JPH10267860A - Foreign object inspecting apparatus - Google Patents

Foreign object inspecting apparatus

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Publication number
JPH10267860A
JPH10267860A JP7146797A JP7146797A JPH10267860A JP H10267860 A JPH10267860 A JP H10267860A JP 7146797 A JP7146797 A JP 7146797A JP 7146797 A JP7146797 A JP 7146797A JP H10267860 A JPH10267860 A JP H10267860A
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JP
Japan
Prior art keywords
foreign matter
inspection
reticle
visual inspection
foreign
Prior art date
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Pending
Application number
JP7146797A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hajime Moriya
元 森谷
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP7146797A priority Critical patent/JPH10267860A/en
Publication of JPH10267860A publication Critical patent/JPH10267860A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To store and manage characteristics of shapes of defects, etc., by recording a description related to a visual inspection by a visual inspection means in correspondence to positional information of foreign objects detected by a foreign object inspection means. SOLUTION: The foreign object inspecting apparatus includes a reticle carry part 103 for carrying in reticles, a reticle transfer means 105 for transferring reticles to each inspection part or a reticle discharge part 104, a foreign object inspection part 101, a visual inspection part 102 and a total control part 106. Inspected reticles accommodated in a reticle case are arranged in the reticle carry part 103. The reticle transfer means 105 has a transfer means, e.g. belt or the like for taking out reticles from the reticle case, and sends the reticles to the foreign object inspection part 101 and visual inspection part 102. The visual inspection part 102 is equipped with an optical microscope. An obtained image is converted by a CCD camera to an electric signal and displayed as an image at an ITV monitor. The reticle inspection part 104 selects reticles that can be used and cannot be used, and sets the reticles at a predetermined place.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、異物検査装置に関
し、例えば半導体集積回路を製造する際のフォトマスク
股はレチクル等に付着した異物を検出して、その異物を
識別する装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a foreign matter inspection apparatus, and more particularly to an apparatus for detecting foreign matter adhering to a reticle or the like when manufacturing a semiconductor integrated circuit and identifying the foreign matter.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体集積回路を製造する際に
は、フォトマスク股はレチクル(以下、レチクルとす
る)の回路パターンを感光剤が塗られた基板に露光転写
している。かかる半導体集積回路を製造する過程におい
て、レチクルの回路パターン上に異物が付着したままの
状態で基板に焼き付けられてしまうと、製造された半導
体集積回路には異物の付着した部分が欠陥となって現れ
てしまう。したがって、半導体集積回路を製造する過程
で、レチクルの回路パターンが形成された免状に付着し
た異物の位置やその大きさを異物検査装置によって検出
して、露光手員シャする際に欠陥の原因となる異物を取
り除く必要があった。
2. Description of the Related Art Conventionally, in manufacturing a semiconductor integrated circuit, a circuit pattern of a reticle (hereinafter, referred to as a reticle) is exposed and transferred to a substrate coated with a photosensitive agent at a photomask. In the process of manufacturing such a semiconductor integrated circuit, if the foreign matter adheres to the circuit pattern of the reticle and is burned on the substrate in a state where the foreign matter remains on the circuit pattern, a portion of the manufactured semiconductor integrated circuit where the foreign matter has adhered becomes a defect. Will appear. Therefore, in the process of manufacturing a semiconductor integrated circuit, the position and the size of the foreign matter attached to the diploma on which the circuit pattern of the reticle is formed are detected by the foreign matter inspection device, and the cause of the defect when exposing the operator is reduced. It was necessary to remove such foreign matter.

【0003】このため異物軒砂州値では、異物の大きさ
に応じてAランク(小)、Bランク(中)、Cランク
(大)の3段階に分類し、この分類した異物の位置と大
きさを所定のブロックに区切った方眼上のマップに表示
してモニタの画面に映し出すようになされている。そし
て、使用者はそのモニタの画面を見て異物等の欠陥が存
在する位置を確認し、光学顕微鏡などによって、異物の
目視検査を行う。そして目視検査の結果をもとに、最終
的に検査したレチクルを用いるか否かの判断を行ってい
る。
For this reason, the foreign material eaves bar value is classified into three ranks of A rank (small), B rank (medium), and C rank (large) according to the size of the foreign material, and the position and size of the classified foreign material. This is displayed on a map on a grid divided into predetermined blocks and projected on a monitor screen. Then, the user checks the position where the defect such as a foreign substance exists by looking at the screen of the monitor, and visually inspects the foreign substance using an optical microscope or the like. Then, based on the result of the visual inspection, it is determined whether or not to use the finally inspected reticle.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、レチクルを
異物検査装置で検査した際に、異物が検出されたとして
も、必ずしもそのレチクルが使用不可能とはならない。
その検出された異物等が本当に使用するに当たって露光
時に影響を及ぼすかは、定かでないためである。よっ
て、最終的には検出された異物を目視検査によって、使
用の可否を判断する必要がある。このように、目視検査
時における検査結果が重要となってくる。例えば、検査
したレチクルを用いて露光した半導体集積回路に欠陥が
生じた場合、欠陥を生じさせることになた要因を調べる
際に、検査結果を参照する必要がある。
By the way, even if foreign matter is detected when the reticle is inspected by the foreign matter inspection device, the reticle is not necessarily unusable.
This is because it is not clear whether the detected foreign matter or the like has an effect upon exposure when it is actually used. Therefore, finally, it is necessary to determine whether or not the detected foreign matter can be used by visual inspection. As described above, the inspection result at the time of the visual inspection becomes important. For example, when a defect occurs in a semiconductor integrated circuit exposed using a reticle that has been inspected, it is necessary to refer to the inspection result when investigating a factor that caused the defect.

