JPH0951028A - Photomask management system - Google Patents

Photomask management system

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Publication number
JPH0951028A
JPH0951028A JP22257795A JP22257795A JPH0951028A JP H0951028 A JPH0951028 A JP H0951028A JP 22257795 A JP22257795 A JP 22257795A JP 22257795 A JP22257795 A JP 22257795A JP H0951028 A JPH0951028 A JP H0951028A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reticle
foreign matter
inspection
storage
photomask
Prior art date
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Pending
Application number
JP22257795A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mari Nozoe
真理 野副
Fumio Mizuno
文夫 水野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP22257795A priority Critical patent/JPH0951028A/en
Publication of JPH0951028A publication Critical patent/JPH0951028A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To automatically manage storage and inspection of reticule. SOLUTION: A storage room 11 wherein reticules 1 are identified with identification codes attached to an individual reticle for storing in a specified place, respectively, a foreign matter inspection device 20 inspecting a foreign matter of each reticule and then outputting the result, and a delivery device 35 which communicates both 11 and 20 with a communication passage 36 for delivering the reticules, are provided, and, the storage room, the foreign matter inspection device and the delivery device are so constituted as to be generalize-controlled with a generalization controller 40. So that, at the foreign matter inspection of reticules stared in the storage room, since the reticules are transferred from the storage room to the foreign matter inspection device with the delivery device, the foreign matter inspection of the stored reticules is automatically perforated with precision without interposition of a person, so that the reticules are always maintained normal. By staring foreign matter inspection data, and collating data of the same reticules, the data are utilized, so that precision of inspection of the foreign matter inspection device is raised.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、フォトマスク管理シス
テム、特に、多数種類のフォトマスクが同一生産ライン
で頻繁に交換されながら使用される場合におけるフォト
マスク管理システムに関し、例えば、半導体装置の製造
工程において、所望のパターンを半導体ウエハ(以下、
ウエハという。)に転写するのに使用される拡大フォト
マスクとしてのレチクルを管理するのに利用して有効な
ものに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photomask management system, and more particularly to a photomask management system in the case where a large number of types of photomasks are used while being frequently replaced on the same production line. In the process, a desired pattern is formed on a semiconductor wafer (hereinafter,
It is called a wafer. A) effective to manage the reticle as a magnifying photomask used to transfer to.

【0002】[0002]

【従来の技術】高集積化および微細化が進んだ半導体装
置の製造工程において、所望のパターンをウエハに転写
するのに使用されるフォトマスクとしては拡大フォトマ
スクであるレチクルが広く使用されている。このレチク
ルは所望のパターンの一部を拡大したフォトマスクであ
るため、同一の半導体装置を製造するのに複数種類のレ
チクルが使用されることになる。しかも、最近の半導体
装置の生産形態は多品種少量生産が進んでいるため、そ
の生産ラインで管理されるレチクルの種類および枚数は
きわめて膨大なものになる。そこで、各レチクルには個
々を識別するための固有の識別コードがそれぞれ付され
ている。
2. Description of the Related Art A reticle, which is an enlarged photomask, is widely used as a photomask used for transferring a desired pattern onto a wafer in a manufacturing process of a semiconductor device which is highly integrated and miniaturized. . Since this reticle is a photomask obtained by enlarging a part of a desired pattern, a plurality of types of reticles will be used to manufacture the same semiconductor device. In addition, since the recent semiconductor device production mode has been progressing in high-mix low-volume production, the types and number of reticles managed on the production line are extremely large. Therefore, each reticle is provided with a unique identification code for identifying each reticle.

【0003】他方、半導体装置の製造工場において、レ
チクルのパターンをウエハに転写するための露光装置で
あるステッパーはきわめて高価であるため、膨大なレチ
クル毎にステッパーを1台ずつ用意することはできな
い。そこで、レチクルのステッパーに対する交換が頻繁
に実施されるとともに、待機中の多数枚のレチクルは保
管庫に保管されることになる。従来のレチクル保管庫は
清浄度を高く維持されたクリーンベンチ内に保管棚およ
び搬送ロボットが設置されている。搬送ロボットは各レ
チクルを保管棚の指定された場所にそれぞれ保管するよ
うに構成されているとともに、識別コードによって指定
されたレチクルを指定された保管場所から取り出すよう
に構成されている。
On the other hand, in a semiconductor device manufacturing factory, a stepper, which is an exposure device for transferring the pattern of a reticle onto a wafer, is extremely expensive, and therefore one stepper cannot be prepared for each enormous reticle. Therefore, the reticle is frequently replaced with the stepper, and a large number of waiting reticles are stored in the storage. In the conventional reticle storage, a storage rack and a transfer robot are installed in a clean bench that maintains a high degree of cleanliness. The transfer robot is configured to store each reticle in a designated location on the storage rack, and is also configured to retrieve the reticle designated by the identification code from the designated storage location.

【0004】また、レチクルに異物が付着していると、
ウエハに異物の像が欠陥として転写されてしまうため、
保管庫に保管されているレチクルは欠陥検査装置として
の異物検査装置によって定期的または不定期的に異物検
査を実施されるのが一般的である。従来の異物検査装置
はレチクルにレーザーを照射して異物からの散乱光を検
出することにより、レチクルに付着した異物を検出する
ように構成されている。
If foreign matter adheres to the reticle,
Since the image of the foreign matter is transferred to the wafer as a defect,
Generally, a reticle stored in a storage is inspected for foreign matter regularly or irregularly by a foreign matter inspection apparatus as a defect inspection apparatus. A conventional foreign matter inspection apparatus is configured to detect a foreign matter attached to a reticle by irradiating a reticle with a laser and detecting scattered light from the foreign matter.

