JPH097992A - ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法及びその装置 - Google Patents
ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法及びその装置Info
- Publication number
- JPH097992A JPH097992A JP17936295A JP17936295A JPH097992A JP H097992 A JPH097992 A JP H097992A JP 17936295 A JP17936295 A JP 17936295A JP 17936295 A JP17936295 A JP 17936295A JP H097992 A JPH097992 A JP H097992A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- pure water
- storage member
- particles
- container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 127
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 115
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 claims description 52
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 25
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 19
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims description 16
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 11
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 9
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 claims description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 claims description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 159
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000379 polypropylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体ウエーハを保管、あるいは輸送するた
めのウエーハケースに付着するパーティクル及びウエー
ハケース自体から発生するパーティクルの双方を、比較
的簡単な構造かつ低コストの装置で以って定量的に検知
し、評価する方法を提供する。 【構成】 ウエーハ収納部材(ウエーハケース)のう
ち、ウエーハケース本体の内部に収納されるウエーハバ
スケット、ウエーハ押さえ等の内部収納部材を純水が注
入された容量内に収め、これに低周波振動又は超音波振
動を附与し、純水中のパーティクルの個数をカウントす
るように構成する。
めのウエーハケースに付着するパーティクル及びウエー
ハケース自体から発生するパーティクルの双方を、比較
的簡単な構造かつ低コストの装置で以って定量的に検知
し、評価する方法を提供する。 【構成】 ウエーハ収納部材(ウエーハケース)のう
ち、ウエーハケース本体の内部に収納されるウエーハバ
スケット、ウエーハ押さえ等の内部収納部材を純水が注
入された容量内に収め、これに低周波振動又は超音波振
動を附与し、純水中のパーティクルの個数をカウントす
るように構成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はシリコン・ガリウム砒素
等からなる半導体ウエーハ(以下ウエーハと略称する)
の保管又は輸送に用いられるウエーハ収納部材(以下ウ
エーハケースという)の清浄度を測定・評価する方法、
特にウエーハケースに付着するかもしくはウエーハケー
ス自体から発生する微粒子異物即ちパーティクルを定量
的に測定・評価する清浄度測定・評価方法及びこれに使
用される装置に関する。
等からなる半導体ウエーハ(以下ウエーハと略称する)
の保管又は輸送に用いられるウエーハ収納部材(以下ウ
エーハケースという)の清浄度を測定・評価する方法、
特にウエーハケースに付着するかもしくはウエーハケー
ス自体から発生する微粒子異物即ちパーティクルを定量
的に測定・評価する清浄度測定・評価方法及びこれに使
用される装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ウエーハを保管あるいは輸送するための
ウエーハケース50は、図3に示されるように、多数の
ウエーハ100を並列に収納するためのひだ部を備えた
ウエーハバスケット53と該バスケット53を収納する
ウエーハケース本体1と、該ウエーハケース本体1の上
方開口部を覆蓋する上蓋52と、ウエーハバスケット5
3内のウエーハ100を押さえて保持するためのウエー
ハ押さえ54とパッキン55とにより構成されている。
ウエーハケース50は、図3に示されるように、多数の
ウエーハ100を並列に収納するためのひだ部を備えた
ウエーハバスケット53と該バスケット53を収納する
ウエーハケース本体1と、該ウエーハケース本体1の上
方開口部を覆蓋する上蓋52と、ウエーハバスケット5
3内のウエーハ100を押さえて保持するためのウエー
ハ押さえ54とパッキン55とにより構成されている。
【0003】前記ウエーハケース50にあっては、その
内部に収納するウエーハ100を保管あるいは輸送する
際に、ウエーハの表面に付着するパーティクルを極力少
なくするため、該ウエーハケース50の清浄度を常時高
く保持することが要求される。
内部に収納するウエーハ100を保管あるいは輸送する
際に、ウエーハの表面に付着するパーティクルを極力少
なくするため、該ウエーハケース50の清浄度を常時高
く保持することが要求される。
【0004】通常前記ウエーハケース50には、ポリプ
ロピレン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂を所望の
形状に射出成形したものが使用されている。このため、
ウエーハケース50の成形後には前記パーティクルがそ
の表面に付着していることが多く、このような状態にあ
るウエーハケース50を用いてウエーハ100を保管あ
るいは輸送する際には、ケースの成形後にその清浄度の
測定評価を行い、ケース表面に付着しているパーティク
ルを除去する必要がある。
ロピレン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂を所望の
形状に射出成形したものが使用されている。このため、
ウエーハケース50の成形後には前記パーティクルがそ
の表面に付着していることが多く、このような状態にあ
るウエーハケース50を用いてウエーハ100を保管あ
るいは輸送する際には、ケースの成形後にその清浄度の
測定評価を行い、ケース表面に付着しているパーティク
ルを除去する必要がある。
【0005】かかるウエーハケース50の清浄度の評価
方法特にパーティクルの付着状況の検知方法としては、
従来、 (1)ウエーハケース洗浄後のケース内面に残留してい
るパーティクルを目視にて検知する。 (2)ウエーハケース洗浄用のリンス水中に存在するパ
ーティクルをカウントする。
方法特にパーティクルの付着状況の検知方法としては、
従来、 (1)ウエーハケース洗浄後のケース内面に残留してい
るパーティクルを目視にて検知する。 (2)ウエーハケース洗浄用のリンス水中に存在するパ
ーティクルをカウントする。
【0006】(3)特開平5−109857号に示され
