JPH097992A - ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法及びその装置 - Google Patents
ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法及びその装置Info
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- JPH097992A JPH097992A JP17936295A JP17936295A JPH097992A JP H097992 A JPH097992 A JP H097992A JP 17936295 A JP17936295 A JP 17936295A JP 17936295 A JP17936295 A JP 17936295A JP H097992 A JPH097992 A JP H097992A
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Landscapes
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体ウエーハを保管、あるいは輸送するた
めのウエーハケースに付着するパーティクル及びウエー
ハケース自体から発生するパーティクルの双方を、比較
的簡単な構造かつ低コストの装置で以って定量的に検知
し、評価する方法を提供する。 【構成】 ウエーハ収納部材（ウエーハケース）のう
ち、ウエーハケース本体の内部に収納されるウエーハバ
スケット、ウエーハ押さえ等の内部収納部材を純水が注
入された容量内に収め、これに低周波振動又は超音波振
動を附与し、純水中のパーティクルの個数をカウントす
るように構成する。
めのウエーハケースに付着するパーティクル及びウエー
ハケース自体から発生するパーティクルの双方を、比較
的簡単な構造かつ低コストの装置で以って定量的に検知
し、評価する方法を提供する。 【構成】 ウエーハ収納部材（ウエーハケース）のう
ち、ウエーハケース本体の内部に収納されるウエーハバ
スケット、ウエーハ押さえ等の内部収納部材を純水が注
入された容量内に収め、これに低周波振動又は超音波振
動を附与し、純水中のパーティクルの個数をカウントす
るように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はシリコン・ガリウム砒素
等からなる半導体ウエーハ（以下ウエーハと略称する）
の保管又は輸送に用いられるウエーハ収納部材（以下ウ
エーハケースという）の清浄度を測定・評価する方法、
特にウエーハケースに付着するかもしくはウエーハケー
ス自体から発生する微粒子異物即ちパーティクルを定量
的に測定・評価する清浄度測定・評価方法及びこれに使
用される装置に関する。
等からなる半導体ウエーハ（以下ウエーハと略称する）
の保管又は輸送に用いられるウエーハ収納部材（以下ウ
エーハケースという）の清浄度を測定・評価する方法、
特にウエーハケースに付着するかもしくはウエーハケー
ス自体から発生する微粒子異物即ちパーティクルを定量
的に測定・評価する清浄度測定・評価方法及びこれに使
用される装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ウエーハを保管あるいは輸送するための
ウエーハケース５０は、図３に示されるように、多数の
ウエーハ１００を並列に収納するためのひだ部を備えた
ウエーハバスケット５３と該バスケット５３を収納する
ウエーハケース本体１と、該ウエーハケース本体１の上
方開口部を覆蓋する上蓋５２と、ウエーハバスケット５
３内のウエーハ１００を押さえて保持するためのウエー
ハ押さえ５４とパッキン５５とにより構成されている。
ウエーハケース５０は、図３に示されるように、多数の
ウエーハ１００を並列に収納するためのひだ部を備えた
ウエーハバスケット５３と該バスケット５３を収納する
ウエーハケース本体１と、該ウエーハケース本体１の上
方開口部を覆蓋する上蓋５２と、ウエーハバスケット５
３内のウエーハ１００を押さえて保持するためのウエー
ハ押さえ５４とパッキン５５とにより構成されている。
【０００３】前記ウエーハケース５０にあっては、その
内部に収納するウエーハ１００を保管あるいは輸送する
際に、ウエーハの表面に付着するパーティクルを極力少
なくするため、該ウエーハケース５０の清浄度を常時高
く保持することが要求される。
内部に収納するウエーハ１００を保管あるいは輸送する
際に、ウエーハの表面に付着するパーティクルを極力少
なくするため、該ウエーハケース５０の清浄度を常時高
く保持することが要求される。
【０００４】通常前記ウエーハケース５０には、ポリプ
ロピレン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂を所望の
形状に射出成形したものが使用されている。このため、
ウエーハケース５０の成形後には前記パーティクルがそ
の表面に付着していることが多く、このような状態にあ
るウエーハケース５０を用いてウエーハ１００を保管あ
るいは輸送する際には、ケースの成形後にその清浄度の
測定評価を行い、ケース表面に付着しているパーティク
ルを除去する必要がある。
ロピレン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂を所望の
形状に射出成形したものが使用されている。このため、
ウエーハケース５０の成形後には前記パーティクルがそ
の表面に付着していることが多く、このような状態にあ
るウエーハケース５０を用いてウエーハ１００を保管あ
るいは輸送する際には、ケースの成形後にその清浄度の
測定評価を行い、ケース表面に付着しているパーティク
ルを除去する必要がある。
【０００５】かかるウエーハケース５０の清浄度の評価
方法特にパーティクルの付着状況の検知方法としては、
従来、 （１）ウエーハケース洗浄後のケース内面に残留してい
るパーティクルを目視にて検知する。 （２）ウエーハケース洗浄用のリンス水中に存在するパ
ーティクルをカウントする。
方法特にパーティクルの付着状況の検知方法としては、
従来、 （１）ウエーハケース洗浄後のケース内面に残留してい
るパーティクルを目視にて検知する。 （２）ウエーハケース洗浄用のリンス水中に存在するパ
ーティクルをカウントする。
【０００６】（３）特開平５−１０９８５７号に示され
るように、クリーンエアの雰囲気内において、ウエーハ
バスケットの底部よりウエーハ回転器によりウエーハを
一定時間回転せしめ、ウエーハバスケットの内壁に設け
られたウエーハ保持用の溝とウエーハの外縁との摩擦に
よって発生した塵埃の量を塵埃測定器にて測定し、予め
設定した塵埃量の限界値を超えた場合は、清浄度が不良
と判定する。等の清浄度評価方法が提供されている。
るように、クリーンエアの雰囲気内において、ウエーハ
バスケットの底部よりウエーハ回転器によりウエーハを
一定時間回転せしめ、ウエーハバスケットの内壁に設け
られたウエーハ保持用の溝とウエーハの外縁との摩擦に
よって発生した塵埃の量を塵埃測定器にて測定し、予め
設定した塵埃量の限界値を超えた場合は、清浄度が不良
と判定する。等の清浄度評価方法が提供されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のウエーハケース清浄度の検知・評価方法には次のよ
うな問題点あるいは不備点がある。
来のウエーハケース清浄度の検知・評価方法には次のよ
うな問題点あるいは不備点がある。