【0005】そして、従来、保管庫に保管されたレチク
ルについて異物検査装置によって異物検査が実施される
に際しては、これから異物検査を実施すべきレチクルを
作業者が識別コードの指定して保管庫から出庫させ、異
物検査装置に投入している。その異物検査の結果が正常
である場合には、レチクルは作業者によって保管庫に入
庫され、保管庫内の指定された場所に保管される。
Conventionally, when a foreign substance inspection device performs a foreign substance inspection on a reticle stored in a storage, the worker designates the reticle to be subjected to the foreign substance inspection with an identification code and leaves the storage. And put it in the foreign matter inspection device. When the result of the foreign matter inspection is normal, the reticle is put into the storage by the worker and stored at the designated place in the storage.

【0006】なお、レチクルの異物検査装置を述べてあ
る例としては、特開平5−45863号公報や、Hit
achi Review Vol.40(1991)N
o.6 P395〜P400、および、Hitachi
Hyoron68 P731〜P736がある。
[0006] As an example in which a reticle foreign matter inspection device is described, Japanese Patent Laid-Open No. 4-45863 and Hit,
achi Review Vol. 40 (1991) N
o. 6 P395-P400 and Hitachi
Hyoron68 P731-P736.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
レチクル管理システムにおいては、保管庫に保管された
レチクルについて異物検査装置によって異物検査が実施
されるに際しては、これから異物検査を実施すべきレチ
クルを作業者が識別コードの指定して保管庫から出庫さ
せて異物検査装置に投入しているため、検査作業の能率
が低いばかりでなく、保管庫から異物検査装置までのレ
チクルの移送に際しての損傷事故等の危険性があり、ま
た、定期検査の期間がばらついたり、レチクルの管理に
おいて検査結果データを充分に活用していないという問
題点があることが本発明者によって明らかにされた。
However, in the conventional reticle management system, when the foreign substance inspection device performs the foreign substance inspection on the reticle stored in the storage, the reticle which should be subjected to the foreign substance inspection is operated. Since the person specifies the identification code and puts it out of the storage cabinet and puts it in the foreign substance inspection apparatus, not only the efficiency of the inspection work is low, but also a damage accident etc. when transferring the reticle from the storage cabinet to the foreign matter inspection apparatus. It has been clarified by the present inventor that there is a problem that the period of the periodic inspection varies and that the inspection result data is not fully utilized in the management of the reticle.

【0008】本発明の目的は、フォトマスクについての
保管および欠陥検査を自動的に管理することができるフ
ォトマスク管理システムを提供することにある。
An object of the present invention is to provide a photomask management system capable of automatically managing storage and defect inspection of photomasks.

【0009】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
The outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application is as follows.

【0011】すなわち、フォトマスク管理システムは、
複数のフォトマスクを各フォトマスクに付された識別コ
ードによって識別して所定の場所にそれぞれ保管する保
管庫と、各フォトマスクの欠陥を検査してその検査結果
を出力する欠陥検査装置と、保管庫および欠陥検査装置
の間でフォトマスクを相互に受け渡す受渡し装置とを備
えており、保管庫、欠陥検査装置および受渡し装置は統
括コントローラに接続されて統括して制御されるように
構成されていることを特徴とする。
That is, the photomask management system is
A storage box that identifies a plurality of photomasks by the identification code attached to each photomask and stores each in a predetermined place, a defect inspection device that inspects each photomask for defects and outputs the inspection result, and a storage The storage device, the defect inspection device, and the delivery device for delivering the photomask to each other are provided. The storage device, the defect inspection device, and the delivery device are connected to a general controller and are configured to be integrally controlled. It is characterized by being

【0012】[0012]

【作用】前記した手段において、フォトマスクの欠陥検
査が実施されるに際しては、所望のフォトマスクの識別
コードが保管庫に指定される。保管庫は指定された識別
コードのフォトマスクを所定の保管場所から取り出し
て、受渡し装置により欠陥検査装置に自動的に搬入させ
る。欠陥検査装置はそのフォトマスクに対して欠陥検査
を実行すると、その検査結果データを統括コントローラ
に送信する。統括コントローラはその送信データをメモ
リーに記憶して管理する。例えば、統括コントローラは
そのフォトマスクの検査結果が正常である場合には、受
渡し装置によりフォトマスクを保管庫に入庫させて保管
庫の元の指定場所に保管させる。
According to the above-mentioned means, when the defect inspection of the photomask is carried out, the desired photomask identification code is designated in the storage. The storage takes out the photomask of the specified identification code from a predetermined storage location and automatically carries it into the defect inspection device by the delivery device. When the defect inspection device performs a defect inspection on the photomask, the inspection result data is transmitted to the overall controller. The overall controller stores the transmission data in the memory and manages it. For example, if the inspection result of the photomask is normal, the general controller causes the delivery device to store the photomask in the storage and store it in the original designated place of the storage.

【0013】[0013]

【実施例】図1は本発明の一実施例であるレチクル管理
システムを模式的に示しており、(a)は欠陥斜視図、
(b)は主要部の斜視図である。図2はその平面断面
図、図3はその正面断面図である。図4はその作用を説
明するためのフローチャートである。図5は検査データ
の活用法の一実施例を示す説明図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 schematically shows a reticle management system which is an embodiment of the present invention, (a) is a perspective view of a defect,
(B) is a perspective view of a main part. 2 is a plan sectional view thereof, and FIG. 3 is a front sectional view thereof. FIG. 4 is a flow chart for explaining the operation. FIG. 5 is an explanatory diagram showing an example of how to utilize the inspection data.

