JPH097228A - 光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ２枚の光ディスク用基板を良好に接着接合可
能で、しかも磁気記録層に影響がなく信頼性および保存
安定性に優れた光ディスクを提供する。 【構成】 ２枚の透明基板の少なくとも一方の透明基板
の片面に情報記録層を有し、この情報記録層を設けた面
を内側にして接着剤により貼り合わせてなる光ディスク
において、該接着剤が下記（Ａ）および（Ｂ）または
（Ｃ）（Ｄ）（Ｂ） （Ａ）分子末端および／または側鎖にアルコキシシリル
基を有する重合体（Ｂ）縮合反応触媒 からなり、さら
に、特定のアルコキシシランまたはその部分加水分解物
を含まない樹脂組成物。または、（Ｃ）１分子中に光重
合可能な不飽和基およびアルコキシシリル基をそれぞれ
１つ以上有する重合体（Ｄ）光重合開始剤（Ｂ）縮合反
応触媒 からなり、さらに、特定のアルコキシシランま
たはその部分加水分解物を含まない樹脂組成物。上記２
種類の室温硬化型の樹脂組成物を用いることにより前記
課題を解決した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、特に２枚の光ディスク
基板を貼り合わせてなる光ディスクの製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、光ビームを用いて非接触にて情報
の記録、再生、消去を行なう光ディスクは、記録容量が
大きいこと、取り扱いの簡便さ、傷や汚れに強いこと等
の特徴を有していることから、コード情報やイメージ情
報などの大容量ファイルなどとしての活用が期待されて
いるとともに、既に日常生活においてはコンパクトディ
スクやビデオディスクなどとして商品化されている。

【０００３】これら光ディスクは記録面の設け方から、
片面記録タイプあるいは両面記録タイプに分けられ、さ
らにその構造から前者は単板タイプと保護板付きタイプ
に、また、後者は密着貼り合わせタイプとエアサンドタ
イプに分けることができる。これらのうち、保護板付き
タイプと密着貼り合わせタイプは、記録膜を設けたディ
スク基板どうしの接合を接着剤を介して行なっていた。

【０００４】このように光ディスクの製造にあたっては
接着剤が用いられており、従来から、ホットメルト型の
接着剤、紫外線硬化性接着剤などが使用されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ホットメルト型の接着
剤は、瞬時に接着することが可能であるが、加熱溶融状
態で接着剤を塗布するため被着体の耐熱性を考慮しなけ
ればならず、また、粘度も高いため接着剤層を薄くする
ことは困難であり、また、気泡の巻き込みによる接着剤
層の厚みのばらつきや接着力がばらつくなどの問題があ
る。さらに、主成分が熱可塑性樹脂であるために、接着
後でも温度上昇とともに軟化して接着強度が低下し、そ
のためにディスクを高温下で保存した場合などにおい
て、ディスク基板のずれ、たわみ、歪み、反りなどが生
じ易く、また、ディスク板の剥離もおき、これらはいず
れも情報の記録および再生機能を損なわせるという問題
がある。

【０００６】また、紫外線硬化性樹脂も瞬時に硬化する
が、被着体の少なくとも一方が光線を透過するのでなけ
れば使用できないという問題がある。紫外線照射が不可
能な部分を加熱硬化や嫌気硬化など他の硬化機構を付与
させたり、硬化促進剤を用いて硬化させる試みもなされ
ているが、このために加えられる触媒等が記録層を腐食
するという問題がある。例えば、特開昭６１−２１７９
４４には嫌気硬化性を付与させた紫外線硬化性接着剤を
用いた光ディスクの提案があるが、有機保護膜を設けた
ような光ディスク基板の接着には適用できず、嫌気硬化
触媒の記録膜への影響という問題がある。

【０００７】これらの接着剤の他にも特開平２−１５３
９８４、特開平２−２６３１３６にはエポキシ樹脂を用
いた例が提示されているが、硬化物が脆い、剥離強度が
小さい、耐衝撃性に劣るという欠点がある。例えば特開
昭６１−１６５８４２、特開昭６２−９６５７９、特開
昭６２−１８５２６４には、光カチオン重合するエポキ
シ樹脂を用いた提案があるが、光カチオン重合の場合、
用いる光重合開始剤が高価なこと、光重合開始剤自身お
よび光分解物による記録膜の腐食という問題があった。
また、特開昭６１−２５５５４１、特開昭６２−１４９
７７８には硬化物に可撓性を付与させるために硬化剤に
ポリチオールを用いたエポキシ樹脂の提案もあるが、臭
気が強く作業環境を悪化するという問題があった。

【０００８】一方、シリコーン系の樹脂を光ディスクに
適用する例として、特開平５−１２０７４７、特開平６
−３４９１１３などがあるが、いずれも架橋剤成分とし
ての低分子量シラン化合物を用いており、特に縮合反応
触媒に有機カルボン酸の金属塩を併用した場合は、触媒
分解時に生成する酸の影響により記録膜が腐食されると
いう欠点があった。加えて前者は、加水分解時に生成す
る縮合物や光カチオン硬化触媒が記録膜をさらに腐食し
たり、後者においては溶剤タイプであることから光ディ
スク基板を溶解させたり記録膜に及ぼす影響が大きく、
接着は勿論光ディスクへの適用は不適当である。