【０００８】（１）前記（１）項に示す目視による方法
にあっては、検知可能なパーティクルは比較的粒径が大
きいものに限られ、最近の半導体集積回路の微細化に伴
い、より微小なパーティクルの検出が要求されている現
状には適応できない。また目視のみであるので定量性が
無い。
にあっては、検知可能なパーティクルは比較的粒径が大
きいものに限られ、最近の半導体集積回路の微細化に伴
い、より微小なパーティクルの検出が要求されている現
状には適応できない。また目視のみであるので定量性が
無い。
【０００９】（２）前記（２）項に示す方法にあって
は、洗浄後のリンス水中のパーティクルをカウントする
方法であるため、洗浄時にリンス水中に混入されずに除
去されなかったパーティクルの存在があり得るにも拘ら
ず、このパーティクルは定量的に検知できず、またウエ
ーハケース自体から発生するパーティクルも検知不可能
である。
は、洗浄後のリンス水中のパーティクルをカウントする
方法であるため、洗浄時にリンス水中に混入されずに除
去されなかったパーティクルの存在があり得るにも拘ら
ず、このパーティクルは定量的に検知できず、またウエ
ーハケース自体から発生するパーティクルも検知不可能
である。
【００１０】（３）前記（３）項に示す方法にあって
は、上記（１），（２）のような不具合点は無いが、ウ
エーハを回転させるための回転機構及びその附属装置
等、多くの附属機器を必要とし、検知装置の構造が複雑
になり、かつ高コストとなる。
は、上記（１），（２）のような不具合点は無いが、ウ
エーハを回転させるための回転機構及びその附属装置
等、多くの附属機器を必要とし、検知装置の構造が複雑
になり、かつ高コストとなる。
【００１１】本発明の目的は、半導体ウエーハを保管、
あるいは輸送するためのウエーハケースに付着するパー
ティクル及びウエーハケース自体から発生するパーティ
クルの双方を、比較的簡単な構造かつ低コストの装置で
以って定量的に検知し、評価する方法を提供することで
ある。
あるいは輸送するためのウエーハケースに付着するパー
ティクル及びウエーハケース自体から発生するパーティ
クルの双方を、比較的簡単な構造かつ低コストの装置で
以って定量的に検知し、評価する方法を提供することで
ある。
【００１２】また本発明の他の目的は、近年資源保護や
環境対応のため樹脂材からなるウエーハケースを廃棄す
ることなく再利用することが求められていることに鑑
み、ウエーハケースの再利用のための、洗浄後のウエー
ハケース洗浄度の評価方法を提供することである。
環境対応のため樹脂材からなるウエーハケースを廃棄す
ることなく再利用することが求められていることに鑑
み、ウエーハケースの再利用のための、洗浄後のウエー
ハケース洗浄度の評価方法を提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は前記ウエーハケ
ースを構成する部材のうち、ウエーハケース本体の内部
に収納されるウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の
内部収納部材の清浄度を測定、評価する方法及びその装
置に係り、その第１の手段は、半導体ウエーハが収納さ
れるウエーハバスケットと、該ウエーハバスケット用の
ウエーハ押さえと、これらウエーハバスケット及びウエ
ーハ押さえを収納するウエーハケース本体と、該本体を
覆蓋する上蓋とにより構成されるウエーハケースにおい
て、前記ウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の前記
ウエーハケースの内部に収納される内部収納部材の清浄
度を測定・評価するにあたり、前記内部収納部材を有底
の容器内に収納して該容器に一定量の純水を注入し、次
いで該容器を加振機上に載置して前記純水の液面の安定
後でかつ加振前に液中パーティクルの個数をカウント
し、次いで前記加振機により低周波振動を一定時間印加
し、その後に再度純水中のパーティクルの個数をカウン
トして加振前後のパーティクルの増加個数を求め、該パ
ーティクルの増加個数により前記内部収納部材の清浄度
を評価することを特徴とするウエーハ収納部材の清浄度
測定・評価方法にある。
ースを構成する部材のうち、ウエーハケース本体の内部
に収納されるウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の
内部収納部材の清浄度を測定、評価する方法及びその装
置に係り、その第１の手段は、半導体ウエーハが収納さ
れるウエーハバスケットと、該ウエーハバスケット用の
ウエーハ押さえと、これらウエーハバスケット及びウエ
ーハ押さえを収納するウエーハケース本体と、該本体を
覆蓋する上蓋とにより構成されるウエーハケースにおい
て、前記ウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の前記
ウエーハケースの内部に収納される内部収納部材の清浄
度を測定・評価するにあたり、前記内部収納部材を有底
の容器内に収納して該容器に一定量の純水を注入し、次
いで該容器を加振機上に載置して前記純水の液面の安定
後でかつ加振前に液中パーティクルの個数をカウント
し、次いで前記加振機により低周波振動を一定時間印加
し、その後に再度純水中のパーティクルの個数をカウン
トして加振前後のパーティクルの増加個数を求め、該パ
ーティクルの増加個数により前記内部収納部材の清浄度
を評価することを特徴とするウエーハ収納部材の清浄度
測定・評価方法にある。
【００１４】また第２の手段は、上記第１の手段におい
て、前記低周波振動を正弦波振動に設定することにあ
り、第３の手段は振動数を５０Ｈｚ〜２０００Ｈｚに設
定することにあり、また第４の手段は振動の加速度を２
Ｇ〜５０Ｇに設定することにあり、さらに第５の手段は
前記低周波振動を鉛直方向に印加することにある。
て、前記低周波振動を正弦波振動に設定することにあ
り、第３の手段は振動数を５０Ｈｚ〜２０００Ｈｚに設
定することにあり、また第４の手段は振動の加速度を２
Ｇ〜５０Ｇに設定することにあり、さらに第５の手段は
前記低周波振動を鉛直方向に印加することにある。
【００１５】本発明の第６の手段は、前記内部収納部材
に、これを純水中に浸漬せしめて収容した容器を介して
超音波を印加する手法であり、半導体ウエーハが収納さ
れるウエーハバスケットと、該ウエーハバスケット用の
ウエーハ押さえと、これらウエーハバスケット及びウエ
ーハ押さえを収納するウエーハケース本体と、該本体を
覆蓋する上蓋とにより構成されるウエーハケースにおい
て、前記ウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の前記
ウエーハケースの内部に収納される内部収納部材の清浄
度を測定・評価するにあたり、前記内部収納部材を有底
の容器内に収納し、該容器に一定量の純水を注入して超
音波発振器を備えた水槽内に配置し、前記純水の液面の
安定後でかつ加振前に液中パーティクルの個数をカウン
トし、次いで前記超音波発振器により超音波を一定時間
印加し、その後に再度純水中のパーティクルの個数をカ
ウントして超音波印加前後のパーティクルの増加個数を
求め、該パーティクルの増加個数により前記内部収納部
材の清浄度を評価することを特徴とするウエーハ収納部
材の清浄度測定・評価方法にある。
に、これを純水中に浸漬せしめて収容した容器を介して
超音波を印加する手法であり、半導体ウエーハが収納さ
れるウエーハバスケットと、該ウエーハバスケット用の
ウエーハ押さえと、これらウエーハバスケット及びウエ
ーハ押さえを収納するウエーハケース本体と、該本体を
