JPH0966285A - 水処理装置 - Google Patents
水処理装置Info
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- JPH0966285A JPH0966285A JP24523195A JP24523195A JPH0966285A JP H0966285 A JPH0966285 A JP H0966285A JP 24523195 A JP24523195 A JP 24523195A JP 24523195 A JP24523195 A JP 24523195A JP H0966285 A JPH0966285 A JP H0966285A
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- magnetic
- magnet
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高周波処理、磁気処理あるいは超音波処理と
の組み合わせにより、配管中に発生している赤錆、スケ
ール等の除去効率が高く、また、赤錆、スケール等が発
生するのを防止することができる水処理装置を提供する
ことである。 【構成】 流入口３の近傍に高周波発振子４…を設けた
高周波照射装置１の流出口５に、内部に磁石を積層した
磁石積層体を有する磁気処理装置７の流入口９を接続す
る。
の組み合わせにより、配管中に発生している赤錆、スケ
ール等の除去効率が高く、また、赤錆、スケール等が発
生するのを防止することができる水処理装置を提供する
ことである。 【構成】 流入口３の近傍に高周波発振子４…を設けた
高周波照射装置１の流出口５に、内部に磁石を積層した
磁石積層体を有する磁気処理装置７の流入口９を接続す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、配管中に発生した赤
錆、スケール等を短時間で除去し、また、赤錆、スケー
ル等の発生を防止することができる水処理装置に関す
る。
錆、スケール等を短時間で除去し、また、赤錆、スケー
ル等の発生を防止することができる水処理装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】建築物等における給水、給湯用の配管
は、長年使用している間に管の内壁が腐蝕され赤さびが
発生したり、また、水中の不純物が沈着したりして、管
の内径がしだいに小さくなり、水圧が低下すると共にい
わゆる赤水が発生し、最後には水もれ、断水等が起こる
ようになる。
は、長年使用している間に管の内壁が腐蝕され赤さびが
発生したり、また、水中の不純物が沈着したりして、管
の内径がしだいに小さくなり、水圧が低下すると共にい
わゆる赤水が発生し、最後には水もれ、断水等が起こる
ようになる。
【０００３】近年、長期にわたり断水させることなく工
事が行なえ、水質についての問題もなく、また、費用も
安いことから、給水、給湯設備に磁石を設け、供給水を
磁極間に通し、水を磁気的に処理し、処理した水を配管
中に通すことにより、管の内壁に形成された赤さび等を
除去し、あるいは、赤さびの発生や不純物の沈着を防止
する磁気処理工法が採用されつつあり、これら水を磁気
処理するのに用いる装置として種々のものが提案されて
いる。
事が行なえ、水質についての問題もなく、また、費用も
安いことから、給水、給湯設備に磁石を設け、供給水を
磁極間に通し、水を磁気的に処理し、処理した水を配管
中に通すことにより、管の内壁に形成された赤さび等を
除去し、あるいは、赤さびの発生や不純物の沈着を防止
する磁気処理工法が採用されつつあり、これら水を磁気
処理するのに用いる装置として種々のものが提案されて
いる。
【０００４】本発明者も先に、特公平３−２０３２号公
報、特公平３−２０３３号公報、実公平４−２９９１７
号公報、実願平２−５５９３５号出願、実願平２−５５
９３６号出願、実開平４−９９２８９号公報、実開平４
−１３１４８７号公報において磁気処理装置を提案し
た。
報、特公平３−２０３３号公報、実公平４−２９９１７
号公報、実願平２−５５９３５号出願、実願平２−５５
９３６号出願、実開平４−９９２８９号公報、実開平４
−１３１４８７号公報において磁気処理装置を提案し
た。
【０００５】しかし、これら磁気処理装置によれば、配
管中に発生した赤錆、スケール等を除去し、また、赤
錆、スケール等が発生するのを防止することができる
が、配管中に発生した赤錆、スケール等の除去効率が悪
く、赤錆、スケール等が除去されるまでに長時間を要
し、顧客に赤錆、スケール等の除去に対する効果に不信
感を抱かせる原因となっていた。
管中に発生した赤錆、スケール等を除去し、また、赤
錆、スケール等が発生するのを防止することができる
が、配管中に発生した赤錆、スケール等の除去効率が悪
く、赤錆、スケール等が除去されるまでに長時間を要
し、顧客に赤錆、スケール等の除去に対する効果に不信
感を抱かせる原因となっていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の有するこのような問題点に鑑みなされたものであ
り、その目的とするところは、高周波処理、磁気処理あ
るいは超音波処理との組み合わせにより、配管中に発生
している赤錆、スケール等の除去効率が高く、また、赤
錆、スケール等が発生するのを防止することができる水
処理装置を提供することにある。
術の有するこのような問題点に鑑みなされたものであ
り、その目的とするところは、高周波処理、磁気処理あ
るいは超音波処理との組み合わせにより、配管中に発生
している赤錆、スケール等の除去効率が高く、また、赤
錆、スケール等が発生するのを防止することができる水
処理装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明がなした技術的手段は、流入口の近傍に高周波
発振子を設けた高周波照射装置の流出口に、内部に磁石
を積層した磁石積層体を有する磁気処理装置の流入口を
接続したことである。
に本発明がなした技術的手段は、流入口の近傍に高周波
発振子を設けた高周波照射装置の流出口に、内部に磁石
を積層した磁石積層体を有する磁気処理装置の流入口を
接続したことである。
【０００８】また、内部に磁石を積層した磁石積層体を
有する磁気処理装置の流出口に、流入口の近傍に高周波