【0005】また、他にも一回検査したレチクルを用い
て再度異物検査したとき、前回と同じ検査結果が出力さ
れることがたびたびある。この様な場合、前回検査した
ときの目視検査の結果を参照することが必要となる。し
たがって、本発明では、目視検査時に得られる検査結果
を出力することを目的とする。
In addition, when a foreign substance is inspected again using a reticle that has been inspected once, the same inspection result as the previous one is often output. In such a case, it is necessary to refer to the result of the visual inspection at the time of the previous inspection. Therefore, an object of the present invention is to output an inspection result obtained at the time of a visual inspection.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の第1の形態では、被検査物に光を照射し、被
検査物から来る光を光電変換素子で受光することにより
被検査物の表面に存在する異物を検出し、異物の位置を
検出する異物検査手段と、異物検査手段から出力される
異物が存在する位置情報を格納する記憶手段と、異物を
目視検査する目視検査手段と、異物検査手段により検出
された異物の位置情報と対応づけて、目視検査手段での
目視検査に関する記述を記録するコメント記憶手段とを
備えた。
According to a first aspect of the present invention, an object to be inspected is irradiated with light, and light coming from the object is received by a photoelectric conversion element. Foreign matter inspection means for detecting foreign matter present on the surface of the inspection object and detecting the position of the foreign matter, storage means for storing position information on the presence of foreign matter output from the foreign matter inspection means, and visual inspection for visually inspecting the foreign matter Means, and comment storage means for recording a description of the visual inspection by the visual inspection means in association with the position information of the foreign substance detected by the foreign substance inspection means.

【0007】この様に本発明の第1の形態では、異物検
査手段から得られる異物の位置に対応して目視検査に関
する記述をコメント記憶手段で記憶した。また、本発明
の第2の形態では、更に、少なくとも記憶手段とコメン
ト記憶手段とに記憶された異物が存在する位置情報と、
目視検査に関する記述を表示する表示手段とを備えた。
この様に本発明の第2の形態では、記憶手段に記憶され
た異物の位置情報とコメント記憶手段に記憶された目視
検査に関する記述とを表示手段で表示させた。
As described above, in the first embodiment of the present invention, the description relating to the visual inspection is stored in the comment storage means corresponding to the position of the foreign substance obtained from the foreign substance inspection means. Further, in the second embodiment of the present invention, further, position information on the presence of the foreign matter stored in at least the storage unit and the comment storage unit;
Display means for displaying a description about the visual inspection.
As described above, in the second embodiment of the present invention, the position information of the foreign substance stored in the storage unit and the description regarding the visual inspection stored in the comment storage unit are displayed on the display unit.

【0008】また、本発明の第3の形態では、コメント
記憶手段は、目視検査手段での目視検査の検査内容また
は検査結果を記録することとした。この様に本発明の第
3の形態では、目視検査時にくだした判断または目視検
査に基づく結果をコメント記憶手段で記憶させた。ま
た、本発明の第4の形態では、目視検査の検査内容また
は検査結果は、目視検査手段で目視検査された欠陥の様
子または目視検査時の使用者の判断内容であることとし
た。
In the third embodiment of the present invention, the comment storage unit records the inspection contents or the inspection result of the visual inspection by the visual inspection unit. As described above, in the third embodiment of the present invention, the judgment made during the visual inspection or the result based on the visual inspection is stored in the comment storage unit. In the fourth embodiment of the present invention, the inspection content or the inspection result of the visual inspection is the state of the defect visually inspected by the visual inspection means or the content of the user's judgment at the time of the visual inspection.

【0009】また、本発明の第5の形態では、記憶手段
は、異物検査手段の光電変換素子からの信号から、異物
の大きさに関する情報を、異物の位置情報と対応づけて
記憶することとした。また、本発明の第6の形態では、
更に表示手段において、更に記憶手段で記憶された異物
の位置情報及び異物の大きさ情報と、コメント記憶手段
で記憶された目視検査に関する記述とを対応づけて表示
することとした。
In a fifth aspect of the present invention, the storage means stores information on the size of the foreign matter from the signal from the photoelectric conversion element of the foreign matter inspection means in association with the position information of the foreign matter. did. In a sixth embodiment of the present invention,
Further, in the display means, the position information and size information of the foreign matter stored in the storage means and the description on the visual inspection stored in the comment storage means are displayed in association with each other.

【0010】また、本発明の第7の形態では、異物検査
手段は、被検査物が少なくとも一方の面にペリクル膜が
設けられたレチクルまたはフォトマスクを検査し、ペリ
クル膜、レチクルまたはフォトマスクの一方の面及び他
方の面について別々に異物を検出する異物検査手段であ
り、欠陥の位置情報は、ペリクル膜、レチクルまたはフ
ォトマスクの一方の面または他方の面のいづれかの情報
と、かつ欠陥の座標情報であることとした。この様にペ
リクル膜がも食えられたレチクルまたはフォトマスクに
ついて、レチクルまたはフォトマスクのそれぞれの面お
よびペリクル膜をそれぞれ異物検査手段で異物の有無を
検査し、そして得られた異物の位置情報には、その異物
がレチクルまたはフォトマスクのどちらかの面にある
か、それともペリクル膜に有るかの情報を共に有した。
In a seventh aspect of the present invention, the foreign matter inspection means inspects the object to be inspected on a reticle or a photomask provided with a pellicle film on at least one surface, and inspects the pellicle film, the reticle or the photomask. Foreign matter inspection means for separately detecting foreign matter on one surface and the other surface, and the defect position information is information on either one of the pellicle film, reticle or photomask surface or the other surface, and the defect information. It was decided to be coordinate information. With respect to the reticle or photomask in which the pellicle film is also eaten in this way, the respective surfaces of the reticle or photomask and the pellicle film are respectively inspected for the presence or absence of foreign matter by foreign matter inspection means, and the obtained foreign matter position information includes And whether the foreign matter is on the reticle or photomask surface or on the pellicle film.

