JPH0954946A - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 全面に亘って再生出力の振幅が大きな磁気デ
ィスクを製造する方法を提供する。 【解決手段】 所望の凹凸パターンを有するディスク基
板７に磁性層８を被着させ、該ディスク基板７を回転さ
せ、この上に浮上させた磁気ヘッド１１に充分大きな直
流電流を印加して磁性層８における凸部９と凹部１０と
を一括して同一方向に磁化させた後、上述の直流電流よ
りも小さい直流電流を磁気ヘッド１１に印加して凸部９
の磁性層８の磁化のみを反転させるに際して、該磁性層
８に印加される磁界がディスク基板７の半径方向で略均
一化されるごとく、磁気ヘッド１１に印加する直流電流
の大きさおよび／またはディスク基板７の回転数を、該
ディスク基板７の半径方向で異ならせる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録領域に凹
凸が形成されてなる磁気ディスクの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気ヘッドによって情報信号の書き込み
／読み出しがなされる磁気ディスクにおいて、記録容量
の増大を図るためには、トラックピッチを狭めることが
必要である。そして、このようなトラックピッチが狭い
磁気ディスクに対して正確に書き込み／読み出しを行う
には、磁気ヘッドを記録トラックに正確に追従させるこ
と、即ち、精度よくトラッキングを行うことが重要とな
る。

【０００３】磁気ヘッドを記録トラックに追従させるた
めには、磁気ディスクに予め書き込まれた位置決め信号
を読み出し、この位置決め信号に応じてヘッドアクチュ
エーターを制御して、磁気ヘッドを記録トラックの中央
に位置させるようにすればよい。現在では、種々のトラ
ッキングサーボ方式が開発されている。

【０００４】ところで、上述した位置決め信号を磁気デ
ィスクに書き込む方法としては、特開平３−２２８２１
９号公報に開示されるように、位置決め信号に対応させ
てディスク基板の表面に凹凸を形成しておき、このディ
スク基板表面に磁性層を形成した後、凹部の磁性層と凸
部の磁性層とを逆向きに磁化する方法が提案されてい
る。この場合、凹部と凸部の境界である磁化反転部から
発生する漏洩磁束が位置決め信号となる。このような磁
気ディスクにおいては、高トラックピッチのトラッキン
グ動作や高い対雑音比が実現された書き込み／読み出し
が可能となる。

【０００５】ここで、凹部の磁性層と凸部の磁性層とを
逆向きに磁化する方法としては、特開平６−６８４４４
号公報に開示されるような、２段階着磁法が提案されて
いる。この２段階着磁法とは、磁気ディスクを回転させ
ておき、第１段階において、十分に大きい直流電流を印
加しながら磁気ヘッドを磁気ディスクの半径方向に移動
させることにより、凹部および凸部の磁性層を同一方向
に磁化した後、第２段階において、第１段階で印加した
直流電流よりも小さな直流電流を印加しながら磁気ヘッ
ドを移動させることにより、凸部の磁性層の磁化方向の
みを反転させるものである。

【０００６】上述したような凹凸パターンを有する磁気
ディスクにおいては、位置決め信号に対応させた凹凸パ
ターンを形成すると同時に、読み出し専用の情報信号に
対応させた凹凸パターンを形成することも可能であるた
め、上述したような着磁法によって、所望の情報信号を
一括して書き込むことができる。

【０００７】したがって、この方法を適用すれば、大容
量の読み出し専用の磁気ディスクを安価に提供すること
が可能となる。また、このような磁気ディスクの再生に
用いる磁気ヘッドは、読み出し専用の光ディスクの再生
に用いる光学ピックアップに比して、小型で軽く、さら
には、応答性も速い。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
にして２段階着磁法によって着磁がなされた磁気ディス
クにおいては、１９９４年電子情報通信学会春期大会講
演ＳＣ−３−５にて、再生出力の振幅が第２段階の着磁
において磁気ヘッドに印加された直流電流の大きさに依
存することが報告されている。

【０００９】また、第２段階の着磁において磁気ヘッド
により磁性層に印加される磁界の大きさは、磁気ヘッド
に印加された直流電流の大きさに依存することも知られ
ている。これは、磁気ヘッドにより磁性層に印加される
磁界をＨ_X とし、磁気ヘッドのギャップ中の磁界をＨ_g
とすると、Ｈ_X およびＨ_g は下記の式１（Ｋａｒｌｑｖ
ｉｓｔの式）および式２にて示されることから導き出せ
る。