覆蓋する上蓋とにより構成されるウエーハケースにおい
て、前記ウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の前記
ウエーハケースの内部に収納される内部収納部材の清浄
度を測定・評価するにあたり、前記内部収納部材を有底
の容器内に収納し、該容器に一定量の純水を注入して超
音波発振器を備えた水槽内に配置し、前記純水の液面の
安定後でかつ加振前に液中パーティクルの個数をカウン
トし、次いで前記超音波発振器により超音波を一定時間
印加し、その後に再度純水中のパーティクルの個数をカ
ウントして超音波印加前後のパーティクルの増加個数を
求め、該パーティクルの増加個数により前記内部収納部
材の清浄度を評価することを特徴とするウエーハ収納部
材の清浄度測定・評価方法にある。
【００１６】また第７の手段は、第６の手段において、
超音波の周波数を２０ｋＨｚ〜５０ｋＨｚに設定するこ
とにあり、第８の手段は超音波の出力を３００Ｗ〜４０
０Ｗに設定することにある。
超音波の周波数を２０ｋＨｚ〜５０ｋＨｚに設定するこ
とにあり、第８の手段は超音波の出力を３００Ｗ〜４０
０Ｗに設定することにある。
【００１７】また第９の手段は前記第６〜第８の手段に
おいて、前記超音波発振器と容器内の純水中に浸漬され
た内部収納部材との間で超音波減衰装置により超音波を
減衰せしめ、減衰された超音波を前記内部収納部材に印
加することにある。
おいて、前記超音波発振器と容器内の純水中に浸漬され
た内部収納部材との間で超音波減衰装置により超音波を
減衰せしめ、減衰された超音波を前記内部収納部材に印
加することにある。
【００１８】さらに第１０の手段は、前記第１、第６の
手段において、純水の液面が前記収納部材の上端から５
ｍｍ上位ないし４０ｍｍ下位になるように前記容器内に
注入されることである。
手段において、純水の液面が前記収納部材の上端から５
ｍｍ上位ないし４０ｍｍ下位になるように前記容器内に
注入されることである。
【００１９】第１１の手段は、前記容器内の内部収納部
材に低周波振動を印加するための装置に係り、半導体ウ
エーハが収納されるウエーハバスケットと、該ウエーハ
バスケット用のウエーハ押さえと、これらウエーハバス
ケット及びウエーハ押さえを収納するウエーハケース本
体と、該本体を覆蓋する上蓋とにより構成されるウエー
ハケースにおいて、前記ウエーハバスケット、ウエーハ
押さえ等の前記ウエーハケースの内部に収納される内部
収納部材の清浄度を測定・評価する装置であって、純水
が注入され該純水中に前記内部収納部材が浸漬された有
底の容器と、該容器を加振する加振機と、前記容器内の
純水中に接続され、該純水中のパーティクルの量を測定
するパーティクル測定装置とを備えたことを特徴とする
ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価装置である。
材に低周波振動を印加するための装置に係り、半導体ウ
エーハが収納されるウエーハバスケットと、該ウエーハ
バスケット用のウエーハ押さえと、これらウエーハバス
ケット及びウエーハ押さえを収納するウエーハケース本
体と、該本体を覆蓋する上蓋とにより構成されるウエー
ハケースにおいて、前記ウエーハバスケット、ウエーハ
押さえ等の前記ウエーハケースの内部に収納される内部
収納部材の清浄度を測定・評価する装置であって、純水
が注入され該純水中に前記内部収納部材が浸漬された有
底の容器と、該容器を加振する加振機と、前記容器内の
純水中に接続され、該純水中のパーティクルの量を測定
するパーティクル測定装置とを備えたことを特徴とする
ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価装置である。
【００２０】第１２の手段は前記容器内の純水中に浸漬
された内部収納部材に超音波に印加するための装置に係
り、半導体ウエーハが収納されるウエーハバスケット
と、該ウエーハバスケット用のウエーハ押さえと、これ
らウエーハバスケット及びウエーハ押さえを収納するウ
エーハケース本体と、該本体を覆蓋する上蓋とにより構
成されるウエーハケースにおいて、前記ウエーハバスケ
ット、ウエーハ押さえ等の前記ウエーハケースの内部に
収納される内部収納部材の清浄度を測定・評価する装置
であって、純水が注入され、該純水中に前記内部収納部
材が浸漬される有底の容器と、該容器をその外壁面が水
中に浸漬された状態で収容する水槽と、該水槽内の前記
容器の下方に設置され該容器内の内部収納部材に超音波
を印加する超音波発振器と、前記容器の純水中に接続さ
れ、該純水中のパーティクルの量を測定するパーティク
ル測定装置とを備えたことを特徴とするウエーハ収納部
材の清浄度測定・評価装置である。
された内部収納部材に超音波に印加するための装置に係
り、半導体ウエーハが収納されるウエーハバスケット
と、該ウエーハバスケット用のウエーハ押さえと、これ
らウエーハバスケット及びウエーハ押さえを収納するウ
エーハケース本体と、該本体を覆蓋する上蓋とにより構
成されるウエーハケースにおいて、前記ウエーハバスケ
ット、ウエーハ押さえ等の前記ウエーハケースの内部に
収納される内部収納部材の清浄度を測定・評価する装置
であって、純水が注入され、該純水中に前記内部収納部
材が浸漬される有底の容器と、該容器をその外壁面が水
中に浸漬された状態で収容する水槽と、該水槽内の前記
容器の下方に設置され該容器内の内部収納部材に超音波
を印加する超音波発振器と、前記容器の純水中に接続さ
れ、該純水中のパーティクルの量を測定するパーティク
ル測定装置とを備えたことを特徴とするウエーハ収納部
材の清浄度測定・評価装置である。
【００２１】さらに第１３の手段は、第１２の手段にお
いて、前記超音波発振器と前記容器との間に超音波を減
衰する超音波減衰装置を設けたことである。
いて、前記超音波発振器と前記容器との間に超音波を減
衰する超音波減衰装置を設けたことである。
【００２２】前記第１１〜第１３の手段におけるパーテ
ィクル測定装置としては、液中パーティクルが測定可能
なものであって、パーティクルの大きさ０．１μｍ程度
までのパーティクルが測定可能なものが好適である。
ィクル測定装置としては、液中パーティクルが測定可能
なものであって、パーティクルの大きさ０．１μｍ程度
までのパーティクルが測定可能なものが好適である。
【００２３】また、前記超音波減衰装置としては、前記
内部収納部材が収容された有底容器を、内部に収納可能
な容器状に形成されるとともに、材料をポリプロピレ
ン、ポリエチレン又はポリカーボネートで構成するのが
好適である。
内部収納部材が収容された有底容器を、内部に収納可能
な容器状に形成されるとともに、材料をポリプロピレ
ン、ポリエチレン又はポリカーボネートで構成するのが
好適である。
【００２４】
【作用】本発明は前記のように構成されており、第１〜
第３の手段によれば、純水中に前記内部収納部材を浸漬
して収容した容器を加振機上に載置し該容器及び内部収
納部材に低周波振動を与えるため、内部収納部材に付着
したパーティクルが純水中に離脱し易くなるとともに、
内部収納部材自体からのパーティクルの発生を検出する
ことも可能になる。特にウエーハ収納部材内に収納した
ウエーハを輸送する際には振動が加わることがあるた
め、前記収納部材の内壁に付着したパーティクルの離脱
のみならず、収納部材自体から発生するパーティクルに
ついてもその量を正しく把握する必要があるが、かかる
手段はこの要求を充分に満足できる。
第３の手段によれば、純水中に前記内部収納部材を浸漬
