JPH0512657A - 薄膜磁気テープ、その製造方法および製造装置 - Google Patents
薄膜磁気テープ、その製造方法および製造装置Info
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- JPH0512657A JPH0512657A JP26607091A JP26607091A JPH0512657A JP H0512657 A JPH0512657 A JP H0512657A JP 26607091 A JP26607091 A JP 26607091A JP 26607091 A JP26607091 A JP 26607091A JP H0512657 A JPH0512657 A JP H0512657A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ヘリカル走査式磁気記録装置でトラックの傾
斜角が大きく、アジマス角が大きい場合発生する、テー
プの磁気異方性により出力が低下するという課題を解決
すること。 【構成】 非磁性基材５に磁性薄膜が形成された薄膜磁
気テープに於いて、磁性薄膜が斜方磁気異方性を有する
こと。また、真空中で、円錐台状の冷却キャン４に非磁
性基材５を沿わせて連続的に搬送させつつ、磁性材料の
原子又はイオンを非磁性基材４に飛ばすこと。また、真
空中で、水平方向に対して傾斜させた円筒状の冷却キャ
ン４に非磁性基材５を沿わせて連続的に搬送させつつ、
磁性材料の原子又はイオンを非磁性基材５に飛ばすこ
と。
斜角が大きく、アジマス角が大きい場合発生する、テー
プの磁気異方性により出力が低下するという課題を解決
すること。 【構成】 非磁性基材５に磁性薄膜が形成された薄膜磁
気テープに於いて、磁性薄膜が斜方磁気異方性を有する
こと。また、真空中で、円錐台状の冷却キャン４に非磁
性基材５を沿わせて連続的に搬送させつつ、磁性材料の
原子又はイオンを非磁性基材４に飛ばすこと。また、真
空中で、水平方向に対して傾斜させた円筒状の冷却キャ
ン４に非磁性基材５を沿わせて連続的に搬送させつつ、
磁性材料の原子又はイオンを非磁性基材５に飛ばすこ
と。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ヘリカル走査式磁気記
録装置で用いられる、トラックの傾斜角が大きく、アジ
マス角が大きい場合のテープの磁気異方性による出力の
低下を大幅に低減した薄膜磁気テープ、その製造方法お
よび製造装置に関するものである。
録装置で用いられる、トラックの傾斜角が大きく、アジ
マス角が大きい場合のテープの磁気異方性による出力の
低下を大幅に低減した薄膜磁気テープ、その製造方法お
よび製造装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、磁気記録の高密度化のため、真空
蒸着法による薄膜磁気テープが開発され市販されてい
る。これは一般に蒸着テープ或いはＭＥテープと呼ばれ
ており、真空中で円筒状の冷却キャンにポリエチレンテ
レフタレート等の非磁性基材を沿わせて連続的に搬送さ
せつつ、コバルトやコバルト・ニッケル合金等を酸素分
圧下で電子ビーム加熱により上記基材上に連続的に蒸着
することにより磁性薄膜を形成するものである（特公昭
６０−３３２８９、特公平２−２７７３２等参照）。
蒸着法による薄膜磁気テープが開発され市販されてい
る。これは一般に蒸着テープ或いはＭＥテープと呼ばれ
ており、真空中で円筒状の冷却キャンにポリエチレンテ
レフタレート等の非磁性基材を沿わせて連続的に搬送さ
せつつ、コバルトやコバルト・ニッケル合金等を酸素分
圧下で電子ビーム加熱により上記基材上に連続的に蒸着