発振子を設けた高周波照射装置の流入口を接続したこと
である。
有する磁気処理装置の流出口に、流入口の近傍に高周波
発振子を設けた高周波照射装置の流入口を接続したこと
である。
【０００９】また、流入口の近傍に高周波発振子を設け
た高周波照射装置の流出口に、内部に磁石を積層した磁
石積層体を有する磁気処理装置の流入口を接続し、磁気
処理装置の流出口に、流入口の近傍に高周波発振子を設
けた高周波照射装置の流入口を接続したことである。
た高周波照射装置の流出口に、内部に磁石を積層した磁
石積層体を有する磁気処理装置の流入口を接続し、磁気
処理装置の流出口に、流入口の近傍に高周波発振子を設
けた高周波照射装置の流入口を接続したことである。
【００１０】また、流入口の近傍に超音波発振子を設け
た超音波照射装置の流出口に、内部に磁石を積層した磁
石積層体を有する磁気処理装置の流入口を接続し、磁気
処理装置の流出口に、流入口の近傍に高周波発振子を設
けた高周波照射装置の流入口を接続したことである。
た超音波照射装置の流出口に、内部に磁石を積層した磁
石積層体を有する磁気処理装置の流入口を接続し、磁気
処理装置の流出口に、流入口の近傍に高周波発振子を設
けた高周波照射装置の流入口を接続したことである。
【００１１】また、流入口の近傍に高周波発振子を設け
た高周波照射装置の流出口に、内部に磁石を積層した磁
石積層体を有する磁気処理装置の流入口を接続し、該磁
気処理装置の流出口に、流入口の近傍に超音波発振子を
設けた超音波照射装置の流入口を接続したことである。
た高周波照射装置の流出口に、内部に磁石を積層した磁
石積層体を有する磁気処理装置の流入口を接続し、該磁
気処理装置の流出口に、流入口の近傍に超音波発振子を
設けた超音波照射装置の流入口を接続したことである。
【００１２】上記磁石積層体が、磁石を間隔をあけて積
層されたものとしたことである。
層されたものとしたことである。
【００１３】上記磁気処理装置が、磁石を非磁性材料で
構成されたスペーサーを介し、間隔をあけて積層された
磁石積層体を有する構成としたことである。
構成されたスペーサーを介し、間隔をあけて積層された
磁石積層体を有する構成としたことである。
【００１４】また上記磁気処理装置が、磁性材料又は非
磁性材料で構成された螺旋構造体を外周に設けた非磁性
材料で構成された多孔筒状体の中に磁石を積層した、磁
石積層体が配置された構成としたことである。
磁性材料で構成された螺旋構造体を外周に設けた非磁性
材料で構成された多孔筒状体の中に磁石を積層した、磁
石積層体が配置された構成としたことである。
【００１５】さらに、磁気処理装置が外周に複数の磁石
を配置した構成としたことである。
を配置した構成としたことである。
【００１６】また、磁気処理装置が、磁性材料又は非磁
性材料で構成された螺旋構造体を外周に設けた非磁性材
料で構成された多孔筒状体の中に配置された磁石を非磁
性材料で構成されたスペーサーを介し間隔をあけて積層
された磁石積層体を有し、磁気処理装置の外周に複数の
磁石を配置した構成としたことである。
性材料で構成された螺旋構造体を外周に設けた非磁性材
料で構成された多孔筒状体の中に配置された磁石を非磁
性材料で構成されたスペーサーを介し間隔をあけて積層
された磁石積層体を有し、磁気処理装置の外周に複数の
磁石を配置した構成としたことである。
【００１７】
【実施例】以下、本発明水処理装置の実施例を図に基づ
いて説明する。
いて説明する。
【００１８】図１は、流入口の近傍に高周波発振子を設
けた高周波照射装置の流出口に、内部に磁石を積層した
磁石積層体を有する磁気処理装置の流入口を接続した水
処理装置の実施例を説明するものであって、図１におい
て、１は高周波照射装置、７は磁気処理装置を示す。
けた高周波照射装置の流出口に、内部に磁石を積層した
磁石積層体を有する磁気処理装置の流入口を接続した水
処理装置の実施例を説明するものであって、図１におい
て、１は高周波照射装置、７は磁気処理装置を示す。
【００１９】高周波照射装置１は、円筒型の筒状体２の
側面に、処理される水の流入口３が設けられ、該流入口
３の近傍には複数の高周波発振子４……が設けられてお
り、高周波照射装置１内に流れ入る水を高周波で処理す
ることができるようになっている。
側面に、処理される水の流入口３が設けられ、該流入口
３の近傍には複数の高周波発振子４……が設けられてお
り、高周波照射装置１内に流れ入る水を高周波で処理す
ることができるようになっている。
【００２０】磁気処理装置７は、流入口９と流出口１０
とを備えたハウジング８の内部に、磁石を積層した磁石
積層体が設けられており、上記高周波照射装置１によっ
て高周波処理された水が、その後本装置７内に流入口９
より流れ入り磁気処理されるようになっている。
とを備えたハウジング８の内部に、磁石を積層した磁石
積層体が設けられており、上記高周波照射装置１によっ
て高周波処理された水が、その後本装置７内に流入口９
より流れ入り磁気処理されるようになっている。
【００２１】高周波照射装置１の流出口５と磁気処理装
置７の流入口９は直接結合されており、高周波照射装置
１の流入口３から入った処理される水は、高周波照射装
置１で高周波処理され、次いで下流側の磁気処理装置７
で磁気処理された後に流出口１０から排出される。ま
た、高周波照射装置１の流出口５と磁気処理装置７の流
入口９とは所望な連結管（図示省略、例えば図１０に示
されている連結管２８と同様）によって間接的に結合さ
れるものとしてもよく任意である。
置７の流入口９は直接結合されており、高周波照射装置
１の流入口３から入った処理される水は、高周波照射装
置１で高周波処理され、次いで下流側の磁気処理装置７
で磁気処理された後に流出口１０から排出される。ま
た、高周波照射装置１の流出口５と磁気処理装置７の流
入口９とは所望な連結管（図示省略、例えば図１０に示
されている連結管２８と同様）によって間接的に結合さ
れるものとしてもよく任意である。
【００２２】図２は、高周波照射装置１の一例を断面図
で示したものであって、４は高周波発振子、２は円筒状
の筒状体、３は高周波処理される水の流入口、５は高周
波処理された水の流出口、６は筒状体２の一端に取り付
けられた振動板である。尚、図示形状は一実施例を示し
ているにすぎず何等これに限定されるものではなく本発
明の範囲内において適宜変更可能である。
で示したものであって、４は高周波発振子、２は円筒状