るように、クリーンエアの雰囲気内において、ウエーハ
バスケットの底部よりウエーハ回転器によりウエーハを
一定時間回転せしめ、ウエーハバスケットの内壁に設け
られたウエーハ保持用の溝とウエーハの外縁との摩擦に
よって発生した塵埃の量を塵埃測定器にて測定し、予め
設定した塵埃量の限界値を超えた場合は、清浄度が不良
と判定する。等の清浄度評価方法が提供されている。
るように、クリーンエアの雰囲気内において、ウエーハ
バスケットの底部よりウエーハ回転器によりウエーハを
一定時間回転せしめ、ウエーハバスケットの内壁に設け
られたウエーハ保持用の溝とウエーハの外縁との摩擦に
よって発生した塵埃の量を塵埃測定器にて測定し、予め
設定した塵埃量の限界値を超えた場合は、清浄度が不良
と判定する。等の清浄度評価方法が提供されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のウエーハケース清浄度の検知・評価方法には次のよ
うな問題点あるいは不備点がある。
来のウエーハケース清浄度の検知・評価方法には次のよ
うな問題点あるいは不備点がある。
【0008】(1)前記(1)項に示す目視による方法
にあっては、検知可能なパーティクルは比較的粒径が大
きいものに限られ、最近の半導体集積回路の微細化に伴
い、より微小なパーティクルの検出が要求されている現
状には適応できない。また目視のみであるので定量性が
無い。
にあっては、検知可能なパーティクルは比較的粒径が大
きいものに限られ、最近の半導体集積回路の微細化に伴
い、より微小なパーティクルの検出が要求されている現
状には適応できない。また目視のみであるので定量性が
無い。
【0009】(2)前記(2)項に示す方法にあって
は、洗浄後のリンス水中のパーティクルをカウントする
方法であるため、洗浄時にリンス水中に混入されずに除
去されなかったパーティクルの存在があり得るにも拘ら
ず、このパーティクルは定量的に検知できず、またウエ
ーハケース自体から発生するパーティクルも検知不可能
である。
は、洗浄後のリンス水中のパーティクルをカウントする
方法であるため、洗浄時にリンス水中に混入されずに除
去されなかったパーティクルの存在があり得るにも拘ら
ず、このパーティクルは定量的に検知できず、またウエ
ーハケース自体から発生するパーティクルも検知不可能
である。
【0010】(3)前記(3)項に示す方法にあって
は、上記(1),(2)のような不具合点は無いが、ウ
エーハを回転させるための回転機構及びその附属装置
等、多くの附属機器を必要とし、検知装置の構造が複雑
になり、かつ高コストとなる。
は、上記(1),(2)のような不具合点は無いが、ウ
エーハを回転させるための回転機構及びその附属装置
等、多くの附属機器を必要とし、検知装置の構造が複雑
になり、かつ高コストとなる。
【0011】本発明の目的は、半導体ウエーハを保管、
あるいは輸送するためのウエーハケースに付着するパー
ティクル及びウエーハケース自体から発生するパーティ
クルの双方を、比較的簡単な構造かつ低コストの装置で
以って定量的に検知し、評価する方法を提供することで
ある。
あるいは輸送するためのウエーハケースに付着するパー
ティクル及びウエーハケース自体から発生するパーティ
クルの双方を、比較的簡単な構造かつ低コストの装置で
以って定量的に検知し、評価する方法を提供することで
ある。
【0012】また本発明の他の目的は、近年資源保護や
環境対応のため樹脂材からなるウエーハケースを廃棄す
ることなく再利用することが求められていることに鑑
み、ウエーハケースの再利用のための、洗浄後のウエー
ハケース洗浄度の評価方法を提供することである。
環境対応のため樹脂材からなるウエーハケースを廃棄す
ることなく再利用することが求められていることに鑑
み、ウエーハケースの再利用のための、洗浄後のウエー
ハケース洗浄度の評価方法を提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は前記ウエーハケ
ースを構成する部材のうち、ウエーハケース本体の内部
に収納されるウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の
内部収納部材の清浄度を測定、評価する方法及びその装
置に係り、その第1の手段は、半導体ウエーハが収納さ
れるウエーハバスケットと、該ウエーハバスケット用の
ウエーハ押さえと、これらウエーハバスケット及びウエ
ーハ押さえを収納するウエーハケース本体と、該本体を
覆蓋する上蓋とにより構成されるウエーハケースにおい
て、前記ウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の前記
ウエーハケースの内部に収納される内部収納部材の清浄
度を測定・評価するにあたり、前記内部収納部材を有底
の容器内に収納して該容器に一定量の純水を注入し、次
いで該容器を加振機上に載置して前記純水の液面の安定
後でかつ加振前に液中パーティクルの個数をカウント
し、次いで前記加振機により低周波振動を一定時間印加
し、その後に再度純水中のパーティクルの個数をカウン
トして加振前後のパーティクルの増加個数を求め、該パ
ーティクルの増加個数により前記内部収納部材の清浄度
を評価することを特徴とするウエーハ収納部材の清浄度
測定・評価方法にある。
ースを構成する部材のうち、ウエーハケース本体の内部
に収納されるウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の
内部収納部材の清浄度を測定、評価する方法及びその装
置に係り、その第1の手段は、半導体ウエーハが収納さ
れるウエーハバスケットと、該ウエーハバスケット用の
ウエーハ押さえと、これらウエーハバスケット及びウエ
ーハ押さえを収納するウエーハケース本体と、該本体を
覆蓋する上蓋とにより構成されるウエーハケースにおい
て、前記ウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の前記
ウエーハケースの内部に収納される内部収納部材の清浄
度を測定・評価するにあたり、前記内部収納部材を有底
の容器内に収納して該容器に一定量の純水を注入し、次
いで該容器を加振機上に載置して前記純水の液面の安定
後でかつ加振前に液中パーティクルの個数をカウント
し、次いで前記加振機により低周波振動を一定時間印加
し、その後に再度純水中のパーティクルの個数をカウン
トして加振前後のパーティクルの増加個数を求め、該パ
ーティクルの増加個数により前記内部収納部材の清浄度
を評価することを特徴とするウエーハ収納部材の清浄度
測定・評価方法にある。
【0014】また第2の手段は、上記第1の手段におい
て、前記低周波振動を正弦波振動に設定することにあ
り、第3の手段は振動数を50Hz〜2000Hzに設
定することにあり、また第4の手段は振動の加速度を2
G〜50Gに設定することにあり、さらに第5の手段は
前記低周波振動を鉛直方向に印加することにある。
て、前記低周波振動を正弦波振動に設定することにあ
り、第3の手段は振動数を50Hz〜2000Hzに設
定することにあり、また第4の手段は振動の加速度を2
G〜50Gに設定することにあり、さらに第5の手段は
前記低周波振動を鉛直方向に印加することにある。
【0015】本発明の第6の手段は、前記内部収納部材
に、これを純水中に浸漬せしめて収容した容器を介して
超音波を印加する手法であり、半導体ウエーハが収納さ
れるウエーハバスケットと、該ウエーハバスケット用の
ウエーハ押さえと、これらウエーハバスケット及びウエ
ーハ押さえを収納するウエーハケース本体と、該本体を
覆蓋する上蓋とにより構成されるウエーハケースにおい
て、前記ウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の前記
ウエーハケースの内部に収納される内部収納部材の清浄
度を測定・評価するにあたり、前記内部収納部材を有底
の容器内に収納し、該容器に一定量の純水を注入して超
音波発振器を備えた水槽内に配置し、前記純水の液面の
安定後でかつ加振前に液中パーティクルの個数をカウン
トし、次いで前記超音波発振器により超音波を一定時間
印加し、その後に再度純水中のパーティクルの個数をカ