【０００９】さらに、特開平４−２９６３７８には、湿
気硬化性樹脂組成物として分子内にイソシアネート基を
有する化合物を用いた光ディスクの例示があるが、この
ような樹脂組成物は反応制御が難しく合成が困難である
ことや、粘度が高いこと、臭気、未反応イソシアネート
の人体に対する影響なとの点で問題が多い。

【００１０】

【課題を解決するための手段】第１の手段としては、２
枚の透明基板の少なくとも一方の透明基板の片面に情報
記録層を有し、この情報記録層を設けた面を内側にして
接着剤により貼り合わせてなる光ディスクにおいて、該
接着剤が、 （Ａ）分子末端および／または側鎖に下記一般式

【００１１】

【化１】

【００１２】（ただし、Ｒは同一でも異なっていてもよ
い置換または非置換の１価の飽和炭化水素基を、_ａは１
〜３の数をそれぞれ示す。）

【００１３】で示されるアルコキシシリル基を有する重
合体１００重量部 （Ｂ）縮合反応触媒 ０．０５〜１０重量部 からなり、実質的に下記一般式

【００１４】

【化２】（ただし、Ｒ^３およびＲ^４は同一でも異なって
いてもよい置換または非置換の１価の炭化水素基、_ｂは
０または１の数をそれぞれ示す。）

【００１５】で示されるアルコキシシランまたはその部
分加水分解縮合物を含まない樹脂組成物を用いることに
より、特に保護板付きタイプと密着貼り合わせタイプの
光ディスクを製造するのに好適な接着剤を提供すること
を目的とする。

【００１６】次に、第２の手段としては、２枚の透明基
板の少なくとも一方の透明基板の片面に情報記録層を有
し、この情報記録層を設けた面を内側にして接着剤によ
り貼り合わせてなる光ディスクにおいて該接着剤が、 （Ｃ）１分子中に光重合可能な不飽和基および下記一般
式

【００１７】

【化１】

【００１８】（ただし、Ｒ^１およびＲ^２は同一でも異な
っていてもよい置換または非置換の１価の炭化水素基、
_ａは１〜３の数を示す。）

【００１９】で示されるアルコキシシリル基をそれぞれ
１つ以上有する重合体１００重量部 （Ｄ）光重合開始剤 ０．０５〜１０重量部 （Ｂ）縮合反応触媒 ０．０５〜１０重量部 からなり、実質的に下記一般式

【００２０】

【化２】

【００２１】（ただし、Ｒ^３およびＲ^４は同一でも異な
っていてもよい置換または非置換の１価の炭化水素基、
_ｂは０または１の数をそれぞれ示す）

【００２２】で示されるアルコキシシランまたはその部
分加水分解縮合物を含まない樹脂組成物を用いることに
より、特に保護板付きタイプと密着貼り合わせタイプの
光ディスクを製造するのに好適な接着剤を提供すること
を目的とする。

【００２３】以下本発明について詳細に述べる。先ず、
本願の第１の発明による接着剤の構成のうち（Ａ）成分
は、湿気硬化触媒存在下、空気中の水分および被着体に
付着している水分により下記に示したアルコキシシリル
基からの脱アルコール反応を伴って硬化する。

【００２４】

【化１】

【００２５】（ただし、Ｒ^１およびＲ^２は同一でも異な
っていてもよい置換または非置換の１価の炭化水素基、
ａは１〜３の数をそれぞれ示す。）

【００２６】加水分解性シリル基としては、本発明の接
着剤組成物に用いられる脱アルコール型の他に、脱酢酸
型、脱オキシム型、脱アセトン型、脱アミド型、脱アミ
ン型、脱アミノキシ型などの加水分解性シリル基があ
る。しかしながら、これらは縮合物の臭気および縮合物
の記録膜並びにディスク基板材料への影響などの問題が
あるため本発明の用途には供することはできない。

【００２７】（Ａ）成分の主鎖としては、例えば、エチ
レンオキシド、プロピレンオキシドや、テトラヒドロフ
ランなどの環状エーテルの開環重合で得られるポリエー
テル類や、ポリオールとポリイソシアネートとの重付加
で得られるポリウレタン類や、ポリカルボン酸とポリオ
ールとの縮合またはラクトン類の開環重合で得られるポ
リエステル類や、ポリカルボン酸とポリアミンとの縮合
またはラクタム類の開環重合で得られるポリアミド類
や、エチレン−プロピレン共重合体や、イソブチレン、
ネオプレン、クロロプレン、ブタジエンなどのゴム成分
のホモポリマーまたはコポリマーや、イソブチレン、ブ
タジエンなどとスチレン、アクリロニトリルなどとの共
重合体や、（メタ）アクリル酸エステルまたは（メタ）
アクリルアミドのホモポリマーまたはコポリマーや、
（メタ）アクリル酸エステルまたは（メタ）アクリルア
ミドと酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレン、エチ
レンなどとの共重合体や、ポリカーボネート、ポリビニ
ルエーテル、ポリ尿素、ポリサルファイドなどを挙げる
ことができる。これらの中で、合成の容易さ、得られる
（Ａ）成分が比較的低粘度の液状であること、湿気硬化
性、価格などの面から（Ａ）成分の主鎖はポリシロキサ
ンまたはポリエーテルであることが好ましい。このシロ
キサン単位の具体例としては、ジメチルシロキサン単位
が好ましいが、ジフェニルシロキサン単位やメチルフェ
ニルシロキサン単位などの他の単位が共存するものも好
ましい。また、エーテル単位の具体例としては、オキシ
プロピレン単位が好ましいが、オキシエチレン単位やオ
キシテトラメチレン単位などの他の単位が共存するもの
でもかまわない。