の筒状体、３は高周波処理される水の流入口、５は高周
波処理された水の流出口、６は筒状体２の一端に取り付
けられた振動板である。尚、図示形状は一実施例を示し
ているにすぎず何等これに限定されるものではなく本発
明の範囲内において適宜変更可能である。
【００２３】高周波発振子４としては、フェライト振動
子、金属磁歪振動子、水晶振動子、圧電セラミック振動
子等各種のものを用いることができるが、圧電素子を用
いたボルト締めランジバン振動子は堅牢で、取扱いが容
易であるので本発明で用いるのに好ましい高周波発振子
である。高周波発振子４は、振動板６に接着剤、ねじ等
の固着具で取り付けられ、振動板６としては、厚さ１〜
２ｍｍのステンレス鋼板を用いることができる。
子、金属磁歪振動子、水晶振動子、圧電セラミック振動
子等各種のものを用いることができるが、圧電素子を用
いたボルト締めランジバン振動子は堅牢で、取扱いが容
易であるので本発明で用いるのに好ましい高周波発振子
である。高周波発振子４は、振動板６に接着剤、ねじ等
の固着具で取り付けられ、振動板６としては、厚さ１〜
２ｍｍのステンレス鋼板を用いることができる。
【００２４】振動板６に高周波発振子４がねじ等の固着
具で着脱自在に取り付けられている場合、配管中に発生
している赤錆、スケール等が除去された後において、高
周波発振子４を取りはずして他に使用することができる
ので経費削減の点から好ましい。
具で着脱自在に取り付けられている場合、配管中に発生
している赤錆、スケール等が除去された後において、高
周波発振子４を取りはずして他に使用することができる
ので経費削減の点から好ましい。
【００２５】上記磁気処理装置７を、図３〜図９に基づ
いて説明する。図３は、磁気処理装置７のハウジング８
内に配される磁石積層体の一例を断面図で示したもので
あって、１１は磁石、１２は磁極片、１３はスペーサー
である。尚、図示形状は一実施例を示しているにすぎず
何等これに限定されるものではなく本発明の範囲内にお
いて適宜変更可能である。
いて説明する。図３は、磁気処理装置７のハウジング８
内に配される磁石積層体の一例を断面図で示したもので
あって、１１は磁石、１２は磁極片、１３はスペーサー
である。尚、図示形状は一実施例を示しているにすぎず
何等これに限定されるものではなく本発明の範囲内にお
いて適宜変更可能である。
【００２６】磁極片１２は磁性を有するステンレス鋼か
らなり、図４に示すように中心には組み立て具１４を通
す孔１５を有し、また、周縁には通孔１６を有してい
る。磁石１１及びスペーサー１３も中心に組み立て具１
４を通す孔を有しており、磁石１１、スペーサー１３及
び磁極片１２は、図３に示す配置で組み立て具１４によ
って一体に積層されている。
らなり、図４に示すように中心には組み立て具１４を通
す孔１５を有し、また、周縁には通孔１６を有してい
る。磁石１１及びスペーサー１３も中心に組み立て具１
４を通す孔を有しており、磁石１１、スペーサー１３及
び磁極片１２は、図３に示す配置で組み立て具１４によ
って一体に積層されている。
【００２７】図３に示されるように、磁極片１２を挟ん
で配置される２つの磁石１１は同一の極が磁極片１２に
向くように配置するのが好ましい。また、隣り合う磁極
片１２を挟んで配置される２つの磁石１１よりなる集合
体は、図３に示されるように、該集合体のＮ極とＳ極と
が向かい合うようにスペーサー１３を介して配置するの
が好ましい。
で配置される２つの磁石１１は同一の極が磁極片１２に
向くように配置するのが好ましい。また、隣り合う磁極
片１２を挟んで配置される２つの磁石１１よりなる集合
体は、図３に示されるように、該集合体のＮ極とＳ極と
が向かい合うようにスペーサー１３を介して配置するの
が好ましい。
【００２８】磁気処理装置７が大型のものである場合、
磁気処理装置７内に磁石を積層した磁石積層体を複数個
平行に配置することができる。
磁気処理装置７内に磁石を積層した磁石積層体を複数個
平行に配置することができる。
【００２９】図５は、磁性材料又は非磁性材料で構成さ
れた螺旋構造体を外周に設けた非磁性材料で構成された
多孔筒状体の中に磁石を積層した磁石積層体の一例を示
すものであり、図６は図５に示された磁石積層体の断面
図を示す。
れた螺旋構造体を外周に設けた非磁性材料で構成された
多孔筒状体の中に磁石を積層した磁石積層体の一例を示
すものであり、図６は図５に示された磁石積層体の断面
図を示す。
【００３０】図５及び図６において、１７は多孔筒状
体、１８は磁性材料又は非磁性材料で構成された螺旋構
造体、１９は磁石積層体、２０は磁石積層体１９を支持
する支持板を示す。
体、１８は磁性材料又は非磁性材料で構成された螺旋構
造体、１９は磁石積層体、２０は磁石積層体１９を支持
する支持板を示す。
【００３１】多孔筒状体１７は、網、パンチングメタル
等通水性を有する材料で構成することができる。螺旋構
造体１８は多孔筒状体１７の周囲に設けられており、多
孔筒状体１７の周囲を通過する処理される水に旋回流を
与える。
等通水性を有する材料で構成することができる。螺旋構
造体１８は多孔筒状体１７の周囲に設けられており、多
孔筒状体１７の周囲を通過する処理される水に旋回流を
与える。
【００３２】支持板２０には処理される水が多孔筒状体
１７内を通過できるように通水孔２２が設けられてい
る。
１７内を通過できるように通水孔２２が設けられてい
る。
【００３３】磁気処理装置７には、外周に複数の磁石を
配置することができる。図７は、外周に複数の磁石を配
置した磁気処理装置の一例を示すものであって、図７に
おいて、２３……は磁気処理装置の外周全面に配置した
複数の磁石を示す。複数配置される磁石２３…の磁極の
向きは特に限定されるものではないが、隣接する磁石の
磁極の向きは逆になっているのが好ましい。
配置することができる。図７は、外周に複数の磁石を配
置した磁気処理装置の一例を示すものであって、図７に
おいて、２３……は磁気処理装置の外周全面に配置した
複数の磁石を示す。複数配置される磁石２３…の磁極の
向きは特に限定されるものではないが、隣接する磁石の
磁極の向きは逆になっているのが好ましい。
【００３４】図８及び図９は、本発明に用いることがで
きる磁石積層体の他の例を示したものである。図８及び
図９において、２４は磁石、２５は磁極片、２６はスペ
ーサー、２７は組み立て具である。