ウントして超音波印加前後のパーティクルの増加個数を
求め、該パーティクルの増加個数により前記内部収納部
材の清浄度を評価することを特徴とするウエーハ収納部
材の清浄度測定・評価方法にある。
に、これを純水中に浸漬せしめて収容した容器を介して
超音波を印加する手法であり、半導体ウエーハが収納さ
れるウエーハバスケットと、該ウエーハバスケット用の
ウエーハ押さえと、これらウエーハバスケット及びウエ
ーハ押さえを収納するウエーハケース本体と、該本体を
覆蓋する上蓋とにより構成されるウエーハケースにおい
て、前記ウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の前記
ウエーハケースの内部に収納される内部収納部材の清浄
度を測定・評価するにあたり、前記内部収納部材を有底
の容器内に収納し、該容器に一定量の純水を注入して超
音波発振器を備えた水槽内に配置し、前記純水の液面の
安定後でかつ加振前に液中パーティクルの個数をカウン
トし、次いで前記超音波発振器により超音波を一定時間
印加し、その後に再度純水中のパーティクルの個数をカ
ウントして超音波印加前後のパーティクルの増加個数を
求め、該パーティクルの増加個数により前記内部収納部
材の清浄度を評価することを特徴とするウエーハ収納部
材の清浄度測定・評価方法にある。
【0016】また第7の手段は、第6の手段において、
超音波の周波数を20kHz〜50kHzに設定するこ
とにあり、第8の手段は超音波の出力を300W〜40
0Wに設定することにある。
超音波の周波数を20kHz〜50kHzに設定するこ
とにあり、第8の手段は超音波の出力を300W〜40
0Wに設定することにある。
【0017】また第9の手段は前記第6〜第8の手段に
おいて、前記超音波発振器と容器内の純水中に浸漬され
た内部収納部材との間で超音波減衰装置により超音波を
減衰せしめ、減衰された超音波を前記内部収納部材に印
加することにある。
おいて、前記超音波発振器と容器内の純水中に浸漬され
た内部収納部材との間で超音波減衰装置により超音波を
減衰せしめ、減衰された超音波を前記内部収納部材に印
加することにある。
【0018】さらに第10の手段は、前記第1、第6の
手段において、純水の液面が前記収納部材の上端から5
mm上位ないし40mm下位になるように前記容器内に
注入されることである。
手段において、純水の液面が前記収納部材の上端から5
mm上位ないし40mm下位になるように前記容器内に
注入されることである。
【0019】第11の手段は、前記容器内の内部収納部
材に低周波振動を印加するための装置に係り、半導体ウ
エーハが収納されるウエーハバスケットと、該ウエーハ
バスケット用のウエーハ押さえと、これらウエーハバス
ケット及びウエーハ押さえを収納するウエーハケース本
体と、該本体を覆蓋する上蓋とにより構成されるウエー
ハケースにおいて、前記ウエーハバスケット、ウエーハ
押さえ等の前記ウエーハケースの内部に収納される内部
収納部材の清浄度を測定・評価する装置であって、純水
が注入され該純水中に前記内部収納部材が浸漬された有
底の容器と、該容器を加振する加振機と、前記容器内の
純水中に接続され、該純水中のパーティクルの量を測定
するパーティクル測定装置とを備えたことを特徴とする
ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価装置である。
材に低周波振動を印加するための装置に係り、半導体ウ
エーハが収納されるウエーハバスケットと、該ウエーハ
バスケット用のウエーハ押さえと、これらウエーハバス
ケット及びウエーハ押さえを収納するウエーハケース本
体と、該本体を覆蓋する上蓋とにより構成されるウエー
ハケースにおいて、前記ウエーハバスケット、ウエーハ
押さえ等の前記ウエーハケースの内部に収納される内部
収納部材の清浄度を測定・評価する装置であって、純水
が注入され該純水中に前記内部収納部材が浸漬された有
底の容器と、該容器を加振する加振機と、前記容器内の
純水中に接続され、該純水中のパーティクルの量を測定
するパーティクル測定装置とを備えたことを特徴とする
ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価装置である。
【0020】第12の手段は前記容器内の純水中に浸漬
された内部収納部材に超音波に印加するための装置に係
り、半導体ウエーハが収納されるウエーハバスケット
と、該ウエーハバスケット用のウエーハ押さえと、これ
らウエーハバスケット及びウエーハ押さえを収納するウ
エーハケース本体と、該本体を覆蓋する上蓋とにより構
成されるウエーハケースにおいて、前記ウエーハバスケ
ット、ウエーハ押さえ等の前記ウエーハケースの内部に
収納される内部収納部材の清浄度を測定・評価する装置
であって、純水が注入され、該純水中に前記内部収納部
材が浸漬される有底の容器と、該容器をその外壁面が水
中に浸漬された状態で収容する水槽と、該水槽内の前記
容器の下方に設置され該容器内の内部収納部材に超音波
を印加する超音波発振器と、前記容器の純水中に接続さ
れ、該純水中のパーティクルの量を測定するパーティク
ル測定装置とを備えたことを特徴とするウエーハ収納部
材の清浄度測定・評価装置である。
された内部収納部材に超音波に印加するための装置に係
り、半導体ウエーハが収納されるウエーハバスケット
と、該ウエーハバスケット用のウエーハ押さえと、これ
らウエーハバスケット及びウエーハ押さえを収納するウ
エーハケース本体と、該本体を覆蓋する上蓋とにより構
成されるウエーハケースにおいて、前記ウエーハバスケ
ット、ウエーハ押さえ等の前記ウエーハケースの内部に
収納される内部収納部材の清浄度を測定・評価する装置
であって、純水が注入され、該純水中に前記内部収納部
材が浸漬される有底の容器と、該容器をその外壁面が水
中に浸漬された状態で収容する水槽と、該水槽内の前記
容器の下方に設置され該容器内の内部収納部材に超音波
を印加する超音波発振器と、前記容器の純水中に接続さ
れ、該純水中のパーティクルの量を測定するパーティク
ル測定装置とを備えたことを特徴とするウエーハ収納部
材の清浄度測定・評価装置である。
【0021】さらに第13の手段は、第12の手段にお
いて、前記超音波発振器と前記容器との間に超音波を減
衰する超音波減衰装置を設けたことである。
いて、前記超音波発振器と前記容器との間に超音波を減
衰する超音波減衰装置を設けたことである。
【0022】前記第11〜第13の手段におけるパーテ
ィクル測定装置としては、液中パーティクルが測定可能
なものであって、パーティクルの大きさ0.1μm程度
までのパーティクルが測定可能なものが好適である。
ィクル測定装置としては、液中パーティクルが測定可能
なものであって、パーティクルの大きさ0.1μm程度
までのパーティクルが測定可能なものが好適である。
【0023】また、前記超音波減衰装置としては、前記
内部収納部材が収容された有底容器を、内部に収納可能
な容器状に形成されるとともに、材料をポリプロピレ
ン、ポリエチレン又はポリカーボネートで構成するのが
好適である。
内部収納部材が収容された有底容器を、内部に収納可能
な容器状に形成されるとともに、材料をポリプロピレ
ン、ポリエチレン又はポリカーボネートで構成するのが
好適である。
【0024】
【作用】本発明は前記のように構成されており、第1〜
第3の手段によれば、純水中に前記内部収納部材を浸漬
して収容した容器を加振機上に載置し該容器及び内部収
納部材に低周波振動を与えるため、内部収納部材に付着
したパーティクルが純水中に離脱し易くなるとともに、
内部収納部材自体からのパーティクルの発生を検出する
ことも可能になる。特にウエーハ収納部材内に収納した
ウエーハを輸送する際には振動が加わることがあるた
め、前記収納部材の内壁に付着したパーティクルの離脱
のみならず、収納部材自体から発生するパーティクルに
ついてもその量を正しく把握する必要があるが、かかる
手段はこの要求を充分に満足できる。
第3の手段によれば、純水中に前記内部収納部材を浸漬
して収容した容器を加振機上に載置し該容器及び内部収
納部材に低周波振動を与えるため、内部収納部材に付着
