JPH0952874A - パラフェニレンジイソシアナートの製造方法 - Google Patents
パラフェニレンジイソシアナートの製造方法Info
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- JPH0952874A JPH0952874A JP7222558A JP22255895A JPH0952874A JP H0952874 A JPH0952874 A JP H0952874A JP 7222558 A JP7222558 A JP 7222558A JP 22255895 A JP22255895 A JP 22255895A JP H0952874 A JPH0952874 A JP H0952874A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高純度のパラフェニレンジイソシアナート
（ＰＰＤＩ）を工業的に得る。 【解決手段】 パラフェニレンジアミンとホスゲンとを
有機溶媒中、冷熱二段ホスゲン化法により反応させ、次
いで生成したＰＰＤＩと溶媒を減圧下同時に留出させて
蒸留残渣を除き、留出液を濃縮し、ＰＰＤＩを晶析濾過
することを特徴とするＰＰＤＩの製造方法。
（ＰＰＤＩ）を工業的に得る。 【解決手段】 パラフェニレンジアミンとホスゲンとを
有機溶媒中、冷熱二段ホスゲン化法により反応させ、次
いで生成したＰＰＤＩと溶媒を減圧下同時に留出させて
蒸留残渣を除き、留出液を濃縮し、ＰＰＤＩを晶析濾過
することを特徴とするＰＰＤＩの製造方法。
Description
【発明が属する技術分野】本発明はパラフェニレンジイ
ソシアナート（ＰＰＤＩ）の製造方法に関する。ＰＰＤ
Ｉはその分子構造および分子の対称性から汎用の（トリ
レンジイソシアナート）ＴＤＩ、（ジフェニルメタンジ
イソシアナート）ＭＤＩに比べ耐熱性や動的機械特性な
どに優れた性質を有するポリウレタンエラストマーが得
られる。
ソシアナート（ＰＰＤＩ）の製造方法に関する。ＰＰＤ
Ｉはその分子構造および分子の対称性から汎用の（トリ
レンジイソシアナート）ＴＤＩ、（ジフェニルメタンジ
イソシアナート）ＭＤＩに比べ耐熱性や動的機械特性な
どに優れた性質を有するポリウレタンエラストマーが得
られる。
【従来の技術】ＰＰＤＩの製造方法としてドイツ特許２
６２４８５号に記載されているホスゲン法、オランダ特
許７９０６２９１号に記載されている尿素誘導体の熱分
解による方法など多くの方法が知られている。また、特
開平４−１４５０５９号には冷熱二段ホスゲン化法によ
るイソシアナート類の製造方法が示されている。ポリウ
レタンの原料として通常９９％以上の純度及び易加水分
解性塩素（ＨＣ）含量が小さい製品が要求されるが、こ
れら公知の方法で製造したＰＰＤＩは副反応生成物や、
未反応原料を含んでいるため、精製する必要があり、従
来、精留法が取られていた。しかしながらＰＰＤＩは９
５℃という高い融点を有しており、しかも融点以上の温
度では容易に重合し不溶の物質に変化してしまうため、
実験室的な方法としては可能であるが、工業的な製法と
しては蒸留装置および移送配管などの閉塞等の設備トラ
ブルの原因等の問題もあり好ましい方法とはいえなかっ
た。
６２４８５号に記載されているホスゲン法、オランダ特
許７９０６２９１号に記載されている尿素誘導体の熱分
解による方法など多くの方法が知られている。また、特
開平４−１４５０５９号には冷熱二段ホスゲン化法によ
るイソシアナート類の製造方法が示されている。ポリウ
レタンの原料として通常９９％以上の純度及び易加水分
解性塩素（ＨＣ）含量が小さい製品が要求されるが、こ
れら公知の方法で製造したＰＰＤＩは副反応生成物や、
未反応原料を含んでいるため、精製する必要があり、従
来、精留法が取られていた。しかしながらＰＰＤＩは９
５℃という高い融点を有しており、しかも融点以上の温
度では容易に重合し不溶の物質に変化してしまうため、
実験室的な方法としては可能であるが、工業的な製法と
しては蒸留装置および移送配管などの閉塞等の設備トラ