することにより磁性薄膜を形成するものである（特公昭
６０−３３２８９、特公平２−２７７３２等参照）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の蒸着テープの場
合、テープの長手方向に強い磁気異方性が生成されるた
め、アジマスのない （アジマス角が０度）リング状磁
気ヘッドでテープ長手方向に記録再生すれば著しく出力
が高く、塗布型テープに比べ短波長では６ｄＢ以上の向
上がなされる。
合、テープの長手方向に強い磁気異方性が生成されるた
め、アジマスのない （アジマス角が０度）リング状磁
気ヘッドでテープ長手方向に記録再生すれば著しく出力
が高く、塗布型テープに比べ短波長では６ｄＢ以上の向
上がなされる。
【０００４】しかしながら、近年ＶＴＲやＤＡＴの装置
の小形化の要請によりヘリカル走査のヘッドシリンダの
小径化とトラックピッチの狭小化がはかられており、そ
のためトラックの傾斜角が大きくなりアジマス角も大き
くなるのが一般的傾向となっている。ここで問題になっ
てきたことは、例えばトラック傾斜角が１５゜でアジマ
ス角が±２０゜の時、磁気記録の方向（ヘッドキャップ
と直角の方向）はテープの長手方向に対して＋３５゜と
−５゜の２方向になされることになり、従来のテープ長
手方向に強い磁気異方性をもつ蒸着テープの場合、＋３
５゜と−５゜では出力が４〜５ｄＢ異なる（＋３５°の
方が低い）という現象が生じてしまうという点である。
の小形化の要請によりヘリカル走査のヘッドシリンダの
小径化とトラックピッチの狭小化がはかられており、そ
のためトラックの傾斜角が大きくなりアジマス角も大き
くなるのが一般的傾向となっている。ここで問題になっ
てきたことは、例えばトラック傾斜角が１５゜でアジマ
ス角が±２０゜の時、磁気記録の方向（ヘッドキャップ
と直角の方向）はテープの長手方向に対して＋３５゜と
−５゜の２方向になされることになり、従来のテープ長
手方向に強い磁気異方性をもつ蒸着テープの場合、＋３
５゜と−５゜では出力が４〜５ｄＢ異なる（＋３５°の
方が低い）という現象が生じてしまうという点である。
【０００５】この差を低減するには磁性層形成時に、基
材への磁性材料原子の入射角の小さい成分を増加する事
により等方的な磁性薄膜を作る方法もあるが、これでは
＋３５°方向の出力はほとんど改善されず、−５゜方向
の出力が低下するばかりであり、記録密度は低くなって
しまう。また、＋３５゜方向のトラック幅を−５゜方向
のトラック幅より広げる方法も考えられるが、塗布型テ
ープとの互換性や特殊再生機能等に大きな課題が発生し
てしまう。
材への磁性材料原子の入射角の小さい成分を増加する事
により等方的な磁性薄膜を作る方法もあるが、これでは
＋３５°方向の出力はほとんど改善されず、−５゜方向
の出力が低下するばかりであり、記録密度は低くなって
しまう。また、＋３５゜方向のトラック幅を−５゜方向
のトラック幅より広げる方法も考えられるが、塗布型テ
ープとの互換性や特殊再生機能等に大きな課題が発生し
てしまう。
【０００６】本発明は上記従来の薄膜磁気テープの課題
を考慮したもので、トラック傾斜角が大きくアジマス角
の大きいヘリカル走査式磁気記録装置に於いて、テープ
の磁気異方性による出力の低下及び異なるアジマスのヘ
ッド出力差とを大幅に低減できる薄膜磁気テープを提供
することを目的とする。
を考慮したもので、トラック傾斜角が大きくアジマス角
の大きいヘリカル走査式磁気記録装置に於いて、テープ
の磁気異方性による出力の低下及び異なるアジマスのヘ
ッド出力差とを大幅に低減できる薄膜磁気テープを提供
することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の薄膜磁気テープ
は非磁性基材に磁性薄膜を形成し、テープの面内に於い
て斜方磁気異方性を有することを特徴とするものであ
る。
は非磁性基材に磁性薄膜を形成し、テープの面内に於い
て斜方磁気異方性を有することを特徴とするものであ
る。
【０００８】また、真空中で円錐台状の冷却キャンもし
くは傾斜させた円筒状の冷却キャンに非磁性基材を沿わ
せて連続的に搬送させつつ、磁性材料の原子やイオンを
前記非磁性基材にさしむけることを特徴とする。
くは傾斜させた円筒状の冷却キャンに非磁性基材を沿わ
せて連続的に搬送させつつ、磁性材料の原子やイオンを
前記非磁性基材にさしむけることを特徴とする。
【０００９】また、真空槽内に円錐台状の冷却キャンも
しくは傾斜させた円筒状の冷却キャンと、この冷却キャ
ンに非磁性基材を沿わせて連続的に搬送させる機構とを
設け、さらに磁性材料の電子やイオンを生成する機構を
前記冷却キャンに対向して設けたことを特徴とする。
しくは傾斜させた円筒状の冷却キャンと、この冷却キャ
ンに非磁性基材を沿わせて連続的に搬送させる機構とを
設け、さらに磁性材料の電子やイオンを生成する機構を
前記冷却キャンに対向して設けたことを特徴とする。
【００１０】
【作用】本発明の薄膜磁気テープではテープ面内の予め
設計された方向に斜方磁気異方性を付与し得るので、テ
ープの磁化容易方向をヘリカル記録の略々ヘッドスキャ
ン方向に一致させることができる。例えば前記の例と同
じくトラック傾斜角が１５゜でアジマス角が±２０゜の
とき、磁気記録の方向（ヘッドキャプと直角の方向）は
テープの長手方向に対して＋３５゜と−５゜の２方向に
なされるが、本発明の薄膜磁気テープでおよそ＋１５゜
の方向に磁気異方性を持つものを用いれば、磁気記録の
方向はテープの磁化容易方向に対し±２０゜となりアジ
マスの違いによるヘッド出力の差はなくなり、異方性に
よる出力の低下も１ｄＢ程度に低減される。
設計された方向に斜方磁気異方性を付与し得るので、テ
ープの磁化容易方向をヘリカル記録の略々ヘッドスキャ
ン方向に一致させることができる。例えば前記の例と同
じくトラック傾斜角が１５゜でアジマス角が±２０゜の
とき、磁気記録の方向（ヘッドキャプと直角の方向）は
テープの長手方向に対して＋３５゜と−５゜の２方向に
なされるが、本発明の薄膜磁気テープでおよそ＋１５゜
の方向に磁気異方性を持つものを用いれば、磁気記録の
方向はテープの磁化容易方向に対し±２０゜となりアジ
マスの違いによるヘッド出力の差はなくなり、異方性に
よる出力の低下も１ｄＢ程度に低減される。
【００１１】
【実施例】以下本発明の実施例を図面を参照して説明す
る。
る。
【００１２】図１は本発明の薄膜磁気テープの製造装置
の一実施例を示す略示斜視図である。図１に於いて、真
空槽１の中には次のような部材が配置されている。な
お、真空ポンプ２はその真空層１を真空にするためのポ
ンプであり、ガス導入口３は、酸素等を真空槽１へ導入
するためのガス導入口である。中央には、円錐台状の冷
却キャン４が配置され、これにポリエチレンテレフタレ
ートフィルム等の非磁性基材５を沿わせて連続的に搬送
させるものである。巻出軸６はその非磁性基材５を巻出
すための軸であり、巻取軸７は、その非磁性基材５を巻
取るための軸である。たいこ状ローラ８、９は非磁性基
材５を適度な角度と捻れをふせぎながら沿わせるための
手段である。これら部材６、７、８、９を冷却キャン４
に対し位置をずらせて設置する事により非磁性基材５を
磁性材料の蒸気に対してある傾きをもって搬送させるこ
とができる。また冷却キャン４の下方には、磁性材料の
蒸発をおこなう蒸発源１０が配置されている。通常マグ