きる磁石積層体の他の例を示したものである。図８及び
図９において、２４は磁石、２５は磁極片、２６はスペ
ーサー、２７は組み立て具である。
【００３５】磁極片２５は磁性を有するステンレス鋼か
らなり、スペーサー２６は非磁性の材料で構成される。
磁石２４、磁極片２５、スペーサー２６は組み立て具２
７によって一体に積層されている。
らなり、スペーサー２６は非磁性の材料で構成される。
磁石２４、磁極片２５、スペーサー２６は組み立て具２
７によって一体に積層されている。
【００３６】磁石２４は、磁極が図８及び図９に示され
る配置になるように配置することが好ましい。
る配置になるように配置することが好ましい。
【００３７】上記磁気処理装置に用いる磁石２４として
は、高い磁束密度を有するものが好ましく、電磁石であ
ってもよくまた永久磁石であってもよい。実用上は安価
で入手が容易なフェライト系磁石で十分である。
は、高い磁束密度を有するものが好ましく、電磁石であ
ってもよくまた永久磁石であってもよい。実用上は安価
で入手が容易なフェライト系磁石で十分である。
【００３８】図１０は、内部に磁石を積層した磁石積層
体を有する磁気処理装置７の流出口１０に、流入口３の
近傍に高周波発振子４を設けた高周波照射装置１の流入
口３を接続した水処理装置の実施例を説明するものであ
る。尚、図示形状は一実施例を示しているにすぎず何等
これに限定されるものではなく本発明の範囲内において
適宜変更可能である。
体を有する磁気処理装置７の流出口１０に、流入口３の
近傍に高周波発振子４を設けた高周波照射装置１の流入
口３を接続した水処理装置の実施例を説明するものであ
る。尚、図示形状は一実施例を示しているにすぎず何等
これに限定されるものではなく本発明の範囲内において
適宜変更可能である。
【００３９】高周波照射装置１は、円筒型の筒状体２の
側面に、処理される水の流入口３が設けられ、該流入口
３の近傍には複数の高周波発振子４……が設けられてお
り、高周波照射装置１に流れ入る水を高周波で処理する
ことができるようになっている。
側面に、処理される水の流入口３が設けられ、該流入口
３の近傍には複数の高周波発振子４……が設けられてお
り、高周波照射装置１に流れ入る水を高周波で処理する
ことができるようになっている。
【００４０】磁気処理装置７は、流入口９と流出口１０
とを備えたハウジング８の内部に、磁石を積層した磁石
積層体が設けられている。磁石積層体としては、上記同
様に図３〜図９に記載のものが使用され、その説明は省
略する。
とを備えたハウジング８の内部に、磁石を積層した磁石
積層体が設けられている。磁石積層体としては、上記同
様に図３〜図９に記載のものが使用され、その説明は省
略する。
【００４１】磁気処理装置７の流出口１０と高周波照射
装置１の流入口３は連結管２８によって結合されてお
り、磁気処理装置７で磁気処理され流出口１０から排出
された水は、高周波照射装置１の流入口３から入り、高
周波照射装置１で高周波処理される。
装置１の流入口３は連結管２８によって結合されてお
り、磁気処理装置７で磁気処理され流出口１０から排出
された水は、高周波照射装置１の流入口３から入り、高
周波照射装置１で高周波処理される。
【００４２】高周波照射装置１の一例を図２に示し、４
は高周波発振子、２は筒状体、３は高周波処理される水
の流入口、５は高周波処理された水の流出口、６は筒状
体２の一端に取り付けられた振動板である。
は高周波発振子、２は筒状体、３は高周波処理される水
の流入口、５は高周波処理された水の流出口、６は筒状
体２の一端に取り付けられた振動板である。
【００４３】高周波発振子４としては、フェライト振動
子、金属磁歪振動子、水晶振動子、圧電セラミック振動
子等各種のものを用いることができるが、圧電素子を用
いたボルト締めランジバン振動子は堅牢で、取扱いが容
易であるので本発明で用いるのに好ましい高周波発振子
である。高周波発振子４は振動板６に接着剤、ねじ等の
固着具で取り付けられる。振動板６としては、厚さ１〜
２ｍｍのステンレス鋼板を用いることができる。
子、金属磁歪振動子、水晶振動子、圧電セラミック振動
子等各種のものを用いることができるが、圧電素子を用
いたボルト締めランジバン振動子は堅牢で、取扱いが容
易であるので本発明で用いるのに好ましい高周波発振子
である。高周波発振子４は振動板６に接着剤、ねじ等の
固着具で取り付けられる。振動板６としては、厚さ１〜
２ｍｍのステンレス鋼板を用いることができる。
【００４４】振動板６に高周波発振子４がねじ等の固着
具で着脱自在に取り付けられている場合、配管中に発生
している赤錆、スケール等が除去された後において、高
周波発振子４を取りはずして他に使用することができる
ので経費削減の点から好ましい。
具で着脱自在に取り付けられている場合、配管中に発生
している赤錆、スケール等が除去された後において、高
周波発振子４を取りはずして他に使用することができる
ので経費削減の点から好ましい。
【００４５】図１１は、水流入口３の近傍に高周波発振
子４を設けた高周波照射装置１の流出口５に、内部に磁
石を積層した磁石積層体を有する磁気処理装置７の流入
口９を接続し、磁気処理装置７の流出口１０に、流入口
３の近傍に高周波発振子４を設けた高周波照射装置１の
流入口３を接続した水処理装置の実施例を説明するもの
である。尚、図示形状は一実施例を示しているにすぎず
何等これに限定されるものではなく本発明の範囲内にお
いて適宜変更可能である。
子４を設けた高周波照射装置１の流出口５に、内部に磁
石を積層した磁石積層体を有する磁気処理装置７の流入
口９を接続し、磁気処理装置７の流出口１０に、流入口
３の近傍に高周波発振子４を設けた高周波照射装置１の
流入口３を接続した水処理装置の実施例を説明するもの
である。尚、図示形状は一実施例を示しているにすぎず
何等これに限定されるものではなく本発明の範囲内にお
いて適宜変更可能である。
【００４６】高周波照射装置１は、円筒型の筒状体２の
側面に、処理される水の流入口３が設けられ、該流入口
３の近傍には複数の高周波発振子４……が設けられてお
り、高周波照射装置１に流れ入る水を高周波で処理する
ことができるようになっている。
側面に、処理される水の流入口３が設けられ、該流入口
３の近傍には複数の高周波発振子４……が設けられてお
り、高周波照射装置１に流れ入る水を高周波で処理する
ことができるようになっている。