【0011】また、本発明の第8の形態では、異物検査
手段により検出された異物の位置情報は、複数の異物が
存在する領域を示したものであり、コメント記憶手段
は、位置情報で示される領域に存在する複数の異物に関
する記述を記憶することとした。この様に、複数の異物
をまとめて、一つのコメントを付けるようにした。
According to an eighth aspect of the present invention, the position information of the foreign matter detected by the foreign matter inspection means indicates an area where a plurality of foreign matters are present, and the comment storage means stores the position information indicated by the position information. The description about a plurality of foreign substances existing in the region to be stored is stored. As described above, a plurality of foreign substances are put together and one comment is added.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態について
説明する。本発明の実施の形態である異物検査装置の全
体構成を図1に示す。本発明の実施の形態の異物検査装
置は、レチクルを搬入するレチクル搬入部103と、レ
チクルを各検査部またはレチクル搬出部104に搬送す
るレチクル搬送手段105と、異物検査部101と、目
視検査部102と、レチクル搬出部104と全体制御部
106とを備えている。
Next, an embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 shows the overall configuration of a foreign matter inspection apparatus according to an embodiment of the present invention. The foreign matter inspection apparatus according to the embodiment of the present invention includes a reticle carry-in unit 103 for carrying in a reticle, a reticle transport unit 105 for carrying a reticle to each inspection unit or reticle carry-out unit 104, a foreign matter inspection unit 101, and a visual inspection unit. 102, a reticle unloading unit 104, and an overall control unit 106.

【0013】このレチクル搬入部103には、これから
検査されるレチクルがレチクルケースに収納された状態
で配置されている。また、レチクル搬送手段105は。
レチクル搬入部103に配置されているレチクルケース
からレチクルを取り出すためのベルト等の搬送手段と、
異物検査部101または目視検査部102にレチクルを
投入する搬送手段から構成されている。
In the reticle carry-in section 103, a reticle to be inspected is placed in a state accommodated in a reticle case. Further, the reticle transport means 105 is provided.
Conveying means such as a belt for taking out a reticle from a reticle case arranged in the reticle carry-in section 103;
It is configured by a transport unit that inputs a reticle to the foreign substance inspection unit 101 or the visual inspection unit 102.

【0014】異物検査部101には、レチクル搬送手段
103によって搬入されたレチクルについて、光学的に
異物の有無を検査する装置であって、詳細な説明は後述
する。この異物検査部101によって異物等が確認され
たレチクルは、再びレチクル搬送手段105によって目
視検査部102に搬送させる。ところで、目視検査部1
02は図2で示した構成を有している。この目視検査部
102は、光学顕微鏡201が備えられており、光学顕
微鏡201で得られた像をCCDカメラ202で電気信
号に変換されている。電気信号に変換された光学顕微鏡
201の像は、ITVモニター203で画像表示する。
使用者は、目視検査部102の光学顕微鏡の視野内に、
異物検査部101で検出された異物の検出位置が入るよ
うにレチクルを移動して、ITVモニター203でレチ
クルを目視観察する。
The foreign matter inspection section 101 is an apparatus for optically inspecting the reticle carried by the reticle transport means 103 for the presence or absence of foreign matter, and will be described in detail later. The reticle in which foreign matter and the like are confirmed by the foreign matter inspection unit 101 is transported again to the visual inspection unit 102 by the reticle transportation unit 105. By the way, the visual inspection unit 1
02 has the configuration shown in FIG. The visual inspection unit 102 is provided with an optical microscope 201, and an image obtained by the optical microscope 201 is converted into an electric signal by a CCD camera 202. The image of the optical microscope 201 converted into the electric signal is displayed on the ITV monitor 203 as an image.
The user is within the visual field of the optical microscope of the visual inspection unit 102,
The reticle is moved so that the detection position of the foreign matter detected by the foreign matter inspection unit 101 enters, and the reticle is visually observed on the ITV monitor 203.

【0015】また、目視検査部102には、異物検査部
101で異物検査されたレチクルを載置するステージ2
04を備えている。このステージ204は、ステージ駆
動手段205により移動可能となっている。このステー
ジ駆動手段205はステージ駆動制御部206によって
制御されており、ステージ制御部206は、全体制御部
106から出力される異物の位置座表情報が入力され
る。したがって、このステージ駆動手段205は、全体
制御部106に入力された異物の座標情報をもとに制御
されている。
The visual inspection unit 102 has a stage 2 on which a reticle subjected to foreign matter inspection by the foreign matter inspection unit 101 is mounted.
04. This stage 204 can be moved by stage driving means 205. The stage drive unit 205 is controlled by a stage drive control unit 206, and the stage control unit 206 receives the position table information of the foreign matter output from the overall control unit 106. Therefore, the stage driving unit 205 is controlled based on the coordinate information of the foreign matter input to the overall control unit 106.

【0016】次に、レチクル搬出部104について説明
する。レチクル搬出部104は、使用可能なレチクルと
使用不可能なレチクルとを選択して所定の場所にレチク
ルを載置するストッカーが設けられている。検査が終了
したレチクルは、最終的にこのレチクル搬出部104に
納められる。このレチクル搬出部104は、図1で図示
されたように使用可能なレチクルと使用不可能なレチク
ルとが同一のストッカーに収納される様になっている。
Next, the reticle unloading section 104 will be described. The reticle unloading section 104 is provided with a stocker for selecting a usable reticle and an unusable reticle and mounting the reticle at a predetermined location. The reticle whose inspection has been completed is finally stored in the reticle unloading section 104. As shown in FIG. 1, the reticle carry-out section 104 stores a usable reticle and an unusable reticle in the same stocker.