ネシア等のルツボ又は水冷銅ハースである。この蒸発源
１０に、図示していない電子ビームが照射され、中にあ
るコバルト等の磁性材料を蒸発させ、非磁性基材５の上
に磁性薄膜を形成するようになっている。蒸発源１０の
幅は非磁性基材５よりもやや広いほうが膜厚及び磁気異
方性がどのスリット位置でもほぼ同じものができる。こ
こで幅方向で膜厚・磁気特性を均一化するためには、円
錐台状冷却キャン４の底面はほぼ水平にして蒸発源１０
と非磁性基材５との距離を幅方向で一定にするのが望ま
しく、これが可能であるため極めて容易に幅方向で膜厚
・磁気特性を均一化できる点が冷却キャンを円錐台状に
する場合の特徴である。しゃへい板１１は、磁性材料の
蒸気が非磁性基材５に蒸着されるときの入射角を制限し
て保磁力等の磁気特性を制御するものである。また、図
示は略しているが、冷却キャン４に直接蒸気があたらな
いようにするしゃへい板も必要である。冷却キャン４及
び非磁性基材５は密着して矢印の方向に回転、移動する
が、このとき磁性材料の蒸気は非磁性基材５の長手方向
に対して斜めに飛来して磁性薄膜が形成されるので、成
膜された非磁性基材５をスリッタ・マシンで所定のテー
プ幅にスリットした場合、テープの長手方向に対し磁気
異方性が傾斜し、磁化容易方向が斜めになった薄膜磁気
テープが得られる。
の一実施例を示す略示斜視図である。図１に於いて、真
空槽１の中には次のような部材が配置されている。な
お、真空ポンプ２はその真空層１を真空にするためのポ
ンプであり、ガス導入口３は、酸素等を真空槽１へ導入
するためのガス導入口である。中央には、円錐台状の冷
却キャン４が配置され、これにポリエチレンテレフタレ
ートフィルム等の非磁性基材５を沿わせて連続的に搬送
させるものである。巻出軸６はその非磁性基材５を巻出
すための軸であり、巻取軸７は、その非磁性基材５を巻
取るための軸である。たいこ状ローラ８、９は非磁性基
材５を適度な角度と捻れをふせぎながら沿わせるための
手段である。これら部材６、７、８、９を冷却キャン４
に対し位置をずらせて設置する事により非磁性基材５を
磁性材料の蒸気に対してある傾きをもって搬送させるこ
とができる。また冷却キャン４の下方には、磁性材料の
蒸発をおこなう蒸発源１０が配置されている。通常マグ
ネシア等のルツボ又は水冷銅ハースである。この蒸発源
１０に、図示していない電子ビームが照射され、中にあ
るコバルト等の磁性材料を蒸発させ、非磁性基材５の上
に磁性薄膜を形成するようになっている。蒸発源１０の
幅は非磁性基材５よりもやや広いほうが膜厚及び磁気異
方性がどのスリット位置でもほぼ同じものができる。こ
こで幅方向で膜厚・磁気特性を均一化するためには、円
錐台状冷却キャン４の底面はほぼ水平にして蒸発源１０
と非磁性基材５との距離を幅方向で一定にするのが望ま
しく、これが可能であるため極めて容易に幅方向で膜厚
・磁気特性を均一化できる点が冷却キャンを円錐台状に
する場合の特徴である。しゃへい板１１は、磁性材料の
蒸気が非磁性基材５に蒸着されるときの入射角を制限し
て保磁力等の磁気特性を制御するものである。また、図
示は略しているが、冷却キャン４に直接蒸気があたらな
いようにするしゃへい板も必要である。冷却キャン４及
び非磁性基材５は密着して矢印の方向に回転、移動する
が、このとき磁性材料の蒸気は非磁性基材５の長手方向
に対して斜めに飛来して磁性薄膜が形成されるので、成
膜された非磁性基材５をスリッタ・マシンで所定のテー
プ幅にスリットした場合、テープの長手方向に対し磁気
異方性が傾斜し、磁化容易方向が斜めになった薄膜磁気
テープが得られる。
【００１３】以下に具体的実験データを示す。図２は図