【００４７】磁気処理装置７は、流入口９と流出口１０
とを備えたハウジング８の内部に、磁石を積層した磁石
積層体が設けられており、上記高周波照射装置１にて高
周波処理された水が流出口５から流入口９を介して本装
置７内に流入して磁気処理される。磁石積層体として
は、上記同様に図３〜図９に記載のものが使用され、そ
の説明は省略する。
とを備えたハウジング８の内部に、磁石を積層した磁石
積層体が設けられており、上記高周波照射装置１にて高
周波処理された水が流出口５から流入口９を介して本装
置７内に流入して磁気処理される。磁石積層体として
は、上記同様に図３〜図９に記載のものが使用され、そ
の説明は省略する。
【００４８】高周波照射装置１の流出口５と磁気処理装
置７の流入口９とは直接連結され、磁気処理装置７の流
出口１０と次の高周波照射装置１の流入口３は連結管２
８によって結合されており、高周波処理装置１で高周波
処理された水は、磁気処理装置７で磁気処理され、さら
に次の高周波照射装置１の流入口３から入り高周波照射
装置１で再び高周波処理される。
置７の流入口９とは直接連結され、磁気処理装置７の流
出口１０と次の高周波照射装置１の流入口３は連結管２
８によって結合されており、高周波処理装置１で高周波
処理された水は、磁気処理装置７で磁気処理され、さら
に次の高周波照射装置１の流入口３から入り高周波照射
装置１で再び高周波処理される。
【００４９】高周波照射装置１の一例を図２に示し、４
は高周波発振子、２は筒状体、３は高周波処理される水
の流入口、５は高周波処理された水の流出口、６は筒状
体２の一端に取り付けられた振動板である。
は高周波発振子、２は筒状体、３は高周波処理される水
の流入口、５は高周波処理された水の流出口、６は筒状
体２の一端に取り付けられた振動板である。
【００５０】また、高周波照射装置１の流出口５と磁気
処理装置７の流入口９とは連結管を介して間接的に連
結、あるいは磁気処理装置７の流出口１０と次の高周波
照射装置１の流入口３とを連結管２８を介さずに直接連
結するものであってもよく、各装置間の連結は直接間接
任意である。
処理装置７の流入口９とは連結管を介して間接的に連
結、あるいは磁気処理装置７の流出口１０と次の高周波
照射装置１の流入口３とを連結管２８を介さずに直接連
結するものであってもよく、各装置間の連結は直接間接
任意である。
【００５１】高周波発振子４としては、フェライト振動
子、金属磁歪振動子、水晶振動子、圧電セラミック振動
子等各種のものを用いることができるが、圧電素子を用
いたボルト締めランジバン振動子は堅牢で、取扱いが容
易であるので本発明で用いるのに好ましい高周波発振子
である。高周波発振子４は振動板６に接着剤、ねじ等の
固着具で取り付けられる。振動板６としては、厚さ１〜
２ｍｍのステンレス鋼板を用いることができる。
子、金属磁歪振動子、水晶振動子、圧電セラミック振動
子等各種のものを用いることができるが、圧電素子を用
いたボルト締めランジバン振動子は堅牢で、取扱いが容
易であるので本発明で用いるのに好ましい高周波発振子
である。高周波発振子４は振動板６に接着剤、ねじ等の
固着具で取り付けられる。振動板６としては、厚さ１〜
２ｍｍのステンレス鋼板を用いることができる。
【００５２】振動板６に高周波発振子４がねじ等の固着
具で着脱自在に取り付けられている場合、配管中に発生
している赤錆、スケール等が除去された後において、高
周波発振子４を取りはずして他に使用することができる
ので経費削減の点から好ましい。
具で着脱自在に取り付けられている場合、配管中に発生
している赤錆、スケール等が除去された後において、高
周波発振子４を取りはずして他に使用することができる
ので経費削減の点から好ましい。
【００５３】図１２は、水流入口３１の近傍に超音波発
振子３０を設けた超音波照射装置２９の流出口３２に、
内部に磁石を積層した磁石積層体を有する磁気処理装置
７の流入口９を接続し、磁気処理装置７の流出口１０
に、流入口３の近傍に高周波発振子４を設けた高周波照
射装置１の流入口３を接続した水処理装置の実施例を説
明するものである。尚、図示形状は一実施例を示してい
るにすぎず何等これに限定されるものではなく本発明の
範囲内において適宜変更可能である。
振子３０を設けた超音波照射装置２９の流出口３２に、
内部に磁石を積層した磁石積層体を有する磁気処理装置
７の流入口９を接続し、磁気処理装置７の流出口１０
に、流入口３の近傍に高周波発振子４を設けた高周波照
射装置１の流入口３を接続した水処理装置の実施例を説
明するものである。尚、図示形状は一実施例を示してい
るにすぎず何等これに限定されるものではなく本発明の
範囲内において適宜変更可能である。
【００５４】超音波照射装置２９には、処理される水の
流入口３１が円筒状の筒状体３３の側面に設けられてお
り、流入口３１の近傍には複数の超音波発振子３０……
が設けられ、超音波照射装置２９を流れる水を超音波照
射によるキャビテーション作用により処理することがで
きるようになっている。
流入口３１が円筒状の筒状体３３の側面に設けられてお
り、流入口３１の近傍には複数の超音波発振子３０……
が設けられ、超音波照射装置２９を流れる水を超音波照
射によるキャビテーション作用により処理することがで
きるようになっている。
【００５５】超音波発振子３０としては、フェライト振
動子、金属磁歪振動子、水晶振動子、圧電セラミック振
動子等各種のものを用いることができるが、圧電素子を
用いたボルト締めランジバン振動子は堅牢で、取扱いが
容易であるので本発明で用いるのに好ましい超音波発振
子３０である。超音波発振子３０は振動板６に接着剤、
ねじ等の固着具で取り付けられる。振動板６としては、
厚さ１〜２ｍｍのステンレス鋼板を用いることができ
る。
動子、金属磁歪振動子、水晶振動子、圧電セラミック振
動子等各種のものを用いることができるが、圧電素子を
用いたボルト締めランジバン振動子は堅牢で、取扱いが
容易であるので本発明で用いるのに好ましい超音波発振
子３０である。超音波発振子３０は振動板６に接着剤、
ねじ等の固着具で取り付けられる。振動板６としては、
厚さ１〜２ｍｍのステンレス鋼板を用いることができ
る。
【００５６】磁気処理装置７は、流入口９と流出口１０
とを備えたハウジング８の内部に、磁石を積層した磁石
積層体が設けられており、上記超音波照射装置２９にて
超音波処理されたが、流出口３３から流入口９を介して