【００１０】 Ｈ_X ＝ Ｈ_g ／π × ａｒｃｔａｎ（ｇ／２ｄ） ・・・（１） Ｈ_g ＝ ηｎｉ／ｇ ・・・（２） ここで、ｇはギャップ長、ｄは磁性層とギャップとの距
離を示し、ηはヘッド効率、ｎはコイルの巻数、ｉは印
加電流を示す。

【００１１】そして、上述の式１に式２を代入すると、
磁気ヘッドにより磁性層に印加される磁界Ｈ_X は、下記
の式３にて示される。

【００１２】 Ｈ_X ＝ ηｎｉ／πｇ × ａｒｃｔａｎ（ｇ／２ｄ） ・・・（３） この式（３）より、磁気ヘッドのギャップ長ｇ、磁性層
とギャップとの距離ｄ、コイルの巻数ｎを一定とした場
合には、磁気ヘッドに印加する電流ｉの大きさを変化さ
せることにより、磁性層に印加される磁界の大きさＨ_X
を変化させることができることがわかる。

【００１３】以上の事柄を併せて考えると、２段階着磁
法における第２段階の着磁を行うに際して磁性層に印加
する磁界Ｈ_X の大きさと、得られた磁気ディスクの再生
出力の振幅とには相関関係があり、磁界Ｈ_X の大きさを
磁気ディスクの全面に亘って最適化しておけば、常に最
大の再生出力の振幅が得られるようになることがわか
る。

【００１４】即ち、磁気ヘッドのギャップ長ｇ、磁性層
とギャップとの距離ｄ、コイルの巻数ｎが一定であれ
ば、磁気ヘッドに印加する電流ｉの大きさを、所望の磁
界Ｈ_Xを与えるように最適化して、第２段階の着磁を行
うことにより、再生時には常に最大の再生出力の振幅を
示す磁気ディスクが得られる。

【００１５】しかしながら、実際には、第２段階の着磁
を行っている間、磁性層とギャップとの距離ｄは、一定
の値が保たれていない。これは、図９に示されるよう
に、磁気ヘッドの浮上量は磁気ヘッドと磁気ディスクと
の相対速度に依存するのに対し、一定の回転数にて回転
する磁気ディスク上では、半径方向の位置によって磁気
ディスクの線速度が異なる、即ち、磁気ヘッドと磁気デ
ィスクとの相対速度が異なってしまうためである。

【００１６】そして、磁性層とギャップとの距離ｄが変
化すると、磁気ヘッドに印加する電流ｉの大きさを一定
としても、磁性層に印加される磁界Ｈ_X が変動してしま
うこととなる。

【００１７】即ち、磁気ディスクを一定の回転数にて回
転させ、磁気ヘッドを浮上させた状態にて、第２段階の
着磁を行うに際しては、磁気ディスクのある半径位置の
磁性層に印加される磁界Ｈ_X を最適化できる電流ｉを磁
気ヘッドに印加しても、異なる半径位置の磁性層に印加
される磁界Ｈ_X は所望の値からずれてしまう。そして、
このように半径方向で磁性層に印加された磁界Ｈ_X が異
なる磁気ディスクから情報信号を読み出すと、半径方向
で再生出力の振幅が変動してしまうこととなる。

【００１８】そこで本発明は、かかる従来の実情に鑑み
て提案されたものであり、全面に亘って再生出力の振幅
が大きな磁気ディスクを製造する方法を提供することを
目的とする。

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気ディス
クの製造方法は上述の目的を達成するために提案された
ものであって、２段階着磁法によって磁性層に対する着
磁を行う際、第２段階の着磁を適切に行うことによっ
て、磁性層に印加される磁界Ｈ_X の大きさを半径方向で
均一化しようとするものである。

