JPH0975674A - 排ガス浄化装置 - Google Patents
排ガス浄化装置Info
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- JPH0975674A JPH0975674A JP7232874A JP23287495A JPH0975674A JP H0975674 A JPH0975674 A JP H0975674A JP 7232874 A JP7232874 A JP 7232874A JP 23287495 A JP23287495 A JP 23287495A JP H0975674 A JPH0975674 A JP H0975674A
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Abstract
がら、NOx値を大気レベル以下まで低減させる超高効
率脱硝を実現する事ができる排ガス浄化装置提供するこ
と。 【解決手段】 使用条件により排ガス温度が変わる排ガ
スに含まれる熱を回収する廃熱回収ボイラに設けられ、
排ガス中に含まれるNOxを低減する脱硝触媒層と、N
H3を酸化分解するNH3分解触媒層とを備えた排ガス浄
化装置であって、前記触媒層は、廃熱回収ボイラの高温
度部側に設けられる前記脱硝触媒層とそれの後に続いて
設置されるNH3分解触媒層との対と、廃熱回収ボイラ
の低温度部側に設けられる他の脱硝触媒層との2つ以上
に分割配置されて成る。副生NOxの生成を抑えてNO
x値を大気レベルまでに低減させることができ、且つ未
反応NH3の排出を低い濃度(0.04ppm以下)に抑
えることができる。
Description
クルプラント等におけるガスタービンの燃焼装置等から
排出される燃焼排ガス中の窒素酸化物(以下NOxとす
る)を非常に低い濃度(約0.1ppm以下)まで低減
し、且つ未反応NH3の流出を抑えるのに好適な排ガス
浄化装置に関するものである。
される排煙中のNOxは光化学スモッグの原因物質であ
り、その効果的な除去方法として選択的接触還元による
排煙脱硝法が火力発電所を中心に幅広く用いられてい
る。近年、産業の発展からNOxを含む排ガス量は増大
する傾向にあり、環境基準を遵守するため今後さらなる
低NOx化が要求される趨勢にある。またNOxの他、
燃焼排ガス中に含まれるCOやNH3も非常に低レベル
にまで抑えることが望まれており、それらを除去するた
めの触媒やプセロスの実現が重要な課題となっている。
るいは大気並のNOx濃度(0.04ppm)以下の、
非常に低いレベルに抑える高効率脱硝(以下超高効率脱
硝と称す)を実現させるためには、排煙脱硝法に従来か
ら使用されている酸化チタン系の脱硝触媒を用いた場合
は、 NH3/NOxのモル比(以下「モル比」と略す)
1.0以上の運転に伴う未反応NH3の高濃度排出、 通常、触媒層直前の排ガス流路域での局所的なモル
比の相違があるため、モル比を1.0よりかなり高い値
(例えば1.2以上)とする必要があり、ますます未反
応NH3の濃度が高くなる、 モル比の局所的な相違をなくすためには、NH3の拡
散混合を図るための、長いダクトが必要となり、脱硝装
置の巨大化をもたらす、等の問題があり困難であった。
は、排ガス中にSO3が含有される場合、反応して(N
H4)2SO4や(NH4)HSO4を生成する。これらの
生成物は後流のエアヒーターなどの熱交換器に付着し、
排ガス流路の閉塞に伴う圧力損失の増大を引き起すため
脱硝装置やボイラの運転に支障を来す。またLNG焚等
SO3を含まない排ガスに対してもNH3自体が臭気を伴
うため高濃度排出には問題がある。これらの問題を解決
するためには未反応NH3の排出を抑えなければなら
ず、例えば未反応NH3の排出濃度を5ppm以下に抑
える事により、これらの問題を解決する事ができる。
ために、脱硝触媒の後流側に、NH3分解触媒を配置し
た脱硝装置が提案されているが、特に超高効率脱硝に対