本装置７内に流入して磁気処理される。磁石積層体とし
ては、上記同様に図３〜図９に記載のものが使用され、
その説明は省略する。
とを備えたハウジング８の内部に、磁石を積層した磁石
積層体が設けられており、上記超音波照射装置２９にて
超音波処理されたが、流出口３３から流入口９を介して
本装置７内に流入して磁気処理される。磁石積層体とし
ては、上記同様に図３〜図９に記載のものが使用され、
その説明は省略する。
【００５７】高周波照射装置１は、円筒型の筒状体２の
側面に、処理される水の流入口３が設けられ、該流入口
３の近傍には複数の高周波発振子４……が設けられてお
り、上記磁気処理されて流出口１０から連結管２８を介
して流入口３より流入し、高周波照射装置１を流れる水
を高周波で処理することができるようになっている。
側面に、処理される水の流入口３が設けられ、該流入口
３の近傍には複数の高周波発振子４……が設けられてお
り、上記磁気処理されて流出口１０から連結管２８を介
して流入口３より流入し、高周波照射装置１を流れる水
を高周波で処理することができるようになっている。
【００５８】高周波照射装置１の一例を図２に示し、４
は高周波発振子、２は筒状体、３は高周波処理される水
の流入口、５は高周波処理された水の流出口、６は筒状
体２の一端に取り付けられた振動板である。
は高周波発振子、２は筒状体、３は高周波処理される水
の流入口、５は高周波処理された水の流出口、６は筒状
体２の一端に取り付けられた振動板である。
【００５９】また、超音波照射装置２９の流出口３２と
磁気処理装置７の流入口９とは連結管を介して間接的に
連結、あるいは磁気処理装置７の流出口１０と高周波照
射装置１の流入口３とを連結管２８を介さずに直接連結
するものであってもよく、各装置間の連結は直接間接任
意である。
磁気処理装置７の流入口９とは連結管を介して間接的に
連結、あるいは磁気処理装置７の流出口１０と高周波照
射装置１の流入口３とを連結管２８を介さずに直接連結
するものであってもよく、各装置間の連結は直接間接任
意である。
【００６０】高周波発振子４としては、フェライト振動
子、金属磁歪振動子、水晶振動子、圧電セラミック振動
子等各種のものを用いることができるが、圧電素子を用
いたボルト締めランジバン振動子は堅牢で、取扱いが容
易であるので本発明で用いるのに好ましい高周波発振子
である。高周波発振子４は振動板６に接着剤、ねじ等の
固着具で取り付けられる。振動板６としては、厚さ１〜
２ｍｍのステンレス鋼板を用いることができる。
子、金属磁歪振動子、水晶振動子、圧電セラミック振動
子等各種のものを用いることができるが、圧電素子を用
いたボルト締めランジバン振動子は堅牢で、取扱いが容
易であるので本発明で用いるのに好ましい高周波発振子
である。高周波発振子４は振動板６に接着剤、ねじ等の
固着具で取り付けられる。振動板６としては、厚さ１〜
２ｍｍのステンレス鋼板を用いることができる。
【００６１】振動板６に高周波発振子４がねじ等の固着
具で着脱自在に取り付けられている場合、配管中に発生
している赤錆、スケール等が除去された後において、高
周波発振子４を取りはずして他に使用することができる
ので経費削減の点から好ましい。
具で着脱自在に取り付けられている場合、配管中に発生
している赤錆、スケール等が除去された後において、高
周波発振子４を取りはずして他に使用することができる
ので経費削減の点から好ましい。
【００６２】図１３は、水流入口３１の近傍に高周波発
振子４を設けた高周波照射装置１の流出口５に、内部に
磁石を積層した磁石積層体を有する磁気処理装置７の流
入口９を接続し、磁気処理装置７の流出口１０に、流入
口３１の近傍に超音波波発振子３０を設けた高周波照射
装置２９の流入口３１を接続した水処理装置の実施例を
説明するものである。尚、図示形状は一実施例を示して
いるにすぎず何等これに限定されるものではなく本発明
の範囲内において適宜変更可能である。
振子４を設けた高周波照射装置１の流出口５に、内部に
磁石を積層した磁石積層体を有する磁気処理装置７の流
入口９を接続し、磁気処理装置７の流出口１０に、流入
口３１の近傍に超音波波発振子３０を設けた高周波照射
装置２９の流入口３１を接続した水処理装置の実施例を
説明するものである。尚、図示形状は一実施例を示して
いるにすぎず何等これに限定されるものではなく本発明
の範囲内において適宜変更可能である。
【００６３】超音波照射装置２９には、処理される水の
流入口３１が円筒状の筒状体３３の側面に設けられてお
り、流入口３１の近傍には複数の超音波発振子３０……
が設けられ、上記磁気処理されて流出口１０から連結管
２８を介して流入口３１より流入し、超音波照射装置２
９を流れる水を超音波照射によるキャビテーション作用
により処理することができるようになっている。
流入口３１が円筒状の筒状体３３の側面に設けられてお
り、流入口３１の近傍には複数の超音波発振子３０……
が設けられ、上記磁気処理されて流出口１０から連結管
２８を介して流入口３１より流入し、超音波照射装置２
９を流れる水を超音波照射によるキャビテーション作用
により処理することができるようになっている。
【００６４】超音波発振子３０としては、フェライト振
動子、金属磁歪振動子、水晶振動子、圧電セラミック振
動子等各種のものを用いることができるが、圧電素子を
用いたボルト締めランジバン振動子は堅牢で、取扱いが
容易であるので本発明で用いるのに好ましい超音波発振
子３０である。超音波発振子３０は振動板６に接着剤、
ねじ等の固着具で取り付けられる。振動板６としては、
厚さ１〜２ｍｍのステンレス鋼板を用いることができ
る。
動子、金属磁歪振動子、水晶振動子、圧電セラミック振
動子等各種のものを用いることができるが、圧電素子を
用いたボルト締めランジバン振動子は堅牢で、取扱いが
容易であるので本発明で用いるのに好ましい超音波発振
子３０である。超音波発振子３０は振動板６に接着剤、
ねじ等の固着具で取り付けられる。振動板６としては、
厚さ１〜２ｍｍのステンレス鋼板を用いることができ
る。
【００６５】高周波照射装置１は、円筒型の筒状体２の
側面に、処理される水の流入口３が設けられ、該流入口
３の近傍には複数の高周波発振子４……が設けられてお
り、高周波照射装置１を流れる水を高周波で処理するこ
とができるようになっている。
側面に、処理される水の流入口３が設けられ、該流入口