【0014】本実施例において、本発明に係るフォトマ
スク管理システムは、拡大フォトマスクであるレチクル
を保管し自動的に管理するレチクル管理システムとして
構築されている。保管管理の対象物品であるレチクル1
はペリクル(図示せず)によってパターン形成面が保護
されているとともに、異物付着による汚染を防止するた
めに一枚毎にケース2に収納されて各工程間を搬送され
て行くようになっている。また、各レチクル1には個々
を識別するための固有の識別コード(図示せず)がそれ
ぞれ付与されており、固有の識別コードが数字や英文字
またはバーコード等の形態によってそれぞれのレチクル
1およびそのケース2の表面に表示されている。
In the present embodiment, the photomask management system according to the present invention is constructed as a reticle management system that stores and automatically manages a reticle that is an enlarged photomask. Reticle 1 that is the object of storage management
The pattern forming surface is protected by a pellicle (not shown), and in order to prevent contamination due to adhesion of foreign matter, the pellicle is housed in each case 2 and conveyed between the processes. . Further, each reticle 1 is provided with a unique identification code (not shown) for uniquely identifying each reticle 1, and the unique identification code is assigned to each reticle 1 depending on the form such as a numeral, an alphabetic character or a bar code. It is displayed on the surface of Case 2.

【0015】ちなみに、レチクル1は石英ガラスから成
るブランクにクローム等の金属材料が用いられてパター
ンが形成された略正方形の板状物であり、そのレチクル
1を収納するためのケース2は樹脂や金属等の適度の剛
性を有する材料が用いられてレチクル1よりも若干大き
い正方形の平盤箱形状にされている。ケース2は塵埃等
の異物の侵入を防止し得る気密な箱体に形成されてお
り、レチクル1を出し入れ自在に収納し得るように構成
されている。
Incidentally, the reticle 1 is a substantially square plate-like object in which a pattern is formed on a blank made of quartz glass by using a metal material such as chrome, and the case 2 for housing the reticle 1 is made of resin or the like. A material having an appropriate rigidity, such as metal, is used, and has a square flat box shape slightly larger than the reticle 1. The case 2 is formed as an airtight box that can prevent foreign matter such as dust from entering, and is configured so that the reticle 1 can be stored in and taken out freely.

【0016】本実施例に係るレチクル管理システム10
は、複数枚のレチクル1をそれぞれの識別コードによっ
て識別して所定の場所にそれぞれ保管する保管庫11
と、各レチクルの異物検査を実行してその検査結果を出
力する欠陥検査装置としての異物検査装置20と、保管
庫11および異物検査装置20の間でレチクル1を相互
に受け渡す受渡し装置35と、保管庫11、異物検査装
置20および受渡し装置35を統括して制御する統括コ
ントローラ40とを備えている。保管庫11と異物検査
装置20とは互いに隣合わせに設置されており、その間
が受渡し装置35によって連絡されている。
Reticle management system 10 according to the present embodiment
Is a storage box 11 for identifying a plurality of reticles 1 by their respective identification codes and storing them in predetermined places.
A foreign matter inspection device 20 as a defect inspection device for performing a foreign matter inspection of each reticle and outputting the inspection result; and a delivery device 35 for handing over the reticle 1 between the storage 11 and the foreign matter inspection device 20. , The storage 11, the foreign substance inspection device 20, and the delivery device 35. The storage box 11 and the foreign matter inspection apparatus 20 are installed next to each other, and a space between them is connected by a delivery apparatus 35.

【0017】保管庫11は清浄度を一定に維持されたク
リーンベンチ12を備えており、このクリーンベンチ1
2の室内には多数段の保管棚13および搬送ロボット1
4が設置されている。各保管棚13は保管対象物である
レチクル1を複数枚ずつ、ケース2に収納した状態のま
まで水平に載置して保管するように構成されている。本
実施例において、搬送ロボット14は多関節ロボットが
使用されて構成されており、アーム15のグリップ16
によってケース2を把持してレチクル1をケース2に収
納したままの状態で搬送するようになっている。また、
搬送ロボット14はコンピュータ等から構築されたコン
トローラ(図示せず)を備えている。コントローラは各
レチクル1を収納したケース2を保管棚13の指定され
た場所にそれぞれ保管するように構成されているととも
に、識別コードによって指定されたレチクル1を指定さ
れた保管場所から取り出すように構成されている。
The storage 11 is equipped with a clean bench 12 whose cleanliness is kept constant.
2 has a plurality of storage shelves 13 and a transfer robot 1 in the room.
4 are installed. Each of the storage shelves 13 is configured to horizontally store and store a plurality of reticles 1, which are storage objects, in a state of being stored in the case 2. In this embodiment, the transfer robot 14 is configured by using an articulated robot, and the grip 16 of the arm 15 is used.
With this, the case 2 is gripped and the reticle 1 is conveyed while being stored in the case 2. Also,
The transfer robot 14 includes a controller (not shown) constructed from a computer or the like. The controller is configured to store the case 2 accommodating each reticle 1 in a designated location on the storage shelf 13, and to retrieve the reticle 1 designated by the identification code from the designated storage location. Has been done.