１の装置により成膜された薄膜磁気テープの磁気特性及
び出力のテープ面内の異方性を測定したデータのグラフ
である。非磁性基材５として１０ミクロン厚のポリエチ
レンテレフタレートを用い、傾斜角が１５°の円錐台状
冷却キャン４を用い非磁性基材５の長手方向に対し蒸気
を約１５°の傾斜でさしむけるように装置をセットし
て、コバルト８０重量パーセント、ニッケル２０重量パ
ーセントの合金を磁性材料として用い、酸素分圧３×１
０-5Ｔorrで真空蒸着法により２０００オングストロー
ムの厚さの磁性薄膜を形成したものの特性を示してい
る。図２の横軸はテープ面内方位を示し、テープの長手
方向を０゜としている。残留磁化（ｂ）及び保持力
（ｃ）はＶＳＭで試料角度を変えながら測定した。ま
た、出力（ａ）は幅広の磁性薄膜付き基材から1/2イン
チ幅で種々の方向に短尺試料を切り出して、ヘッドギャ
ップ長０．２ミクロンでアジマス角０°のセンダストヘ
ッドで記録波長０．５ミクロンの記録再生出力を上記短
尺試料の長手方向に測定したものであり、実際のＶＴＲ
やＤＡＴにおけるトラック傾斜角及びアジマス角依存性
と等価な測定方法である。実際のＶＴＲやＤＡＴでのア
ジマス角特性はこの測定値以外にヘッド走行方向とヘッ
ドギャプが直角でないことによる補正を加える必要があ
るがこれはアジマス角が＋２０゜と−２０°では同じ補
正量であるので説明からは省いている。
１の装置により成膜された薄膜磁気テープの磁気特性及
び出力のテープ面内の異方性を測定したデータのグラフ
である。非磁性基材５として１０ミクロン厚のポリエチ
レンテレフタレートを用い、傾斜角が１５°の円錐台状
冷却キャン４を用い非磁性基材５の長手方向に対し蒸気
を約１５°の傾斜でさしむけるように装置をセットし
て、コバルト８０重量パーセント、ニッケル２０重量パ
ーセントの合金を磁性材料として用い、酸素分圧３×１
０-5Ｔorrで真空蒸着法により２０００オングストロー
ムの厚さの磁性薄膜を形成したものの特性を示してい
る。図２の横軸はテープ面内方位を示し、テープの長手
方向を０゜としている。残留磁化（ｂ）及び保持力
（ｃ）はＶＳＭで試料角度を変えながら測定した。ま
た、出力（ａ）は幅広の磁性薄膜付き基材から1/2イン
チ幅で種々の方向に短尺試料を切り出して、ヘッドギャ
ップ長０．２ミクロンでアジマス角０°のセンダストヘ
ッドで記録波長０．５ミクロンの記録再生出力を上記短
尺試料の長手方向に測定したものであり、実際のＶＴＲ
やＤＡＴにおけるトラック傾斜角及びアジマス角依存性
と等価な測定方法である。実際のＶＴＲやＤＡＴでのア
ジマス角特性はこの測定値以外にヘッド走行方向とヘッ
ドギャプが直角でないことによる補正を加える必要があ
るがこれはアジマス角が＋２０゜と−２０°では同じ補
正量であるので説明からは省いている。
【００１４】図２から理解されるように本実施例の薄膜
磁気テープの磁気特性は＋１５゜付近が磁化容易方向と
なっており、残留磁化、保持力ともに＋１５°付近で最
大値をとり、出力も同様である。尚、出力については＋
１５゜の値を０ｄＢとして相対値で示している。
磁気テープの磁気特性は＋１５゜付近が磁化容易方向と
なっており、残留磁化、保持力ともに＋１５°付近で最
大値をとり、出力も同様である。尚、出力については＋
１５゜の値を０ｄＢとして相対値で示している。
【００１５】このテープを用いた場合は前述の使用例に
よればトラック傾斜角が＋１５°でアジマス角が±２０
°のとき記録方向が＋３５°と−５°になるので図２の
出力特性の示すように＋３５°と−５°の出力はほぼ同
じ値であり、しかも最大出力に比べ約１ｄＢしか低くな
い。
よればトラック傾斜角が＋１５°でアジマス角が±２０
°のとき記録方向が＋３５°と−５°になるので図２の