【００２８】前記（Ａ）成分は適宜公知の方法で製造し
得る。例えば、 １．分子末端および／または側鎖に不飽和基を有するポ
リシロキサンまたはポリエーテルとジメトキシメチルシ
ランなどのハイドロシランを付加させて製造する方法。 ２．ビニルトリメトキシシランとハイドロジェンポリシ
ロキサンとを付加させて製造する方法。 ３．分子末端および／または側鎖にシラノール基を有す
るポリシロキサンとトリメトキシメチルシランとを縮合
させて製造する方法。 ４．エポキシ基、（メタ）アクリロイル基、ビニル基な
どの重合性反応基を有するアルコキシシランと（共）重
合性させるか、または、これらのアルコキシシランと共
重合性のあるモノマー、例えば、エチレンオキシド、プ
ロピレンオキシド、エチレン、プロピレン、イソブチレ
ン、ネオプレン、アクリロニトリル、ブタジエン、（メ
タ）アクリル酸エステルなどと共重合させて製造する方
法。 ５．分子末端および／または側鎖に不飽和基を有するポ
リシロキサンまたはポリエーテルにメルカプト基、アミ
ノ基などの活性水素を有するアルコキシシランを付加さ
せて製造する方法。 ６．分子末端および／または側鎖に水酸基、メルカプト
基、アミノ基などの活性水素を有するポリシロキサンま
たはポリエーテルに、イソシアネート基を有するアルコ
キシシランを重付加させて製造する方法。等により得る
ことができる。

【００２９】通常、加水分解性シリル基を有する硬化性
樹脂組成物には、架橋剤成分として下記一般式

【００３０】

【化２】

【００３１】（ただし、Ｒ^３およびＲ^４は同一でも異な
っていてもよい置換または非置換の１価の炭化水素基、
_ｂは０または１の数をそれぞれ示す。）で示されるアル
コキシシランまたはその部分加水分解縮合物を配合する
が、本発明においてはこの成分により光ディスク基板お
よび記録膜を腐食するため、実質的に含まないことを特
徴とする。

【００３２】また、ここで（Ａ）成分の主鎖にポリシロ
キサンを用いる場合、ポリシロキサンの製造工程におい
て下記一般式

【００３３】

【化３】

【００３４】（ただし、Ｒ^５およびＲ^６は同一でも異な
っていてもよい置換または非置換の１価の炭化水素基、
_ｃは３〜２０の数を示す。）

【００３５】に示すような環状ポリシロキサンも生成す
る。ところで、電気・電子分野において、この環状シロ
キサン、特に重合度が３〜２０程度の低分子シロキサン
が、接点等に付着して導通不良や動作不良を起こすとい
った問題が報告されている。本発明の光ディスクにおい
ても、接着剤層から揮散した低分子シロキサンがディス
クドライブ機器の接点等に付着して上記の問題を引き起
こしたり、光ディスク基板および記録膜を腐食するた
め、できるだけその含有量が少ないことが好ましく、重
合度３〜２０の低分子環状シロキサンの層含有量が５０
０ｐｐｍ以下、より好ましくは１００ｐｐｍ以下であ
る。

【００３６】（Ａ）成分は、（Ｂ）成分の縮合重合触媒
の存在下、空気中の水分および被着体に付着している水
分により縮合し硬化する。（Ａ）成分を縮合反応させ得
る（Ｂ）成分としては、具体的には、例えばジブチル錫
ジアセテート、ジオクチル酸ジブチル錫、ジラウリン酸
ジブチル錫、テトラオクチル酸錫、カプリル酸錫、ナフ
テン酸錫、オレイン酸錫、オクチル酸鉛、オクチル酸亜
鉛、ナフテン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、オクチル酸コ
バルト、ナフテン酸コバルト、オクチル酸鉄、ナフテン
酸チタンなどの有機カルボン酸の金属塩や、ジブチル錫
オキシド、ジブチル錫ジメトキシド、ジブチルビス（ト
リエトキシシロキン）錫、ジブチル錫ジアセチルアセト
ナートなどの有機錫化合物や、テトラエチルチタネー
ト、テトラプロピルチタネート、テトラブチルチタネー
ト、テトラ（イソプロペニルオキシ）チタネートなどの
有機チタン酸エステルおよびこれらの部分加水分解縮合
物や、ジプロポキシビス（アセチルアセトナート）チタ
ン、ジブトキシビス（アセチルアセトナート）チタン、
ジプロポキシビス（エチルアセトアセテート）チタン、
１，３−ジオキシプロパンビス（アセチルアセトナー
ト）チタン、１，３−ジオキシプロパンビス（エチルア
セトアセテート）チタンなどの有機チタンキレート化合
物や、アルミニウムトリス（アセチルアセトナート）、
アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、ジプ
ロポキシアルミニウム（エチルアセトアセテート）など
の有機アルミニウム化合物や、ブチルアミン、オクチル
アミン、ジブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエ
タノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチレント
リアミン、トリエチレンテトラミン、シクロヘキシルア
ミン、ベンジルアミン、モルホリン、アミノシランなど
のアミン類あるいはこれらのカルボン酸塩や４級アンモ
ニウム塩などが挙げられる。（Ｂ）成分は前記（Ａ）成
分１００重量部に対して、０．０５〜１０重量部の範囲
で適宜添加される。