しては、NH3分解触媒がNH3分解時に生じるNH3の
酸化に伴う副生NOxの問題から、図6に示すように、
NH3分解触媒11を、通常の脱硝触媒10,10で挟
んだ方法が提案されている。ここで、12は脱硝装置、
13はガス混合装置、14は整流装置、15は排ガスダ
クトを示す。
65号公報に記載された脱硝装置が挙げられる。この装
置は2つの脱硝触媒の間に伝熱面を設けた構造で、排ガ
ス温度により脱硝部分を変えるものである。
バインドサイクルプラントに図6に示す触媒層の構成で
超高効率脱硝を行う場合を考える。この例ではガスター
ビンは3台である。多軸型コンバインドサイクルプラン
トでは、ガスタービン1の運転台数により蒸気発生量が
異なり、スチームタービン7が1台であることから主蒸
気圧力が異なり、脱硝前流のチューブバンクでの熱吸収
量が異なり、脱硝入口の排ガス温度は例えば340℃
(ガスタービン1台運転時)〜380℃(ガスタービン
3台運転時)の温度差を生じる。一方、脱硝反応器に流
れる排ガス量は、ガスタービン1の1台に脱硝触媒装置
5の1台が対応して設置されているため、ガスタービン
1の台数にかかわらず同じである。図5において、3a
は高温側蒸発器、3bは低温側蒸発器である。
転時の脱硝反応器内でのNOxの減少状況とNH3の減
少状況を図7、8、9、10で説明する。図7、8、
9、10の横軸は、図6に示す脱硝反応器のガス流れ方
向の触媒量に比例して示しており、前流側脱硝触媒入
口、前流側脱硝触媒出口、NH3分解触媒出口、後流側
脱硝触媒出口位置での出口NOx、リークNH3濃度を
縦軸に示したものである。ガスタービン1台運転時に
は、図7、8に示すように、出口NOxは触媒量増加に
従い、0.1ppm以下でも急速にNOxは低下する
が、ガスタービン3台運転時は排ガス温度が高温(約3
80℃)となり、図15に示すように、NH3酸化反応
が活発となり、通常の脱硝触媒でも副生NOxが発生
し、NOxが0.1ppm以下で触媒量を増加してもN
Oxの低下率が小さくなり、NOxを大気レベルに低減
することが困難となっている。
度が340℃となるように、HRSG(排熱回収ボイ
ラ)中で脱硝反応器を、より低温域に設置した構造も考
えられるが、この場合、ガスタービン1の1台運転時に
は脱硝反応器のガス温度は図2に示すように300℃と
なり、図16に示すように、低温によるNH3分解触媒
のNH3分解活性の低下が生じ、図9、10に示すよう
に、リークNH3が5ppmを越える状態となり、好ま
しくない。
口のNOxの濃度を大気レベル以下まで低減させる超高
効率脱硝に適用する際に、未反応NH3量や副生NOx
量の抑制の点について、または触媒量の低減等の点につ
いて配慮がなされておらず、エアヒーターの閉塞やNH
3の臭気、脱硝装置の巨大化等の問題があった。
H3の排出を抑えながら、NOx値を大気レベル以下ま
で低減させる超高効率脱硝を実現する事ができる排ガス
浄化装置提供することにある。
成するために、排熱回収ボイラにおいて高温時に生じる
NH3の酸化による副生NOxの増加を抑制するため、
反応器を脱硝反応及びNH3分解反応の活発な高温度側
と副生NOxが問題とならない低い温度での脱硝を行う
低温度側に分割設置したものである。
温度が変わる排ガスに含まれる熱を回収する廃熱回収ボ
イラに設けられ、排ガス中に含まれるNOxを低減する
脱硝触媒層と、NH3を酸化分解するNH3分解触媒層と
を備えた排ガス浄化装置であって、前記触媒層は、廃熱
回収ボイラの高温度部側に設けられる前記脱硝触媒層と
それの後に続いて設置されるNH3分解触媒層との対
と、廃熱回収ボイラの低温度部側に設けられる他の脱硝
触媒層との2つ以上に分割配置されて成ることを特徴と
するものである。
3/NOxのモル比は1.0以上で運転され、高温度部を
330℃〜450℃、低温度部を250℃〜350℃と
して前記触媒層を設置したことを特徴とするものであ
る。
(330℃〜450℃)、低温側(250℃〜350