して収容した容器を加振機上に載置し該容器及び内部収
納部材に低周波振動を与えるため、内部収納部材に付着
したパーティクルが純水中に離脱し易くなるとともに、
内部収納部材自体からのパーティクルの発生を検出する
ことも可能になる。特にウエーハ収納部材内に収納した
ウエーハを輸送する際には振動が加わることがあるた
め、前記収納部材の内壁に付着したパーティクルの離脱
のみならず、収納部材自体から発生するパーティクルに
ついてもその量を正しく把握する必要があるが、かかる
手段はこの要求を充分に満足できる。
【００２５】また前記内部収納部材が収容された容器内
に純水を注入し、純水を配管によりパーティクル測定装
置に直結し、パーティクルの個数を逐次的に測定するよ
うにしているので、パーティクル発生の経時変化が把握
できるようになる。
に純水を注入し、純水を配管によりパーティクル測定装
置に直結し、パーティクルの個数を逐次的に測定するよ
うにしているので、パーティクル発生の経時変化が把握
できるようになる。
【００２６】前記のように、内部に純水を注入できない
非容器状の形状をしたウエーハバスケット或いは前記ウ
エーハ押さえの清浄度の測定、評価も、それらの部材が
収容できるような容器を用いて該容器内に純水を注入
し、前記内部収納部材を浸漬することによって可能とな
る。
非容器状の形状をしたウエーハバスケット或いは前記ウ
エーハ押さえの清浄度の測定、評価も、それらの部材が
収容できるような容器を用いて該容器内に純水を注入
し、前記内部収納部材を浸漬することによって可能とな
る。
【００２７】また、第２ないし第４の手段によれば、上
記に加えて、周波数と加速度のばらつきの少ない正弦波
の低周波振動を適切な振動数及び加速度で以って内部収
納部材に与えることによって、ウエーハケースの内部収
納部材に加わる振動の再現性が良好となるため、一定時
間低周波振動を与える前後の純水中のパーティクル個数
を比較することにより、ウエーハケースの内部収納部材
の清浄度をより定量的に評価することが可能となる。
記に加えて、周波数と加速度のばらつきの少ない正弦波
の低周波振動を適切な振動数及び加速度で以って内部収
納部材に与えることによって、ウエーハケースの内部収
納部材に加わる振動の再現性が良好となるため、一定時
間低周波振動を与える前後の純水中のパーティクル個数
を比較することにより、ウエーハケースの内部収納部材
の清浄度をより定量的に評価することが可能となる。
【００２８】さらに、第５の手段によれば、加振機上に
載置した純水を漏洩することなく加振できる。
載置した純水を漏洩することなく加振できる。
【００２９】次に第６及び第１２の手段によれば、純水
を注入するとともに、該純水内に前記ウエーハケースの
内部収納部材が浸漬された容器を加振台上に載置し、該
容器及び内部収納部材に超音波振動を与えることによ
り、内部収納部材の表面に付着したパーティクルが純水
中に離脱し易くなるとともに、内部収納部材自体からの
パーティクルの発生も検出される。特にウエーハケース
に収納したウエーハを輸送する際には振動が加わること
があるため、ウエーハケースの内部収納部材の壁部に付
着したパーティクルの離脱だけでなく、該部材自体から
発生するパーティクルに関してもその量を正しく把握す
る必要があるが、かかる手段によれば、この要求が充分
に満足される。
を注入するとともに、該純水内に前記ウエーハケースの
内部収納部材が浸漬された容器を加振台上に載置し、該
容器及び内部収納部材に超音波振動を与えることによ
り、内部収納部材の表面に付着したパーティクルが純水
中に離脱し易くなるとともに、内部収納部材自体からの
パーティクルの発生も検出される。特にウエーハケース
に収納したウエーハを輸送する際には振動が加わること
があるため、ウエーハケースの内部収納部材の壁部に付
着したパーティクルの離脱だけでなく、該部材自体から
発生するパーティクルに関してもその量を正しく把握す
る必要があるが、かかる手段によれば、この要求が充分
に満足される。
【００３０】また、周波数と出力のばらつきの少ない超
音波振動を与えることによってウエーハケースの内部収
納部材に加わる振動の再現性が良好となるため、一定時
間超音波振動を与える前後の純水中のパーティクル個数
を比較することで、ウエーハケースの清浄度をより定量
的に評価することが可能となる。
音波振動を与えることによってウエーハケースの内部収
納部材に加わる振動の再現性が良好となるため、一定時
間超音波振動を与える前後の純水中のパーティクル個数
を比較することで、ウエーハケースの清浄度をより定量
的に評価することが可能となる。
【００３１】また、第７、第８の手段によれば、かかる
手段における周波数及び出力の範囲での超音波がばらつ
きが少なく、加振効果も大きい。
手段における周波数及び出力の範囲での超音波がばらつ
きが少なく、加振効果も大きい。
【００３２】また第９及び第１３の手段によれば、超音
波の出力が過大となった場合において、超音波減衰器に
てこれを減衰せしめた後、被測定部材に印加することが
できる。
波の出力が過大となった場合において、超音波減衰器に
てこれを減衰せしめた後、被測定部材に印加することが
できる。
【００３３】また第１０の手段によれば、ウエーハバス
ケットの成形後の密度が１よりも低いものがあっても、
パーティクルの測定が精度を落とすことなく可能とな
る。即ち、ウエーハケースに注入される純水の量をこの
手段の範囲に設定することにより、ウエーハケースの内
部収納部材からのパーティクルが侵入され易い純水量で
以って清浄度の測定が可能となり、測定精度が向上す
る。
ケットの成形後の密度が１よりも低いものがあっても、
パーティクルの測定が精度を落とすことなく可能とな
る。即ち、ウエーハケースに注入される純水の量をこの
手段の範囲に設定することにより、ウエーハケースの内
部収納部材からのパーティクルが侵入され易い純水量で
以って清浄度の測定が可能となり、測定精度が向上す
る。
【００３４】
【実施例】以下図１〜図９を参照して本発明の実施例に
つき詳細に説明する。但し、この実施例に記載されてい
る構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は特
に特定的な記載がないかぎりは、この発明の範囲をそれ
に限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
つき詳細に説明する。但し、この実施例に記載されてい
る構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は特
に特定的な記載がないかぎりは、この発明の範囲をそれ
に限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
【００３５】（１）第１実施例 図１は本発明の第１実施例に係るウエーハバスケット清
浄度評価システムの系統図である。図１において、５３
は有底の容器８内に収容されたウエーハバスケットであ
り、該ウエーハバスケット５３が収容された容器８は、
加振機５上に連設されたステージ６上に載置され、加振
機５による加振力がステージ６を介して印加されるよう
になっている。
浄度評価システムの系統図である。図１において、５３
は有底の容器８内に収容されたウエーハバスケットであ
り、該ウエーハバスケット５３が収容された容器８は、
加振機５上に連設されたステージ６上に載置され、加振
機５による加振力がステージ６を介して印加されるよう
になっている。
【００３６】上記容器８は、ステンレス板の内壁にフッ
素樹脂を被覆したものを用いているが、石英、ガラス、