したパーティクルが純水中に離脱し易くなるとともに、
内部収納部材自体からのパーティクルの発生を検出する
ことも可能になる。特にウエーハ収納部材内に収納した
ウエーハを輸送する際には振動が加わることがあるた
め、前記収納部材の内壁に付着したパーティクルの離脱
のみならず、収納部材自体から発生するパーティクルに
ついてもその量を正しく把握する必要があるが、かかる
手段はこの要求を充分に満足できる。
【0025】また前記内部収納部材が収容された容器内
に純水を注入し、純水を配管によりパーティクル測定装
置に直結し、パーティクルの個数を逐次的に測定するよ
うにしているので、パーティクル発生の経時変化が把握
できるようになる。
に純水を注入し、純水を配管によりパーティクル測定装
置に直結し、パーティクルの個数を逐次的に測定するよ
うにしているので、パーティクル発生の経時変化が把握
できるようになる。
【0026】前記のように、内部に純水を注入できない
非容器状の形状をしたウエーハバスケット或いは前記ウ
エーハ押さえの清浄度の測定、評価も、それらの部材が
収容できるような容器を用いて該容器内に純水を注入
し、前記内部収納部材を浸漬することによって可能とな
る。
非容器状の形状をしたウエーハバスケット或いは前記ウ
エーハ押さえの清浄度の測定、評価も、それらの部材が
収容できるような容器を用いて該容器内に純水を注入
し、前記内部収納部材を浸漬することによって可能とな
る。
【0027】また、第2ないし第4の手段によれば、上
記に加えて、周波数と加速度のばらつきの少ない正弦波
の低周波振動を適切な振動数及び加速度で以って内部収
納部材に与えることによって、ウエーハケースの内部収
納部材に加わる振動の再現性が良好となるため、一定時
間低周波振動を与える前後の純水中のパーティクル個数
を比較することにより、ウエーハケースの内部収納部材
の清浄度をより定量的に評価することが可能となる。
記に加えて、周波数と加速度のばらつきの少ない正弦波
の低周波振動を適切な振動数及び加速度で以って内部収
納部材に与えることによって、ウエーハケースの内部収
納部材に加わる振動の再現性が良好となるため、一定時
間低周波振動を与える前後の純水中のパーティクル個数
を比較することにより、ウエーハケースの内部収納部材
の清浄度をより定量的に評価することが可能となる。
【0028】さらに、第5の手段によれば、加振機上に
載置した純水を漏洩することなく加振できる。
載置した純水を漏洩することなく加振できる。
【0029】次に第6及び第12の手段によれば、純水
を注入するとともに、該純水内に前記ウエーハケースの
内部収納部材が浸漬された容器を加振台上に載置し、該
容器及び内部収納部材に超音波振動を与えることによ
り、内部収納部材の表面に付着したパーティクルが純水
中に離脱し易くなるとともに、内部収納部材自体からの
パーティクルの発生も検出される。特にウエーハケース
に収納したウエーハを輸送する際には振動が加わること
があるため、ウエーハケースの内部収納部材の壁部に付
着したパーティクルの離脱だけでなく、該部材自体から
発生するパーティクルに関してもその量を正しく把握す
る必要があるが、かかる手段によれば、この要求が充分
に満足される。
を注入するとともに、該純水内に前記ウエーハケースの
内部収納部材が浸漬された容器を加振台上に載置し、該
容器及び内部収納部材に超音波振動を与えることによ
り、内部収納部材の表面に付着したパーティクルが純水
中に離脱し易くなるとともに、内部収納部材自体からの
パーティクルの発生も検出される。特にウエーハケース
に収納したウエーハを輸送する際には振動が加わること
があるため、ウエーハケースの内部収納部材の壁部に付
着したパーティクルの離脱だけでなく、該部材自体から
発生するパーティクルに関してもその量を正しく把握す
る必要があるが、かかる手段によれば、この要求が充分
に満足される。
【0030】また、周波数と出力のばらつきの少ない超
音波振動を与えることによってウエーハケースの内部収
納部材に加わる振動の再現性が良好となるため、一定時
間超音波振動を与える前後の純水中のパーティクル個数
を比較することで、ウエーハケースの清浄度をより定量
的に評価することが可能となる。
音波振動を与えることによってウエーハケースの内部収
納部材に加わる振動の再現性が良好となるため、一定時
間超音波振動を与える前後の純水中のパーティクル個数
を比較することで、ウエーハケースの清浄度をより定量
的に評価することが可能となる。
【0031】また、第7、第8の手段によれば、かかる
手段における周波数及び出力の範囲での超音波がばらつ
きが少なく、加振効果も大きい。
手段における周波数及び出力の範囲での超音波がばらつ
きが少なく、加振効果も大きい。
【0032】また第9及び第13の手段によれば、超音
波の出力が過大となった場合において、超音波減衰器に
てこれを減衰せしめた後、被測定部材に印加することが
できる。
波の出力が過大となった場合において、超音波減衰器に
てこれを減衰せしめた後、被測定部材に印加することが
できる。
【0033】また第10の手段によれば、ウエーハバス
ケットの成形後の密度が1よりも低いものがあっても、
パーティクルの測定が精度を落とすことなく可能とな
る。即ち、ウエーハケースに注入される純水の量をこの
手段の範囲に設定することにより、ウエーハケースの内
部収納部材からのパーティクルが侵入され易い純水量で
以って清浄度の測定が可能となり、測定精度が向上す
る。
ケットの成形後の密度が1よりも低いものがあっても、
パーティクルの測定が精度を落とすことなく可能とな
る。即ち、ウエーハケースに注入される純水の量をこの
手段の範囲に設定することにより、ウエーハケースの内
部収納部材からのパーティクルが侵入され易い純水量で
以って清浄度の測定が可能となり、測定精度が向上す
る。
【0034】
【実施例】以下図1〜図9を参照して本発明の実施例に
つき詳細に説明する。但し、この実施例に記載されてい
る構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は特
に特定的な記載がないかぎりは、この発明の範囲をそれ
に限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
つき詳細に説明する。但し、この実施例に記載されてい
る構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は特
に特定的な記載がないかぎりは、この発明の範囲をそれ
に限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
【0035】(1)第1実施例 図1は本発明の第1実施例に係るウエーハバスケット清
浄度評価システムの系統図である。図1において、53
は有底の容器8内に収容されたウエーハバスケットであ
り、該ウエーハバスケット53が収容された容器8は、
加振機5上に連設されたステージ6上に載置され、加振
機5による加振力がステージ6を介して印加されるよう
になっている。
浄度評価システムの系統図である。図1において、53
は有底の容器8内に収容されたウエーハバスケットであ
り、該ウエーハバスケット53が収容された容器8は、
加振機5上に連設されたステージ6上に載置され、加振
機5による加振力がステージ6を介して印加されるよう
になっている。
【0036】上記容器8は、ステンレス板の内壁にフッ
素樹脂を被覆したものを用いているが、石英、ガラス、
アルミニウム、プラスチックス等で構成してもよい。
素樹脂を被覆したものを用いているが、石英、ガラス、
アルミニウム、プラスチックス等で構成してもよい。
【0037】前記容器8内には純水2がその内容積の8
0%程度(60〜95%の範囲が好ましい)収容されて
いる。4は容器8内の純水2中のパーティクルを測定す
るためのパーティクル測定器であり、配管3を介して容
器8内の純水2に連通され、純水2中のパーティクルを
逐次的に測定可能となっている。
0%程度(60〜95%の範囲が好ましい)収容されて
いる。4は容器8内の純水2中のパーティクルを測定す
るためのパーティクル測定器であり、配管3を介して容
器8内の純水2に連通され、純水2中のパーティクルを