【００３７】ところで、有機カルボン酸の金属塩は触媒
分解時に発生する酸が、また、塩類は触媒自身が光ディ
スクの記録膜を腐食することがあるため、本発明におい
ては下記一般式

【００３８】

【化４】

【００３９】（だだし、Ｒ^７は同一でも異なっていても
よい置換または非置換の１価の飽和炭化水素基を示
す。）で示される有機チタン酸エステルおよびこれらの
部分加水分解縮合物が好適に用いられる。

【００４０】次に、本願の第２の発明における樹脂組成
物について説明する。この樹脂組成物を構成する（Ｃ）
成分は、１分子中に光重合可能な不飽和基およびアルコ
キシ基をそれぞれ１つ以上有する重合体である。樹脂組
成物が複数の硬化機構で硬化するためには、１分子中に
複数の硬化機構で硬化する反応基を有する化合物を用い
る方法と、それぞれの硬化機構で硬化する反応基を有す
る化合物を混合して用いる方法とがある。本発明におい
ては適用される光ディスクの構造が両面記録タイプの場
合、記録膜を設けた部分には光を照射することは不可能
であり、後者の方法による接着剤を用いた場合、未反応
で残存する光重合可能な不飽和基を有する成分により、
記録膜およびディスク基板が侵されるため、前者の方法
による接着剤を用いる必要がある。

【００４１】光重合反応としては、光ラジカル重合、光
カチオン重合、ポリエン−ポリチオール付加などが知ら
れるが、光カチオン重合の場合、用いる光重合開始剤が
高価なこと、光重合開始剤自身および光分解物による記
録膜の腐食、また、ポリエン−ポリチオール付加の場合
は臭気が問題となるため、光ラジカル重合が好適に用い
られる。

【００４２】一方、加水分解性シリル基としては、本発
明の接着剤組成物に用いられる脱アルコール型の他に、
脱酢酸型、脱オキシム型、脱アセトン型、脱アミド型、
脱アミン型、脱アミノキシ型などの加水分解性シリル基
がある。しかしながら、これらは縮合物の臭気および縮
合物の記録膜並びにディスク基板材料等への影響などの
問題があるため、本発明の用途に供することはできな
い。

【００４３】このような（Ｃ）成分は適宜公知の方法、
例えば特開昭６０−２１５００９、特開昭６１−１２７
７１８、特開平１−２８７１１５、特開平１−３１８０
２８、特開平５−２９５２７１、特開平５−２９５２７
２、特開平５−３１１０８２、特開平６−１８４２５
７、特開平６−３４５９７４等に記載の方法で製造でき
る。

【００４４】また、この第２の発明も第１の発明と同
様、通常加水分解性シリル基を有する硬化性樹脂組成物
には、架橋剤成分として下記一般式

【００４５】

【化２】

【００４６】（ただし、Ｒ^３およびＲ^４ は同一でも異
なっていてもよい置換または非置換の１価の炭化水素
基、_ｂは０または１の数をそれぞれ示す。）

【００４７】で示されるアルコキシシランまたはその部
分加水分解縮合物を配合するが、本発明においてはこの
成分により光ディスク基板および記録膜を腐食するた
め、実質的に含まないことを特微とする。

【００４８】また、（Ｃ）成分の主鎖としては第１の発
明の（Ａ）成分と同様、例えば、ポリシロキサン、エチ
レンオキシド、プロピレンオキシド、テトラヒドロフラ
ンなどの環状エーテルの開環重合で得られるポリエーテ
ル類や、ポリオールとポリイソシアネートとの重付加で
得られるポリウレタン類や、ポリカルボン酸とポリオー
ルとの縮合またはラクトン類の開環重合で得られるポリ
エステル類や、ポリカルボン酸とポリアミンとの縮合ま
たはラクタム類の開環重合で得られるポリアミド類や、
エチレン−プロピレン共重合体や、イソブチレン、ネオ
プレン、クロロプレン、ブタジエンなどのゴム成分のホ
モポリマーまたはコポリマーや、イソブチレン、ブタジ
エンなどとスチレン、アクリロニトリルなどとの共重合
体や、（メタ）アクリル酸エステルまたは（メタ）アク
リルアミドのホモポリマーまたはコポリマーや、（メ
タ）アクリル酸エステルまたは（メタ）アクリルアミド
と酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレン、エチレン
などとの共重合体や、ポリカーボネート、ポリビニルエ
ーテル、ポリ尿素、ポリサルファイドなどを挙げること
ができる。これらの中で、合成の容易さ、得られる
（Ｃ）成分が比較的低粘度の液状であること、湿気硬化
性、価格などの面から（Ｃ）成分の主鎖はポリシロキサ
ンまたはポリエーテルであることが好ましい。このシロ
キサン単位の具体例としては、ジメチルシロキサン単位
が好ましいが、ジフェニルシロキサン単位やメチルフェ
ニルシロキサン単位などの他の単位が共存するものも好
ましい。また、エーテル単位の具体例としては、オキシ
プロピレン単位が好ましいが、オキシエチレン単位やオ
キシテトラメチレン単位などの他の単位が共存するもの
でもかまわない。