出力特性の示すように＋３５°と−５°の出力はほぼ同
じ値であり、しかも最大出力に比べ約１ｄＢしか低くな
い。
【００１６】同様な成膜を、従来からある水平な円筒冷
却キャンを用い蒸気が長手方向に差し向けられる従来の
方法で行った場合は、図示を略すが、図２の特性とカー
ブはほとんど同じで、残留磁化、保持力、出力の最大値
が０゜付近にシフトするだけである。しかしこの場合は
＋３５°で−４．５ｄＢ、−５゜で−０．２ｄＢとな
り、差が４ｄＢ以上になり＋３５°方向では出力が低す
ぎてしまう。
却キャンを用い蒸気が長手方向に差し向けられる従来の
方法で行った場合は、図示を略すが、図２の特性とカー
ブはほとんど同じで、残留磁化、保持力、出力の最大値
が０゜付近にシフトするだけである。しかしこの場合は
＋３５°で−４．５ｄＢ、−５゜で−０．２ｄＢとな
り、差が４ｄＢ以上になり＋３５°方向では出力が低す
ぎてしまう。
【００１７】次に本発明の他の実施例を図面を参照して
説明する。
説明する。
【００１８】図３は本発明の薄膜磁気テープの製造装置
の他の実施例を示す。図３に於いて真空槽１、真空ポン
プ２、酸素等を導入するガス導入口３は図１の実施例と
同様である。また、１４は、水平方向に対して傾斜させ
た円筒状の冷却キャンであり、これに非磁性基材５を沿
わせて連続的に搬送させる。巻出軸６、巻取軸７、円筒
状ローラ１８、１９であり、これらを冷却キャン１４と
同様に傾斜して設置する事により非磁性基材５を磁性材
料の蒸気に対してある傾きをもって搬送させることがで
きる。また磁性材料の蒸発源１０は、通常マグネシア等
のルツボ又は水冷銅ハースで電子ビームが照射されコバ
ルト等の磁性材料を蒸発させ、非磁性基材５の上に磁性
薄膜を形成する。図１の製造装置との違いは、搬送系
（冷却キャン１４、ローラ１８、１９、巻出軸６、巻取
軸７）が一定の傾斜なので装置の製作が極めて容易であ
る反面、円筒状冷却キャン１４の底位置が蒸発源１０に
対し傾斜しているため幅方向で膜厚・磁気特性の均一性
がこのままでは得られないという不都合を有する。そこ
で、電子ビーム蒸着の場合は電子ビームのスキャン速度
を、蒸発源１０と冷却キャン１４が遠い位置では遅くし
て、その部分での蒸発速度を速くすることで、ある程度
の均一性を得ることができる。図３の製造装置の場合も
図１の製造装置と同様に、磁性材料の蒸気は非磁性基材
５の長手方向に対して斜めに飛来して磁性薄膜が形成さ
れるので、成膜された非磁性基材５をスリッタ・マシン
で所定のテープ幅にスリットした場合、テープの長手方
向に対し磁気異方性が傾斜し、磁化容易方向が斜めにな
った薄膜磁気テープが得られる。
の他の実施例を示す。図３に於いて真空槽１、真空ポン
プ２、酸素等を導入するガス導入口３は図１の実施例と
同様である。また、１４は、水平方向に対して傾斜させ
た円筒状の冷却キャンであり、これに非磁性基材５を沿
わせて連続的に搬送させる。巻出軸６、巻取軸７、円筒
状ローラ１８、１９であり、これらを冷却キャン１４と
同様に傾斜して設置する事により非磁性基材５を磁性材
料の蒸気に対してある傾きをもって搬送させることがで
きる。また磁性材料の蒸発源１０は、通常マグネシア等
のルツボ又は水冷銅ハースで電子ビームが照射されコバ
ルト等の磁性材料を蒸発させ、非磁性基材５の上に磁性
薄膜を形成する。図１の製造装置との違いは、搬送系
（冷却キャン１４、ローラ１８、１９、巻出軸６、巻取
軸７）が一定の傾斜なので装置の製作が極めて容易であ
る反面、円筒状冷却キャン１４の底位置が蒸発源１０に
対し傾斜しているため幅方向で膜厚・磁気特性の均一性
がこのままでは得られないという不都合を有する。そこ
で、電子ビーム蒸着の場合は電子ビームのスキャン速度