【0018】クリーンベンチ12の正面壁には入出庫口
17がクリーンベンチ12の内外を連通するように開設
されており、入出庫口17は入出庫作業に際しての塵埃
等の侵入を防止するエアカーテン等の防塵装置(図示せ
ず)が設備されている。クリーンベンチ12内の入出庫
口17に対向する部位には入出庫受け棚18が設備され
ている。また、クリーンベンチ12の側面壁には連絡口
19がクリーンベンチ12の内外を連通するように開設
されており、この連絡口19には後記する連絡通路が連
設されている。
An inlet / outlet port 17 is opened on the front wall of the clean bench 12 so as to communicate with the inside and outside of the clean bench 12, and the inlet / outlet port 17 is an air curtain for preventing dust and the like from entering during the in / out operation. A dustproof device (not shown) such as is installed. A storage / receipt receiving rack 18 is installed at a portion of the clean bench 12 facing the storage / receipt / exit opening 17. Further, a communication port 19 is opened in the side wall of the clean bench 12 so as to communicate with the inside and outside of the clean bench 12, and the communication port 19 is provided with a communication passage described later.

【0019】欠陥検査装置としての異物検査装置20は
清浄度を一定に維持されたクリーンベンチ21を備えて
おり、このクリーンベンチ21の室内には光学的検査装
置および搬送ロボットが設置されている。光学的検査装
置22は検査対象物としてのレチクル1を水平に保持し
てXYZおよびθ方向に移動させるテーブル23と、テ
ーブル23に保持されたレチクル1にレーザー等の検査
光24を照射する照射装置25と、検査光24の異物3
での散乱光26を検出する受光器27とを備えている。
また、異物検査装置20はコンピュータ等から構築され
たコントローラ28を備えている。コントローラ28は
受光器27からの電気信号に基づいて異物を判定すると
ともに、その判定結果をレチクル1に付与された識別コ
ードに対応させてメモリー(図示せず)に記憶するよう
に構成されている。
The foreign matter inspection device 20 as a defect inspection device is provided with a clean bench 21 whose cleanliness is kept constant, and an optical inspection device and a transfer robot are installed in the room of this clean bench 21. The optical inspection device 22 is a table 23 that horizontally holds the reticle 1 as an inspection object and moves it in the XYZ and θ directions, and an irradiation device that irradiates the reticle 1 held on the table 23 with inspection light 24 such as a laser. 25 and the foreign matter 3 of the inspection light 24
And a photodetector 27 for detecting the scattered light 26 in FIG.
Further, the foreign matter inspection device 20 includes a controller 28 constructed from a computer or the like. The controller 28 is configured to determine a foreign substance based on an electric signal from the light receiver 27 and store the determination result in a memory (not shown) in association with the identification code given to the reticle 1. .

【0020】本実施例において、搬送ロボット29は多
関節ロボットが使用されて構成されており、アーム30
のグリップ31によってケース2を把持してレチクル1
をケース2に収納したままの状態で搬送するとともに、
ケース2を開閉してケース2内に対してレチクル1を出
し入れし得るようになっている。
In this embodiment, the transfer robot 29 is constructed by using an articulated robot, and the arm 30 is used.
The case 2 is gripped by the grip 31 of the reticle 1
While being transported while being stored in the case 2,
The reticle 1 can be taken in and out of the case 2 by opening and closing the case 2.

【0021】異物検査装置20のクリーンベンチ21の
正面壁にも入出庫口32がクリーンベンチ21の内外を
連通するように開設されており、入出庫口32は入出庫
作業に際しての塵埃等の侵入を防止するエアカーテン等
の防塵装置(図示せず)が設備されている。クリーンベ
ンチ21内の入出庫口32に対向する部位には入出庫受
け棚33が設備されている。また、クリーンベンチ21
の保管庫11に対向する側の側面壁には連絡口34がク
リーンベンチ21の内外を連通するように開設されてお
り、この連絡口34には後記する連絡通路が保管庫11
側の連絡口19とを連絡するように連設されている。
An entrance / exit port 32 is also provided on the front wall of the clean bench 21 of the foreign matter inspection apparatus 20 so as to communicate with the inside and outside of the clean bench 21, and the entrance / exit port 32 allows dust and the like to enter during the entry / exit work. A dustproof device (not shown) such as an air curtain for preventing the above is installed. A storage / receipt receiving rack 33 is installed at a portion of the clean bench 21 facing the storage / receipt / exit 32. Also, clean bench 21
A communication port 34 is provided on a side wall of the storage chamber 11 opposite to the storage chamber 11 so that the inside and outside of the clean bench 21 communicate with each other.
It is continuously provided so as to communicate with the side communication port 19.

【0022】受渡し装置35は互いに隣接して対向する
保管庫11側の連絡口19と異物検査装置20側の連絡
口34とを連絡する連絡通路36を備えており、この連
絡通路36は気密を維持して塵埃等の侵入を防止し得る
ように構成されている。連絡通路36には投光器38と
受光器39とを備えている被受渡し物品検出装置37が
設備されており、この検出装置37は統括コントローラ
40に検出信号を送信するように構成されている。この
統括コントローラ40はコンピュータ等から構築されて
おり、保管庫11の搬送ロボット14、異物検査装置2
0のコントローラ28および受渡し装置35の被受渡し
物品検出装置37等に電気的に接続されて、それらから
の信号に基づいて保管庫11、異物検査装置20および
受渡し装置35を統括して制御するように構成されてい
る。
The delivery device 35 is provided with a communication passage 36 that connects the communication port 19 on the side of the storage 11 and the communication port 34 on the side of the foreign matter inspection device 20 which are adjacent to each other and face each other. The communication passage 36 is airtight. It is configured so that it can be maintained and dust and the like can be prevented from entering. The communication passage 36 is provided with a delivered article detection device 37 including a light projector 38 and a light receiver 39, and the detection device 37 is configured to transmit a detection signal to the overall controller 40. The overall controller 40 is constructed from a computer or the like, and includes the transfer robot 14 of the storage 11, the foreign matter inspection device 2
It is electrically connected to the controller 28 of 0 and the delivered article detection device 37 of the delivery device 35, etc., and controls the storage 11, the foreign substance inspection device 20, and the delivery device 35 based on signals from them. Is configured.