逐次的に測定可能となっている。
【0038】次に図1に示されるウエーハケースの内部
収納部材の清浄度測定・評価システムを使用した測定方
法につき説明する。
収納部材の清浄度測定・評価システムを使用した測定方
法につき説明する。
【0039】実験例1: (1)容器8内に純水2に満たして、超音波槽内で処理
した後、純水を排出し、この容器8内にウエーハバスケ
ット53を収納し、再び純水2をその液面がウエーハバ
スケット7の上端から約1cm下方に位置するように注
入した。純水2の液面が安定した後液中の0.2μm以
上の大きさのパーティクルの個数がパーティクル測定器
4にて測定した。
した後、純水を排出し、この容器8内にウエーハバスケ
ット53を収納し、再び純水2をその液面がウエーハバ
スケット7の上端から約1cm下方に位置するように注
入した。純水2の液面が安定した後液中の0.2μm以
上の大きさのパーティクルの個数がパーティクル測定器
4にて測定した。
【0040】(2)その後加振機5により振動数100
0Hz、加速度15Gの正弦波低周波振動をステージ6
を介して容器8、ウエーハバスケット53及び純水2に
印加し、1分毎にパーティクル測定器4により、液中の
パーティクル個数を測定しながら、上記振動を30分間
印加し続けた。
0Hz、加速度15Gの正弦波低周波振動をステージ6
を介して容器8、ウエーハバスケット53及び純水2に
印加し、1分毎にパーティクル測定器4により、液中の
パーティクル個数を測定しながら、上記振動を30分間
印加し続けた。
【0041】(3)上記(1)〜(2)による測定結果
を図4に示す。図4に明らかなように、液中パーティク
ルの個数は約10分後にほぼ飽和している。即ち加振後
約10分後にウエーハバスケット53に付着していたパ
ーティクルが純水2中に離脱し、該ウエーハバスケット
53が清浄化されている。
を図4に示す。図4に明らかなように、液中パーティク
ルの個数は約10分後にほぼ飽和している。即ち加振後
約10分後にウエーハバスケット53に付着していたパ
ーティクルが純水2中に離脱し、該ウエーハバスケット
53が清浄化されている。
【0042】実験例2: (1)実験例1の(1)項と同一操作・測定を行う。 (2)加振器5により振動数1000Hz、加速度15
Gの正弦波低周波振動を印加し続け、20分間経過後に
振動の印加を遮断した。
Gの正弦波低周波振動を印加し続け、20分間経過後に
振動の印加を遮断した。
【0043】(3)容器8内の純水2を排出し、再度排
出量と同量の純水を容器8内に注入し、液面が安定した
後、パーティクル測定器4により純水2中のパーティク
ルの個数を測定した。 (4)次いで上記(2)項と同一の低周波振動を10分
間印加し、1分間毎に純水中のパーティクルの個数をパ
ーティクル測定器4により測定した。
出量と同量の純水を容器8内に注入し、液面が安定した
後、パーティクル測定器4により純水2中のパーティク
ルの個数を測定した。 (4)次いで上記(2)項と同一の低周波振動を10分
間印加し、1分間毎に純水中のパーティクルの個数をパ
ーティクル測定器4により測定した。
【0044】(5)上記(1)〜(4)による測定結果
を図5に示す。図5から明らかなように、容器8内の純
水2を1回排出した後は、再度純水を注入し振動を与え
ても液中(純水中)パーティクルは殆ど検出されない。
即ち、ウエーハバスケット53が収納された容器8中の
純水に低周波振動を印加することにより、ウエーハバス
ケット53の表面に付着したパーティクルは効率良く離
脱されることとなる。
を図5に示す。図5から明らかなように、容器8内の純
水2を1回排出した後は、再度純水を注入し振動を与え
ても液中(純水中)パーティクルは殆ど検出されない。
即ち、ウエーハバスケット53が収納された容器8中の
純水に低周波振動を印加することにより、ウエーハバス
ケット53の表面に付着したパーティクルは効率良く離
脱されることとなる。
【0045】実験例3: (1)成形後のウエーハバスケット53と洗浄後のウエ
ーハバスケット53とを夫々10個用意した。 (2)各ウエーハバスケット53を収納した容器8内に
純水2を注入し、実験例1と同様、振動数1000H
z、加速度15Gの正弦波低周波振動を10分間印加し
た後、液中パーティクルの個数を測定した。
ーハバスケット53とを夫々10個用意した。 (2)各ウエーハバスケット53を収納した容器8内に
純水2を注入し、実験例1と同様、振動数1000H
z、加速度15Gの正弦波低周波振動を10分間印加し
た後、液中パーティクルの個数を測定した。
【0046】(3)上記(1)〜(2)による測定結果
を図6に示す。図6に明らかなように、成形後(未洗
浄)に較べ、洗浄後におけるパーティクルの量が大幅に
減少しており、ウエーハバスケット53の清浄度が上昇
している。
を図6に示す。図6に明らかなように、成形後(未洗
浄)に較べ、洗浄後におけるパーティクルの量が大幅に
減少しており、ウエーハバスケット53の清浄度が上昇
している。
【0047】実験例4: (1)容器8内に注入した純水2中にウエーハ押さえ5
4(図3参照)を浸漬し、純水2の液面安定後液中の
0.2μm以上の大きさのパーティクルの個数を測定し
た。 (2)加振機5により振動数1000Hz、加速度20
Gの正弦波低周波振動を20分間印加し、パーティクル
の量を1分間隔で測定した。
4(図3参照)を浸漬し、純水2の液面安定後液中の
0.2μm以上の大きさのパーティクルの個数を測定し
た。 (2)加振機5により振動数1000Hz、加速度20
Gの正弦波低周波振動を20分間印加し、パーティクル
の量を1分間隔で測定した。
【0048】(3)容器8内の純水を排出し、再度排水
量を同量の純水を容器8内に注入し、液面安定後、純水
中のパーティクルの個数を測定した。 (4)上記(2)項と同一の正弦波低周波振動を10分
間印加し、1分間隔でパーティクルの個数を測定した。
量を同量の純水を容器8内に注入し、液面安定後、純水
中のパーティクルの個数を測定した。 (4)上記(2)項と同一の正弦波低周波振動を10分
間印加し、1分間隔でパーティクルの個数を測定した。
【0049】(5)上記による測定結果を図7に示す。
図7に明らかなように、容器8内の純水を1回排出した
後は、再度純水を注入してもパーティクルは殆ど検出さ
れず、ウエーハ押さえ54を浸漬した純水中に低周波振
動を付与すれば該ウエーハ押さえに付着したパーティク
ルは効率良く離脱されることとなる。
図7に明らかなように、容器8内の純水を1回排出した
後は、再度純水を注入してもパーティクルは殆ど検出さ
れず、ウエーハ押さえ54を浸漬した純水中に低周波振
動を付与すれば該ウエーハ押さえに付着したパーティク
ルは効率良く離脱されることとなる。
【0050】(2)第2実施例 図2は本発明の第2実施例に係るウエーハケースの内部
収納部材であるウエーハバスケットの清浄度測定・評価
システムの系統図である。
収納部材であるウエーハバスケットの清浄度測定・評価
システムの系統図である。
【0051】図2において、53は図3に示されるウエ
ーハバスケットであり、有底の容器13内の純水2中に
浸漬されている。該純水2の量は、その水面がウエーハ
バスケット53の上端より5mm上位〜40mm下位に
なるようにして、ウエーハバスケット53の成形後の密
度が1より小さいものがあった際においてもパーティク
ルの個数を測定可能としている。
ーハバスケットであり、有底の容器13内の純水2中に
浸漬されている。該純水2の量は、その水面がウエーハ
バスケット53の上端より5mm上位〜40mm下位に
なるようにして、ウエーハバスケット53の成形後の密
度が1より小さいものがあった際においてもパーティク
ルの個数を測定可能としている。
【0052】61は内部に水8が貯溜された水槽であ
り、該水槽61の底部には超音波発振器59が設置され
ている。9は該超音波発振器59からの超音波を被測定
部材であるウエーハバスケット53に印加するに適切な
強さまで減衰するための超音波減衰器であり、該減衰器
9内には水11が収容されている。
り、該水槽61の底部には超音波発振器59が設置され
ている。9は該超音波発振器59からの超音波を被測定