ブルの原因等の問題もあり好ましい方法とはいえなかっ
た。
【課題を解決するための手段】本発明者等はＰＰＤＩが
有機溶媒中では安定であることに着目し、晶析法によ
り、高純度のＰＰＤＩが製造できることを見い出し、本
発明を完成した。即ち、本発明は、パラフェニレンジア
ミンとホスゲンとを有機溶媒中、冷熱二段ホスゲン化法
により反応させ、次い生成したＰＰＤＩと溶媒を減圧下
同時に留出させて蒸留残渣を除き、留出液を濃縮し、Ｐ
ＰＤＩを晶析濾過することを特徴とするＰＰＤＩの製造
方法である。
有機溶媒中では安定であることに着目し、晶析法によ
り、高純度のＰＰＤＩが製造できることを見い出し、本
発明を完成した。即ち、本発明は、パラフェニレンジア
ミンとホスゲンとを有機溶媒中、冷熱二段ホスゲン化法
により反応させ、次い生成したＰＰＤＩと溶媒を減圧下
同時に留出させて蒸留残渣を除き、留出液を濃縮し、Ｐ
ＰＤＩを晶析濾過することを特徴とするＰＰＤＩの製造
方法である。
【発明の実施の形態】冷熱二段ホスゲン化法の冷時の反
応はホスゲンを溶解した溶媒中にパラフェニレンジアミ
ンを添加して行う。ここで使用する溶媒はホスゲンや生
成したＰＰＤＩに対し不活性なもので、沸点８０℃以上
のものであればホスゲン化反応は完結できる。しかし、
沸点が１００℃以下の溶媒では生成したカルバミルクロ
リドの脱塩酸の進行が遅く、高品質のＰＰＤＩが得られ
難い。また沸点があまり高いと取得したＰＰＤＩの乾燥
が出来なくなる。好便に使用できる溶媒の例としてはト
ルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメンなどの芳香
族炭化水素、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼ
ン、クロロトルエンなどの塩素化芳香族炭化水素、ジオ
キサンなどのエーテル系溶媒、酢酸ブチル、酢酸イソア
ミルなどのエステル類が挙げられる。使用する溶媒の量
は多ければ問題無いが、効率的には原料に対し５倍以上
が適当である。冷時反応で溶媒中に溶解しておくホスゲ
ン量は通常等モル前後が用いられるが０．３モル比以上
であればよい。反応温度は一般に低い温度が良いとされ
るが５０℃以下であれば特に問題はない。原料のパラフ
ェニレンジアミンは溶媒に溶解して添加しても良いが、
溶解度が低く、大量の溶媒が必要となり効率が悪いた
め、固体のまま添加する方が有利である。この時パラフ
ェニレンジアミンは３５０μ以下好ましくは２００μ以
下に粉砕またはふるい分けしたものを使用するのが好ま
しい。市販の試薬（東京化成工業（株）ＥＰグレード）
の３５０μ以上６５％のアミンを使用した場合、後段の
昇温反応での反応速度が遅いばかりでなく、収率も低下
する。アミンの添加は分割して数度に分けて添加しても
良いが、一度に添加しても特に問題はない。アミンの添
加が終了したら後段の高温反応を開始するため反応温度
を上昇させる。後段の反応温度は一度に９０℃以上とし
た場合、ウレア化の副反応が進行し収率が低下するので
一旦７０〜８０℃でホスゲンを吹き込みながら少なくと
も反応の７０％以上が進行した後、さらに温度を上げて
反応を完結させる。完結に要する温度は用いる溶媒によ
り異なるが１００〜１２０℃迄の温度で十分である。７
０〜８０℃でホスゲン化を継続し反応を完結させること
も可能であるが、この場合反応時間が長くなり、ホスゲ
ンの使用量も多くなるので有利ではない。反応はスラリ
ー状で進行し、反応が進むとスラリー濃度が小さくな
り、完結時にはわずかな沈澱物を含むほとんど透明な状
態になる。ホスゲン化完結後、通常ホスゲン化反応で行
われている窒素吹き込みによる脱ガスまたは減圧脱ガス
もしくは溶媒の一部を留出させて脱ガスを行う。脱ガス
を終了した液を濾過、濃縮し結晶を晶析し、ＰＰＤＩを
得ることもできるが、着色した低純度の製品しか得られ
ない。高純度のＰＰＤＩを高収率で取り出すには、脱ガ
スを終了後、連続式薄膜蒸発器に導入し、ＰＰＤＩと溶
媒を同時に留出させ、反応で生成した不純物を不揮発分