【0017】しかしながら、本発明はこれに限らず、使
用可能なレチクルと使用不可能なレチクルとを別々のス
トッカーに収納することでも良い。使用可能なレチクル
と使用不可能なレチクルとを別々のストッカーに収納す
れば、使用可能なレチクルと使用不可能なレチクルとを
間違えて使用することを防ぐことができる。ところで、
異物検査部101では、図3の様な構成を有している。
異物検査部101の説明を図3を用いて行う。この異物
検査部101では、被検査物であるレチクル2は、Y軸
方向に移動可能な一軸ステージ3に載置される。
However, the present invention is not limited to this, and a usable reticle and an unusable reticle may be stored in separate stockers. By storing the usable reticle and the unusable reticle in different stockers, it is possible to prevent the use of the usable reticle and the unusable reticle by mistake. by the way,
The foreign substance inspection unit 101 has a configuration as shown in FIG.
The foreign substance inspection unit 101 will be described with reference to FIG. In the foreign matter inspection unit 101, a reticle 2 as an inspection object is mounted on a uniaxial stage 3 movable in the Y-axis direction.

【0018】この状態においてレチクル2の表面を異物
検査する場合、まず駆動部4Aを動作することによりス
イッチングミラー5を図中破線で示すようにレーザー光
が通過する位置に設置する。このようにセッティングし
た後、光源6からレーザー光を出力すると、そのレーザ
ー光はスキャナーミラー7、集光レンズ8、スイッチン
グミラー5及びミラー9を順に介してレチクル2の表面
に照射される。このとき駆動部4Bを動作させてスキャ
ナーミラー7の角度を変えると、レーザースポットはレ
チクル2の表面上をX軸芳香に沿って移動する。また駆
動部4Cを動作させて一軸ステージ3をY軸方向に沿っ
て移動させると、レーザースポットはレチクル2の表面
上をY軸方向に沿って移動する。
In this state, when inspecting the surface of the reticle 2 for foreign matter, first, the driving unit 4A is operated to set the switching mirror 5 at a position where laser light passes as shown by a broken line in the figure. After setting as described above, when the laser light is output from the light source 6, the laser light is applied to the surface of the reticle 2 via the scanner mirror 7, the condenser lens 8, the switching mirror 5 and the mirror 9 in this order. At this time, when the drive unit 4B is operated to change the angle of the scanner mirror 7, the laser spot moves on the surface of the reticle 2 along the X-axis fragrance. When the drive unit 4C is operated to move the uniaxial stage 3 along the Y-axis direction, the laser spot moves on the surface of the reticle 2 along the Y-axis direction.

【0019】異物検査部101では、このようにスキャ
ナーミラー7及び一軸ステージ3を動作させることによ
りレーザースポットをX軸方向及びY軸方向に移動さ
せ、レーザー光によってレチクル2の表面全体を走査す
る。このようにしてレーザー光によってレチクル2の表
面を走査したとき、レチクル2の表面に異物等が存在す
ると、この様な異物によってレーザー光が乱反射する。
従って、その散乱光を検出すれば異物の存在を検出する
ことができる。このため異物検査部101には複数の光
電変換素子10A〜10Eが散乱光を検出して得るよう
な位置に配設されている。
The foreign matter inspection section 101 moves the laser spot in the X-axis direction and the Y-axis direction by operating the scanner mirror 7 and the uniaxial stage 3 as described above, and scans the entire surface of the reticle 2 with laser light. When the surface of the reticle 2 is scanned with the laser light in this way, if a foreign substance or the like exists on the surface of the reticle 2, the laser light is irregularly reflected by the foreign substance.
Therefore, the presence of the foreign matter can be detected by detecting the scattered light. For this reason, a plurality of photoelectric conversion elements 10A to 10E are arranged in the foreign matter inspection unit 101 at positions where scattered light can be detected.

【0020】この光電変換素子10A〜10Eは光を受
光すると、光の強さに応じた電気信号SA 〜SE をそれ
ぞれ出力する。この電気信号SA 〜SE はそれぞれ異物
検査制御部11に入力される。異物検査制御部11は電
気信号SA 〜SE を解析することにより、異物が存在す
るか否かを判断する。例えば、異物によって散乱光が発
生した場合には、無指向性の散乱光が発生するため、全
ての光電変換素子10A〜10Eが散乱光を受光して電
気信号SA 〜SE を出力する。このため異物検査制御部
11は全ての電気信号SA 〜SE を受けたことにより、
異物が存在することを検出する。また、このとき、異物
の大きさによって電気信号SA 〜SE の値が異なるた
め、その値を解析することにより異物の大きさ自体も検
出する。
When the photoelectric conversion elements 10A to 10E receive light, they output electric signals SA to SE corresponding to the light intensity. These electric signals SA to SE are input to the foreign substance inspection control unit 11, respectively. The foreign substance inspection control unit 11 determines whether or not a foreign substance exists by analyzing the electric signals SA to SE. For example, when scattered light is generated by a foreign substance, omnidirectional scattered light is generated. Therefore, all the photoelectric conversion elements 10A to 10E receive the scattered light and output electric signals SA to SE. Therefore, the foreign matter inspection control unit 11 receives all the electric signals SA to SE,
Detects the presence of foreign matter. At this time, since the values of the electric signals SA to SE differ depending on the size of the foreign matter, the size of the foreign matter itself is detected by analyzing the values.