アルミニウム、プラスチックス等で構成してもよい。
素樹脂を被覆したものを用いているが、石英、ガラス、
アルミニウム、プラスチックス等で構成してもよい。
【００３７】前記容器８内には純水２がその内容積の８
０％程度（６０〜９５％の範囲が好ましい）収容されて
いる。４は容器８内の純水２中のパーティクルを測定す
るためのパーティクル測定器であり、配管３を介して容
器８内の純水２に連通され、純水２中のパーティクルを
逐次的に測定可能となっている。
０％程度（６０〜９５％の範囲が好ましい）収容されて
いる。４は容器８内の純水２中のパーティクルを測定す
るためのパーティクル測定器であり、配管３を介して容
器８内の純水２に連通され、純水２中のパーティクルを
逐次的に測定可能となっている。
【００３８】次に図１に示されるウエーハケースの内部
収納部材の清浄度測定・評価システムを使用した測定方
法につき説明する。
収納部材の清浄度測定・評価システムを使用した測定方
法につき説明する。
【００３９】実験例１： （１）容器８内に純水２に満たして、超音波槽内で処理
した後、純水を排出し、この容器８内にウエーハバスケ
ット５３を収納し、再び純水２をその液面がウエーハバ
スケット７の上端から約１ｃｍ下方に位置するように注
入した。純水２の液面が安定した後液中の０．２μｍ以
上の大きさのパーティクルの個数がパーティクル測定器
４にて測定した。
した後、純水を排出し、この容器８内にウエーハバスケ
ット５３を収納し、再び純水２をその液面がウエーハバ
スケット７の上端から約１ｃｍ下方に位置するように注
入した。純水２の液面が安定した後液中の０．２μｍ以
上の大きさのパーティクルの個数がパーティクル測定器
４にて測定した。
【００４０】（２）その後加振機５により振動数１００
０Ｈｚ、加速度１５Ｇの正弦波低周波振動をステージ６
を介して容器８、ウエーハバスケット５３及び純水２に
印加し、１分毎にパーティクル測定器４により、液中の
パーティクル個数を測定しながら、上記振動を３０分間
印加し続けた。
０Ｈｚ、加速度１５Ｇの正弦波低周波振動をステージ６
を介して容器８、ウエーハバスケット５３及び純水２に
印加し、１分毎にパーティクル測定器４により、液中の
パーティクル個数を測定しながら、上記振動を３０分間
印加し続けた。
【００４１】（３）上記（１）〜（２）による測定結果
を図４に示す。図４に明らかなように、液中パーティク
ルの個数は約１０分後にほぼ飽和している。即ち加振後
約１０分後にウエーハバスケット５３に付着していたパ
ーティクルが純水２中に離脱し、該ウエーハバスケット
５３が清浄化されている。
を図４に示す。図４に明らかなように、液中パーティク
ルの個数は約１０分後にほぼ飽和している。即ち加振後
約１０分後にウエーハバスケット５３に付着していたパ
ーティクルが純水２中に離脱し、該ウエーハバスケット
５３が清浄化されている。
【００４２】実験例２： （１）実験例１の（１）項と同一操作・測定を行う。 （２）加振器５により振動数１０００Ｈｚ、加速度１５
Ｇの正弦波低周波振動を印加し続け、２０分間経過後に
振動の印加を遮断した。
Ｇの正弦波低周波振動を印加し続け、２０分間経過後に
振動の印加を遮断した。
【００４３】（３）容器８内の純水２を排出し、再度排
出量と同量の純水を容器８内に注入し、液面が安定した
後、パーティクル測定器４により純水２中のパーティク
ルの個数を測定した。 （４）次いで上記（２）項と同一の低周波振動を１０分
間印加し、１分間毎に純水中のパーティクルの個数をパ
ーティクル測定器４により測定した。
出量と同量の純水を容器８内に注入し、液面が安定した
後、パーティクル測定器４により純水２中のパーティク
ルの個数を測定した。 （４）次いで上記（２）項と同一の低周波振動を１０分
間印加し、１分間毎に純水中のパーティクルの個数をパ
ーティクル測定器４により測定した。
【００４４】（５）上記（１）〜（４）による測定結果
を図５に示す。図５から明らかなように、容器８内の純
水２を１回排出した後は、再度純水を注入し振動を与え
ても液中（純水中）パーティクルは殆ど検出されない。
即ち、ウエーハバスケット５３が収納された容器８中の
純水に低周波振動を印加することにより、ウエーハバス
ケット５３の表面に付着したパーティクルは効率良く離
脱されることとなる。
を図５に示す。図５から明らかなように、容器８内の純
水２を１回排出した後は、再度純水を注入し振動を与え
ても液中（純水中）パーティクルは殆ど検出されない。
即ち、ウエーハバスケット５３が収納された容器８中の
純水に低周波振動を印加することにより、ウエーハバス
ケット５３の表面に付着したパーティクルは効率良く離
脱されることとなる。
【００４５】実験例３： （１）成形後のウエーハバスケット５３と洗浄後のウエ
ーハバスケット５３とを夫々１０個用意した。 （２）各ウエーハバスケット５３を収納した容器８内に
純水２を注入し、実験例１と同様、振動数１０００Ｈ
ｚ、加速度１５Ｇの正弦波低周波振動を１０分間印加し
た後、液中パーティクルの個数を測定した。
ーハバスケット５３とを夫々１０個用意した。 （２）各ウエーハバスケット５３を収納した容器８内に
純水２を注入し、実験例１と同様、振動数１０００Ｈ
ｚ、加速度１５Ｇの正弦波低周波振動を１０分間印加し
た後、液中パーティクルの個数を測定した。
【００４６】（３）上記（１）〜（２）による測定結果
を図６に示す。図６に明らかなように、成形後（未洗
浄）に較べ、洗浄後におけるパーティクルの量が大幅に
減少しており、ウエーハバスケット５３の清浄度が上昇
している。
を図６に示す。図６に明らかなように、成形後（未洗
浄）に較べ、洗浄後におけるパーティクルの量が大幅に
減少しており、ウエーハバスケット５３の清浄度が上昇
している。
【００４７】実験例４： （１）容器８内に注入した純水２中にウエーハ押さえ５
４（図３参照）を浸漬し、純水２の液面安定後液中の
０．２μｍ以上の大きさのパーティクルの個数を測定し
た。 （２）加振機５により振動数１０００Ｈｚ、加速度２０
Ｇの正弦波低周波振動を２０分間印加し、パーティクル
の量を１分間隔で測定した。
４（図３参照）を浸漬し、純水２の液面安定後液中の
０．２μｍ以上の大きさのパーティクルの個数を測定し
た。 （２）加振機５により振動数１０００Ｈｚ、加速度２０
Ｇの正弦波低周波振動を２０分間印加し、パーティクル
の量を１分間隔で測定した。
【００４８】（３）容器８内の純水を排出し、再度排水
量を同量の純水を容器８内に注入し、液面安定後、純水
中のパーティクルの個数を測定した。 （４）上記（２）項と同一の正弦波低周波振動を１０分
間印加し、１分間隔でパーティクルの個数を測定した。
量を同量の純水を容器８内に注入し、液面安定後、純水
中のパーティクルの個数を測定した。 （４）上記（２）項と同一の正弦波低周波振動を１０分
間印加し、１分間隔でパーティクルの個数を測定した。
【００４９】（５）上記による測定結果を図７に示す。
図７に明らかなように、容器８内の純水を１回排出した
後は、再度純水を注入してもパーティクルは殆ど検出さ
れず、ウエーハ押さえ５４を浸漬した純水中に低周波振
動を付与すれば該ウエーハ押さえに付着したパーティク
ルは効率良く離脱されることとなる。
図７に明らかなように、容器８内の純水を１回排出した
後は、再度純水を注入してもパーティクルは殆ど検出さ
れず、ウエーハ押さえ５４を浸漬した純水中に低周波振
動を付与すれば該ウエーハ押さえに付着したパーティク
ルは効率良く離脱されることとなる。
【００５０】（２）第２実施例 図２は本発明の第２実施例に係るウエーハケースの内部