として缶残に残し、留出した液をほぼ純粋なＰＰＤＩの
みを含む溶液とする。この留出液を減圧下に濃縮し析出
した結晶を濾過、乾燥すると純度の高いＰＰＤＩが得ら
れる。濾過母液はＰＰＤＩの他には特に不純物を含んで
いないので、次ロットの濃縮時に添加することで、反応
で生成したＰＰＤＩの全てが回収できる。薄膜蒸留では
反応で生成した不揮発性の不純物や重合物が蒸留残渣と
して排出される。しかし、この残渣は冷えると固結し、
取り出しがきわめて困難である。そこで薄膜蒸留時に供
給液に予め揮発性が小さく熱および化学的に安定な化合
物を少量添加しておくと残渣が固結しないで分散状態で
排出できる。このような添加物としては、例えば沸点の
高い流動パラフィンや塩素化パラフィンなどの脂肪族化
合物、ジオクチルフタレート、ジイソデシルフタレート
などのフタル酸エステル類、市販の熱媒、例えばＮＥＯ
−ＳＫオイルなどが使用できる。その添加量は多くても
良いが経済性および一部留出液に混入し製品を汚染する
危険性があるのでＰＰＤＩに対し１重量％以上１０重量
％までが適当である。ここで使用する薄膜蒸発器は、工
業的に入手できるどのタイプのものでも使用できる。薄
膜蒸留器は熱との接触時間が極めて短いので、熱に不安
定なＰＰＤＩを蒸発させるのに好都合である。留出液の
濃縮は、溶液ではＰＰＤＩはそれほど不安定ではないの
で常圧でも可能であるが、減圧下で濃縮するのが次の晶
析を含めて好都合である。濃縮したＰＰＤＩ溶液を通常
の冷却晶析で行った場合、ＰＰＤＩは槽壁への付着が極
めて多く、全晶析量の３０〜５０％にも達し、取出しが
困難となる。留出液の濃縮を減圧下に行ない槽内の温度
をＰＰＤＩの融点より低い温度にし、濃縮中に結晶の一
部を析出させる。この場合、溶媒の潜熱によりジャケッ
ト温度より内温が低くなり、結晶の槽壁付着が防止でき
る。ジャケットと内温の差は３℃以上、好ましくは５〜
１５℃が最適である。減圧晶析で全晶析量の５％以上、
好ましくは２０〜５０％の結晶が析出したら、通常の冷
却晶析に切り替え晶析を完結させる。一旦、晶析可能な
濃度まで濃縮した後温度を上げ槽壁に付着した結晶を完
全溶解した後、減圧還流下に晶析することも可能であ
る。
応はホスゲンを溶解した溶媒中にパラフェニレンジアミ
ンを添加して行う。ここで使用する溶媒はホスゲンや生
成したＰＰＤＩに対し不活性なもので、沸点８０℃以上
のものであればホスゲン化反応は完結できる。しかし、
沸点が１００℃以下の溶媒では生成したカルバミルクロ
リドの脱塩酸の進行が遅く、高品質のＰＰＤＩが得られ
難い。また沸点があまり高いと取得したＰＰＤＩの乾燥
が出来なくなる。好便に使用できる溶媒の例としてはト
ルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメンなどの芳香
族炭化水素、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼ
ン、クロロトルエンなどの塩素化芳香族炭化水素、ジオ
キサンなどのエーテル系溶媒、酢酸ブチル、酢酸イソア
ミルなどのエステル類が挙げられる。使用する溶媒の量
は多ければ問題無いが、効率的には原料に対し５倍以上
が適当である。冷時反応で溶媒中に溶解しておくホスゲ
ン量は通常等モル前後が用いられるが０．３モル比以上
であればよい。反応温度は一般に低い温度が良いとされ
るが５０℃以下であれば特に問題はない。原料のパラフ
ェニレンジアミンは溶媒に溶解して添加しても良いが、
溶解度が低く、大量の溶媒が必要となり効率が悪いた
め、固体のまま添加する方が有利である。この時パラフ
ェニレンジアミンは３５０μ以下好ましくは２００μ以
下に粉砕またはふるい分けしたものを使用するのが好ま
しい。市販の試薬（東京化成工業（株）ＥＰグレード）
の３５０μ以上６５％のアミンを使用した場合、後段の
昇温反応での反応速度が遅いばかりでなく、収率も低下
する。アミンの添加は分割して数度に分けて添加しても
良いが、一度に添加しても特に問題はない。アミンの添
加が終了したら後段の高温反応を開始するため反応温度
を上昇させる。後段の反応温度は一度に９０℃以上とし
た場合、ウレア化の副反応が進行し収率が低下するので
一旦７０〜８０℃でホスゲンを吹き込みながら少なくと
も反応の７０％以上が進行した後、さらに温度を上げて
反応を完結させる。完結に要する温度は用いる溶媒によ
り異なるが１００〜１２０℃迄の温度で十分である。７
０〜８０℃でホスゲン化を継続し反応を完結させること
も可能であるが、この場合反応時間が長くなり、ホスゲ
ンの使用量も多くなるので有利ではない。反応はスラリ
ー状で進行し、反応が進むとスラリー濃度が小さくな
り、完結時にはわずかな沈澱物を含むほとんど透明な状
態になる。ホスゲン化完結後、通常ホスゲン化反応で行
われている窒素吹き込みによる脱ガスまたは減圧脱ガス
もしくは溶媒の一部を留出させて脱ガスを行う。脱ガス
を終了した液を濾過、濃縮し結晶を晶析し、ＰＰＤＩを
得ることもできるが、着色した低純度の製品しか得られ
ない。高純度のＰＰＤＩを高収率で取り出すには、脱ガ
スを終了後、連続式薄膜蒸発器に導入し、ＰＰＤＩと溶
媒を同時に留出させ、反応で生成した不純物を不揮発分
として缶残に残し、留出した液をほぼ純粋なＰＰＤＩの
みを含む溶液とする。この留出液を減圧下に濃縮し析出
した結晶を濾過、乾燥すると純度の高いＰＰＤＩが得ら
れる。濾過母液はＰＰＤＩの他には特に不純物を含んで
いないので、次ロットの濃縮時に添加することで、反応
で生成したＰＰＤＩの全てが回収できる。薄膜蒸留では
反応で生成した不揮発性の不純物や重合物が蒸留残渣と
して排出される。しかし、この残渣は冷えると固結し、
取り出しがきわめて困難である。そこで薄膜蒸留時に供
給液に予め揮発性が小さく熱および化学的に安定な化合
物を少量添加しておくと残渣が固結しないで分散状態で
排出できる。このような添加物としては、例えば沸点の
高い流動パラフィンや塩素化パラフィンなどの脂肪族化
合物、ジオクチルフタレート、ジイソデシルフタレート
などのフタル酸エステル類、市販の熱媒、例えばＮＥＯ
−ＳＫオイルなどが使用できる。その添加量は多くても
良いが経済性および一部留出液に混入し製品を汚染する
危険性があるのでＰＰＤＩに対し１重量％以上１０重量
％までが適当である。ここで使用する薄膜蒸発器は、工
業的に入手できるどのタイプのものでも使用できる。薄
膜蒸留器は熱との接触時間が極めて短いので、熱に不安
定なＰＰＤＩを蒸発させるのに好都合である。留出液の
濃縮は、溶液ではＰＰＤＩはそれほど不安定ではないの
で常圧でも可能であるが、減圧下で濃縮するのが次の晶
析を含めて好都合である。濃縮したＰＰＤＩ溶液を通常
の冷却晶析で行った場合、ＰＰＤＩは槽壁への付着が極
めて多く、全晶析量の３０〜５０％にも達し、取出しが
困難となる。留出液の濃縮を減圧下に行ない槽内の温度
をＰＰＤＩの融点より低い温度にし、濃縮中に結晶の一
部を析出させる。この場合、溶媒の潜熱によりジャケッ
ト温度より内温が低くなり、結晶の槽壁付着が防止でき
る。ジャケットと内温の差は３℃以上、好ましくは５〜
１５℃が最適である。減圧晶析で全晶析量の５％以上、
好ましくは２０〜５０％の結晶が析出したら、通常の冷
却晶析に切り替え晶析を完結させる。一旦、晶析可能な
濃度まで濃縮した後温度を上げ槽壁に付着した結晶を完
全溶解した後、減圧還流下に晶析することも可能であ
る。
実施例１ 還流および留出冷却器、温度計、攪拌装置、ホスゲン吹
き込み管、アミン導入口を備えた１Ｌ４口フラスコにト
ルエン６００ｍｌを入れ、ついでホスゲン６０ｇを溶解
した。この液に室温下、試薬を粉砕しふるい分けした平
均粒径５０μのパラフェニレンジアミン６５ｇを１０分
で添加した。添加終了後３０分を要して８０℃に昇温し
た。この温度で１時間当り６０ｇのホスゲンを還流下、
４時間吹き込んだ。この時点での反応液をサンプリング
し分析したところ、８３％のＰＰＤＩが生成していた。
さらに１時間を要して１０５℃まで昇温し３０ｇのホス
ゲンを導入したところ、最初スラリーであった反応液が
わずかな紫色の沈澱を残すのみでほとんど透明な液とな
った。その後、窒素を１時間吹き込み脱ガスした後留出
に切り替えトルエン１００ｍｌを留出させ、残留のホス
ゲンを除いた。冷却後この液を濾過した。濾物はわずか
０．８ｇであった。ろ液を分析したところＰＰＤＩを９
２ｇ含んでいた。生成率９５．８％。ろ液にジオクチル
フタレート６ｇを添加し、１４０℃圧力５０ｍｍＨｇの
連続薄膜蒸発器に導入した。留出液は９０ｇのＰＰＤＩ
を含んでいた。残渣は媒体に分散した状態で流動性があ
り、抜きだした量は９ｇであった。留出液を４３℃の浴
温下４０ｍｍＨｇの減圧下に濃縮した。この時内温は３
７℃であった。この状態で溶媒のトルエン２００ｍｌを
留出させた。この時濃縮液中には白色の結晶が析出して
いた。大気圧に戻し１０℃まで冷却し析出した結晶を濾
取した。フラスコにはほとんど結晶の付着がなかった。
ついで結晶を乾燥し７１ｇを得た。この結晶は融点９
５．０℃、純度９９．５％、ＨＣ３４ｐｐｍで高純度の
ＰＰＤＩであった。ろ液をロータリーエバポレーターで
減圧乾固したところ１９ｇの白色結晶を得た。このもの
の赤外吸収スペクトルはＰＰＤＩの吸収と一致してお
り、融点９５℃、純度は９９．３％であり１次晶と同様
に高品質であった。 １次晶と合わせた収率９３．７％ 比較例１ 反応スケールを５倍にした他は実施例１と同様にしてホ
スゲン化を行い、ＰＰＤＩを４６３ｇ含む反応液３Ｌを
得た。この液を濾過した後、溶媒のトルエンを常圧で留
去した。この間、内温は１１５〜１４０℃で、留去に５
時間を要した。濃縮液を１０ｍｍＨｇの減圧下１１０〜
１２０℃で分留した。分留には４時間を要した。その
間、受器は留出したＰＰＤＩの固化を防ぐため１００℃
の油浴で保温した。初留、本留を合わせて４３５ｇを得
た。しかし留出液は蒸留の初期は無色透明であったが、
時間の経過と共に白色の沈澱物が生成した。本留の純度
は９７．７％に過ぎず、トルエンに溶かしても白濁して
おり、高純度のＰＰＤＩは得られなかった。また蒸留残
渣が固化し、トルエン、メタノールなどの溶媒にほとん
ど溶けなかった。 比較例２ 反応溶媒をメタキシレンに変えた他は実施例１と同様に
してホスゲン化を行いＰＰＤＩを９１ｇ含む反応液を得
た。この液に粉末活性炭１ｇを加え８０℃で１時間攪拌
した後、濾過し濃縮後減圧晶析してＰＰＤＩの１次晶６
５ｇを得た。結晶は薄い黄色に着色しており、純度９
８．８％、ＨＣ８５ｐｐｍ、９４．２℃で品質の劣るも
のであった。またろ液を乾固して３０ｇの２次晶を得た
が純度は９６．２％に過ぎなかった。
き込み管、アミン導入口を備えた１Ｌ４口フラスコにト
ルエン６００ｍｌを入れ、ついでホスゲン６０ｇを溶解
した。この液に室温下、試薬を粉砕しふるい分けした平
均粒径５０μのパラフェニレンジアミン６５ｇを１０分
で添加した。添加終了後３０分を要して８０℃に昇温し
た。この温度で１時間当り６０ｇのホスゲンを還流下、
４時間吹き込んだ。この時点での反応液をサンプリング
し分析したところ、８３％のＰＰＤＩが生成していた。
さらに１時間を要して１０５℃まで昇温し３０ｇのホス
ゲンを導入したところ、最初スラリーであった反応液が
わずかな紫色の沈澱を残すのみでほとんど透明な液とな
った。その後、窒素を１時間吹き込み脱ガスした後留出
に切り替えトルエン１００ｍｌを留出させ、残留のホス
ゲンを除いた。冷却後この液を濾過した。濾物はわずか
０．８ｇであった。ろ液を分析したところＰＰＤＩを９
２ｇ含んでいた。生成率９５．８％。ろ液にジオクチル
フタレート６ｇを添加し、１４０℃圧力５０ｍｍＨｇの
連続薄膜蒸発器に導入した。留出液は９０ｇのＰＰＤＩ
を含んでいた。残渣は媒体に分散した状態で流動性があ
り、抜きだした量は９ｇであった。留出液を４３℃の浴
温下４０ｍｍＨｇの減圧下に濃縮した。この時内温は３
７℃であった。この状態で溶媒のトルエン２００ｍｌを
留出させた。この時濃縮液中には白色の結晶が析出して
いた。大気圧に戻し１０℃まで冷却し析出した結晶を濾
取した。フラスコにはほとんど結晶の付着がなかった。
ついで結晶を乾燥し７１ｇを得た。この結晶は融点９
５．０℃、純度９９．５％、ＨＣ３４ｐｐｍで高純度の
ＰＰＤＩであった。ろ液をロータリーエバポレーターで
減圧乾固したところ１９ｇの白色結晶を得た。このもの
の赤外吸収スペクトルはＰＰＤＩの吸収と一致してお
り、融点９５℃、純度は９９．３％であり１次晶と同様
に高品質であった。 １次晶と合わせた収率９３．７％ 比較例１ 反応スケールを５倍にした他は実施例１と同様にしてホ
スゲン化を行い、ＰＰＤＩを４６３ｇ含む反応液３Ｌを
得た。この液を濾過した後、溶媒のトルエンを常圧で留
去した。この間、内温は１１５〜１４０℃で、留去に５
時間を要した。濃縮液を１０ｍｍＨｇの減圧下１１０〜
１２０℃で分留した。分留には４時間を要した。その
間、受器は留出したＰＰＤＩの固化を防ぐため１００℃
の油浴で保温した。初留、本留を合わせて４３５ｇを得
た。しかし留出液は蒸留の初期は無色透明であったが、
時間の経過と共に白色の沈澱物が生成した。本留の純度
は９７．７％に過ぎず、トルエンに溶かしても白濁して
おり、高純度のＰＰＤＩは得られなかった。また蒸留残
渣が固化し、トルエン、メタノールなどの溶媒にほとん
ど溶けなかった。 比較例２ 反応溶媒をメタキシレンに変えた他は実施例１と同様に
してホスゲン化を行いＰＰＤＩを９１ｇ含む反応液を得
た。この液に粉末活性炭１ｇを加え８０℃で１時間攪拌
した後、濾過し濃縮後減圧晶析してＰＰＤＩの１次晶６
５ｇを得た。結晶は薄い黄色に着色しており、純度９
８．８％、ＨＣ８５ｐｐｍ、９４．２℃で品質の劣るも
のであった。またろ液を乾固して３０ｇの２次晶を得た
が純度は９６．２％に過ぎなかった。
【発明の効果】本発明の製造方法は高純度のＰＰＤＩを
製造する工業的に優れた方法である。
製造する工業的に優れた方法である。
Claims (7)
- 【請求項１】 パラフェニレンジアミンとホスゲンとを
有機溶媒中、冷熱二段ホスゲン化法により反応させ、次
いで生成したパラフェニレンジイソシアナートと溶媒を
減圧下同時に留出させて蒸留残渣を除き、留出液を濃縮
し、パラフェニレンジイソシアナートを晶析濾過するこ
とを特徴とするパラフェニレンジイソシアナートの製造
方法。 - 【請求項２】 パラフェニレンジアミンの平均粒度が３
５０μ以下である請求項１記載の製造方法。 - 【請求項３】 有機溶媒の沸点が１００℃以上２００℃
以下である請求項１または請求項２記載の製造方法。 - 【請求項４】 冷熱二段ホスゲン化法の高温反応を反応
が少くとも７０％進行するまで８０℃以下で反応させた
後、１００℃以上で反応を完結させる請求項１〜３記載
の製造方法。 - 【請求項５】 薄膜蒸留によりパラフェニレンジイソシ
アナートと有機溶媒を同時に留出させる請求項１〜４記
載の製造方法。 - 【請求項６】 パラフェニレンジイソシアナートと有機
溶媒を減圧下同時に留出させる際、３５０℃以上の沸点
を有する難揮発性の液状媒体を添加する請求項１〜５記
載の製造方法。 - 【請求項７】 留出液を濃縮し、パラフェニレンジイソ
シアナートを晶析させる際、少なくとも結晶の一部が析
出するまで、減圧下、有機溶媒を留去する請求項１〜６
記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22255895A JP3674010B2 (ja) | 1995-08-08 | 1995-08-08 | パラフェニレンジイソシアナートの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22255895A JP3674010B2 (ja) | 1995-08-08 | 1995-08-08 | パラフェニレンジイソシアナートの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0952874A true JPH0952874A (ja) | 1997-02-25 |
| JP3674010B2 JP3674010B2 (ja) | 2005-07-20 |
Family
ID=16784340