【0021】また、異物検査制御部11は制御信号CA
、CB 、CC を出力して、それぞれ駆動部4A、4
B、4Cを制御しているため、レーザー光がレチクル2
のどこを照射しているかを認識している。この様な仕組
みで、異物検査制御部11は、散乱光を検出したとき
に、レーザ光の照射位置をもとにその異物の位置自体も
検出ことができる。
Further, the foreign substance inspection control section 11 controls the control signal CA.
, CB, and CC, respectively, and outputs the driving units 4A, 4A,
B and 4C are controlled, so that the laser beam
Knows where to irradiate. With such a mechanism, when detecting the scattered light, the foreign substance inspection control unit 11 can also detect the position of the foreign substance itself based on the irradiation position of the laser light.

【0022】また、レチクル2の裏面を異物検査する場
合には、駆動部4Aを動作させることによりレーザー光
が通過して照射さることが無い位置にスイッチングミラ
ー5を移動させることによりレーザー光が通過しない位
置にスイッチングミラー5を移動させる。これにより光
源6から出力されたレーザー光はスキャナーミラー7、
集光レンズ8、ミラー15を順に介してレチクル2の裏
面に照射される。このとき、同様にしてスキャナーミラ
ー7の角度を変えると共に、レチクル2をY軸方向に沿
って移動させることにより、レーザースポットでレチク
ル2の裏面全体を走査する。これにより、異物によって
発生した散乱光を裏面側用の光電変換素子(図示せず)
によって検出し、その結果、得た電気信号を異物検査制
御部11によって解析する。
In the case of inspecting the back surface of the reticle 2 for foreign matter, the driving unit 4A is operated to move the switching mirror 5 to a position where the laser beam does not pass and is not irradiated. The switching mirror 5 is moved to a position where no switching is performed. As a result, the laser light output from the light source 6 is
The light is irradiated on the back surface of the reticle 2 via the condenser lens 8 and the mirror 15 in this order. At this time, by changing the angle of the scanner mirror 7 in the same manner and moving the reticle 2 along the Y-axis direction, the entire back surface of the reticle 2 is scanned by the laser spot. Thereby, the scattered light generated by the foreign matter is converted into a photoelectric conversion element (not shown) for the back side.
The electrical signal obtained as a result is analyzed by the foreign matter inspection control unit 11.

【0023】このようにして異物検査部101では、レ
チクル2の裏面についても同様に異物検査を行い、その
検査結果を全体制御部106内のメモリ12に記憶す
る。ところで、全体制御部106については、図4に示
す構成を有している。全体制御部106は、本発明の実
施の形態である異物検査装置全体の制御を司る制御部4
1と、異物検査制御部11から得られる異物の位置情
報、異物の大きさ情報などを記憶するためのメモリ12
を有している。
As described above, the foreign substance inspection unit 101 performs the same foreign substance inspection on the back surface of the reticle 2 and stores the inspection result in the memory 12 in the overall control unit 106. Incidentally, the overall control unit 106 has a configuration shown in FIG. The overall control unit 106 controls the entire foreign matter inspection apparatus according to the embodiment of the present invention.
1 and a memory 12 for storing foreign matter position information and foreign matter size information obtained from the foreign matter inspection control unit 11.
have.

【0024】また、更に使用者が目視検査時に入力する
コメントを入力するための情報入力手段42と、そし
て、メモリー12に記憶されている欠陥の位置情報や欠
陥の大きさ情報、そして、レチクル名、レチクルサイズ
等を表示したり、また、コメントを入力するときの入力
画面を表示するためのディスプレイ43と、メモリ12
に記憶されている異物の位置情報、異物の大きさ情報、
レチクル名、レチクルサイズ及び使用者が入力したコメ
ント等の情報を磁気記録媒体等に出力する外部記憶手段
44とを備えている。
Further, information input means 42 for inputting a comment to be input by a user at the time of visual inspection, position information of defects, defect size information stored in memory 12, and reticle name , A display 43 for displaying a reticle size, etc., and an input screen for inputting a comment.
Foreign matter position information, foreign matter size information,
An external storage means 44 for outputting information such as a reticle name, a reticle size, and a comment input by a user to a magnetic recording medium or the like.

【0025】制御部41は、レチクル搬送部105、目
視検査部102と、ステージ駆動制御部206および異
物検査制御部11と信号のやり取りが出来るようになっ
ている。そして、更にレチクルストッカーに載層された
レチクルを取り出したときに、レチクルストッカーに載
置された場所に対応して、その場所に載置されたレチク
ルの所在管理を制御部41で行っている。
The control section 41 can exchange signals with the reticle transport section 105, the visual inspection section 102, the stage drive control section 206, and the foreign substance inspection control section 11. When the reticle placed on the reticle stocker is further taken out, the control unit 41 performs location management of the reticle placed on the reticle stocker in accordance with the place placed on the reticle stocker.

【0026】次に、以上に本発明の実施の形態による異
物検査装置の動作を図5、図6および図7のフローチャ
ートを用いて説明する。本発明の実施の形態による異物
検査装置では、ステップS001において、まず、レチ
クル搬入部103のレチクルストッカーの所定の場所に
レチクルを載置する。そして、情報入力手段42から検
査されるレチクルに関するデーターが入力される。この
ステップS001で検査されるレチクル名とレチクルサ
イズ等の情報が入力される。そして、このときに制御部
41は、今後入力される異物の位置情報および大きさ情
報、コメント、検査条件(異物検査部101での感度条
件等)等を記憶する領域をメモリー12に確保する。
Next, the operation of the foreign matter inspection apparatus according to the embodiment of the present invention will be described with reference to the flowcharts of FIGS. 5, 6, and 7. In the foreign matter inspection apparatus according to the embodiment of the present invention, in step S001, first, a reticle is placed at a predetermined position of the reticle stocker of the reticle carry-in section 103. Then, data relating to the reticle to be inspected is input from the information input means 42. Information such as a reticle name and a reticle size to be inspected in step S001 is input. At this time, the control unit 41 secures an area in the memory 12 for storing position information and size information, comments, inspection conditions (sensitivity conditions and the like in the foreign substance inspection unit 101) of foreign substances to be input in the future.