【００４９】また、ここで（Ｃ）成分の主鎖にポリシロ
キサンを用いる場合、ポリシロキサンの製造工程におい
て下記一般式

【００５０】

【化３】

【００５１】（ただし、Ｒ^５およびＲ^６は同一でも異な
っていてもよい置換または非置換の１価の炭化水素基、
_ｃは３〜２０の数をそれぞれ示す。）

【００５２】に示すような環状ポシロキサンも生成す
る。ところで、電気・電子分野において、この環状シロ
キサン、特に、重合度が３〜２０程度の低分子シロキサ
ンが、接点等に付着して導通不良や動作不良を起こすと
いった問題が報告されている。本発明においても接着剤
層から揮散した低分子シロキサンがディスクドライブ機
器の接点等に付着して上記の問題を引き起こしたり、光
ディスク基板および記録膜を腐食するため、できるだけ
その含量が少ないことが好ましく、重合度３〜２０の低
分子環状シロキサンの総含有量が５００ｐｐｍ以下、よ
り好ましくは１００ｐｐｍ以下である。

【００５３】この第２の発明における樹脂組成物を構成
する（Ｃ）成分は、（Ｄ）成分の光重合開始剤の存在
下、その分子内に存在する光重合可能な不飽和基が重合
し硬化する。この（Ｄ）成分は、ベンゾフェノン、アセ
トフェノン、プロピオフェノン、ジメトキシアセトフェ
ノン、ジエトキシアセトフェノン、ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトン、ベンゾイン、ベンゾインエチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ンブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒ
ドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オ
ン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキ
シ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロ
キシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロ
パン）ケトン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェ
ニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベン
ジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェ
ニル）ブタン−１−オン、ポリ［２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−［４−（１−メチルヒニル）フェニル］プ
ロパノン］、チオキサントン、２−メチルチオキサント
ン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチ
オキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサント
ン、メチルベンゾイルフォルメート、カンファーキノ
ン、ベンジル、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキシドなどが挙げられる。これら
（Ｄ）成分は、（Ｃ）成分１００重量部に対し、０．０
５〜１０重量部の範囲で適宜添加される。また、必要に
応じて増感剤を併用してもよい。

【００５４】一方、（Ｃ）成分は（Ｂ）縮合反応触媒存
在下、空気中の水分および被着体に付着している水分に
より、（Ｃ）成分中に存在するのアルコキシシリル基か
らの脱アルコールを伴なって硬化する。従って、第２の
発明における（Ｂ）成分は第１の発明を構成する成分と
同様の触媒が使用でき、該（Ｂ）成分は、前記（Ｃ）成
分１００重量部に対して、０．０５〜１０重量部の範囲
で適宜添加される。

【００５５】ところで、有機カルボン酸の金属塩は触媒
分解時に発生する酸が、また、塩類は触媒自身が光ディ
スクの記録膜を腐食することがあるため、これも第１の
発明と同様、この第２の発明においても下記一般式

【００５６】

【化４】

【００５７】（だだし、Ｒ^７は同一でも異なっていても
よい置換または非置換の１価の飽和炭化水素基を示
す。）

【００５８】で示される有機チタン酸エステルおよびこ
れらの部分加水分解物が好適に用いられる。

【００５９】本発明における光ディスクに供される第
１、第２のそれぞれの硬化性樹脂組成物は、必要に応じ
て樹脂強度を向上させるために、煙霧質シリカ、沈降シ
リカ、石英微粉末、カーボンブラック、炭酸カルシウ
ム、炭酸カグネシウム、酸化チタン、酸化鉄、酸化亜
鉛、水酸化アルミニウム、アルミナ、けいそう土、クレ
ー、タルク、ベントナイト、マイカ、シラスバルーンな
どのような充填剤や補強剤、さらには、重合禁止剤、酸
化防止剤、密着付与剤、カップリング剤、レベリング
剤、消泡剤、防かび剤、難燃剤などのような公知添加剤
をその硬化物特性に影響しない範囲で添加することがで
きる。

【００６０】以上の説明した硬化性樹脂組成物を少なく
とも一方のディスク基板に塗布した後、他方のディスク
基板と貼り合わせることにより、本発明の光ディスクを
得ることができる。上記ディスク基板の材料としては、
通常、光ディスクに使用されている基板材料であればよ
く、例えば、ガラス、ポリカーボネート系樹脂、ポリア
ミド系樹脂、エポキシ樹脂などの透明材料が挙げられ
る。また、本発明の硬化性樹脂組成物をディスク基板に
塗布する方法としては、スクリーン印刷、ロールコー
ト、ディスペンサー塗布、スピンコートなどが挙げられ
る。