【００２０】即ち、本発明は、情報信号に対応させて設
けられた凹凸パターンを有するディスク基板に磁性層を
被着させる工程と、ディスク基板を回転させ、この上に
浮上させた磁気ヘッドに充分大きな直流電流を印加しな
がら、該磁気ヘッドをディスク基板の半径方向に移動さ
せることにより、凹部の磁性層と凸部の磁性層とを一括
して同一方向に磁化させる工程と、この直流電流よりも
小さな直流電流を印加しながら、磁気ヘッドをディスク
基板の半径方向に移動させることにより、凸部の磁性層
の磁化のみを反転させる工程とを有し、凸部の磁性層の
磁化のみを反転させるに際して、該磁性層に印加される
磁界がディスク基板の半径方向で略均一化されるごと
く、磁気ヘッドに印加する直流電流の大きさおよび／ま
たはディスク基板の回転数を、該ディスク基板の半径方
向で異ならせるものである。

【００２１】磁気ヘッドにより磁性層に印加される磁界
Ｈ_X は、前述したとおり、式３にて示される。

【００２２】 Ｈ_X ＝ ηｎｉ／πｇ × ａｒｃｔａｎ（ｇ／２ｄ） ・・・（３） ここで、ｇはギャップ長、ｄは磁性層とギャップとの距
離、ηはヘッド効率、ｎはコイルの巻数、ｉは印加電流
を示す。

【００２３】この式３よりわかるように、同一の磁気ヘ
ッドにて着磁を行う場合、一定の回転数にてディスク基
板を回転させて磁気ヘッドを浮上させると、この磁気ヘ
ッドの浮上量が半径方向で異なってくるため、磁性層と
ギャップとの距離ｄが半径方向で異なり、磁性層に印加
される磁界Ｈ_X は、外周側ほど小さくなる。そこで、本
発明では、磁性層に印加される磁界Ｈ_X の大きさを半径
方向で略均一化するために、磁気ヘッドに印加する直流
電流ｉの大きさおよび／またはディスク基板の回転数
を、該ディスク基板の半径方向で異ならせるようにし
た。

【００２４】具体的には、磁気ヘッドに印加する直流電
流ｉは、外周側ほど大きくすればよく、ディスク基板の
回転数は、磁気ヘッドの浮上量が半径方向で略均一化す
るごとく、磁気ヘッドが外周側にあるときほど小さくす
ればよい。

【００２５】なお、磁気ヘッドに印加する直流電流ｉの
大きさや、ディスク基板の回転数は、磁気ヘッドをディ
スク基板の最内周側から最外周側へ移動させるのと同期
させて、連続的に変化させてもよいが、該ディスク基板
を同心円状に複数の領域に分割し、この領域ごとに設定
されてもよい。

【００２６】ところで、ディスク基板に設けられる凹凸
パターンの少なくとも一部は、位置決め信号に対応する
ものであって好適である。また、記録トラックとガード
バンドとに対応させて凹凸パターンを形成してもよい
が、読み出し専用の磁気ディスクを製造するならば、所
定の情報信号に対応させて凹凸パターンを形成してもよ
い。

【００２７】なお、本発明によって製造される磁気ディ
スクは、磁気ヘッドを浮上／着陸させるためのコンタク
ト・スタート・ストップ領域（ＣＳＳ領域）を有してい
るものであって好適である。

【００２８】ここで、上述のディスク基板は、樹脂が射
出成形されたものであってもよいし、ガラス基板であっ
てもよい。そして、このディスク基板に凹凸パターンを
形成するには、前者の場合、射出成形する際に金型内に
固定されたスタンパによりプリフォームすればよい。後
者の場合、フォトリソグラフィを適用してエッチングに
より形成すればよい。なお、射出成形により形成される
凹凸パターンは、上記スタンパがマスタリング技術によ
り非常に高精度に加工されるものであるため、非常に位
置精度が高いものとなる。また、エッチングにより形成
される凹凸パターンも、フォトリソグラフィが非常に微
細な加工を実現できる技術であるため、位置精度に優れ
たものとなる。

【００２９】なお、ディスク基板を樹脂より構成する場
合、この樹脂としてはポリカーボネート系樹脂が代表的
であるが、従来公知の材料がいずれも使用でき、吸湿性
が低く、耐熱性に優れた熱可塑性ノルボルネン系樹脂も
適用可能である。

【００３０】また、上記ディスク基板は、磁気ディスク
の共振周波数をサーボ帯域以上に高めるため、かつ限ら
れた記録／再生装置内に必要数を収容するために、０．
３〜２ｍｍなる厚さとされて好適である。