を、蒸発源１０と冷却キャン１４が遠い位置では遅くし
て、その部分での蒸発速度を速くすることで、ある程度
の均一性を得ることができる。図３の製造装置の場合も
図１の製造装置と同様に、磁性材料の蒸気は非磁性基材
５の長手方向に対して斜めに飛来して磁性薄膜が形成さ
れるので、成膜された非磁性基材５をスリッタ・マシン
で所定のテープ幅にスリットした場合、テープの長手方
向に対し磁気異方性が傾斜し、磁化容易方向が斜めにな
った薄膜磁気テープが得られる。
【００１９】なお、上記実施例では蒸着方法によって磁
性膜を形成させたが、その他イオンビームスパッタリン
グ等の方法も可能である。
性膜を形成させたが、その他イオンビームスパッタリン
グ等の方法も可能である。
【００２０】また、円錐台形状の冷却キャンの配置を底
面を水平とするのではなく、軸を水平とするようにして
もよい。
面を水平とするのではなく、軸を水平とするようにして
もよい。
【００２１】尚、磁性材料及び成膜手段としては原子や
イオンの飛来方向に依存して異方性が制御可能なもので
あれば全て適用可能である。材料としてはコバルトを主
成分とする合金プラス酸素が代表例であり、最も高い性
能が得られているが、鉄プラス酸素、鉄プラス窒素等で
も同様の効果が得られる。また、電子ビーム加熱による
真空蒸着法が最も成膜速度が高いが、イオンプレーティ
ング、スパッタリング、クラスタイオンビーム蒸着法、
イオンビームスパッタリング等の成膜手段に於いても本
発明の効果を得ることはもちろん可能である。
イオンの飛来方向に依存して異方性が制御可能なもので
あれば全て適用可能である。材料としてはコバルトを主
成分とする合金プラス酸素が代表例であり、最も高い性
能が得られているが、鉄プラス酸素、鉄プラス窒素等で
も同様の効果が得られる。また、電子ビーム加熱による
真空蒸着法が最も成膜速度が高いが、イオンプレーティ
ング、スパッタリング、クラスタイオンビーム蒸着法、
イオンビームスパッタリング等の成膜手段に於いても本
発明の効果を得ることはもちろん可能である。
【００２２】
【発明の効果】以上で述べたように、本発明の薄膜磁気
テープは、トラック傾斜角が大きく、アジマス角の大き
いヘリカル磁気記録装置に於いてテープの磁気異方性に
よる出力の低下及び異なるアジマスのヘッド出力差とを
大幅に低減するものであり、その製造方法、製造装置と
もこのテープを安定・安価に生産し得るものであるから
磁気記録装置の小形化、高密度化に大いに貢献しうるも
のである。
テープは、トラック傾斜角が大きく、アジマス角の大き
いヘリカル磁気記録装置に於いてテープの磁気異方性に
よる出力の低下及び異なるアジマスのヘッド出力差とを
大幅に低減するものであり、その製造方法、製造装置と
もこのテープを安定・安価に生産し得るものであるから
磁気記録装置の小形化、高密度化に大いに貢献しうるも
のである。
【図１】本発明の薄膜磁気テープの製造装置の一実施例
の概要を示す斜視図である。
の概要を示す斜視図である。
【図２】本発明の薄膜磁気テープの一実施例の磁気特性
及び出力の方向依存性を示す特性データのグラフであ
る。
及び出力の方向依存性を示す特性データのグラフであ
る。
【図３】本発明の薄膜磁気テープの製造装置の他の実施
例概要を示す斜視図である。
例概要を示す斜視図である。
１・・・真空槽
２・・・真空ポンプ
３・・・ガス導入口
４（図１）・・・円錐台状冷却キャン
５・・・非磁性基材、
６・・・巻出軸
７・・・巻取軸
８（図１）・・・たいこ状ローラ
９（図１）・・・たいこ状ローラ
１０・・・蒸発源、
１１・・・しゃへい板
１４（図３）・・・傾斜させた円筒状冷却キャン
１８（図３）・・・円筒状ローラ