部材であるウエーハバスケット53に印加するに適切な
強さまで減衰するための超音波減衰器であり、該減衰器
9内には水11が収容されている。
【0053】前記超音波減衰器9はポリプロピレン、ポ
リエチレン、ポリカーボネート等の材料から構成され
る。また前記超音波減衰器9は複数個の支持脚7にて水
槽61に支持され、さらに前記容器13は超音波減衰器
9の底部から立設された支持脚10により支持されてい
る。
リエチレン、ポリカーボネート等の材料から構成され
る。また前記超音波減衰器9は複数個の支持脚7にて水
槽61に支持され、さらに前記容器13は超音波減衰器
9の底部から立設された支持脚10により支持されてい
る。
【0054】4は容器13内のパーティクルを測定する
ためのパーティクル測定器であり、配管3を介して容器
13内の純水2に連通され、純水2中のパーティクルを
逐次的に測定可能となっている。
ためのパーティクル測定器であり、配管3を介して容器
13内の純水2に連通され、純水2中のパーティクルを
逐次的に測定可能となっている。
【0055】次に図2に示されるウエーハケース内部収
納部材(ウエーハバスケット53及びウエーハ押さえ5
4)の清浄度測定、評価装置を使用した清浄度の測定、
評価方法について説明する。
納部材(ウエーハバスケット53及びウエーハ押さえ5
4)の清浄度測定、評価装置を使用した清浄度の測定、
評価方法について説明する。
【0056】実験例5: (1)容器13内に注入した純水2中にウエーハバスケ
ット53を浸漬し、純水2の液面安定後、液中の0.2
μm以上の大きさのパーティクルの個数を測定した。 (2)超音波発振器59により、周波数40kHz、出
力300Wの超音波をパーティクル個数を1分間隔で測
定しながら、20分間印加した。
ット53を浸漬し、純水2の液面安定後、液中の0.2
μm以上の大きさのパーティクルの個数を測定した。 (2)超音波発振器59により、周波数40kHz、出
力300Wの超音波をパーティクル個数を1分間隔で測
定しながら、20分間印加した。
【0057】(3)容器13内の純水を排出し、再度排
水量と同量の純水を容器13内に注入し、液面安定後、
純水中のパーティクルの個数を測定した。 (4)上記(2)項と同一超音波を10分間印加し、1
分間隔でパーティクルの個数を測定した。
水量と同量の純水を容器13内に注入し、液面安定後、
純水中のパーティクルの個数を測定した。 (4)上記(2)項と同一超音波を10分間印加し、1
分間隔でパーティクルの個数を測定した。
【0058】(5)上記により測定結果を図8に示す。
図8に明らかなように、容器13内の純水を1回排出し
た後は、再度純水を注入してもパーティクルは殆ど検出
されず、ウエーハバスケットを浸漬した純水中に超音波
を印加すれば該ウエーハバスケットに付着したパーティ
クルは効率良く離脱されることとなる。
図8に明らかなように、容器13内の純水を1回排出し
た後は、再度純水を注入してもパーティクルは殆ど検出
されず、ウエーハバスケットを浸漬した純水中に超音波
を印加すれば該ウエーハバスケットに付着したパーティ
クルは効率良く離脱されることとなる。
【0059】実験例6: (1)容器13内に注入した純水2中にウエーハ押さえ
54(図3参照)を浸漬し、純水2の液面安定後、液中
の0.2μm以上の大きさのパーティクルの個数を測定
した。 (2)超音波発振器59により、周波数40kHz、出
力300Wの超音波をパーティクル個数を1分間隔で測
定しながら、20分印加した。
54(図3参照)を浸漬し、純水2の液面安定後、液中
の0.2μm以上の大きさのパーティクルの個数を測定
した。 (2)超音波発振器59により、周波数40kHz、出
力300Wの超音波をパーティクル個数を1分間隔で測
定しながら、20分印加した。
【0060】(3)容器13内の純水を排出し、再度排
出量と同量の純水を容器13内に注入し、液面安定後、
純水中のパーティクルの個数を測定した。 (4)上記(2)項と同一の超音波を10分間印加し、
1分間隔でパーティクルの個数を測定した。
出量と同量の純水を容器13内に注入し、液面安定後、
純水中のパーティクルの個数を測定した。 (4)上記(2)項と同一の超音波を10分間印加し、
1分間隔でパーティクルの個数を測定した。
【0061】(5)上記による測定結果を図9に示す。
図9に明らかなように、容器8内の純水を1回排出した
後は、再度純水を注入してもパーティクルは殆ど検出さ
れず、ウエーハ押さえ54を浸漬した純水中に超音波を
印加すれば、該ウエーハ押さえに付着したパーティクル
は効率良く離脱されることとなる。
図9に明らかなように、容器8内の純水を1回排出した
後は、再度純水を注入してもパーティクルは殆ど検出さ
れず、ウエーハ押さえ54を浸漬した純水中に超音波を
印加すれば、該ウエーハ押さえに付着したパーティクル
は効率良く離脱されることとなる。
【0062】
【発明の効果】本発明はウエーハ収納部材(ウエーハケ
ース)のうち、ウエーハケース本体の内部に収納される
ウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の内部収納部材
を純水が注入された容器内に収め、これに低周波振動又
は超音波振動を印加し、純水中のパーティクルの個数を
カウントするように構成したので、ウエーハケースの内
部収納部材に付着したパーティクルが純水中に離脱し易
くなるとともに、該内部収納部材自体からのパーティク
ルの発生を定量的に検知することができる。
ース)のうち、ウエーハケース本体の内部に収納される
ウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の内部収納部材
を純水が注入された容器内に収め、これに低周波振動又
は超音波振動を印加し、純水中のパーティクルの個数を
カウントするように構成したので、ウエーハケースの内
部収納部材に付着したパーティクルが純水中に離脱し易
くなるとともに、該内部収納部材自体からのパーティク
ルの発生を定量的に検知することができる。
【0063】また、内部に純水を注入できない非容器状
の形状をしたウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の
ウエーハケースの内部収納部材の清浄度の測定・評価
も、これらの部材を収容する容器を使用し、該容器内に
純水を注入することによって容易に実施可能となる。
の形状をしたウエーハバスケット、ウエーハ押さえ等の
ウエーハケースの内部収納部材の清浄度の測定・評価
も、これらの部材を収容する容器を使用し、該容器内に
純水を注入することによって容易に実施可能となる。
【0064】また純水をパーティクル測定装置に導きパ
ーティクルの個数を逐次的に測定するようにしているの
で、パーティクル発生の経時変化を正確に把握すること
ができる。
ーティクルの個数を逐次的に測定するようにしているの
で、パーティクル発生の経時変化を正確に把握すること
ができる。
【0065】また、請求項2〜5の発明によれば、周波
数と加速度のばらつきの少ない正弦波の低周波振動を与
えることによってウエーハケースの内部収納部材に加わ
る振動の再現性が良好となるため、一定時間低周波振動
を与える前後の純水中のパーティクル個数を比較するこ
とにより、内部収納部材の清浄度をより定量的に評価す
ることが可能となる。
数と加速度のばらつきの少ない正弦波の低周波振動を与
えることによってウエーハケースの内部収納部材に加わ
る振動の再現性が良好となるため、一定時間低周波振動
を与える前後の純水中のパーティクル個数を比較するこ
とにより、内部収納部材の清浄度をより定量的に評価す
ることが可能となる。
【0066】また請求項6〜9の発明によれば、周波数
と出力のばらつきの少ない超音波振動を与えることによ
ってウエーハケースの内部収納部材に加わる振動の再現
性が良好となるため、一定時間超音波振動を与える前後
の純水中のパーティクル個数を比較することで、前記内
部収納部材の清浄度をより定量的に評価することが可能
となる。
と出力のばらつきの少ない超音波振動を与えることによ
ってウエーハケースの内部収納部材に加わる振動の再現
性が良好となるため、一定時間超音波振動を与える前後
