。
【0012】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、ゲート電極端子とゲート電極との間にインピーダ
ンス変換部を設けたので、第1の伝送線路と第2の伝送
線路とのインピーダンスの不整合を抑制できる。更に、
第2の伝送線路の受端に該第2の伝送線路の特性インピ
ーダンスと同一の抵抗値を有する抵抗体を接続したの
で、該第2の伝送線路が終端され、伝送信号の反射を抑
制できる。従って、従来のようにFETの外部にインピ
ーダンス整合回路を設ける必要がない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示すFETの一例を示す構造
図である。
【図2】従来のFETの一例を示す構造図である。
【符号の説明】
1,11 半導体基板 2,12 ソース電極 3,13 ドレイン電極 4,14 ゲート電極 5,15 ゲート電極端
子 6 インピーダン
ス変換部 7 抵抗体

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体基板と、 前記半導体基板の一方の面に形成されたドレイン電極
    と、 前記半導体基板の一方の面に形成されたソース電極と、 前記ドレイン電極と前記ソース電極との間に形成され、
    該ドレイン電極と該ソース電極との間の抵抗値を入力信
    号の電圧に基づいて制御するゲート電極と、 前記半導体基板の一方の面に形成され、前記ゲート電極
    に前記入力信号の電圧を印加するためのゲート電極端子
    と、 前記半導体基板の他方の面の前記ドレイン電極、前記ソ
    ース電極、前記ゲート電極、及び前記ゲート電極端子に
    対して十分広い領域に導電体を用いて形成されたグラン
    ドプレーンとを、 備えた電界効果トランジスタにおいて、 前記ゲート電極端子と前記ゲート電極の前記入力信号を
    入力する送端とを接続するように形成され、前記入力信
    号を前記ゲート電極端子へ入力する第1の伝送線路の特
    性インピーダンスと前記ドレイン電極又は前記ソース電
    極と前記ゲート電極とで構成される第2の伝送線路の特
    性インピーダンスとの相乗平均で決定される特性インピ
    ーダンスを有し、かつ該特性インピーダンスと前記半導
    体基板の誘電率及び厚さとに基づいて決定される幅を有
    し、かつ前記入力信号の前記半導体基板上における波長
    の1/4の奇数倍の長さを有するインピーダンス変換部
    と、 前記第2の伝送線路の受端に接続され、該第2の伝送線
    路の特性インピーダンスと同一の抵抗値を有する抵抗体
    とを、 設けたこと特徴とする電界効果トランジスタ。
JP15958595A 1995-06-26 1995-06-26 電界効果トランジスタ Withdrawn JPH098286A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6351015B1 (en) 1999-02-01 2002-02-26 Nec Corporation Transistor device of MOS structure in which variation of output impedance resulting from manufacturing error is reduced
CN110326091A (zh) * 2017-02-27 2019-10-11 松下知识产权经营株式会社 高频用晶体管

Cited By (3)

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US6351015B1 (en) 1999-02-01 2002-02-26 Nec Corporation Transistor device of MOS structure in which variation of output impedance resulting from manufacturing error is reduced
CN110326091A (zh) * 2017-02-27 2019-10-11 松下知识产权经营株式会社 高频用晶体管
CN110326091B (zh) * 2017-02-27 2023-05-23 新唐科技日本株式会社 高频用晶体管

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