【００６１】

【実施例】以下に本発明の実施例を示し、さらに具体的
に述べる。尚、実施例中の部は全て重量部を示す。

【００６２】実施例１ 精製して重合度３〜２０の低分子環状シロキサンの総含
有量を７０ｐｐｍとした、粘度が２５℃において１５Ｐ
ａ・ｓのシラノール末端ジメチルポリシロキサン１００
部とメチルトリメトキシシラン７．５部とを還流冷却器
を取り付けた反応容器に投入し、窒素雰囲気下１４０℃
で１２時間加熱攪拌した。次いで、１２０℃、２０ｍｍ
Ｈｇの条件下で副生したメタノールと過剰のメチルトリ
メトキシシランを留去し、分子末端にメチルジメトキシ
シリル基を有するジメチルポリシロキサンを得た。この
重合体１００部に対して、テトライソプロピルチタネー
トを２部添加、混合して樹脂組成物を得た。

【００６３】得られた硬化性樹脂組成物を記録膜を付け
たポリカーボネート製光ディスク基板にディスペンサー
を用いてリング状に塗布し、その上にもう一枚の記録膜
をつけた光ディスク基板を貼り合わせ位置ずれしないよ
うに固定し、室温で硬化させて光ディスクを作製した。
このように作製した光ディスクを８５℃、９０％ＲＨの
環境で耐湿試験を行なった結果、２０００時間を経過し
ても以上は認められなかった。

【００６４】実施例２ 精製して重合度３〜２０の低分子環状シロキサンの総含
有量を６０ｐｐｍとした、粘度が２５℃において５Ｐａ
・ｓのシラノール末端ジメチルポリシロキサン１００部
とメチルトリメトキシシラン３部および触媒としてエチ
レンジアミンとを還流冷却器を取り付けた反応容器に投
入し、窒素雰囲気下７０℃で６時間加熱攪拌した。次い
で、１２０℃、２０ｍｍＨｇの条件下で副生したメタノ
ールと過剰のメチルトリメトキシシランを留去し、分子
末端にメチルジメトキシシリル基を有するジメチルポリ
シロキサンを得た。この重合体１００部に対して、テト
ライソプロピルチタネートを４部添加、混合して樹脂組
成物を得た。

【００６５】得られた硬化性樹脂組成物を記録膜を付け
たポリカーボネート製光ディスク基板にスピンコーター
を用いて塗布し、その上にもう一枚の記録膜をつけた光
ディスク基板を貼り合わせ位置ずれしないように固定
し、室温で硬化させて光デイスクを作製した。このよう
に作製した光ディスクを８５℃、９０％ＲＨの環境で耐
湿試験を行なった結果、２０００時間を経過しても以上
は認められなかった。

【００６６】実施例３ 分子末端にアルコキシシリル基を有するポリエーテル変
性シリコーン樹脂（鐘淵化学工業社製 サイリル４３
０）１００部に対して、テトライソプロピルチタネート
３部添加し混合して硬化性樹脂組成物を得た。

【００６７】得られた硬化性樹脂組成物を使用して、実
施例１と同様にして光ディスクを作成した。このように
作製した光ディスクは落下衝撃試験を行なっても基板の
剥離は認められず、また、８５℃、９０％ＲＨの環境で
耐湿試験を行なった結果、２０００時間を経過しても以
上は認められなかった。

【００６８】比較例１ 低分子環状シロキサンの精製工程を行なわなかったこと
を除いては、実施例１と同様にして分子末端にメチルジ
メトキシシリル基を有するジメチルポリシロキサンを得
た。この重合体１００部に対して、テトライソプロピル
チタネートを２部添加し混合して硬化性組成物を得た。

【００６９】得られた硬化性組成物を用いて実施例１と
同様にして光ディスクを作製し、８５℃、９０％ＲＨの
環境で耐熱試験を行なったところ、２００時間後には記
録膜およびディスク基板が腐食していた。

【００７０】比較例２ 過剰のメチルトリメトキシシランを留去しなかったこと
を除いては、実施例１と同様にして分子末端にメチルジ
トリメトキシシラン基を有するジメチルポリシロキサン
を得た。この重合体１００部に対して、テトライソプロ
ピルチタネートを２部添加し混合して硬化性樹脂組成物
を得た。

【００７１】得られた硬化性組成物を用いて実施例１と
同様にして光ディスクを作製し、８５℃、９０％ＲＨの
環境で耐熱試験を行なったところ、１８０時間後には記
録膜およびディスク基板が腐食していた。

【００７２】比較例３ 実施例１と同様にして得られた分子末端にメチルジメト
キシシリル基を有するジメチルポリシロキサン１００部
に対して、ジラウリン酸ジブチル錫を２部添加し混合し
て硬化性樹脂組成物を得た。

【００７３】得られた硬化性組成物を用いて実施例１と
同様にして光ディスクを作製し、８５℃、９０％ＲＨの
環境で耐熱試験を行なったところ、２００時間後には記
録膜が腐食していた。

【００７４】実施例４ 精製して重合度３〜２０の低分子環状シロキサンの総含
有量を７０ｐｐｍとした分子量３００００のシラノール
末端ジメチルポリシロキサン１００部と、３−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン１．２部とを還流冷却器を取
り付けた反応容器に投入し、窒素雰囲気下１００℃で２
時間加熱攪拌した。次いで、真空下副生したメタノール
と過剰の３−アミノプロピルトリメトキシシランを留去
し、分子末端にアミノプロピルジメトキシシリル基を有
するジメチルポリシロキサンを得た。この重合体１００
部に２−イソシアナトエチルメタクリレート１．１部を
加え、窒素雰囲気下５０℃で１時間加熱攪拌した。さら
に、ジエトキシアセトフェノン２部およびテトライソプ
ロピルチタネートを２部添加し、混合して硬化性樹脂組
成物を得た。２５℃における粘度は４５Ｐａ・ｓであっ
た。