【0023】次に作用を説明する。例えば、半導体装置
の製造工場に新規のレチクルが入荷された場合には、異
物検査装置20に新規のレチクル1がケース2に収納さ
れた状態で入出庫口32から入庫される。異物検査装置
20の搬送ロボット29は入出庫受け棚33に載置され
たケース2からレチクル1を取り出して光学的検査装置
22のテーブル23の上にレチクル1を移載する。光学
的検査装置22の照射装置25は検査光24をレチクル
1に照射する。このとき、テーブル23はレチクル1を
XY方向に移動させることにより、検査光24をレチク
ル1に対して相対的に走査させる。検査光24が異物3
に照射されると、異物3から散乱光26が発生し、この
散乱光26は受光器27によって受光される。コントロ
ーラ28はこの散乱光26の受光とテーブル23の走査
との関係によって、レチクル1における異物3の付着位
置を座標によって特定し、このレチクル1の識別コード
に対応させてメモリーに記憶する。また、コントローラ
28は当該レチクル1の異物検査が正常であるか、異常
であるかを判定する。
Next, the operation will be described. For example, when a new reticle is received at a semiconductor device manufacturing factory, the new reticle 1 is stored in the foreign matter inspection apparatus 20 through the storage / reception port 32 while being stored in the case 2. The transfer robot 29 of the foreign matter inspection device 20 takes out the reticle 1 from the case 2 placed on the receiving / delivering receiving rack 33 and transfers the reticle 1 onto the table 23 of the optical inspection device 22. The irradiation device 25 of the optical inspection device 22 irradiates the reticle 1 with the inspection light 24. At this time, the table 23 scans the inspection light 24 relative to the reticle 1 by moving the reticle 1 in the XY directions. Inspection light 24 is foreign matter 3
When the foreign substance 3 is irradiated with the scattered light 26, the scattered light 26 is received by the light receiver 27. Based on the relationship between the reception of the scattered light 26 and the scanning of the table 23, the controller 28 identifies the adhesion position of the foreign matter 3 on the reticle 1 by coordinates and stores it in the memory in association with the identification code of the reticle 1. Further, the controller 28 determines whether the foreign matter inspection of the reticle 1 is normal or abnormal.

【0024】以上のようにして欠陥検査としての異物検
査が実施されて正常であると判定されたレチクル1は、
ロボット29によってケース2に戻される。ケース2に
収納されたレチクル1はロボット29によって受渡し装
置35の連絡通路36に移載される。レチクル1が異物
検査装置側の連絡口34から連絡通路36に搬入される
と、被受渡し物品検出装置37がその搬入を検出するた
め、その検出信号が統括コントローラ40に送信され
る。統括コントローラ40は保管庫11の搬送ロボット
14に受け取り作業を指令する。
The reticle 1 which has been judged to be normal by the foreign matter inspection as the defect inspection as described above,
It is returned to the case 2 by the robot 29. The reticle 1 stored in the case 2 is transferred to the communication passage 36 of the delivery device 35 by the robot 29. When the reticle 1 is carried into the communication passage 36 from the communication port 34 on the foreign substance inspection device side, the delivered article detection device 37 detects the carry-in, and the detection signal is transmitted to the overall controller 40. The general controller 40 commands the transfer robot 14 of the storage 11 to receive the work.

【0025】受け取り作業の指令を受けた搬送ロボット
14は、受渡し装置35の連絡通路36のレチクル1を
ケース2に収納した状態のまま受け取って、保管庫11
の保管棚13の指定された場所に移載する。搬送ロボッ
ト14はそのレチクル1の識別コードと保管場所とを対
応させてメモリー(図示せず)に記憶する。
The transfer robot 14, which has received the instruction of the receiving work, receives the reticle 1 in the communication passage 36 of the delivery device 35 in the case 2 as it is and stores it in the storage box 11.
It is transferred to a designated place on the storage shelf 13 of. The transport robot 14 stores the identification code of the reticle 1 and the storage location in a memory (not shown) in association with each other.

【0026】次に、保管庫11に保管されたレチクル1
について定期的な異物検査が実施される場合を、図4に
示されているフローチャートについて説明する。
Next, the reticle 1 stored in the storage 11
The case where the periodical foreign substance inspection is performed will be described with reference to the flowchart shown in FIG.

【0027】例えば、保管後所定の期間が経過すると、
定期検査すべきレチクル1の識別コードが統括コントロ
ーラ40から保管庫11の搬送ロボット14に指定され
る。搬送ロボット14は定期検査を指定されたレチクル
1が保管されている場所を検索し、指定されたレチクル
1をケース2に収納した状態のまま取り出して受渡し装
置35の連絡通路36に搬送する。
For example, when a predetermined period has passed after storage,
The identification code of the reticle 1 to be regularly inspected is designated from the general controller 40 to the transfer robot 14 of the storage 11. The transport robot 14 searches the place where the reticle 1 designated for the periodic inspection is stored, takes out the designated reticle 1 in the case 2 and transports it to the communication passage 36 of the delivery device 35.