収納部材であるウエーハバスケットの清浄度測定・評価
システムの系統図である。
収納部材であるウエーハバスケットの清浄度測定・評価
システムの系統図である。
【００５１】図２において、５３は図３に示されるウエ
ーハバスケットであり、有底の容器１３内の純水２中に
浸漬されている。該純水２の量は、その水面がウエーハ
バスケット５３の上端より５ｍｍ上位〜４０ｍｍ下位に
なるようにして、ウエーハバスケット５３の成形後の密
度が１より小さいものがあった際においてもパーティク
ルの個数を測定可能としている。
ーハバスケットであり、有底の容器１３内の純水２中に
浸漬されている。該純水２の量は、その水面がウエーハ
バスケット５３の上端より５ｍｍ上位〜４０ｍｍ下位に
なるようにして、ウエーハバスケット５３の成形後の密
度が１より小さいものがあった際においてもパーティク
ルの個数を測定可能としている。
【００５２】６１は内部に水８が貯溜された水槽であ
り、該水槽６１の底部には超音波発振器５９が設置され
ている。９は該超音波発振器５９からの超音波を被測定
部材であるウエーハバスケット５３に印加するに適切な
強さまで減衰するための超音波減衰器であり、該減衰器
９内には水１１が収容されている。
り、該水槽６１の底部には超音波発振器５９が設置され
ている。９は該超音波発振器５９からの超音波を被測定
部材であるウエーハバスケット５３に印加するに適切な
強さまで減衰するための超音波減衰器であり、該減衰器
９内には水１１が収容されている。
【００５３】前記超音波減衰器９はポリプロピレン、ポ
リエチレン、ポリカーボネート等の材料から構成され
る。また前記超音波減衰器９は複数個の支持脚７にて水
槽６１に支持され、さらに前記容器１３は超音波減衰器
９の底部から立設された支持脚１０により支持されてい
る。
リエチレン、ポリカーボネート等の材料から構成され
る。また前記超音波減衰器９は複数個の支持脚７にて水
槽６１に支持され、さらに前記容器１３は超音波減衰器
９の底部から立設された支持脚１０により支持されてい
る。
【００５４】４は容器１３内のパーティクルを測定する
ためのパーティクル測定器であり、配管３を介して容器
１３内の純水２に連通され、純水２中のパーティクルを
逐次的に測定可能となっている。
ためのパーティクル測定器であり、配管３を介して容器
１３内の純水２に連通され、純水２中のパーティクルを
逐次的に測定可能となっている。
【００５５】次に図２に示されるウエーハケース内部収
納部材（ウエーハバスケット５３及びウエーハ押さえ５
４）の清浄度測定、評価装置を使用した清浄度の測定、
評価方法について説明する。
納部材（ウエーハバスケット５３及びウエーハ押さえ５
４）の清浄度測定、評価装置を使用した清浄度の測定、
評価方法について説明する。
【００５６】実験例５： （１）容器１３内に注入した純水２中にウエーハバスケ
ット５３を浸漬し、純水２の液面安定後、液中の０．２
μｍ以上の大きさのパーティクルの個数を測定した。 （２）超音波発振器５９により、周波数４０ｋＨｚ、出
力３００Ｗの超音波をパーティクル個数を１分間隔で測
定しながら、２０分間印加した。
ット５３を浸漬し、純水２の液面安定後、液中の０．２
μｍ以上の大きさのパーティクルの個数を測定した。 （２）超音波発振器５９により、周波数４０ｋＨｚ、出
力３００Ｗの超音波をパーティクル個数を１分間隔で測
定しながら、２０分間印加した。
【００５７】（３）容器１３内の純水を排出し、再度排
水量と同量の純水を容器１３内に注入し、液面安定後、
純水中のパーティクルの個数を測定した。 （４）上記（２）項と同一超音波を１０分間印加し、１
分間隔でパーティクルの個数を測定した。
水量と同量の純水を容器１３内に注入し、液面安定後、
純水中のパーティクルの個数を測定した。 （４）上記（２）項と同一超音波を１０分間印加し、１
分間隔でパーティクルの個数を測定した。
【００５８】（５）上記により測定結果を図８に示す。
図８に明らかなように、容器１３内の純水を１回排出し
た後は、再度純水を注入してもパーティクルは殆ど検出
されず、ウエーハバスケットを浸漬した純水中に超音波
を印加すれば該ウエーハバスケットに付着したパーティ
クルは効率良く離脱されることとなる。
図８に明らかなように、容器１３内の純水を１回排出し
た後は、再度純水を注入してもパーティクルは殆ど検出
されず、ウエーハバスケットを浸漬した純水中に超音波
を印加すれば該ウエーハバスケットに付着したパーティ
クルは効率良く離脱されることとなる。
【００５９】実験例６： （１）容器１３内に注入した純水２中にウエーハ押さえ
５４（図３参照）を浸漬し、純水２の液面安定後、液中
の０．２μｍ以上の大きさのパーティクルの個数を測定
した。 （２）超音波発振器５９により、周波数４０ｋＨｚ、出
力３００Ｗの超音波をパーティクル個数を１分間隔で測
定しながら、２０分印加した。
５４（図３参照）を浸漬し、純水２の液面安定後、液中
の０．２μｍ以上の大きさのパーティクルの個数を測定
した。 （２）超音波発振器５９により、周波数４０ｋＨｚ、出
力３００Ｗの超音波をパーティクル個数を１分間隔で測
定しながら、２０分印加した。
【００６０】（３）容器１３内の純水を排出し、再度排
出量と同量の純水を容器１３内に注入し、液面安定後、
純水中のパーティクルの個数を測定した。 （４）上記（２）項と同一の超音波を１０分間印加し、
１分間隔でパーティクルの個数を測定した。
出量と同量の純水を容器１３内に注入し、液面安定後、
純水中のパーティクルの個数を測定した。 （４）上記（２）項と同一の超音波を１０分間印加し、
１分間隔でパーティクルの個数を測定した。
【００６１】（５）上記による測定結果を図９に示す。
図９に明らかなように、容器８内の純水を１回排出した
後は、再度純水を注入してもパーティクルは殆ど検出さ
れず、ウエーハ押さえ５４を浸漬した純水中に超音波を
印加すれば、該ウエーハ押さえに付着したパーティクル
は効率良く離脱されることとなる。
図９に明らかなように、容器８内の純水を１回排出した
後は、再度純水を注入してもパーティクルは殆ど検出さ
れず、ウエーハ押さえ５４を浸漬した純水中に超音波を
印加すれば、該ウエーハ押さえに付着したパーティクル
は効率良く離脱されることとなる。
【００６２】
【発明の効果】本発明はウエーハ収納部材（ウエーハケ
ース）のうち、ウエーハケース本体の内部に収納される
ウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の内部収納部材
を純水が注入された容器内に収め、これに低周波振動又
は超音波振動を印加し、純水中のパーティクルの個数を
カウントするように構成したので、ウエーハケースの内
部収納部材に付着したパーティクルが純水中に離脱し易
くなるとともに、該内部収納部材自体からのパーティク
ルの発生を定量的に検知することができる。
ース）のうち、ウエーハケース本体の内部に収納される
ウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の内部収納部材
を純水が注入された容器内に収め、これに低周波振動又
は超音波振動を印加し、純水中のパーティクルの個数を
カウントするように構成したので、ウエーハケースの内
部収納部材に付着したパーティクルが純水中に離脱し易
くなるとともに、該内部収納部材自体からのパーティク
ルの発生を定量的に検知することができる。
【００６３】また、内部に純水を注入できない非容器状
の形状をしたウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の