【００７５】得られた硬化性樹脂組成物を記録膜をつけ
たポリカーボネート製光ディスク基板にディスペンサー
を用いてリング状に塗布し、その上にもう一枚の記録膜
をつけた光ディスク基板を貼り合わせ位置ずれしないよ
うに固定し、４ｋｗ高圧水銀灯を用いて紫外線を３００
０ｍＪ／ｃｍ^２照射した後、室温で紫外線未照射部を硬
化させて光ディスクを作製した。このようにして作製さ
れた光ディスクを８５℃、９０％ＲＨの環境で耐湿試験
を行なった結果、２０００時間を経過しても異常は認め
られなかった。

【００７６】実施例５ 精製して重合度３〜２０の低分子環状シロキサンの総含
有量を７０ｐｐｍとした分子量３００００のシラノール
末端ジメチルポリシロキサン１００部と、Ｎ−ベンジル
アミノプロピルトリメトキシシラン２部とを還流冷却器
を取り付けた反応容器に投入し、窒素雰囲気下１００℃
で２時間加熱攪拌した。次いで、真空下副生したメタノ
ールと過剰のＮ−ベンジルアミノプロピルトリメトキシ
シランを留去し、分子末端にＮ−ベンジルアミノプロピ
ルジメトキシシリル基を有するジメチルポリシロキサン
を得た。この重合体１００部に２−イソシアナトエチル
メタクリレート１．１部を加え、窒素雰囲気下５０℃で
１時間加熱攪拌した。さらに、ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン２部およびテトライソプロピルチタネ
ートを２部添加し、混合して硬化性樹脂組成物を得た。
２５℃における粘度は１５Ｐａ・ｓであった。

【００７７】得られた硬化性樹脂組成物を記録膜をつけ
たポリカーボネート製光ディスク基板にスピンコーター
を用いてリング状に塗布し、その上にもう一枚の記録膜
をつけた光ディスク基板を貼り合わせ位置ずれしないよ
うに固定し、４ｋｗ高圧水銀灯を用いて紫外線を３００
０ｍＪ／ｃｍ^２照射した後、室温で紫外線未照射部を硬
化させて光ディスクを作製した。このようにして作製さ
れた光ディスクを８５℃、９０％ＲＨの環境で耐湿試験
を行なった結果、２０００時間を経過しても異常は認め
られなかった。

【００７８】実施例６ 分子量３０００のポリプロピレングリコール３６０部、
イソホロンジイソシアネート３５．５部とを還流冷却器
を取り付けた反応容器に投入し、窒素雰囲気下１００℃
で２時間加熱攪拌した。次いで、予め２，３−ジヒドロ
キシプロピルメタクリレートと３−イソシアナトプロピ
ルトリエトキシシランを反応させた化合物３２．６部を
加え、赤外スペクトル分析によって測定されるイソシア
ネートの吸収が消失するまで反応させた。さらに、ヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン２部およびテトラ
イソプロピルチタネートを２部を添加し、混合して硬化
性樹脂組成物を得た。

【００７９】得られた硬化性樹脂組成物を持ちいて実施
例４と同様にして光ディスクを作製し、８５℃、９０％
ＲＨの環境で耐湿試験を行なった結果、２０００時間を
経過しても異常は認められなかった。

【００７９】比較例４ 低分子環状シロキサンの精製工程を行なわなかったこと
を除いては、実施例４と同様にして硬化性組成物を得
た。

【００８０】得られた硬化性組成物を用いて実施例４と
同様にして光ディスクを作製し、８５℃、９０％ＲＨの
環境で耐熱試験を行なったところ、２００時間後には記
録膜およびディスク基板が腐食していた。

【００８１】比較例５ 過剰のＮ−ベンジルアミノプロピルトリメトキシシラン
を留去しなかったことを除いては、実施例５と同様にし
て分子末端にメチルジトリメトキシシラン基を有するジ
メチルポリシロキサンを得た。この重合体１００部に対
して、テトライソプロピルチタネートを２部添加し混合
して硬化性樹脂組成物を得た。

【００８２】得られた硬化性組成物を用いて実施例１と
同様にして光ディスクを作製し、８５℃、９０％ＲＨの
環境で耐熱試験を行なったところ、１８０時間後には記
録膜およびディスク基板が腐食していた。

【００８３】比較例６ 縮合反応触媒にジラウリン酸ジブチル錫を用いたことを
除けば、実施例４と同様にして硬化性組成物を得た。

【００８４】得られた硬化性樹脂組成物を用いて実施例
４と同様にして光ディスクを作製し、８５℃、９０％Ｒ
Ｈの環境で耐湿試験を行なったところ、２００時間後に
は記録膜が腐食していた。

【００８５】比較例７ 分子内に２個のアクリロイル基を有するウレタンアクリ
レート２５部、テトラヒドロフルフリルアクリレート２
５部、分子の末端にアルコキシシリル基を有するポリエ
ーテル変性シリコーン樹脂（鐘淵化学工業社製 サイリ
ルＭＡ４３０）５０部に対して、ベンゾインエチルエー
テル２部テトライソプロピルチタネート２部添加し、混
合して硬化性樹脂組成物を得た。