の純水中のパーティクル個数を比較することで、前記内
部収納部材の清浄度をより定量的に評価することが可能
となる。
【0067】また請求項11〜13に示される本発明の
装置によれば、ウエーハケースの内部収納部材が収容さ
れた容器内に純水を注入し、これに振動を与えてパーテ
ィクルの個数を検出するという、比較的簡単かつ低コス
トの装置で以ってウエーハケースの内部収納部材の清浄
度を正しく検知、評価することができる。
装置によれば、ウエーハケースの内部収納部材が収容さ
れた容器内に純水を注入し、これに振動を与えてパーテ
ィクルの個数を検出するという、比較的簡単かつ低コス
トの装置で以ってウエーハケースの内部収納部材の清浄
度を正しく検知、評価することができる。
【0068】以上に示されたウエーハケースの清浄度測
定・評価方法及び装置によれば、新品のウエーハケース
のみならず、ウエーハケースの再利用品についても新品
と同様な手法で以ってウエーハケースの清浄度の測定・
評価を行うことができる。
定・評価方法及び装置によれば、新品のウエーハケース
のみならず、ウエーハケースの再利用品についても新品
と同様な手法で以ってウエーハケースの清浄度の測定・
評価を行うことができる。
【図1】本発明の第1実施例に係るウエーハケースの内
部収納部材の清浄度測定・評価装置(低周波振動印加)
の構成図。
部収納部材の清浄度測定・評価装置(低周波振動印加)
の構成図。
【図2】本発明の第2実施例に係るウエーハケースの内
部収納部材の清浄度測定・評価装置(超音波振動印加)
の構成図。
部収納部材の清浄度測定・評価装置(超音波振動印加)
の構成図。
【図3】ウエーハケース(ウエーハ収納部材)の分解斜
視図。
視図。
【図4】第1実験例の結果を示す線図。
【図5】第2実験例の結果を示す線図。
【図6】第3実験例の結果を示す線図。
【図7】第4実験例の結果を示す線図。
【図8】第5実験例の結果を示す線図。
【図9】第6実験例の結果を示す線図。
50 ウエーハケース 53 ウエーハバスケット 54 ウエーハ押さえ 2 純水 3 配管 4 パーティクル測定器 5 加振機 8 容器 9 超音波減衰器 59 超音波発振器 61 水槽
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G01N 15/14 G01N 15/14 A H01L 21/68 H01L 21/68 T
Claims (13)
- 【請求項1】 半導体ウエーハが収納されるウエーハバ
スケットと、該ウエーハバスケット用のウエーハ押さえ
と、これらウエーハバスケット及びウエーハ押さえを収
納するウエーハケース本体と、該本体を覆蓋する上蓋と
により構成されるウエーハケースにおいて、前記ウエー
ハバスケット、ウエーハ押さえ等の前記ウエーハケース
の内部に収納される内部収納部材の清浄度を測定・評価
するにあたり、 前記内部収納部材を有底容器内に収納して該容器に一定
量の純水を注入し、 次いで該容器を加振機上に載置して前記純水の液面の安
定後でかつ加振前に液中パーティクルの個数をカウント
し、 次いで前記加振機により低周波振動を一定時間印加し、 その後に再度純水中のパーティクルの個数をカウントし
て加振前後のパーティクルの増加個数を求め、該パーテ
ィクルの増加個数により前記内部収納部材の清浄度を評
価することを特徴とするウエーハ収納部材の清浄度測定
・評価方法。 - 【請求項2】 前記低周波振動が正弦波振動である請求
項1記載のウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法。 - 【請求項3】 前記低周波振動の振動数が50Hz〜2
000Hzである請求項1ないし2記載のウエーハ収納
部材の清浄度測定・評価方法。 - 【請求項4】 前記低周波振動の加速度が2G〜50G
である請求項1ないし3記載のウエーハ収納部材の清浄
度測定・評価方法。 - 【請求項5】 前記低周波振動が鉛直方向に印加される
請求項1ないし4記載のウエーハ収納部材の清浄度測定
・評価方法。 - 【請求項6】 半導体ウエーハが収納されるウエーハバ
スケットと、該ウエーハバスケット用のウエーハ押さえ
と、これらウエーハバスケット及びウエーハ押さえを収
納するウエーハケース本体と、該本体を覆蓋する上蓋と
により構成されるウエーハケースにおいて、前記ウエー
ハバスケット、ウエーハ押さえ等の前記ウエーハケース
の内部に収納される内部収納部材の清浄度を測定・評価
するにあたり、 前記内部収納部材を有底容器内に収納し、該容器に一定
量の純水を注入して超音波発振器を備えた水槽内に配置
し、 前記純水の液面の安定後でかつ加振前に液中パーティク
ルの個数をカウントし、 次いで前記超音波発振器により超音波を一定時間印加
し、 その後に再度純水中のパーティクルの個数をカウントし
て超音波印加前後のパーティクルの増加個数を求め、 該パーティクルの増加個数により前記内部収納部材の清
浄度を評価することを特徴とするウエーハ収納部材の清
浄度測定・評価方法。 - 【請求項7】 前記超音波の周波数20kHz〜50k
Hzである請求項6記載のウエーハ収納部材の清浄度測
定・評価方法。 - 【請求項8】 前記超音波の出力が300W〜400W
である請求項6ないし7記載のウエーハ収納部材の清浄
度測定・評価方法。 - 【請求項9】 前記超音波発振器と前記容器内の純水中
に浸漬された内部収納部材との間で超音波減衰装置によ
り超音波を減衰せしめ、減衰された超音波を前記内部収
納部材に印加する請求項6ないし8記載のウエーハ収納
部材の清浄度測定・評価方法。 - 【請求項10】 前記純水は、その液面が前記収納部材
の上端から5mm上位ないし40mm下位になるように
前記容器内に注入される請求項1及び6記載のウエーハ
収納部材の清浄度測定・評価方法。 - 【請求項11】 半導体ウエーハが収納されるウエーハ
バスケットと、該ウエーハバスケット用のウエーハ押さ
えと、これらウエーハバスケット及びウエーハ押さえを
収納するウエーハケース本体と、該本体を覆蓋する上蓋
とにより構成されるウエーハケースにおいて、前記ウエ
ーハバスケット、ウエーハ押さえ等の前記ウエーハケー
スの内部に収納される内部収納部材の清浄度を測定・評
価する装置であって、 純水が注入され該純水中に前記内部収納部材が浸漬され
た有底の容器と、 該容器を加振する加振機と、 前記容器内の純水中に接続され、該純水中のパーティク
ルの量を測定するパーティクル測定装置とを備えたこと
を特徴とするウエーハ収納部材の清浄度測定・評価装
置。 - 【請求項12】 半導体ウエーハが収納されるウエーハ
バスケットと、該ウエーハバスケット用のウエーハ押さ
えと、これらウエーハバスケット及びウエーハ押さえを
収納するウエーハケース本体と、該本体を覆蓋する上蓋
とにより構成されるウエーハケースにおいて、前記ウエ
ーハバスケット、ウエーハ押さえ等の前記ウエーハケー
スの内部に収納される内部収納部材の清浄度を測定・評
価する装置であって、 純水が注入され、該純水中に前記内部収納部材が浸漬さ
れる有底の容器と、 該容器をその外壁面が水中に浸漬された状態で収容する
水槽と、 該水槽内の前記容器の下方に設置され該容器内の内部収
納部材に超音波を印加する超音波発振器と、 前記容器の純水中に接続され、該純水中のパーティクル
の量を測定するパーティクル測定装置とを備えたことを
特徴とするウエーハ収納部材の清浄度測定・評価装置。 - 【請求項13】 前記超音波発振器と前記容器との間に
超音波を減衰する超音波減衰装置を設けた請求項12記
載のウエーハ収納部材の清浄度測定・評価装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17936295A JP3166570B2 (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法 |