ウエーハケースの内部収納部材の清浄度の測定・評価
も、これらの部材を収容する容器を使用し、該容器内に
純水を注入することによって容易に実施可能となる。
の形状をしたウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の
ウエーハケースの内部収納部材の清浄度の測定・評価
も、これらの部材を収容する容器を使用し、該容器内に
純水を注入することによって容易に実施可能となる。
【００６４】また純水をパーティクル測定装置に導きパ
ーティクルの個数を逐次的に測定するようにしているの
で、パーティクル発生の経時変化を正確に把握すること
ができる。
ーティクルの個数を逐次的に測定するようにしているの
で、パーティクル発生の経時変化を正確に把握すること
ができる。
【００６５】また、請求項２〜５の発明によれば、周波
数と加速度のばらつきの少ない正弦波の低周波振動を与
えることによってウエーハケースの内部収納部材に加わ
る振動の再現性が良好となるため、一定時間低周波振動
を与える前後の純水中のパーティクル個数を比較するこ
とにより、内部収納部材の清浄度をより定量的に評価す
ることが可能となる。
数と加速度のばらつきの少ない正弦波の低周波振動を与
えることによってウエーハケースの内部収納部材に加わ
る振動の再現性が良好となるため、一定時間低周波振動
を与える前後の純水中のパーティクル個数を比較するこ
とにより、内部収納部材の清浄度をより定量的に評価す
ることが可能となる。
【００６６】また請求項６〜９の発明によれば、周波数
と出力のばらつきの少ない超音波振動を与えることによ
ってウエーハケースの内部収納部材に加わる振動の再現
性が良好となるため、一定時間超音波振動を与える前後
の純水中のパーティクル個数を比較することで、前記内
部収納部材の清浄度をより定量的に評価することが可能
となる。
と出力のばらつきの少ない超音波振動を与えることによ
ってウエーハケースの内部収納部材に加わる振動の再現
性が良好となるため、一定時間超音波振動を与える前後
の純水中のパーティクル個数を比較することで、前記内
部収納部材の清浄度をより定量的に評価することが可能
となる。
【００６７】また請求項１１〜１３に示される本発明の
装置によれば、ウエーハケースの内部収納部材が収容さ
れた容器内に純水を注入し、これに振動を与えてパーテ
ィクルの個数を検出するという、比較的簡単かつ低コス
トの装置で以ってウエーハケースの内部収納部材の清浄
度を正しく検知、評価することができる。
装置によれば、ウエーハケースの内部収納部材が収容さ
れた容器内に純水を注入し、これに振動を与えてパーテ
ィクルの個数を検出するという、比較的簡単かつ低コス
トの装置で以ってウエーハケースの内部収納部材の清浄
度を正しく検知、評価することができる。
【００６８】以上に示されたウエーハケースの清浄度測
定・評価方法及び装置によれば、新品のウエーハケース
のみならず、ウエーハケースの再利用品についても新品
と同様な手法で以ってウエーハケースの清浄度の測定・
評価を行うことができる。
定・評価方法及び装置によれば、新品のウエーハケース
のみならず、ウエーハケースの再利用品についても新品
と同様な手法で以ってウエーハケースの清浄度の測定・
評価を行うことができる。
【図１】本発明の第１実施例に係るウエーハケースの内
部収納部材の清浄度測定・評価装置（低周波振動印加）
の構成図。
部収納部材の清浄度測定・評価装置（低周波振動印加）
の構成図。
【図２】本発明の第２実施例に係るウエーハケースの内
部収納部材の清浄度測定・評価装置（超音波振動印加）
の構成図。
部収納部材の清浄度測定・評価装置（超音波振動印加）
の構成図。
【図３】ウエーハケース（ウエーハ収納部材）の分解斜
視図。
視図。
【図４】第１実験例の結果を示す線図。
【図５】第２実験例の結果を示す線図。
【図６】第３実験例の結果を示す線図。
【図７】第４実験例の結果を示す線図。
【図８】第５実験例の結果を示す線図。
【図９】第６実験例の結果を示す線図。
５０ ウエーハケース ５３ ウエーハバスケット ５４ ウエーハ押さえ ２ 純水 ３ 配管 ４ パーティクル測定器 ５ 加振機 ８ 容器 ９ 超音波減衰器 ５９ 超音波発振器 ６１ 水槽
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０１Ｎ 15/14 Ｇ０１Ｎ 15/14 Ａ Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｔ
Claims (13)
- 【請求項１】 半導体ウエーハが収納されるウエーハバ
スケットと、該ウエーハバスケット用のウエーハ押さえ
と、これらウエーハバスケット及びウエーハ押さえを収
納するウエーハケース本体と、該本体を覆蓋する上蓋と
により構成されるウエーハケースにおいて、前記ウエー
ハバスケット、ウエーハ押さえ等の前記ウエーハケース
の内部に収納される内部収納部材の清浄度を測定・評価
するにあたり、 前記内部収納部材を有底容器内に収納して該容器に一定
量の純水を注入し、 次いで該容器を加振機上に載置して前記純水の液面の安
定後でかつ加振前に液中パーティクルの個数をカウント
し、 次いで前記加振機により低周波振動を一定時間印加し、 その後に再度純水中のパーティクルの個数をカウントし
て加振前後のパーティクルの増加個数を求め、該パーテ
ィクルの増加個数により前記内部収納部材の清浄度を評
価することを特徴とするウエーハ収納部材の清浄度測定
・評価方法。 - 【請求項２】 前記低周波振動が正弦波振動である請求
項１記載のウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法。 - 【請求項３】 前記低周波振動の振動数が５０Ｈｚ〜２
０００Ｈｚである請求項１ないし２記載のウエーハ収納
部材の清浄度測定・評価方法。 - 【請求項４】 前記低周波振動の加速度が２Ｇ〜５０Ｇ
である請求項１ないし３記載のウエーハ収納部材の清浄
度測定・評価方法。 - 【請求項５】 前記低周波振動が鉛直方向に印加される
請求項１ないし４記載のウエーハ収納部材の清浄度測定
・評価方法。 - 【請求項６】 半導体ウエーハが収納されるウエーハバ
スケットと、該ウエーハバスケット用のウエーハ押さえ
と、これらウエーハバスケット及びウエーハ押さえを収
納するウエーハケース本体と、該本体を覆蓋する上蓋と
により構成されるウエーハケースにおいて、前記ウエー
ハバスケット、ウエーハ押さえ等の前記ウエーハケース
の内部に収納される内部収納部材の清浄度を測定・評価
するにあたり、 前記内部収納部材を有底容器内に収納し、該容器に一定
量の純水を注入して超音波発振器を備えた水槽内に配置
し、 前記純水の液面の安定後でかつ加振前に液中パーティク
ルの個数をカウントし、 次いで前記超音波発振器により超音波を一定時間印加
し、 その後に再度純水中のパーティクルの個数をカウントし
て超音波印加前後のパーティクルの増加個数を求め、 該パーティクルの増加個数により前記内部収納部材の清
浄度を評価することを特徴とするウエーハ収納部材の清
浄度測定・評価方法。 - 【請求項７】 前記超音波の周波数２０ｋＨｚ〜５０ｋ
Ｈｚである請求項６記載のウエーハ収納部材の清浄度測
定・評価方法。 - 【請求項８】 前記超音波の出力が３００Ｗ〜４００Ｗ
である請求項６ないし７記載のウエーハ収納部材の清浄
度測定・評価方法。 - 【請求項９】 前記超音波発振器と前記容器内の純水中
に浸漬された内部収納部材との間で超音波減衰装置によ