【００８６】得られた硬化性樹脂組成物を用いて実施例
４と同様にして光ディスクを作製し、８５℃、９０％Ｒ
Ｈの環境で耐湿試験を行なったところ、２００時間後に
は記録膜および光ディスク基板が腐食していた。

【００８７】

【発明の効果】以上のように第１の本発明によれば、本
発明の湿気により硬化する樹脂組成物をディスク基板の
接着に用いることにより、耐衝撃性に優れ、耐湿試験環
境下においても記録膜および光ディスクを腐食させるこ
とのない耐久性に優れた光デイスクを提供することがで
きる。また、第２の本発明によれば、光の照射により前
記硬化性樹脂組成物を硬化させることができるため、２
枚の光ディスク基板の仮固定等に有効で、前記した効果
に加えてさらに生産が効率的に行なえるなどの優れた効
果がある。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ２枚の透明基板の少なくとも一方の透明
   基板の片面に情報記録層を有し、この情報記録層を設け
   た面を内側にして接着剤により貼り合わせてなる光ディ
   スクにおいて、該接着剤が （Ａ）分子末端および／または側鎖に下記一般式 【化１】 （ただし、Ｒ^１およびＲ^２は同一でも異なっていてもよ
   い置換または非置換の１価の飽和炭化水素基、_ａは１〜
   ３の数をそれぞれ示す。）て示されるアルコキシシリル
   基を有する重合体１００重量部 （Ｂ）縮合反応触媒 ０．０５〜１０重量部からなり、
   実質的に下記一般式 【化２】 （ただし、Ｒ^３およびＲ^４は同一でも異なっていてもよ
   い置換または非置換の１価の炭化水素基、_ｂは０または
   １の数をそれぞれ示す。）で示されるアルコキシシラン
   またはその部分加水分解縮合物を含まない樹脂組成物で
   あることを特徴とする光ディスク。
2. 【請求項２】 前記樹脂組成物のうち（Ａ）の成分が、
   ポリシロキサンまたはポリエーテルを主鎖に持ち分子末
   端および／または側鎖にアルコキシシリル基を有する重
   合体である請求項１記載の光ディスク。
3. 【請求項３】 前記樹脂組成物のうち（Ａ）の成分がポ
   リシロキサンからなり、しかも該ポリシロキサン中の下
   記一般式 【化３】 （ただし、Ｒ^６およびＲ^６は同一でも異なっていてもよ
   い置換または非置換の１価の炭化水素基、_ｃは３〜２０
   の数を示す。）で示される環状低分子シロキサンの総含
   有量が５００ｐｐｍ以下である請求項２記載の光ディス
   ク。
4. 【請求項４】 前記樹脂組成物のうち（Ｂ）成分が下記
   一般式 【化４】 （ただし、Ｒ^７は同一でも異なっていてもよい置換また
   は非置換の１価の飽和炭化水素基を示す。）で示される
   有機チタン酸エステルおよびこれらの部分加水分解縮合
   物からなる請求項１記載の光ディスク。
5. 【請求項５】 ２枚の透明基板の少なくとも一方の透明
   基板の片面に情報記録層を有し、この情報記録層を設け
   た面を内側にして接着剤により貼り合わせてなる光ディ
   スクにおいて、該接着剤が （Ｃ）１分子中に光重合可能な不飽和基および下記一般
   式 【化１】（ただし、Ｒ^１およびＲ^２は同一でも異なって
   いてもよい置換または非置換の１価の炭化水素基、_ａは
   １〜３の数を示す。）で示されるアルコキシシリル基を
   それぞれ１つ以上有する重合体１００重量部 （Ｄ）光重合開始剤 ０．０５〜１０重量部 （Ｂ）縮合反応触媒 ０．０５〜１０重量部 からなり、実質的に下記一般式 【化２】（ただし、Ｒ^３およびＲ^４は同一でも異なって
   いてもよい置換または非置換の１価の炭化水素基、_ｂは
   ０または１の数をそれぞれ示す。）で示されるアルコキ
   シシランまたはその部分加水分解縮合物を含まない樹脂
   組成物であることを特徴とする光ディスク。
6. 【請求項６】 前記樹脂組成物のうち（Ｃ）の成分が、
   ポリシロキサンまたはポリエーテルを主鎖に持ち、１分
   子中に光重合可能な不飽和基およびアルコキシシリル基
   を有する重合体である請求項５記載の光ディスク。
7. 【請求項７】 前記樹脂組成物のうち（Ｃ）の成分がポ
   リシロキサンからなり、しかも該ポリシロキサン中の下
   記一般式 【化３】（ただし、Ｒ^５およびＲ^６は同一でも異なって
   いてもよい置換または非置換の１価の炭化水素基、_ｃは
   ３〜２０の数を示す。）で示される環状低分子シロキサ
   ンの総含有量が５００ｐｐｍ以下である請求項６記載の
   光ディスク。
8. 【請求項８】 前記樹脂組成物のうち（Ｂ）成分が下記
   一般式 【化４】（ただし、Ｒ^７は同一でも異なっていてもよい
   置換または非置換の１価の飽和炭化水素基を示す。）で
   示される有機チタン酸エステルおよびこれらの部分加水
   分解縮合物からなる請求項５記載の光ディスク。