US08/665,809 US5793833A (en) | 1995-06-22 | 1996-06-19 | Method of and apparatus for measuring and estimating the cleanliness of wafer accommodating members |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17936295A JP3166570B2 (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH097992A true JPH097992A (ja) | 1997-01-10 |
JP3166570B2 JP3166570B2 (ja) | 2001-05-14 |
Family
ID=16064533
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17936295A Expired - Fee Related JP3166570B2 (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3166570B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1293619C (zh) * | 2003-06-03 | 2007-01-03 | 旺宏电子股份有限公司 | 自动计算增加的粒子的方法和系统 |
JP2008180590A (ja) * | 2007-01-24 | 2008-08-07 | Sumco Techxiv株式会社 | 半導体ウェハ収納容器の清浄度評価方法 |
JP2012032270A (ja) * | 2010-07-30 | 2012-02-16 | Nhk Spring Co Ltd | 被検査物の清浄度検査装置と、清浄度検査方法 |
JP2012099691A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-24 | Contact Co Ltd | 半導体ウエハ収納容器検査装置及び検査方法 |
JP2014120671A (ja) * | 2012-12-18 | 2014-06-30 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体ウェーハ収納容器の清浄度評価方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3003550B2 (ja) | 1995-06-22 | 2000-01-31 | 信越半導体株式会社 | ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法及びその装置 |
-
1995
- 1995-06-22 JP JP17936295A patent/JP3166570B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1293619C (zh) * | 2003-06-03 | 2007-01-03 | 旺宏电子股份有限公司 | 自动计算增加的粒子的方法和系统 |
JP2008180590A (ja) * | 2007-01-24 | 2008-08-07 | Sumco Techxiv株式会社 | 半導体ウェハ収納容器の清浄度評価方法 |
JP2012032270A (ja) * | 2010-07-30 | 2012-02-16 | Nhk Spring Co Ltd | 被検査物の清浄度検査装置と、清浄度検査方法 |
US8820146B2 (en) | 2010-07-30 | 2014-09-02 | Nhk Spring Co., Ltd. | Cleanliness inspection apparatus and cleanliness inspection method for object to be inspected |
JP2012099691A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-24 | Contact Co Ltd | 半導体ウエハ収納容器検査装置及び検査方法 |
JP2014120671A (ja) * | 2012-12-18 | 2014-06-30 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体ウェーハ収納容器の清浄度評価方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3166570B2 (ja) | 2001-05-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
AU2004235103B2 (en) | Hemostasis analyzer and method | |
TW201013814A (en) | Substrate processing device and substrate processing method | |
JPH097992A (ja) | ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法及びその装置 | |
US5237878A (en) | Apparatus and method for sampling ultra-pure chemical | |
JP3003550B2 (ja) | ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法及びその装置 | |
JPH01308942A (ja) | 固体表面付着微粒子計数装置 | |
US5793833A (en) | Method of and apparatus for measuring and estimating the cleanliness of wafer accommodating members | |
JP2020534690A (ja) | Pvaブラシの洗浄方法及び装置 | |
Marangopoulos et al. | Measurement of field distributions in ultrasonic cleaning baths: implications for cleaning efficiency | |
US9457385B2 (en) | Ultrasonic cleaning method and ultrasonic cleaning apparatus | |
JPH10239147A (ja) | 洗浄槽内の超音波強度測定機 | |
JP2001276760A (ja) | 部品清浄度評価方法とその装置および洗浄方法 | |
WO2022237577A1 (zh) | 颗粒物清洁度检测方法 | |
JP3225780B2 (ja) | 試料表面の付着物量の測定装置 | |
JP2002310872A (ja) | 測定方法及び測定装置 | |
JPS6042635A (ja) | 生化学分析装置におけるノズル洗浄装置 | |
Pohlman et al. | The ultrasonic cleaning process: its dependence on the energy density, time of action, temperature, and modulation of the sonic field | |
JP4950678B2 (ja) | 半導体ウェハ収納容器の清浄度評価方法 | |
JP3560049B2 (ja) | 粉粒体用容器 | |
CN208356659U (zh) | 一种应用于漩涡振荡器固定ep管的装置 | |
JP2937173B2 (ja) | 半導体ウェーハからのパーティクル発生個数測定方法 | |
JPH09281025A (ja) | 動的表面粘弾性測定装置及びこれを用いる測定方法 | |
JPH03278873A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
CN218180588U (zh) | 一种粉体真密度测试仪 | |
JP2000111388A (ja) | 液面検知装置および方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |