JPH0963053A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH0963053A JPH0963053A JP21482095A JP21482095A JPH0963053A JP H0963053 A JPH0963053 A JP H0963053A JP 21482095 A JP21482095 A JP 21482095A JP 21482095 A JP21482095 A JP 21482095A JP H0963053 A JPH0963053 A JP H0963053A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 金属蒸着型磁性薄膜を有する磁気記録媒体の
製造に於いて、C/Nの向上を図る。 【解決手段】 非磁性支持体上に蒸着型金属磁性薄膜よ
りなる磁性層を有する磁気記録媒体の製造方法におい
て、蒸着時に非磁性支持体5を冷却しながら案内移送す
るための冷却キャン3の温度を−40℃〜−100℃と
して非磁性支持体5上に磁性層を成膜する。
製造に於いて、C/Nの向上を図る。 【解決手段】 非磁性支持体上に蒸着型金属磁性薄膜よ
りなる磁性層を有する磁気記録媒体の製造方法におい
て、蒸着時に非磁性支持体5を冷却しながら案内移送す
るための冷却キャン3の温度を−40℃〜−100℃と
して非磁性支持体5上に磁性層を成膜する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、非磁性支持体上に
磁性層として蒸着型金属磁性薄膜を有する、いわゆる金
属磁性薄膜型の磁気記録媒体の製造方法に関する。
磁性層として蒸着型金属磁性薄膜を有する、いわゆる金
属磁性薄膜型の磁気記録媒体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】例えばビデオテープレコーダ等の分野に
おいては、高画質化を図るために、高密度化が一層強く
要求されており、これに対する磁気記録媒体として、金
属あるいはCoNi等の合金からなる磁性材料を鍍金や
真空薄膜形成技術(例えば真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレーティング法等)により、直接に非磁性
支持体上に被着せしめて磁性層を形成する、いわゆる金
属磁性薄膜型の磁気記録媒体が提案されている。
おいては、高画質化を図るために、高密度化が一層強く
要求されており、これに対する磁気記録媒体として、金
属あるいはCoNi等の合金からなる磁性材料を鍍金や
真空薄膜形成技術(例えば真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレーティング法等)により、直接に非磁性
支持体上に被着せしめて磁性層を形成する、いわゆる金
属磁性薄膜型の磁気記録媒体が提案されている。
【0003】この金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は、保
磁力、角型比及び短波長域における電磁変換特性に優れ
るばかりでなく、磁性層の薄膜化が可能であるために磁
性材料の充填密度を高くできること等、数々の利点を有
している。
磁力、角型比及び短波長域における電磁変換特性に優れ
るばかりでなく、磁性層の薄膜化が可能であるために磁
性材料の充填密度を高くできること等、数々の利点を有
している。
【0004】その中でも真空蒸着法によって磁性層を形
成する蒸着テープは、高生産効率と安定した特性のため
に、既にハイバンド8ミリ用テープ及びディジタルマイ
クロテープ(NTテープ)として商品化されている。
成する蒸着テープは、高生産効率と安定した特性のため
に、既にハイバンド8ミリ用テープ及びディジタルマイ
クロテープ(NTテープ)として商品化されている。
【0005】蒸着テープの磁性層は、真空中で電子線等
で磁性材料を加熱して蒸発させ、非磁性支持体上に付着
させることによって形成される。このような蒸着テープ
の磁気特性を制御するのには、蒸着の際に酸素ガスを導
入して金属蒸気の一部を酸化させる方法が一般的であ
る。導入酸素量を増加させると磁性層の保磁力は増加
し、飽和磁化量は減少する傾向があるので、適当な磁気