【0027】また、情報入力手段42からデーターを入
力する際には、レチクルが載置されたレチクルストッカ
ーの場所に対応して、データー入力を行う。ところで、
このレチクル搬入部103に搬入されたレチクルの所在
管理は、今後制御部41で行われる。レチクル搬入部1
03のレチクルストッカーには、所定のナンバーが付け
られているので、今後はそのレチクルストッカーに載置
されたときのレチクルストッカーのナンバーでもって、
レチクルを管理する。
When data is input from the information input means 42, data is input corresponding to the location of the reticle stocker on which the reticle is placed. by the way,
The location management of the reticle loaded into the reticle loading section 103 will be performed by the control section 41 in the future. Reticle loading unit 1
The reticle stocker of 03 has a predetermined number, so in the future, the number of the reticle stocker when placed on that reticle stocker will be used.
Manage reticles.

【0028】そして、全体制御部106に入力されたレ
チクル名及びレチクルサイズ等の情報は、制御部41を
介してメモリー12に入力される。なお、このステップ
S001では、使用者が検査されるレチクルのデーター
を入力しているが、他にも実施の形態でも構わない。例
えば、そのレチクルに関するデーターが格納されている
外部コンピューター全体制御部106を接続し、そのレ
チクルに関するデー夕を外部コンピューターから全体制
御部106に取り込むことでも構わない。
The information such as the reticle name and the reticle size input to the overall control unit 106 is input to the memory 12 via the control unit 41. In this step S001, the user inputs the data of the reticle to be inspected, but other embodiments may be used. For example, an external computer overall control unit 106 in which data relating to the reticle is stored may be connected, and data relating to the reticle may be imported into the overall control unit 106 from an external computer.

【0029】次にステップS002で、全体制御部10
6の制御部41からレチクル搬送部105へ、レチクル
搬入部103からレチクルを取り出す信号を出力する。
そこでレチクル搬送部105によって、検査されるレチ
クルを取り出される。次にステップS003では、レチ
クルをレチクル搬送部105によって、異物検査部10
1に搬入する。そして、ステップS004で制御部41
から異物検査制御部11に検査開始の命令を出力し、異
物検査部101を動作させて、レチクルに異物が存在す
るか否かを検査する。この異物検査部101の検査は、
先に説明したようにレチクルの表面と裏面を行う。
Next, in step S002, the general control unit 10
The control unit 41 outputs a signal for taking out the reticle from the reticle loading unit 103 to the reticle transport unit 105.
Then, the reticle to be inspected is taken out by the reticle transport unit 105. Next, in step S003, the reticle is transported by the
Carry in 1. Then, in step S004, the control unit 41
Outputs an inspection start command to the foreign matter inspection control unit 11 to operate the foreign matter inspection unit 101 to inspect whether or not foreign matter exists on the reticle. The inspection by the foreign substance inspection unit 101
The front and back sides of the reticle are performed as described above.

【0030】検査領域全面を検査し終わったら(ステッ
プS004)、ステップS005で異物が検出されたか
否かを判断する。そして、異物が無いときには、制御部
41はレチクル搬送部105にそのレチクルをレチクル
搬出部104に搬出する信号を出力する。そして、レチ
クル搬送部105によって異物検査が終了したレチクル
が、レチクル搬出部104の使用可能レチクルの収納箇
所まで搬送される(ステップS006)。
When the entire inspection area has been inspected (step S004), it is determined in step S005 whether or not a foreign substance has been detected. Then, when there is no foreign matter, the control section 41 outputs a signal to the reticle transport section 105 to carry out the reticle to the reticle carry-out section 104. Then, the reticle on which the foreign substance inspection has been completed by the reticle transport unit 105 is transported to a usable reticle storage location of the reticle unloading unit 104 (step S006).

【0031】ところで、異物検査部101に搬送された
レチクルに異物が存在する場合には、異物検査時に得ら
れた信号からその異物の位置およびその異物の大きさを
に関する情報をメモリ12に記憶させる(ステップS0
07)。実際には、制御部41では異物の位置情報と異
物の大きさ情報とを対応させて、メモリー12に記憶さ
せる。なお、この異物の位置情報とは、レチクルの表面
か裏面かの情報も含めた情報である。このとき、異物の
位置情報と異物の大きさ情報とを対応させて、制御部4
1に出力されている。
When a foreign substance is present in the reticle conveyed to the foreign substance inspection unit 101, information relating to the position of the foreign substance and the size of the foreign substance is stored in the memory 12 from a signal obtained during the foreign substance inspection. (Step S0
07). Actually, the control unit 41 stores the foreign matter position information and the foreign matter size information in the memory 12 in association with each other. The position information of the foreign matter is information including information on the front surface or the back surface of the reticle. At this time, the control unit 4 associates the foreign substance position information with the foreign substance size information.
1 is output.