【００３１】ところで、本発明を適用して製造される磁
気ディスクは、ディスク基板上に磁性層の他に下地層、
保護膜、潤滑剤塗布層が設けられたものであってもよ
い。下地層、磁性層、保護膜、潤滑剤塗布層を構成する
材料および形成方法は従来公知の方法がいずれも使用可
能であり、特に限定されないが、下地層としては、Ｃ
ｒ，Ｍｏ等の金属膜、磁性層としては、ＣｏＰｔ，Ｃｏ
Ｐｄ，ＣｏＣｒＰｔ等の金属磁性薄膜、保護膜として
は、Ｃ、ＳｉＯ₂ 等よりなる薄膜を、それぞれスパッタ
リング法等により形成する方法が代表的である。また、
潤滑剤塗布層としては、従来公知の潤滑剤をスピンコー
ト法等の手法にて塗布形成すればよい。

【００３２】また、磁性層に対して第１段階の着磁を行
うに際しては、直流電流を印加した磁気ヘッドの変わり
に、永久磁石を用いてもよい。

【００３３】本発明を適用して磁気ディスクを製造する
と、磁性層に印加される磁界Ｈ_X の大きさを半径方向で
略均一化することが可能となるため、全面に亘って再生
出力の振幅が大きな磁気ディスクを提供できる。

【００３４】

【実施例】以下に、本発明を適用した具体的な実施例に
ついて、図面を参照しながら詳細に説明する。

【００３５】実施例１ 本実施例に係る磁気ディスクの製造方法は、磁性層に印
加される磁界Ｈ_X の大きさを半径方向で略均一化するた
めに、２段階着磁法における第２段階の着磁を行うに際
して、磁気ヘッドに印加する直流電流ｉをディスク基板
の外周側ほど大きくするものである。

【００３６】ここでは、先ず、製造された磁気ディスク
の構成について、図１を用いて説明する。

【００３７】この磁気ディスク１は、外径６５ｍｍ、内
径２０ｍｍ、厚み０．９ｍｍのディスク基板上に、厚さ
１００ｎｍのＣｒ膜よりなる下地層、厚さ２０ｎｍのＣ
ｏＰｔ膜よりなる磁性層、厚さ１０ｎｍのカーボン膜よ
りなる保護層が順次被着形成されたものである。また、
この磁気ディスク１は、最内周側に位置するクランピン
グ領域３、最外周側に位置するランディング領域４、こ
れらの間に挟まれたフォーマット領域２より構成されて
いる。なお、図示しないが、フォーマット領域２の内側
には、磁気ヘッドを搭載したスライダーの浮上／着陸が
なされるＣＳＳ領域が設けられている。

【００３８】フォーマット領域２は、磁気ディスク１の
中心から１５．０ｍｍ〜３０．０ｍｍなる領域に設けら
れ、所望の情報信号が書き込まれたデータ領域５と、該
データ領域５を分割するごとく、磁気ディスク１の中心
から放射線状に等角度間隔に設けられ、磁気ヘッドを所
望アドレス内の記録トラックにトラッキングするための
位置決め信号が書き込まれたサーボ領域６とからなる。
なお、図１は、磁気ディスク１を簡略化して示してある
ため、サーボ領域６の数が実際より少なくなっている。

【００３９】データ領域５、サーボ領域６には、所望の
情報信号、位置決め信号に対応させて、磁気ディスク１
の半径方向の幅が５μｍ程度、磁気ディスク１の周方向
の長さが０．７〜２．９μｍ程度の略矩形の凸部が形成
されている。また、この凸部に設けられた磁性層と凹部
に設けられた磁性層とでは磁化方向とが逆となるように
着磁されている。即ち、凹部と凸部の境界である磁化反
転部から発生する漏洩磁束によって、所望の情報信号や
位置決め信号が表現されている。

【００４０】そして、通常の方法によって着磁された磁
気ディスクにおいては、磁性層に印加された磁界Ｈ_X の
大きさが外周側ほど小さくなっているのに対し、この磁
気ディスクにおいては、磁性層に印加された磁界Ｈ_X の
大きさが半径方向で略均一化されている。

【００４１】具体的には、フォーマット領域２は、磁気
ディスク１の中心からの距離が１５．０ｍｍ〜１９．０
ｍｍなる領域（第１の領域）、１９．０ｍｍ〜２４．０
ｍｍなる領域（第２の領域）、２４．０ｍｍ〜２８．５
ｍｍなる領域（第３の領域）、２８．５ｍｍ〜３０．０
ｍｍなる領域（第４の領域）に分けられており、いずれ
の領域においても、磁性層に印加された磁界Ｈ_X が１１
８±６ｋＡ／ｍとなされている。

【００４２】以上のような構成を有する磁気ディスク１
を製造するには、先ず、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、
厚み０．９ｍｍのガラスよりなるディスク基板を用意
し、このフォーマット領域２（中心からの距離が１５．
０ｍｍ〜３０．０ｍｍなる領域）に対して、フォトリソ
グラフィおよび反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）によ
って、所望の情報信号と位置決め信号とに対応させた凹
凸パターンを形成した。

【００４３】そして、この上に、スパッタリング法によ
って、厚さ１００ｎｍのＣｒ膜よりなる下地層、厚さ２
０ｎｍのＣｏＰｔ膜よりなる磁性層、厚さ１０ｎｍのカ
ーボン膜よりなる保護層を順次被着形成した。

【００４４】さらに、フォーマット領域２への着磁は、
図２および図３に示されるように、２段階着磁法によっ
て、磁気ギャップ１２の大きさｇが０．２６μｍ、トラ
ック幅が６．５μｍ、コイルの巻数が３４、ヘッド効率
が０．６の磁気ヘッド１１を用いて、ディスク基板７上
の磁性層８における凸部９と凹部１０とを異なる方向に
磁化した。

【００４５】即ち、図２に示されるように、第１段階に
おいて、ａ方向に回転するディスク基板７上に磁気ヘッ
ド１１を浮上させ、該磁気ヘッド１１に充分大きな直流
電流を印加することによって、磁性層８の凸部９と凹部
１０とを同一方向に磁化した。なお、磁気ヘッド１１を
ディスク基板７の半径方向に移動させることにより、磁
性層８全面に対する着磁を行った。その後、図３に示さ
れるように、第２段階において、第１段階の直流電流よ
りも小さな直流電流を用いて、磁性層８における凸部９
の磁化方向のみを反転させた。

【００４６】但し、本実施例においては、第２段階に
て、磁性層８における凸部９の磁化方向のみを反転させ
るに際し、磁気ヘッド１１に印加する直流電流の大きさ
を半径方向で異ならせた。

【００４７】具体的には、フォーマット領域２を、中心
からの距離が１５．０ｍｍ〜１９．０ｍｍなる領域（第
１の領域）、１９．０ｍｍ〜２４．０ｍｍなる領域（第
２の領域）、２４．０ｍｍ〜２８．５ｍｍなる領域（第
３の領域）、２８．５ｍｍ〜３０．０ｍｍなる領域（第
４の領域）に分け、ディスク基板７を３６００ｒｐｍに
て回転させながら、第１の領域上では磁気ヘッド１１に
５．０ｍＡの直流電流を印加し、第２の領域上では磁気
ヘッド１１に５．５ｍＡの直流電流を印加し、第３の領
域上では磁気ヘッド１１に６．０ｍＡの直流電流を印加
し、第４の領域上では磁気ヘッド１１に６．５ｍＡの直
流電流を印加した。

【００４８】これにより、第１の領域〜第４の領域の各
磁性層８に印加された磁界Ｈ_X は、図４の実線に示され
るように、それぞれ１１８±６ｋＡ／ｍ〜１３５ｋＡ／
ｍの範囲内でのみ変化するようになる。

【００４９】ここで、上述したようにフォーマット領域
２を分割し、第２段階の着磁に際して磁気ヘッド１１に
印加する直流電流をそれぞれ上述したような値に設定し
た経緯について説明する。

【００５０】先ず、磁気ディスク１が優れた再生出力特
性を発揮するものとなるように、第２段階の着磁によっ
て印加される磁界Ｈ_X の最適値を調べた。具体的には、
第２段階の着磁を行うに際して、磁気ヘッド１１に印加
する直流電流の大きさを４ｍＡ〜１０ｍＡの範囲で種々
に変化させ、その後、同一の磁気ヘッド１１を用いてこ
の磁気ディスク１の再生を行い、再生出力の振幅を測定
した。但し、この測定は、磁気ディスク１と磁気ヘッド
１１との相対速度が８ｍ／秒のときに着磁がなされた領
域について、同じく相対速度を８ｍ／秒として再生する
ことによって行った。

【００５１】この結果を、磁気ヘッド１１に印加する直
流電流の大きさと再生出力の振幅の関係として図５に示
す。なお、図５において、磁気ヘッド１１に印加する直
流電流の大きさを示す横軸の下には、この直流電流によ
って磁性層８に印加される磁界Ｈ_X の値を併せて示す。

【００５２】図５より、磁気ヘッド１１に印加する直流
電流を大きくするほど再生出力の振幅が増大するが、
５．５ｍＡより大きくすると、かえって再生出力の振幅
が低減してしまうことがわかる。このため、最も再生出
力の振幅を大きくするには、磁気ヘッド１１に印加する
直流電流を５．５ｍＡ前後として好適であり、磁性層８
に印加される磁界Ｈ_X が、１１８ｋＡ／ｍ前後となるよ
うにして好適であることがわかる。

【００５３】一方、第２段階の着磁を行うに際して、デ
ィスク基板７を一定の回転数３６００ｒｐｍにて回転さ
せ、磁気ヘッド１１に印加する直流電流を５．０ｍＡ、
５．５ｍＡ、６．０ｍＡ、６．５ｍＡとしたとき、中心
からの距離と磁性層８に印加される磁界Ｈ_X の大きさと
の関係を調べると、図６のようになる。

【００５４】即ち、磁気ヘッド１１に印加する直流電流
が大きいほど、磁性層８に大きな磁界Ｈ_X を印加できる
が、いずれの大きさの直流電流を印加しても、外周側ほ
ど磁界Ｈ_X が小さくなる。

【００５５】これらの結果を考え併せると、磁気ヘッド
１１に印加する直流電流の大きさを適宜選択することに
よって、内周側から外周側のいずれの位置の磁性層８に
も１１８ｋＡ／ｍ前後の磁界Ｈ_X を印加できるようにな
り、これにより、全面に亘って再生出力の振幅が大きな
磁気ディスク１を得ることができるようになることがわ
かる。

【００５６】以上のような経緯により、本実施例におい
ては、フォーマット領域２を分割し、第２段階の着磁に
際して磁気ヘッド１１に印加する直流電流を、前述しよ
うに外側の領域ほど大きな値にしたのである。

【００５７】実施例２ 本実施例に係る磁気ディスクの製造方法は、磁性層に印
加される磁界Ｈ_X の大きさを半径方向で均一化するため
に、２段階着磁法における第２段階の着磁を行うに際し
て、磁気ヘッドと磁気ディスクとの相対速度を略均一化
する、即ち、磁気ヘッドを外周側に位置させるときほ
ど、磁気ディスクの回転数を小さくするものである。

【００５８】本実施例の製造方法にて製造された磁気デ
ィスクにおいては、フォーマット領域２が、磁気ディス
ク１の中心からの距離が１５．０ｍｍ〜１９．０ｍｍな
る領域（第１の領域）、１９．０ｍｍ〜２３．５ｍｍな
る領域（第２の領域）、２３．５ｍｍ〜２８．５ｍｍな
る領域（第３の領域）、２８．５ｍｍ〜３０．０ｍｍな
る領域（第４の領域）に分けられており、いずれの領域
においても、磁性層に印加された磁界Ｈ_X が１１８±６
ｋＡ／ｍとなされている。

【００５９】以上のような構成を有する磁気ディスク１
を製造するには、先ず、実施例１と同様にして、ディス
ク基板に凹凸パターンを形成し、下地層、磁性層、保護
層を被着形成した。また、フォーマット領域２への着磁
も、第１段階の着磁までは、実施例１と同様にして行っ
た。

【００６０】そして、第２段階にて、磁性層８における
凸部９の磁化方向のみを反転させるに際し、磁気ヘッド
を外周側に位置させるときほど、ディスク基板７の回転
数を小さくした。

【００６１】具体的には、フォーマット領域２を、中心
からの距離が１５．０ｍｍ〜１９．０ｍｍなる領域（第
１の領域）、１９．０ｍｍ〜２３．５ｍｍなる領域（第
２の領域）、２３．５ｍｍ〜２８．５ｍｍなる領域（第
３の領域）、２８．５ｍｍ〜３０．０ｍｍなる領域（第
４の領域）に分け、磁気ヘッド１１に印加する直流電流
を５．５ｍＡとし、磁気ヘッド１１を第１の領域上に位
置させるときには４２００ｒｐｍ、磁気ヘッド１１を第
２の領域上に位置させるときには３６００ｒｐｍ、磁気
ヘッド１１を第３の領域上に位置させるときには３００
０ｒｐｍで、磁気ヘッド１１を第４の領域上に位置させ
るときには２４００ｒｐｍで、それぞれディスク基板７
を回転させた。

【００６２】これにより、第１の領域〜第４の領域の磁
性層８に印加された磁界Ｈ_X は、図７の実線に示される
ように、それぞれ１１８±６ｋＡ／ｍの範囲内でのみ変
化するようになる。

【００６３】以下、上述したようにフォーマット領域２
を分割し、第２段階の着磁に際してディスク基板７の回
転数をそれぞれ上述したような値に設定した経緯につい
て説明する。

【００６４】先ず、第２段階の着磁を行うに際して、磁
気ヘッド１１に印加する直流電流を５．５ｍＡとし、デ
ィスク基板７の回転数を２４００ｒｐｍ、３０００ｒｐ
ｍ、３６００ｒｐｍ、４２００ｒｐｍとしたとき、中心
からの距離と磁性層８に印加される磁界Ｈ_X の大きさと
の関係を調べた。

【００６５】この結果、図８に示されるように、回転数
を小さくするほど、磁性層８に大きな磁界Ｈ_X を印加で
きるが、いずれの回転数に設定しても、外周側ほど磁界
Ｈ_Xが小さくなることがわかる。

【００６６】また、優れた再生出力特性を得るには、第
２段階の着磁を行うに際して、磁性贈８に印加される磁
界Ｈ_X が１１８ｋＡ／ｍ前後となるようにすればよいこ
とは前述したとおりである。

【００６７】したがって、図８から、ディスク基板７の
回転数を適宜選択することによって、内周側から外周側
のいずれの位置の磁性層８にも１１８ｋＡ／ｍ前後の磁
界Ｈ_X を印加できるようになり、全面に亘って、再生出
力の振幅を大きな磁気ディスク１を得ることができるよ
うになる。

【００６８】このような経緯により、本実施例において
は、フォーマット領域２を分割し、第２段階の着磁に際
して、磁気ディスク１の回転数をそれぞれ前述しような
値に設定したのである。

【００６９】ところで、上述したような磁気ディスク１
を磁気ヘッド浮上型の記録／再生装置に搭載して駆動さ
せるに際しては、以下のような操作が行われている。先
ず、クランパによって磁気ディスク１を固定し、該磁気
ディスク１のＣＳＳ領域にスライダーを載置させた後、
スピンドルモータによって該磁気ディスク１を回転させ
てスライダーを浮上させる。そして、磁気ディスク１の
磁性層８に対する着磁を行う場合には、スライダーに接
続するアームの回転軸を回転させることにより、該スラ
イダー下面に搭載された磁気ヘッド１１に所定の直流電
流を印加しながら、磁気ディスク１の半径方向に移動さ
せる。また、再生を行う場合には、磁気ヘッド１１によ
って、サーボ領域６から位置決め信号を検出し、スライ
ダーに接続するアームの回転軸を回転させて、該磁気ヘ
ッド１１のトラッキングを行いながら、データ領域５か
ら情報信号を読み出す。

【００７０】以上、本発明に係る磁気ディスクの製造方
法について説明したが、本発明は上述の実施例に限定さ
れるものではない。例えば、フォーマット領域の分割の
仕方は実施例１、実施例２に示したものに限られず、磁
気ディスク１に印加される磁界Ｈ_X を１１８ｋＡ／ｍ前
後とすることができれば、さらに細かい領域に分割にて
直流電流の値や回転数を小刻みに変更してもよい。ま
た、実施例１、実施例２に示されるように、磁気ヘッド
に印加する直流電流の値、ディスク基板の回転数のいず
れか一方のみを変化させる以外にも、両者を半径方向で
異ならせるようにしてもよい。さらに、上述した直流電
流の値や回転数を半径方向で連続的に変化させることに
より、磁性層８に印加される磁界Ｈ_X が約１１８ｋＡ／
ｍとなるように制御してもよい。

【００７１】また、製造される磁気ディスクの構成につ
いても、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形、
変更が可能であり、ディスク基板，下地層，磁性層，保
護膜，潤滑剤塗布層等の材料や、磁気ディスクの直径，
厚さ等は、上述したものに限られない。

【００７２】

【発明の効果】以上の説明から明かなように、本発明を
適用すると、全面に亘って再生出力の振幅が大きな磁気
ディスクを製造することができる。

【００７３】このため、本発明によって製造された磁気
ディスクにおいては、凹凸パターンによって書き込まれ
た位置決め信号が正確に読み出し可能となるため、精度
よくトラッキングを行うことが可能となる。また、読み
出し専用の磁気ディスクとして、所定の情報信号に対応
させて凹凸パターンを形成した場合も、この情報信号が
全面に亘って正確に読み出し可能なものとなる。

【００７４】したがって、本発明を適用することによ
り、信頼性の高い磁気ディスクを提供することができる
ようになり、さらなる記録容量の増大を図ることも可能
となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る磁気ディスクの製造方法によって
作製された磁気ディスクの構成例を示す模式的平面図で
ある。

【図２】２段階着磁法における第１段階の着磁を行って
いる状態を示す説明図である。

【図３】２段階着磁法における第２段階の着磁を行って
いる状態を示す説明図である。

【図４】第２段階の着磁を行うに際して磁気ヘッドに印
加する直流電流の値を選択したときの、中心からの距離
と磁性層に印加された磁界の大きさとの関係を示す特性
図である。

【図５】第２段階の着磁を行うに際して磁気ヘッドに印
加する直流電流の値と、得られた磁気ディスクの再生出
力の振幅との関係を示す特性図である。

【図６】第２段階の着磁を行うに際して、磁気ヘッドに
印加する直流電流の値を種々に異ならせた場合におけ
る、中心からの距離と磁性層に印加された磁界の大きさ
との関係を示す特性図である。

【図７】第２段階の着磁を行う際の磁気ディスクの回転
数を選択したときの、中心からの距離と磁性層に印加さ
れた磁界の大きさとの関係を示す特性図である。

【図８】第２段階の着磁を行うに際して、ディスク基板
の回転数を種々に異ならせた場合における、中心からの
距離と磁性層に印加された磁界の大きさとの関係を示す
特性図である。

【図９】磁気ヘッドと磁気ディスクの相対速度に対す
る、磁性層と磁気ギャップの距離を示す特性図である。

【符号の説明】

１ 磁気ディスク ２ フォーマット領域 ３ クランピング領域 ４ ランディング領域 ５ データ領域 ６ サーボ領域 ８ 凹部 ９ 凸部 １０ 磁性層 １１ 磁気ヘッド

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所望の凹凸パターンを有するディスク基
   板に磁性層を被着させる工程と、 前記ディスク基板を回転させ、この上に浮上させた磁気
   ヘッドに充分大きな直流電流を印加しながら、該磁気ヘ
   ッドをディスク基板の半径方向に移動させることによ
   り、凹部の磁性層と凸部の磁性層とを一括して同一方向
   に磁化させる工程と、 前記直流電流よりも小さな直流電流を印加しながら、前
   記磁気ヘッドをディスク基板の半径方向に移動させるこ
   とにより、凸部の磁性層の磁化のみを反転させる工程と
   を有し、 前記凸部の磁性層の磁化のみを反転させるに際して、該
   磁性層に印加される磁界がディスク基板の半径方向で略
   均一化されるごとく、前記磁気ヘッドに印加する直流電
   流の大きさおよび／または前記ディスク基板の回転数
   を、該ディスク基板の半径方向で異ならせることを特徴
   とする磁気ディスクの製造方法。
2. 【請求項２】 前記凸部の磁性層の磁化のみを反転させ
   るに際して、前記ディスク基板を同心円状に複数の領域
   に分割し、この領域ごとに、前記磁気ヘッドに印加する
   直流電流の大きさおよび／または前記ディスク基板の回
   転数を設定することを特徴とする請求項１記載の磁気デ
   ィスクの製造方法。
3. 【請求項３】 前記凹凸パターンの少なくとも一部は、
   位置決め信号に対応するものであることを特徴とする請
   求項１記載の磁気ディスクの製造方法。
4. 【請求項４】 前記凹凸パターンの少なくとも一部は、
   情報信号に対応するものであることを特徴とする請求項
   １記載の磁気ディスクの製造方法。