特性をもった磁性層を形成することができる。
で磁性材料を加熱して蒸発させ、非磁性支持体上に付着
させることによって形成される。このような蒸着テープ
の磁気特性を制御するのには、蒸着の際に酸素ガスを導
入して金属蒸気の一部を酸化させる方法が一般的であ
る。導入酸素量を増加させると磁性層の保磁力は増加
し、飽和磁化量は減少する傾向があるので、適当な磁気
特性をもった磁性層を形成することができる。
【0006】また、磁性層は、真空中で電子線等で磁性
材料を加熱して蒸発させ、非磁性支持体上に付着させる
ことによって形成させる。この時、非磁性支持体は蒸着
粒子により多大な熱負荷を受けるため、冷却キャンは通
常0°以下、−30℃程度までに冷却し、非磁性支持体
がダメージを受け変形するのを避けている。
材料を加熱して蒸発させ、非磁性支持体上に付着させる
ことによって形成させる。この時、非磁性支持体は蒸着
粒子により多大な熱負荷を受けるため、冷却キャンは通
常0°以下、−30℃程度までに冷却し、非磁性支持体
がダメージを受け変形するのを避けている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】蒸着テープの有効記録
深さはλ/4(λ=記録波長)といわれており、蒸着層
の厚みとしては、これ以上であることが高い再生出力を
得るための必要条件である。ところが、蒸着層の厚みを
大きくすると、磁性層の形成とともに粒子単位が大きく
なる傾向にあり、ノイズが増大する。また、粒子の配向
性が悪いとノイズは増加する傾向にあることが知られて
いる。従って、蒸着テープのC/Nを良くするために
は、出力を高くしても、ノイズを低く抑える手法が必要
である。
深さはλ/4(λ=記録波長)といわれており、蒸着層
の厚みとしては、これ以上であることが高い再生出力を
得るための必要条件である。ところが、蒸着層の厚みを
大きくすると、磁性層の形成とともに粒子単位が大きく
なる傾向にあり、ノイズが増大する。また、粒子の配向
性が悪いとノイズは増加する傾向にあることが知られて
いる。従って、蒸着テープのC/Nを良くするために
は、出力を高くしても、ノイズを低く抑える手法が必要
である。
【0008】本発明は、上述の点に鑑み、蒸着粒子を微
細化し、ノイズ低減を可能にした磁気記録媒体の製造方
法を提供するものである。
細化し、ノイズ低減を可能にした磁気記録媒体の製造方
法を提供するものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、非磁性支持体
上に蒸着型金属磁性薄膜よりなる磁性層を有する磁気記
録媒体の製造方法において、蒸着時に非磁性支持体を冷
却しながら案内移送するための冷却キャンの温度を−4
0℃〜−100℃にして非磁性支持体上に磁性層を成膜
する。
上に蒸着型金属磁性薄膜よりなる磁性層を有する磁気記
録媒体の製造方法において、蒸着時に非磁性支持体を冷
却しながら案内移送するための冷却キャンの温度を−4
0℃〜−100℃にして非磁性支持体上に磁性層を成膜
する。
【0010】冷却キャンの温度を−40℃〜−100℃
にして非磁性支持体を通常より低温にし、この状態で非
磁性支持体上に磁性層を蒸着することにより、非磁性支
持体上で、蒸着粒子の運動エネルギーを抑え、粒子サイ
ズを小さくし、粒子の配向性よく蒸着層を形成すること
ができる。したがって、出力が高くなってもノイズを低
く抑えた、C/Nのよい蒸着型金属磁性薄膜を有する磁
気記録媒体が製造できる。
にして非磁性支持体を通常より低温にし、この状態で非
磁性支持体上に磁性層を蒸着することにより、非磁性支
持体上で、蒸着粒子の運動エネルギーを抑え、粒子サイ
ズを小さくし、粒子の配向性よく蒸着層を形成すること
ができる。したがって、出力が高くなってもノイズを低
く抑えた、C/Nのよい蒸着型金属磁性薄膜を有する磁
気記録媒体が製造できる。
【0011】
【発明の実施の形態】蒸着テープでのノイズを下げる方
法として、磁性層成膜時に冷却キャンの温度を下げ、非
磁性支持体上で、蒸着粒子の運動エネルギーを抑え、粒
子サイズを小さくし、粒子の配向性良く蒸着する方法が
考えられる。
法として、磁性層成膜時に冷却キャンの温度を下げ、非
磁性支持体上で、蒸着粒子の運動エネルギーを抑え、粒