【0032】次に、ステップSO08の行程にうつる。
この行程で、制御部41はレチクル搬送部105に異物
検査部101で検査されたレチクルを目視検査装置10
2に搬送するための信号を出力する。そして、レチクル
搬送部105では、異物検査部101で検査されたレチ
クルを目視検査部102に搬送する。目視検査部102
に搬送されたレチクルは、目視検査部のステージ204
に予め位置決めされてから設置される。そして、制御部
41は、ステージ駆動手段制御部206に欠陥の位置情
報を送信する。
Next, the process goes to step SO08.
In this process, the control unit 41 sends the reticle inspected by the foreign matter inspection unit 101 to the reticle transport unit 105 by the visual inspection device 10.
2 to output a signal to be conveyed. Then, the reticle transport section 105 transports the reticle inspected by the foreign substance inspection section 101 to the visual inspection section 102. Visual inspection unit 102
Transported to the stage 204 of the visual inspection unit
After being positioned in advance. Then, the control unit 41 transmits the position information of the defect to the stage driving unit control unit 206.

【0033】次にステップS009で、今検査し終わっ
たレチクルについて、以前にこのレチクルの異物検査を
実行しているか否かを判断する。外部記憶手段44には
今まで検査したレチクル名が格納されているので、その
中から同じレチクル名のデーターが格納されているか否
かを制御部41で判断する。データが無かった場合はス
テップS010の処理を行い、有った場合にはステップ
図7のS071の処理を行う。
Next, in step S009, it is determined whether or not the reticle, which has just been inspected, has been subjected to a foreign substance inspection on this reticle. Since the reticle names inspected so far are stored in the external storage means 44, the control section 41 determines whether or not data having the same reticle name is stored therein. If there is no data, the process of step S010 is performed, and if there is, the process of S071 in FIG. 7 is performed.

【0034】まず、データが無かった場合について説明
する。ステップS010における工程では、目視検査装
置のステージ駆動手段制御部206がステージ駆動手段
205を駆動させて、光学顕微鏡201の視野内に異物
の検出位置が入るようにステージ204を移動する。光
学顕微鏡201の像は、ITVモニター203に映し出
されるので、使用者はITVモニター203に映し出さ
れた像を見て、使用可能か否かを判断する。
First, the case where there is no data will be described. In the step in step S010, the stage driving unit control unit 206 of the visual inspection apparatus drives the stage driving unit 205 to move the stage 204 so that the detection position of the foreign substance falls within the visual field of the optical microscope 201. Since the image of the optical microscope 201 is displayed on the ITV monitor 203, the user looks at the image displayed on the ITV monitor 203 and determines whether or not the image can be used.

【0035】そして、使用者は使用可能か否かの判断結
果及びコメントを情報入力手段42によって制御部41
に入力する(ステップS011)。このとき、ディスプ
レイ43には図8に示すような画面を表示する。そし
て、使用者は、必要に応じてこの表示の所定のコメント
記入欄81にコメントを入力してゆく。このようにし
て、使用者のコメントが入力できるようになっている。
また、ディスプレイ43の他の画面上では、使用可能か
否かをたずねる表示がされるので、使用者はその画面の
所定の入力欄(不図示)に、使用可能か否かを入力す
る。なお特に使用可能と入力しなくても、次の異物の観
察を指示することで、使用可能と入力したことと同じ結
果になるようにしても構わない。
Then, the user inputs the result of the determination as to whether or not it is usable and the comment by the information input means 42 to the controller 41.
(Step S011). At this time, a screen as shown in FIG. 8 is displayed on the display 43. Then, the user inputs a comment in a predetermined comment entry field 81 of this display as needed. In this way, the user's comment can be input.
In addition, since the display asking whether or not it is available is displayed on another screen of the display 43, the user inputs whether or not it is available in a predetermined input field (not shown) of the screen. It should be noted that, even if it is not particularly input that the use is possible, the same result may be obtained by instructing the observation of the next foreign substance, that is, inputting that the use is possible.

【0036】そして、入力された判断結果とコメント
は、ステップS012で記憶された異物の位置情報と対
応づけられながら、メモリ12および外部記憶手段44
に記憶されるようにする。つぎに、ステップS013で
ステップS011で入力された目視検査の結果に基づ
き、使用可能と判断されたか否かの判断を行う。
The input judgment result and the comment are associated with the foreign substance position information stored in step S012, and the memory 12 and the external storage means 44
To be memorized. Next, in step S013, it is determined based on the result of the visual inspection input in step S011 whether or not it is determined that it can be used.

【0037】ところで、目視検査で使用不可と判断され
た場合、制御部41はレチクル搬送部105に目視検査
されたレチクルをレチクル搬出部104に搬送する信号
を出力する(ステップS016)。そして、レチクル搬
送部105によって目視検査されたレチクルが搬送さ
れ、レチクル搬出部104に収納される。また、目視検
査で使用可能と判断された場合、メモリー12に記憶さ
れた異物を全て目視観察したのかを制御部41で判断す
る。このとき、全ての異物について目視観察が終了して
いない場合は、再びステップS010に戻り、全ての異
物について目視観察が終了するまで、ステップS01O
からステップSO14を繰り返し行う。
If it is determined by the visual inspection that the reticle cannot be used, the control unit 41 outputs a signal for transporting the visually inspected reticle to the reticle unloading unit 104 to the reticle transport unit 105 (step S016). The reticle visually inspected by the reticle transport unit 105 is transported and stored in the reticle unloading unit 104. When it is determined that the foreign matter can be used in the visual inspection, the control unit 41 determines whether all the foreign substances stored in the memory 12 have been visually observed. At this time, if the visual observation has not been completed for all the foreign substances, the process returns to step S010 again, and the process returns to step S010 until the visual observation for all the foreign substances is completed.
From step SO14 are repeated.