℃)に分割して設置する。例えば、高温側脱硝触媒と低
温側脱硝触媒の間に排ガス温度を下げる低温側蒸発器が
配置されるようにする。高温側脱硝触媒ではガス温度が
高温で反応するため、図16に示すように、NH3分解
反応が活発であるが、それによって図15に示すよう
に、NH3酸化反応による副生NOxが発生する為、N
Ox値を大気レベルに脱硝することは容易ではない。一
方、低温側脱硝触媒ではガス温度が低温での反応である
ため、図17に示すように、脱硝性能は低下するが、図
15に示すように、NH3分解反応も小さく、低濃度で
の脱硝が可能となる。
生NOxも低温側脱硝触媒で脱硝され出口NOx値を大
気レベル以下におさえることができる。つまり、高温側
脱硝触媒でNH3を十分低いレベルに低減し、かつNO
xも0.1〜1ppm以下に低減した後、低温側脱硝触
媒でNOxのみ低濃度での脱硝を行うことにより最終的
にリークNH3を低いレベル(5ppm以下)に保ち、
且つ出口NOxを大気レベル(0.04ppm以下)に
低減することが可能となる。
ントサイクルプラントの構造を示す。HRSGはガス上
流側から過熱器2、高温側蒸発器3a、低温側蒸発器3
b、節炭器4より構成されている。ここで、高温側触媒
層5aには前流側にNH3分解率の小さい脱硝触媒10
が4ユニット充填され、後流側にはNH3分解率の大き
なNH3分解触媒11が4ユニット充填されている。そ
して、その後流には低温蒸発器3bが配置されている。
また、低温側触媒層5bにはNH3分解率の小さい脱硝
触媒10が2ユニット充填されている。図1において、
1はガスタービン、6はNH3注入装置、7は蒸気ター
ビン、8は煙突、9はガス流れを示す。
(V)、タングステン(W)あるいはモリブデン(M
o)を活性成分にした酸化チタン(Ti)系触媒を使用
したもので、NH3分解触媒11に比べ、脱硝活性は高
く、NH3分解率(酸化率)は小さい。NH3分解触媒1
1としては、NOxのNH3による還元活性を有する第
1成分とNH3からNOxを生成させる活性を有する第
2成分とからなる触媒が用いられ、第1成分としてチタ
ン、バナジウム、タングステン、モリブデンから選ばれ
る1種以上の元素の酸化物からなる組成物を第1成分と
し、Pt,Pd,Rhから選ばれる貴金属の塩類もしく
はゼオライト、アルミナ、シリカなど多孔体担体にあら
かじめ担持された前記貴金属を含有する組成物を第2成
分とした組成物からなる触媒を使用する。
り排出された排ガスの温度は、HRSG中の過熱器2及
び高温側蒸発器3aを通り冷却され、高温側触媒層5a
の入口では、ガスタービン1を3台運転した時は約38
0℃、ガスタービン1を1台運転した時は約340℃と
なる。さらに排ガスは、低温側蒸発器3bを通り冷却さ
れ低温側触媒層5bの入口で、ガスタービン1を3台運
転した時には約340℃、ガスタービン1を1台運転し
た時には約300℃となる。
媒層5aの位置に脱硝触媒10を4ユニット、NH3分
解触媒11を4ユニット、脱硝触媒10を2ユニットガ
ス流れ上流より並べて設置する。
図2に示すように高温側触媒層5aの入口でガスタービ
ン1を3台運転した時は約380℃、ガスタービン1を
1台運転した時は約340℃となる。
媒層5bの位置に脱硝触媒10を4ユニット、NH3分
解触媒11を4ユニット、脱硝触媒10を2ユニットガ
ス流れ上流より並べて設置する。
図2に示すように低温側触媒層5bの入口でガスタービ
ン1を3台運転した時は約340℃、ガスタービン1を
1台運転した時は約300℃となる。
水平流型試験装置に1ユニット断面150mm×150
mm、触媒長さ500mmの脱硝触媒10、NH3分解
触媒11をそれぞれの個数設置し、ガスタービン1台運
転時(高温側触媒層入口ガス温度340℃)、ガスター
ビン3台運転時(高温側触媒層入口ガス温度380℃)
の条件で試験をおこなった。なお、ガス量は2250N
m3/h、入口NOx濃度は100ppm、モル比は1.