子サイズを小さくし、粒子の配向性良く蒸着する方法が
考えられる。
【0012】そこで、本発明者らは、鋭意研究の結果、
磁性層成膜時に冷却キャンの温度を下げる蒸着方法を案
出した。即ち、冷却キャンの温度を−40℃〜−100
℃に下げて蒸着する。
磁性層成膜時に冷却キャンの温度を下げる蒸着方法を案
出した。即ち、冷却キャンの温度を−40℃〜−100
℃に下げて蒸着する。
【0013】具体的には、金属磁性薄膜により磁性層の
蒸着方法において、熱交換用の冷媒として、流動点の低
い物質を用いることによって実現する。これによって、
非磁性支持体上で、蒸着粒子の運動エネルギーを抑え、
粒子サイズを小さくし、粒子の配向性よく蒸着層を形成
でき、出力が高くなってもノイズを低く抑えた、C/N
のよい蒸着テープを作成することができる。
蒸着方法において、熱交換用の冷媒として、流動点の低
い物質を用いることによって実現する。これによって、
非磁性支持体上で、蒸着粒子の運動エネルギーを抑え、
粒子サイズを小さくし、粒子の配向性よく蒸着層を形成
でき、出力が高くなってもノイズを低く抑えた、C/N
のよい蒸着テープを作成することができる。
【0014】冷却キャンの温度としては、蒸着粒子の運
動エネルギーを抑え粒子サイズを小さくする点からいえ
ば低温ほどよいが、しかし、低温になりすぎると非磁性
支持体の機械的特性を破壊する懼れがある。従って、本
発明では冷却キャンの温度としては−40℃〜−100
℃の範囲内がよい。即ち、−40℃より高いとC/Nの
改善が小さく、−100℃より低温になりすぎると非磁
性支持体の機械的特性を破壊する懼れが生じる。
動エネルギーを抑え粒子サイズを小さくする点からいえ
ば低温ほどよいが、しかし、低温になりすぎると非磁性
支持体の機械的特性を破壊する懼れがある。従って、本
発明では冷却キャンの温度としては−40℃〜−100
℃の範囲内がよい。即ち、−40℃より高いとC/Nの
改善が小さく、−100℃より低温になりすぎると非磁
性支持体の機械的特性を破壊する懼れが生じる。
【0015】次に、図面を参照して本発明の実施例につ
いて説明する。
いて説明する。
【0016】図1は、本実施例に係る磁気記録媒体、即
ち磁気テープを作成する際に適用される連続巻き取り蒸
着装置の概略的構成を示す。図2は、その要部の拡大図
を示す。
ち磁気テープを作成する際に適用される連続巻き取り蒸
着装置の概略的構成を示す。図2は、その要部の拡大図
を示す。
【0017】この蒸着装置1は、高真空とされる蒸着室
2内に、非磁性支持体を冷却しながら案内移送する冷却
キャン3が配され、この冷却キャン3に対向して金属磁
性蒸着源4が配されると共に、非磁性支持体5の蒸着部
に近接するように酸素ガス供給ノズル9が配されて成
る。10は酸素ガス供給ノズル9に接続された酸素ガス
導入管、11は遮蔽部材、12は電子銃を示す。
2内に、非磁性支持体を冷却しながら案内移送する冷却
キャン3が配され、この冷却キャン3に対向して金属磁
性蒸着源4が配されると共に、非磁性支持体5の蒸着部
に近接するように酸素ガス供給ノズル9が配されて成
る。10は酸素ガス供給ノズル9に接続された酸素ガス
導入管、11は遮蔽部材、12は電子銃を示す。
【0018】この蒸着装置1では、非磁性支持体5が供
給ロール7から供給され、冷却キャン3に沿って冷却さ
れながら案内移送され、巻き取りロール8に巻き取られ
る。蒸着室2内が真空排気された状態で、電子銃12か
らの電子ビーム13で蒸着源4が加熱溶解して蒸発し、
之が非磁性支持体5上に蒸着される。蒸着時、酸素ガス
供給ノズル9から酸素ガス14が導入され、金属磁性蒸
気15の一部を酸化しながら蒸着される。蒸着の入射角
は、非磁性支持体5の法線方向から90°〜45°まで
ある。
給ロール7から供給され、冷却キャン3に沿って冷却さ
れながら案内移送され、巻き取りロール8に巻き取られ
る。蒸着室2内が真空排気された状態で、電子銃12か
らの電子ビーム13で蒸着源4が加熱溶解して蒸発し、
之が非磁性支持体5上に蒸着される。蒸着時、酸素ガス
供給ノズル9から酸素ガス14が導入され、金属磁性蒸
気15の一部を酸化しながら蒸着される。蒸着の入射角
は、非磁性支持体5の法線方向から90°〜45°まで
ある。
【0019】上記蒸着装置1を用いて、蒸着室2を10
-3Paに排気して非磁性支持体5としてのPET(ポリ
エチレンテレフタレート)ベースフィルムを25m/分
の送り速度で移送し、金属磁性蒸着源4である例えば、
るつぼ内のコバルトを電子ビーム13で蒸発させて、そ
の厚みが200nmとなるようなレートでコバルト磁性
層を蒸着した。
-3Paに排気して非磁性支持体5としてのPET(ポリ
エチレンテレフタレート)ベースフィルムを25m/分
の送り速度で移送し、金属磁性蒸着源4である例えば、
るつぼ内のコバルトを電子ビーム13で蒸発させて、そ
の厚みが200nmとなるようなレートでコバルト磁性
層を蒸着した。
【0020】そして、比較例1として、エチレングリコ
ールを冷媒とし、冷媒温度を−20℃として冷却キャン
3を冷却して膜厚200nmのコバルト単層磁性層を蒸
着してなる蒸着テープ(A)を作成した。
ールを冷媒とし、冷媒温度を−20℃として冷却キャン
3を冷却して膜厚200nmのコバルト単層磁性層を蒸
着してなる蒸着テープ(A)を作成した。
【0021】次に、実施例1として、エチレングリコー
ルを冷媒とし、冷媒温度を−40℃として冷却キャン3
を冷却し、膜厚200nmのコバルト単層磁性層を蒸着
してなる蒸着テープ(B)を作成した。
ルを冷媒とし、冷媒温度を−40℃として冷却キャン3
を冷却し、膜厚200nmのコバルト単層磁性層を蒸着
してなる蒸着テープ(B)を作成した。
【0022】更に、実施例2として、住友3M社製フロ
リナートFC−77を冷媒とし、冷媒温度を−100℃
として冷却キャン3を冷却し、膜厚200nmのコバル
ト単層磁性層を蒸着してなる蒸着テープ(C)を作成し
た。
リナートFC−77を冷媒とし、冷媒温度を−100℃
として冷却キャン3を冷却し、膜厚200nmのコバル
ト単層磁性層を蒸着してなる蒸着テープ(C)を作成し
た。
【0023】上記各サンプルの蒸着テープ(A)〜
(C)の作成工程のフローチャートを図3に示す。工程
(I)でPETベースフィルムの一面上にコバルト磁性
層を蒸着する。次に、工程(II)でPETベースフィル
ムの磁性層と反対側の面にバックコートを施し、工程(I
II) で磁性面に対して防錆処理を施す。次に、工程(I
V) で磁性層の面と、PETベースフィルムの裏面であ
るバックコート面に潤滑剤を塗布する。そして、工程
(V)で得られた幅広の蒸着テープを所定幅にスリット
し(いわゆる裁断し)て目的の蒸着テープを得る。
(C)の作成工程のフローチャートを図3に示す。工程
(I)でPETベースフィルムの一面上にコバルト磁性
層を蒸着する。次に、工程(II)でPETベースフィル
ムの磁性層と反対側の面にバックコートを施し、工程(I
II) で磁性面に対して防錆処理を施す。次に、工程(I
V) で磁性層の面と、PETベースフィルムの裏面であ
るバックコート面に潤滑剤を塗布する。そして、工程
(V)で得られた幅広の蒸着テープを所定幅にスリット
し(いわゆる裁断し)て目的の蒸着テープを得る。
【0024】表1に上記各蒸着テープ(A),(B),
(C)の成膜条件を示す。
(C)の成膜条件を示す。
【0025】
【表1】
【0026】表2に上記各蒸着テープ(A),(B),
(C)における磁気特性と、電磁変換特性の測定結果を
示す。
(C)における磁気特性と、電磁変換特性の測定結果を
示す。
【0027】
【表2】
【0028】磁気特性は試料振動型測定機、電磁変換特
性はソニー製ハイバンド8ミリビデオデッキEV−S9
00を改造したもので行った。相対速度は3.8m/
秒、記録周波数は7MHzで行い、再生出力と、ノイズ
として6MHzでの出力を測定した。記録電流は、各蒸
着テープ(A),(B),(C)について最も高い再生
出力が得られる値に設定した。
性はソニー製ハイバンド8ミリビデオデッキEV−S9
00を改造したもので行った。相対速度は3.8m/
秒、記録周波数は7MHzで行い、再生出力と、ノイズ
として6MHzでの出力を測定した。記録電流は、各蒸
着テープ(A),(B),(C)について最も高い再生
出力が得られる値に設定した。
【0029】表2から明らかなように、本実施例1及び
2の蒸着テープ(B)及び(C)は、比較例1の蒸着テ
ープ(A)と比べて、磁気特性は比較例1と同等である
も、電磁変換特性では出力が高く、ノイズが低く、その
結果C/Nが高くなっていることが認められる。特に蒸
着テープ(C)の場合には、比較例1に比してC/Nが
3dBも高くなる。
2の蒸着テープ(B)及び(C)は、比較例1の蒸着テ
ープ(A)と比べて、磁気特性は比較例1と同等である
も、電磁変換特性では出力が高く、ノイズが低く、その
結果C/Nが高くなっていることが認められる。特に蒸
着テープ(C)の場合には、比較例1に比してC/Nが
3dBも高くなる。
【0030】上例では、蒸着層としてCoについてのも
のであるが、本蒸着法によって粒子サイズを小さくして
ノイズを低くすることは、Coの他に、Fe,Ni等の
金属やCo−Ni系合金、Co−Ni−Pt系合金、F
e−Co−Ni系合金、Fe−Ni−B系合金、Fe−
Co−B系合金、Fe−Co−Ni−B系合金等からな
る面内磁化記録金属磁性膜や、Co−Cr系合金薄膜、
Co−O系薄膜等の垂直磁化記録金属磁性薄膜に関する
場合においても、きわめて有効であることは容易に考え
られる。
のであるが、本蒸着法によって粒子サイズを小さくして
ノイズを低くすることは、Coの他に、Fe,Ni等の
金属やCo−Ni系合金、Co−Ni−Pt系合金、F
e−Co−Ni系合金、Fe−Ni−B系合金、Fe−
Co−B系合金、Fe−Co−Ni−B系合金等からな
る面内磁化記録金属磁性膜や、Co−Cr系合金薄膜、
Co−O系薄膜等の垂直磁化記録金属磁性薄膜に関する
場合においても、きわめて有効であることは容易に考え
られる。
【0031】
【発明の効果】本発明によれば、蒸着時に冷却キャンの
温度を−40℃〜−100℃まで下げて非磁性支持体上
で蒸着粒子の運動エネルギーを抑え、粒子サイズを小さ
くし、粒子の配向性よく蒸着層を形成することにより、
ノイズが著しく低減した磁気記録媒体を製造することが
できる。
温度を−40℃〜−100℃まで下げて非磁性支持体上
で蒸着粒子の運動エネルギーを抑え、粒子サイズを小さ
くし、粒子の配向性よく蒸着層を形成することにより、
ノイズが著しく低減した磁気記録媒体を製造することが
できる。
【図1】本発明に適用される連続巻取り式蒸着装置の構
成図である。
成図である。
【図2】図1の要部の拡大図である。
【図3】蒸着テープの作成工程のフローチャートであ
る。
る。
1 蒸着装置 2 蒸着室 3 冷却キャン 4 蒸着源 5 非磁性支持体 7 供給ロール 8 巻取りロール 9 酸素ガス供給ノズル 12 電子銃 13 電子ビーム
Claims (1)
- 【請求項1】 非磁性支持体上に蒸着型金属磁性薄膜よ
りなる磁性層を有する磁気記録媒体の製造方法におい
て、蒸着時に前記非磁性支持体を冷却しながら案内移送
するための冷却キャンの温度を−40℃〜−100℃に
して前記非磁性支持体上に前記磁性層を成膜することを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21482095A JPH0963053A (ja) | 1995-08-23 | 1995-08-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21482095A JPH0963053A (ja) | 1995-08-23 | 1995-08-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0963053A true JPH0963053A (ja) | 1997-03-07 |
Family
ID=16662073
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21482095A Pending JPH0963053A (ja) | 1995-08-23 | 1995-08-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0963053A (ja) |
-
1995
- 1995-08-23 JP JP21482095A patent/JPH0963053A/ja active Pending
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