り超音波を減衰せしめ、減衰された超音波を前記内部収
納部材に印加する請求項６ないし８記載のウエーハ収納
部材の清浄度測定・評価方法。 - 【請求項１０】 前記純水は、その液面が前記収納部材
の上端から５ｍｍ上位ないし４０ｍｍ下位になるように
前記容器内に注入される請求項１及び６記載のウエーハ
収納部材の清浄度測定・評価方法。 - 【請求項１１】 半導体ウエーハが収納されるウエーハ
バスケットと、該ウエーハバスケット用のウエーハ押さ
えと、これらウエーハバスケット及びウエーハ押さえを
収納するウエーハケース本体と、該本体を覆蓋する上蓋
とにより構成されるウエーハケースにおいて、前記ウエ
ーハバスケット、ウエーハ押さえ等の前記ウエーハケー
スの内部に収納される内部収納部材の清浄度を測定・評
価する装置であって、 純水が注入され該純水中に前記内部収納部材が浸漬され
た有底の容器と、 該容器を加振する加振機と、 前記容器内の純水中に接続され、該純水中のパーティク
ルの量を測定するパーティクル測定装置とを備えたこと
を特徴とするウエーハ収納部材の清浄度測定・評価装
置。 - 【請求項１２】 半導体ウエーハが収納されるウエーハ
バスケットと、該ウエーハバスケット用のウエーハ押さ
えと、これらウエーハバスケット及びウエーハ押さえを
収納するウエーハケース本体と、該本体を覆蓋する上蓋
とにより構成されるウエーハケースにおいて、前記ウエ
ーハバスケット、ウエーハ押さえ等の前記ウエーハケー
スの内部に収納される内部収納部材の清浄度を測定・評
価する装置であって、 純水が注入され、該純水中に前記内部収納部材が浸漬さ
れる有底の容器と、 該容器をその外壁面が水中に浸漬された状態で収容する
水槽と、 該水槽内の前記容器の下方に設置され該容器内の内部収
納部材に超音波を印加する超音波発振器と、 前記容器の純水中に接続され、該純水中のパーティクル
の量を測定するパーティクル測定装置とを備えたことを
特徴とするウエーハ収納部材の清浄度測定・評価装置。 - 【請求項１３】 前記超音波発振器と前記容器との間に
超音波を減衰する超音波減衰装置を設けた請求項１２記
載のウエーハ収納部材の清浄度測定・評価装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17936295A JP3166570B2 (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法 |
| US08/665,809 US5793833A (en) | 1995-06-22 | 1996-06-19 | Method of and apparatus for measuring and estimating the cleanliness of wafer accommodating members |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17936295A JP3166570B2 (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH097992A true JPH097992A (ja) | 1997-01-10 |
| JP3166570B2 JP3166570B2 (ja) | 2001-05-14 |
Family
ID=16064533
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17936295A Expired - Fee Related JP3166570B2 (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3166570B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1293619C (zh) * | 2003-06-03 | 2007-01-03 | 旺宏电子股份有限公司 | 自动计算增加的粒子的方法和系统 |
| JP2008180590A (ja) * | 2007-01-24 | 2008-08-07 | Ｓｕｍｃｏ Ｔｅｃｈｘｉｖ株式会社 | 半導体ウェハ収納容器の清浄度評価方法 |
| JP2012032270A (ja) * | 2010-07-30 | 2012-02-16 | Nhk Spring Co Ltd | 被検査物の清浄度検査装置と、清浄度検査方法 |
| JP2012099691A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-24 | Contact Co Ltd | 半導体ウエハ収納容器検査装置及び検査方法 |
| JP2014120671A (ja) * | 2012-12-18 | 2014-06-30 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体ウェーハ収納容器の清浄度評価方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3003550B2 (ja) | 1995-06-22 | 2000-01-31 | 信越半導体株式会社 | ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法及びその装置 |
-
1995
- 1995-06-22 JP JP17936295A patent/JP3166570B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| CN1293619C (zh) * | 2003-06-03 | 2007-01-03 | 旺宏电子股份有限公司 | 自动计算增加的粒子的方法和系统 |
| JP2008180590A (ja) * | 2007-01-24 | 2008-08-07 | Ｓｕｍｃｏ Ｔｅｃｈｘｉｖ株式会社 | 半導体ウェハ収納容器の清浄度評価方法 |
| JP2012032270A (ja) * | 2010-07-30 | 2012-02-16 | Nhk Spring Co Ltd | 被検査物の清浄度検査装置と、清浄度検査方法 |
| US8820146B2 (en) | 2010-07-30 | 2014-09-02 | Nhk Spring Co., Ltd. | Cleanliness inspection apparatus and cleanliness inspection method for object to be inspected |
| JP2012099691A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-24 | Contact Co Ltd | 半導体ウエハ収納容器検査装置及び検査方法 |
| JP2014120671A (ja) * | 2012-12-18 | 2014-06-30 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体ウェーハ収納容器の清浄度評価方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3166570B2 (ja) | 2001-05-14 |
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|---|---|---|---|
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