【0028】受渡し装置35の連絡通路36にレチクル
1を収納したケース2が移載されて被受渡し物品検出装
置37から検出信号が送信されて来ると、統括コントロ
ーラ40は異物検査装置20の搬送ロボット29にテー
ブル23への搬送を指令する。搬送ロボット29はケー
ス2を入出庫受け棚33に搬送するとともに、ケース2
からレチクル1を取り出してテーブル23へ移載する。
テーブル23にレチクル1が移載されると、前述と同様
にして、欠陥検査作業としての異物検査作業が光学的検
査装置22によって実施される。
When the case 2 accommodating the reticle 1 is transferred to the communication passage 36 of the delivery device 35 and a detection signal is transmitted from the delivered article detection device 37, the general controller 40 causes the transfer robot of the foreign matter inspection device 20 to operate. 29 is instructed to carry to the table 23. The transfer robot 29 transfers the case 2 to the storage / reception tray 33, and
The reticle 1 is taken out from the table and transferred to the table 23.
When the reticle 1 is transferred to the table 23, the foreign substance inspection work as the defect inspection work is performed by the optical inspection device 22 in the same manner as described above.

【0029】このレチクル1についての異物検査装置2
0による今回の異物検査が終了すると、統括コントロー
ラ40は異物検査装置20のメモリーから今回の異物検
査結果を呼び出すとともに、統括コントローラ40のメ
モリーに記憶されているこのレチクル1に関する前回の
検査結果データを検索し、図5に示されている演算を実
行する。すなわち、(a)に示されている今回の異物デ
ータから、(b)、(c)に示されている前回の異物デ
ータを減算する。統括コントローラ40はその差が、
(d)に示されているように増加である場合には不合格
と判定し、(e)に示されているように増加でない場合
には合格と判定する。
Foreign matter inspection apparatus 2 for this reticle 1
When the foreign matter inspection of this time by 0 is completed, the general controller 40 calls the foreign matter inspection result of this time from the memory of the foreign matter inspection device 20, and also the previous inspection result data regarding this reticle 1 stored in the memory of the overall controller 40. Search and perform the operations shown in FIG. That is, the previous foreign matter data shown in (b) and (c) is subtracted from the current foreign matter data shown in (a). The difference in the overall controller 40 is
If it is an increase as shown in (d), it is determined as a failure, and if it is not an increase as shown in (e), it is determined as a pass.

【0030】統括コントローラ40は合格と判定した場
合には、そのレチクル1に関する異物検査データを更新
するとともに、そのレチクル1を異物検査装置20の搬
送ロボット29によりケース2に収納させて受渡し装置
35に搬送させる。
When the overall controller 40 determines that the reticle 1 has passed, it updates the foreign matter inspection data for the reticle 1 and stores the reticle 1 in the case 2 by the transfer robot 29 of the foreign matter inspection apparatus 20 and transfers it to the delivery apparatus 35. Transport.

【0031】受渡し装置35の連絡通路36にレチクル
1を収納したケース2が移載されて被受渡し物品検出装
置37から検出信号が送信されて来ると、統括コントロ
ーラ40は保管庫11の搬送ロボット14に保管棚13
への搬送を指令する。搬送ロボット14は検査済みの正
常なレチクル1をケース2に収納した状態のまま、例え
ば、保管棚13の元の指定場所に搬送して保管する。
When the case 2 accommodating the reticle 1 is transferred to the communication passage 36 of the delivery device 35 and the detection signal is transmitted from the delivered article detection device 37, the general controller 40 causes the transfer robot 14 of the storage box 11 to move. Storage shelves 13
To transfer to. The transport robot 14 transports the inspected normal reticle 1 to the original designated place of the storage shelf 13 and stores the reticle 1 in the state of being housed in the case 2.

【0032】他方、統括コントローラ40は不合格と判
定した場合には、そのレチクル1を異物検査装置20の
搬送ロボット29により異物検査装置20の入出庫受け
棚33のケース2に収納する。入出庫受け棚33の不合
格のレチクル1はケース2に収納された状態のまま作業
者によって入出庫口32から出庫されて、不合格の確認
検査を実行される。ちなみに、この確認検査は光学顕微
鏡等が使用される目視検査によって実行される。
On the other hand, if the general controller 40 determines that the reticle 1 is rejected, the reticle 1 is stored in the case 2 of the receiving / receiving rack 33 of the foreign substance inspection device 20 by the transfer robot 29 of the foreign substance inspection device 20. The rejected reticle 1 of the storage / receipt receiving rack 33 is stored in the case 2 by the operator from the storage / accommodation port 32, and the confirmation test of the rejection is executed. By the way, this confirmation inspection is carried out by visual inspection using an optical microscope or the like.

【0033】この確認検査によって先の自動異物検査が
誤検出であると判定された場合には、レチクル1はケー
ス2に収納された状態で異物検査装置20の入出庫口3
2に戻される。
When it is determined by this confirmation inspection that the previous automatic foreign matter inspection is an erroneous detection, the reticle 1 is stored in the case 2 and the entrance / exit port 3 of the foreign matter inspection apparatus 20 is stored.
Returned to 2.

【0034】他方、この確認検査によって先の自動異物
検査が誤検出でないと判定された場合には、レチクル1
は洗浄工程に送られて洗浄される。洗浄されたレチクル
1はケース2に収納された状態で異物検査装置20の入
出庫口32に戻される。
On the other hand, if it is determined by this confirmation inspection that the previous automatic foreign matter inspection is not an erroneous detection, the reticle 1
Are sent to the cleaning process and cleaned. The cleaned reticle 1 is returned to the loading / unloading port 32 of the foreign matter inspection apparatus 20 while being housed in the case 2.

【0035】そして、この不合格のルーチンが何回か繰
り返されても不合格と判定される場合には、統括コント
ローラ40はそのレチクル1について不良と判定し、作
り直しを指令する。
If it is determined that the reticle 1 is rejected even if this reject routine is repeated several times, the overall controller 40 determines that the reticle 1 is defective, and issues an instruction to remake the reticle 1.