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22255895A Expired - Fee Related JP3674010B2 (ja) | 1995-08-08 | 1995-08-08 | パラフェニレンジイソシアナートの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3674010B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007223997A (ja) * | 2006-02-27 | 2007-09-06 | Nippon Polyurethane Ind Co Ltd | オキシアルキレン基含有脂肪族イソシアネートの製造方法 |
| JP2007254292A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-10-04 | Nippon Polyurethane Ind Co Ltd | ジフェニルスルホンジイソシアネートの製造方法 |
| CN111747868A (zh) * | 2020-07-20 | 2020-10-09 | 天聚材料集团公司 | 一种对苯二异氰酸酯的制备方法 |
| CN111825573A (zh) * | 2020-06-24 | 2020-10-27 | 江苏蓝丰生物化工股份有限公司 | 一种芳烃溶剂在提纯对苯二异氰酸酯中的应用、提纯方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20180016378A1 (en) * | 2016-07-14 | 2018-01-18 | Lanxess Solutions Us Inc. | Low color polyurethane prepolymers from para-phenylene diisocyanate having low free isocyanate monomer content and polyurethanes prepared therefrom |
-
1995
- 1995-08-08 JP JP22255895A patent/JP3674010B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007223997A (ja) * | 2006-02-27 | 2007-09-06 | Nippon Polyurethane Ind Co Ltd | オキシアルキレン基含有脂肪族イソシアネートの製造方法 |
| JP2007254292A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-10-04 | Nippon Polyurethane Ind Co Ltd | ジフェニルスルホンジイソシアネートの製造方法 |
| CN111825573A (zh) * | 2020-06-24 | 2020-10-27 | 江苏蓝丰生物化工股份有限公司 | 一种芳烃溶剂在提纯对苯二异氰酸酯中的应用、提纯方法 |
| CN111747868A (zh) * | 2020-07-20 | 2020-10-09 | 天聚材料集团公司 | 一种对苯二异氰酸酯的制备方法 |
| CN111747868B (zh) * | 2020-07-20 | 2021-07-27 | 王植源 | 一种对苯二异氰酸酯的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3674010B2 (ja) | 2005-07-20 |
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| JPS6221348B2 (ja) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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