１９（図３）・・・円筒状ローラ
Claims (6)
- 【請求項１】 非磁性基材に磁性薄膜が形成された薄膜
磁気テープに於いて、前記磁性薄膜が斜方磁気異方性を
有することを特徴とする薄膜磁気テープ。 - 【請求項２】 ヘリカル記録の実質上記録トラック方向
に磁化容易方向を有することを特徴とする請求項１記載
の薄膜磁気テープ。 - 【請求項３】 真空中で、円錐台状の冷却キャンに非磁
性基材を沿わせて連続的に搬送させつつ、磁性材料の原
子又はイオンを前記非磁性基材に飛ばすことを特徴とす
る薄膜磁気テープの製造方法。 - 【請求項４】 真空中で、水平方向に対して傾斜させた
円筒状の冷却キャンに非磁性基材を沿わせて連続的に搬
送させつつ、磁性材料の原子又はイオンを前記非磁性基
材に飛ばすことを特徴とする薄膜磁気テープの製造方
法。 - 【請求項５】 真空槽内に円錐台状の冷却キャンと、こ
のキャンに非磁性基材を沿わせて連続的に搬送させる機
構と、前記冷却キャンに対向して設けられ、磁性材料の
原子又はイオンを生成する機構とを備えたことを特徴と
する薄膜磁気テープの製造装置。 - 【請求項６】 真空槽内に、水平方向に対して傾斜させ
た円筒状の冷却キャンと、このキャンに非磁性基材を沿
わせて連続的に搬送させる機構と、前記冷却キャンに対
向して設けられ、磁性材料の原子又はイオンを生成する
機構とを備えたことを特徴とする薄膜磁気テープの製造
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26607091A JPH0512657A (ja) | 1990-10-19 | 1991-10-15 | 薄膜磁気テープ、その製造方法および製造装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-282125 | 1990-10-19 | ||
| JP28212590 | 1990-10-19 | ||
| JP26607091A JPH0512657A (ja) | 1990-10-19 | 1991-10-15 | 薄膜磁気テープ、その製造方法および製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0512657A true JPH0512657A (ja) | 1993-01-22 |
Family
ID=26547291
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26607091A Pending JPH0512657A (ja) | 1990-10-19 | 1991-10-15 | 薄膜磁気テープ、その製造方法および製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0512657A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001303249A (ja) * | 2000-04-19 | 2001-10-31 | Hirano Koon Kk | 帯状シート材の表面処理装置 |
-
1991
- 1991-10-15 JP JP26607091A patent/JPH0512657A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001303249A (ja) * | 2000-04-19 | 2001-10-31 | Hirano Koon Kk | 帯状シート材の表面処理装置 |
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