３の近傍には複数の高周波発振子４……が設けられてお
り、高周波照射装置１を流れる水を高周波で処理するこ
とができるようになっている。
【００６６】磁気処理装置７は、流入口９と流出口１０
とを備えたハウジング８の内部に、磁石を積層した磁石
積層体が設けられており、上記高周波照射装置１にて高
周波処理された水が、流出口５から流入口９を介して本
装置７内に流入して磁気処理される。磁石積層体として
は、上記同様に図３〜図９に記載のものが使用され、そ
の説明は省略する。
とを備えたハウジング８の内部に、磁石を積層した磁石
積層体が設けられており、上記高周波照射装置１にて高
周波処理された水が、流出口５から流入口９を介して本
装置７内に流入して磁気処理される。磁石積層体として
は、上記同様に図３〜図９に記載のものが使用され、そ
の説明は省略する。
【００６７】高周波照射装置１の一例を図２に示し、４
は高周波発振子、２は筒状体、３は高周波処理される水
の流入口、５は高周波処理された水の流出口、６は筒状
体２の一端に取り付けられた振動板である。
は高周波発振子、２は筒状体、３は高周波処理される水
の流入口、５は高周波処理された水の流出口、６は筒状
体２の一端に取り付けられた振動板である。
【００６８】また、超音波照射装置２９の流出口３２と
磁気処理装置７の流入口９とは連結管を介して間接的に
連結、あるいは磁気処理装置７の流出口１０と高周波照
射装置１の流入口３とを連結管２８を介さずに直接連結
するものであってもよく、各装置間の連結は直接間接任
意である。
磁気処理装置７の流入口９とは連結管を介して間接的に
連結、あるいは磁気処理装置７の流出口１０と高周波照
射装置１の流入口３とを連結管２８を介さずに直接連結
するものであってもよく、各装置間の連結は直接間接任
意である。
【００６９】高周波発振子４としては、フェライト振動
子、金属磁歪振動子、水晶振動子、圧電セラミック振動
子等各種のものを用いることができるが、圧電素子を用
いたボルト締めランジバン振動子は堅牢で、取扱いが容
易であるので本発明で用いるのに好ましい高周波発振子
である。高周波発振子４は振動板６に接着剤、ねじ等の
固着具で取り付けられる。振動板６としては、厚さ１〜
２ｍｍのステンレス鋼板を用いることができる。
子、金属磁歪振動子、水晶振動子、圧電セラミック振動
子等各種のものを用いることができるが、圧電素子を用
いたボルト締めランジバン振動子は堅牢で、取扱いが容
易であるので本発明で用いるのに好ましい高周波発振子
である。高周波発振子４は振動板６に接着剤、ねじ等の
固着具で取り付けられる。振動板６としては、厚さ１〜
２ｍｍのステンレス鋼板を用いることができる。
【００７０】振動板６に高周波発振子４がねじ等の固着
具で着脱自在に取り付けられている場合、配管中に発生
している赤錆、スケール等が除去された後において、高
周波発振子４を取りはずして他に使用することができる
ので経費削減の点から好ましい。
具で着脱自在に取り付けられている場合、配管中に発生
している赤錆、スケール等が除去された後において、高
周波発振子４を取りはずして他に使用することができる
ので経費削減の点から好ましい。
【００７１】尚、上記各実施例は図示（図１及び図１０
乃至図１３）するように横方向（水平方向）に各装置
（高周波処理装置１、磁気処理装置７、超音波照射装置
２９）を適宜組み合わせて構成しているが、これに限定
されるものではなく、縦方向（垂直方向）に上記各装置
を適宜組み合わせて構成するものとしてもよく任意であ
る。
乃至図１３）するように横方向（水平方向）に各装置
（高周波処理装置１、磁気処理装置７、超音波照射装置
２９）を適宜組み合わせて構成しているが、これに限定
されるものではなく、縦方向（垂直方向）に上記各装置
を適宜組み合わせて構成するものとしてもよく任意であ
る。
【００７２】
【発明の効果】本発明の水処理装置は、上記せるように
高周波処理装置と磁気処理装置、磁気処理装置と高周波
処理装置、超音波処理装置と磁気処理装置と高周波処理
装置、あるいは高周波処理装置と磁気処理装置と超音波
処理装置とからなる構成を有するため、配管中に発生し
た赤錆、スケール等の除去効率が高く、短期間で配管中
の赤錆、スケール等が除去することができ、また、赤
錆、スケール等が発生するのを防止することができる。
高周波処理装置と磁気処理装置、磁気処理装置と高周波
処理装置、超音波処理装置と磁気処理装置と高周波処理
装置、あるいは高周波処理装置と磁気処理装置と超音波
処理装置とからなる構成を有するため、配管中に発生し
た赤錆、スケール等の除去効率が高く、短期間で配管中
の赤錆、スケール等が除去することができ、また、赤
錆、スケール等が発生するのを防止することができる。
【図１】 高周波照射装置と磁気処理装置とで構成され
る本発明水処理装置の一実施例示す図である。
る本発明水処理装置の一実施例示す図である。
【図２】 高周波照射装置の一例を示す拡大断面図であ
る。
る。
【図３】 磁石積層体の一例を示す断面図である。
【図４】 図３に示された磁石積層体の磁極片の側面図
である。
である。
【図５】 磁性材料又は非磁性材料で構成された螺旋構
造体を外周に設けた非磁性材料で構成された多孔筒状体
の一例を示す正面図である。
造体を外周に設けた非磁性材料で構成された多孔筒状体
の一例を示す正面図である。
【図６】 図７に示された多孔筒状体の側面図である。
【図７】 磁石積層体の他の例を示す断面図である。
【図８】 磁石積層体の他の例を示す断面図である。
【図９】 磁石積層体の他の例を示す断面図である。
【図１０】 磁気処理装置と高周波照射装置とで構成さ
れる本発明水処理装置の一実施例を示す図である。
れる本発明水処理装置の一実施例を示す図である。
【図１１】 高周波処理装置と磁気処理装置と高周波処
理装置とで構成される本発明水処理装置の一実施例を示
す図である。
理装置とで構成される本発明水処理装置の一実施例を示
す図である。
【図１２】 超音波処理装置と磁気処理装置と高周波処
理装置とで構成される本発明水処理装置の一実施例を示
す図である。
理装置とで構成される本発明水処理装置の一実施例を示
す図である。
【図１３】 高周波処理装置と磁気処理装置と超音波処
理装置とで構成される本発明水処理装置の一実施例を示
す図である。
理装置とで構成される本発明水処理装置の一実施例を示
す図である。