【0036】以上の作業が保管庫11に保管されている
各レチクル1について順次実施されて行くことにより、
保管庫11に保管されている全てのレチクル1について
欠陥検査としての異物検査が定期的に実施されて行くこ
とになる。
By sequentially performing the above-mentioned work for each reticle 1 stored in the storage 11,
For all the reticles 1 stored in the storage 11, a foreign matter inspection as a defect inspection is regularly carried out.

【0037】前記実施例によれば次の効果が得られる。 (1) 保管庫と異物検査装置との間に受渡し装置を設
備することにより、保管庫に保管されているレチクルの
定期検査または不定期検査等に際して、レチクルを受渡
し装置によって保管庫から異物検査装置に自動的に移送
することができるため、保管庫に保管されているレチク
ルの異物検査を自動的に実施することができる。
According to the above embodiment, the following effects can be obtained. (1) By installing a delivery device between the storage and the foreign substance inspection device, the reticle can be transferred from the storage device to the foreign substance inspection device by the delivery device when the reticle stored in the storage is regularly or irregularly inspected. Therefore, the reticle stored in the storage can be automatically inspected for foreign matter because it can be automatically transferred.

【0038】(2) 保管庫、異物検査装置および受渡
し装置を統括コントローラによって統括的に制御するこ
とにより、レチクルの定期的な異物検査を人間を介在さ
せずに自動的かつ正確に実施させることができるため、
保管庫に保管されているレチクルを常に正常な状態に維
持することができ、その結果、半導体装置の製造歩留り
や、生産性を高めることができる。
(2) By centrally controlling the storage, the foreign matter inspection device and the delivery device by the general controller, periodical foreign matter inspection of the reticle can be automatically and accurately performed without human intervention. Because you can
The reticle stored in the storage can always be maintained in a normal state, and as a result, the manufacturing yield of semiconductor devices and the productivity can be improved.

【0039】(3) また、統括コントローラに対する
制御条件の変更によって、定期検査の実施期間の変更
や、不定期な抜き取り検査の実施が容易に可能であるた
め、保管庫に保管されているレチクルをより一層正常に
維持することができる。
(3) Further, by changing the control conditions for the overall controller, it is possible to easily change the period for carrying out the periodic inspection and to carry out the irregular sampling inspection. It can be maintained even more normal.

【0040】(4) 異物検査装置の検査結果データを
記憶しておき統括コントローラによって現在のデータと
過去のデータとを照合することにより、異物検査装置の
検査結果データを充分に活用することができるととも
に、異物検査装置の検査の精度をより一層高めることが
できるため、保管庫にこれから保管されるレチクルおよ
び保管庫に現在保管されているレチクルをより一層正常
に維持することができる。
(4) The inspection result data of the foreign substance inspection device can be fully utilized by storing the inspection result data of the foreign substance inspection device and comparing the present data with the past data by the general controller. At the same time, the accuracy of the inspection of the foreign substance inspection apparatus can be further enhanced, so that the reticle to be stored in the storage and the reticle currently stored in the storage can be maintained more normal.

【0041】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
The invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, but the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

【0042】例えば、保管庫における保管棚や搬送ロボ
ット、入出庫口等の具体的な構成は前記実施例に限ら
ず、保管条件や入出庫条件等に応じて適宜変更可能であ
る。
For example, the specific configurations of the storage shelves, the transfer robots, the loading / unloading ports, etc. in the storage are not limited to those in the above-mentioned embodiment, but can be appropriately changed according to the storage conditions, the loading / unloading conditions, and the like.

【0043】欠陥検査装置は異物検査だけを実行するよ
うに構成するに限らず、パターンの白欠陥および黒欠陥
についての外観欠陥検査や寸法検査等を実行するように
構成してもよい。
The defect inspection apparatus is not limited to be configured to perform only foreign matter inspection, but may be configured to perform appearance defect inspection, dimension inspection, etc. for white defects and black defects of a pattern.

【0044】受渡し装置の具体的構成は前記実施例に限
らない。
The specific structure of the delivery device is not limited to the above embodiment.

【0045】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるレチク
ルの管理システムに適用した場合について説明したが、
それに限定されるものではなく、1対1のフォトマスク
の管理システムに適用することができる。また、半導体
装置の製造工場に限らず、フォトマスクの製造工場にお
けるフォトマスク管理システムにも適用することができ
る。
In the above description, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to the reticle management system which is the background field of application has been described.
The invention is not limited to this, and can be applied to a one-to-one photomask management system. Further, the invention can be applied not only to a semiconductor device manufacturing factory but also to a photomask management system in a photomask manufacturing factory.

【0046】[0046]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
The effects obtained by typical aspects of the invention disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0047】保管庫と欠陥検査装置との間に受渡し装置
を設備するとともに、保管庫、欠陥検査装置および受渡
し装置を統括コントローラによって統括的に制御するこ
とにより、保管庫に保管されているフォトマスクの定期
検査または不定期検査等に際して、フォトマスクを受渡
し装置によって保管庫から欠陥検査装置に移送すること
ができるとともに、フォトマスクの定期検査を人間を介
在させずに自動的かつ正確に実施させることができるた
め、保管庫に保管されているフォトマスクを常に正常な
状態に維持することができ、その結果、半導体装置の製
造歩留りや、生産性を高めることができる。
A delivery device is installed between the storage and the defect inspection device, and the storage controller, the defect inspection device, and the delivery device are centrally controlled by a general controller, so that the photomask stored in the storage can be stored. In case of regular inspection or irregular inspection of the photomask, the photomask can be transferred from the storage to the defect inspection device by the delivery device, and the periodical inspection of the photomask can be automatically and accurately performed without human intervention. Therefore, the photomask stored in the storage can be always maintained in a normal state, and as a result, the manufacturing yield of semiconductor devices and the productivity can be improved.