4とした。
した時(高温側触媒層入口ガス温度380℃)を模擬し
た条件での試験結果、図13、14にガスタービン1台
運転時(高温側触媒層入口ガス温度340℃)を模擬し
た条件での試験を示す。ここで、AV値とは触媒の単位
ガス接触表面積当りの処理ガス流量であり、以下の式で
表される。
m以下は十分満足するが、NH3分解による副生NOx
のため大気レベルの脱硝(出口NOxが0.04ppm
以下)が達成できていない。実施の形態例1および比較
例2では、リークNH3の5ppm以下、出口NOxの
0.04ppm以下を同時に満足する事ができる。
xの0.04ppm以下は満足するが、低温側触媒層で
は約300℃の温度となり、活性はより低下するためリ
ークNH3が5ppm以上となっている。 実施例1及
び比較例1は共に出口NOx0.04ppm以下、リー
クNH35ppm以下を同時に満足している。
ビン3台運転時、1台運転時の両方の条件で出口NOx
の0.04ppm以下、リークNH3の5ppm以下を同
時に満足する結果となった。すなわち、多軸型コンバイ
ンドサイクルプラントの様にガスタービンの運転台数に
より排ガス温度に温度差が生じる場合は脱硝触媒反応器
を上記のように異なる温度域に分割設置することにより
大気レベルの脱硝及び未反応NH3の抑制(5ppm以
下)が可能となる。
クルプラントに限定されるものではなく、ガスタービン
1台に対しスチームタービン1台が設置された1軸型の
コンバインドサイクルに対しても、部分負荷でガス温度
が変化する為、本発明を適用するとより広い負荷範囲に
渡って低NOx化、低リークNH3化が可能となる。
により排ガス温度に温度差の生じるコンバインドサイク
ルプラント等において、脱硝触媒を高温部、低温部に分
割設置し、NH3分解触媒を高温部に設置したことによ
り、副生NOxの生成を抑えてNOx値を大気レベルま
でに低減させることができ、且つ未反応NH3の排出を
低い濃度(0.04ppm以下)に抑えることができ
る。
脱硝装置の一例を示す構成図である。
の流路位置と温度の関係を示した図である。
較例を示す構成図である。
較例を示す構成図である。
成図である。
に脱硝触媒、NH3分解触媒、脱硝触媒を配置した従来
の水平流型3層方式脱硝装置を示す構成図である。
脱硝装置設置位置でのリークNH3濃度を示した図であ
る。
脱硝装置設置位置での出口NOx濃度を示した図であ
る。
脱硝装置をより低温域に設置した場合のリークNH3濃
度を示した図である。
の脱硝装置をより低温域に設置した場合の出口NOx濃
度を示した図である。
である。
である。
である。
である。
反応による副成NOx濃度と反応温度の関係を示した図
である。
ある。
る。
Claims (2)
- 【請求項1】 使用条件により排ガス温度が変わる排ガ
スに含まれる熱を回収する廃熱回収ボイラに設けられ、
排ガス中に含まれるNOxを低減する脱硝触媒層と、N
H3を酸化分解するNH3分解触媒層とを備えた排ガス浄
化装置であって、前記触媒層は、廃熱回収ボイラの高温
度部側に設けられる前記脱硝触媒層とそれの後に続いて
設置されるNH3分解触媒層との対と、廃熱回収ボイラ
の低温度部側に設けられる他の脱硝触媒層との2つ以上
に分割配置されて成ることを特徴とする排ガス浄化装
置。 - 【請求項2】 請求項1において、NH3/NOxのモ
ル比は1.0以上で運転され、高温度部を330℃〜4
50℃、低温度部を250℃〜350℃として前記触媒
層を設置したことを特徴とする排ガス浄化装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23287495A JP3491184B2 (ja) | 1995-09-11 | 1995-09-11 | 排ガス浄化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23287495A JP3491184B2 (ja) | 1995-09-11 | 1995-09-11 | 排ガス浄化装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH0975674A true JPH0975674A (ja) | 1997-03-25 |
JP3491184B2 JP3491184B2 (ja) | 2004-01-26 |
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ID=16946191
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23287495A Expired - Fee Related JP3491184B2 (ja) | 1995-09-11 | 1995-09-11 | 排ガス浄化装置 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3491184B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008529787A (ja) * | 2005-02-16 | 2008-08-07 | バスフ・カタリスツ・エルエルシー | 石炭燃焼公共施設のためのアンモニア酸化触媒 |
JP2009545437A (ja) * | 2006-08-01 | 2009-12-24 | コーメテック, インコーポレイテッド | 排ガス処理のための組成物および方法 |
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-
1995
- 1995-09-11 JP JP23287495A patent/JP3491184B2/ja not_active Expired - Fee Related
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