【符号の説明】 １：高周波照射装置 ４：高周波発振子 ７：磁気処理装置 ２４：磁石 ２５：磁極片 ２６：スペーサー ２９：超音波照射装置 ３０：超音波発振子
Claims (10)
- 【請求項１】 流入口の近傍に高周波発振子を設けた高
周波照射装置の流出口に、内部に磁石を積層した磁石積
層体を有する磁気処理装置の流入口を接続してなること
を特徴とする水処理装置。 - 【請求項２】 内部に磁石を積層した磁石積層体を有す
る磁気処理装置の流出口に、流入口の近傍に高周波発振
子を設けた高周波照射装置の流入口を接続してなること
を特徴とする水処理装置。 - 【請求項３】 流入口の近傍に高周波発振子を設けた高
周波照射装置の流出口に、内部に磁石を積層した磁石積
層体を有する磁気処理装置の流入口を接続し、該磁気処
理装置の流出口に、流入口の近傍に高周波発振子を設け
た高周波照射装置の流入口を接続してなることを特徴と
する水処理装置。 - 【請求項４】 流入口の近傍に超音波発振子を設けた超
音波照射装置の流出口に、内部に磁石を積層した磁石積
層体を有する磁気処理装置の流入口を接続し、該磁気処
理装置の流出口に、流入口の近傍に高周波発振子を設け
た高周波照射装置の流入口を接続してなることを特徴と
する水処理装置。 - 【請求項５】 流入口の近傍に高周波発振子を設けた高
周波照射装置の流出口に、内部に磁石を積層した磁石積
層体を有する磁気処理装置の流入口を接続し、該磁気処
理装置の流出口に、流入口の近傍に超音波発振子を設け
た超音波照射装置の流入口を接続してなることを特徴と
する水処理装置。 - 【請求項６】 複数の磁石を夫々間隔をあけて積層した
磁石積層体であることを特徴とする請求項１又は２又は
３又は４又は５のいずれかに記載の水処理装置。 - 【請求項７】 磁石を非磁性材料で構成されたスペーサ
ーを介し、間隔をあけて積層された磁石積層体を有する
磁気処理装置であることを特徴とする請求項１又は２又
は３又は４又は５又は６のいずれかに記載の水処理装
置。 - 【請求項８】 磁性材料又は非磁性材料で構成された螺
旋構造体を外周に設けた非磁性材料で構成された多孔筒
状体の中に磁石を積層した、磁石積層体が配置された磁
気処理装置であることを特徴とする請求項１又は２又は
３又は４又は５又は６又は７のいずれかに記載の水処理
装置。 - 【請求項９】 外周に複数の磁石を配置した磁気処理装
置であることを特徴とする請求項１又は２又は３又は４
又は５又は６又は７又は８のいずれかに記載の水処理装
置。 - 【請求項１０】 磁性材料又は非磁性材料で構成された
螺旋構造体を外周に設けた非磁性材料で構成された多孔
筒状体の中に配置された磁石を非磁性材料で構成された
スペーサーを介し間隔をあけて積層された磁石積層体を
有し、磁気処理装置の外周に複数の磁石を配置した磁気
処理装置であることを特徴とする請求項１又は２又は３
又は４又は５又は６又は７又は８又は９のいずれかに記
載の水処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24523195A JPH0966285A (ja) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | 水処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24523195A JPH0966285A (ja) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | 水処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0966285A true JPH0966285A (ja) | 1997-03-11 |
Family
ID=17130615
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24523195A Pending JPH0966285A (ja) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | 水処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0966285A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999008967A1 (fr) * | 1997-08-20 | 1999-02-25 | Marine Techno Research, Inc. | Dispositif servant a purifier des etendues d'eau |
| WO2004020752A1 (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 衛生洗浄装置 |
| JP2004275850A (ja) * | 2003-03-14 | 2004-10-07 | Hitachi Ltd | 超音波装置 |
| KR100764819B1 (ko) * | 2005-06-17 | 2007-10-08 | 주식회사 몰코 | 방폭지역의 이물질 생성 방지 및 제거용 초음파 장치 |
| JP2007330869A (ja) * | 2006-06-14 | 2007-12-27 | Japan Magnetic Chemical Institute | 磁気処理装置 |
| CN105712500A (zh) * | 2014-12-04 | 2016-06-29 | 国家电网公司 | 一种用于直流换流阀冷却系统外冷水除垢装置及其方法 |
-
1995
- 1995-08-31 JP JP24523195A patent/JPH0966285A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| CN105712500A (zh) * | 2014-12-04 | 2016-06-29 | 国家电网公司 | 一种用于直流换流阀冷却系统外冷水除垢装置及其方法 |
| CN105712500B (zh) * | 2014-12-04 | 2019-07-12 | 国家电网公司 | 一种用于直流换流阀冷却系统外冷水除垢装置及其方法 |
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