【0048】また、欠陥検査装置の検査結果データを記
憶しておき統括コントローラによって現在のデータと過
去のデータとを照合することにより、欠陥検査装置の検
査結果データを活用することができるとともに、欠陥検
査装置の検査の精度をより一層高めることができるた
め、保管庫にこれから保管されるフォトマスクおよび保
管庫に現在保管されているフォトマスクをより一層正常
に維持することができる。
Further, by storing the inspection result data of the defect inspection apparatus and comparing the present data with the past data by the general controller, the inspection result data of the defect inspection apparatus can be utilized and the defect can be utilized. Since the accuracy of the inspection of the inspection device can be further improved, the photomask to be stored in the storage and the photomask currently stored in the storage can be maintained more normally.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例であるレチクル管理システム
を模式的に示しており、(a)は欠陥斜視図、(b)は
主要部の斜視図である。
FIG. 1 schematically shows a reticle management system that is an embodiment of the present invention, in which (a) is a defect perspective view and (b) is a perspective view of a main part.

【図2】その平面断面図である。FIG. 2 is a plan sectional view thereof.

【図3】その正面断面図である。FIG. 3 is a front sectional view thereof.

【図4】その作用を説明するためのフローチャートであ
る。
FIG. 4 is a flowchart for explaining the operation.

【図5】(a)、(b)、(c)、(d)、(e)は検
査データの活用法の一実施例を示す説明図である。
5 (a), (b), (c), (d), and (e) are explanatory views showing an example of a method of utilizing inspection data.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…レチクル(フォトマスク)、2…ケース、3…異
物、10…レチクル管理システム(フォトマスク管理シ
ステム)、11…保管庫、12…クリーンベンチ、13
…保管棚、14…搬送ロボット、15…アーム、16…
グリップ、17…入出庫口、18…入出庫受け棚、19
…連絡口、20…異物検査装置(欠陥検査装置)、21
…クリーンベンチ、22…光学的検査装置、23…テー
ブル、24…検査光、25…照射装置、26…散乱光、
27…受光器、28…異物検査装置のコントローラ、2
9…搬送ロボット、30…アーム、31…グリップ、3
2…入出庫口、33…入出庫受け棚、34…連絡口、3
5…受渡し装置、36…連絡通路、37…被受渡し物品
検出装置、38…投光器、39…受光器、40…統括コ
ントローラ。
1 ... Reticle (photomask), 2 ... Case, 3 ... Foreign matter, 10 ... Reticle management system (photomask management system), 11 ... Storage box, 12 ... Clean bench, 13
… Storage rack, 14… Transport robot, 15… Arm, 16…
Grip, 17 ... entrance / exit, 18 ... entry / exit receiving rack, 19
... Contact port, 20 ... Foreign matter inspection device (defect inspection device), 21
... clean bench, 22 ... optical inspection device, 23 ... table, 24 ... inspection light, 25 ... irradiation device, 26 ... scattered light,
27 ... Light receiver, 28 ... Controller of foreign matter inspection device, 2
9 ... Transport robot, 30 ... Arm, 31 ... Grip, 3
2 ... Entry / Exit Port, 33 ... Entry / Exit Rack, 34 ... Contact Port, 3
5 ... Delivery device, 36 ... Communication passage, 37 ... Delivery object detection device, 38 ... Projector, 39 ... Photoreceiver, 40 ... General controller.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のフォトマスクを各フォトマスクに
付された識別コードによって識別して所定の場所にそれ
ぞれ保管する保管庫と、各フォトマスクの欠陥を検査し
てその検査結果を出力する欠陥検査装置と、保管庫およ
び欠陥検査装置の間でフォトマスクを相互に受け渡す受
渡し装置とを備えており、保管庫、欠陥検査装置および
受渡し装置は統括コントローラに接続されて統括して制
御されるように構成されていることを特徴とするフォト
マスク管理システム。
1. A storage cabinet for identifying a plurality of photomasks by an identification code attached to each photomask and storing each in a predetermined location, and a defect for inspecting each photomask for defects and outputting the inspection result. The storage device, the defect inspection device, and the delivery device are connected to a general controller and are integrally controlled by the inspection device and the delivery device for mutually passing the photomask between the storage device and the defect inspection device. A photomask management system characterized by being configured as follows.
【請求項2】 前記受渡し装置は、フォトマスクの受渡
し作業を前記保管庫内と前記欠陥検査装置の機枠内とを
連絡する密閉した連絡通路内において実行するように構
成されていることを特徴とする請求項1に記載のフォト
マスク管理システム。
2. The delivery device is configured to perform the delivery work of the photomask in a sealed communication passage that connects the inside of the storage and the machine frame of the defect inspection device. The photomask management system according to claim 1.
【請求項3】 前記統括コントローラは、前記欠陥検査
装置の各検査結果およびその検査時期をフォトマスクの
識別コードに対応させてそれぞれ記憶し、識別コードに
基づいて各フォトマスクに関する記憶データ相互を照合
するように構成されていることを特徴とする請求項1に
記載のフォトマスク管理システム。
3. The overall controller stores each inspection result of the defect inspection device and its inspection time in association with an identification code of the photomask, and collates stored data relating to each photomask with each other based on the identification code. The photomask management system according to claim 1, wherein the photomask management system is configured to:
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