【0038】そして、ステップS014で、制御部41
がメモリ12に記憶された異物を全て目視観察したと判
断した場合は、そのレチクルは使用可能レチクルと判断
し、制御部41はレチクル搬送部105に、目視検査さ
れたレチクルをレチクル搬出部104に搬送する信号を
出力する。そして、その目視検査されたレチクルはレチ
クル搬出部104に収納される。
Then, in step S014, the control unit 41
If it is determined that all the foreign substances stored in the memory 12 have been visually observed, the reticle is determined to be a usable reticle, and the control unit 41 sends the visually inspected reticle to the reticle unloading unit 104. Outputs the signal to be conveyed. Then, the reticle that has been visually inspected is stored in the reticle unloading section 104.

【0039】この様にして、初めて検査されるレチクル
は、このようにしてー連の作業が終了する。つぎに、以
前に検査されたことのあるレチクルを検査した場合を説
明する。以前に検査されたことのあるレチクルの場合
は、ステップS071で、制御部41は、前回行った検
査データを外部記憶手段44から読み出し、今回異物検
査部101で行った検査データ(以下、今回の検査デー
タという)と前回行った検査データとを比較する。そし
て、前回の検査と今回の検査とで、同じ場所に異物があ
った場合には、その前回の検査データと今回の検査デー
タとの関連付けを行い、今回の検査で異物が見つかった
位置が光学顕微鏡201の視野内に入るように、ステー
ジ駆動手段204を作動させる。
In this manner, the reticle to be inspected for the first time is completed in this manner. Next, a case where a reticle that has been inspected before is inspected will be described. In the case of a reticle that has been inspected before, in step S071, the control unit 41 reads out the inspection data performed last time from the external storage unit 44, and reads the inspection data performed by the foreign matter inspection unit 101 this time (hereinafter, this time). Inspection data) is compared with the previous inspection data. If there is a foreign substance in the same place between the previous inspection and the current inspection, the previous inspection data and the current inspection data are associated with each other, and the position where the foreign substance is found in the current inspection is optically determined. The stage driving means 204 is operated so as to be within the field of view of the microscope 201.

【0040】次に、現在目視検査している異物に対応す
る前回データが外部記憶手段44に記憶されていたか否
かを制御部41で判断する。この時、目視検査している
異物に対応する前回データが有る場合には、ステップS
073に進み、目視検査している異物に対応する前回の
検査データをディスプレイ43に表示する。その表示の
一例として図9に示す。図9に示される表示は、レチク
ル名表示領域91と、レチクルサイズ表示領域92、検
査実行日時表示領域93、異物位置表示領域94、異物
の大きさ情報表示領域95、コメント表示領域96、検
査結果コメント表示領域97である。このようにして、
使用者に前回行った検査についてのコメントを表示す
る。使用者はこの表示を見ながら目視検査を行う(S0
75)。そして、ステップS076では使用者が目視検
査の結果、コメントを書き換える必要があれば、図8に
示す表示画面にコメントを情報入力手段42を介して入
力する。そして、検査結果も併せて情報入力手段42を
介して入力する。
Next, the control section 41 determines whether or not the previous data corresponding to the foreign matter currently being visually inspected has been stored in the external storage means 44. At this time, if there is previous data corresponding to the foreign substance being visually inspected, step S
In step 073, the previous inspection data corresponding to the foreign matter being visually inspected is displayed on the display 43. FIG. 9 shows an example of the display. The display shown in FIG. 9 includes a reticle name display area 91, a reticle size display area 92, an inspection execution date and time display area 93, a foreign substance position display area 94, a foreign substance size information display area 95, a comment display area 96, and an inspection result. This is a comment display area 97. In this way,
Display comments to the user about the last test performed. The user performs a visual inspection while watching this display (S0
75). In step S076, if the user needs to rewrite the comment as a result of the visual inspection, the user inputs the comment on the display screen shown in FIG. Then, the inspection result is also input via the information input means 42.

【0041】なお、ステップS072で目視検査してい
る異物に対応する前回データが無い場合には、ステップ
S073の処理を飛ばして、すぐさまステップS074
の目視検査工程に入る。次に、ステップS076で、目
視検査の結果を入力されたコメントや検査結果をその異
物の位置情報と対応させてメモリ12に記憶させる。
If there is no previous data corresponding to the foreign substance visually inspected in step S072, the process in step S073 is skipped and step S074 is immediately performed.
Enter the visual inspection process. Next, in step S076, the result of the visual inspection is stored in the memory 12 in association with the input comment or the inspection result and the position information of the foreign matter.

【0042】この様に、目視検査結果が入力された後
は、ステップS077で目視検査で使用可能とされたか
否かを制御部41で判断する。ところで、レチクルが使
用不可能と判断された場合、ステップS080で制御部
41はレチクル搬送部105に目視検査されたレチクル
をレチクル搬出部104に搬出する信号を出力する。そ
して、レチクル搬送部105はそのレチクルをレチクル
搬出部104に搬送する。また、レチクルが使用可能と
判断された場合には、次にステップS078で今回の異
物検査で検出された異物全部について目視検査したか否
かを制御部41で判断する。そして、異物全部が目視検
査されていないと判断した場合には、再びステップS0
71へ戻り、次に目視観察する異物について、ステップ
S071からステップS078の作業を繰り返し行う。
As described above, after the visual inspection result is input, the control section 41 determines whether or not the visual inspection has been enabled in step S077. If it is determined that the reticle cannot be used, the control unit 41 outputs a signal to the reticle transport unit 105 to carry out the visually inspected reticle to the reticle carry-out unit 104 in step S080. Then, reticle transport section 105 transports the reticle to reticle unloading section 104. If it is determined that the reticle can be used, the control unit 41 determines whether or not all the foreign substances detected in the current foreign substance inspection have been visually inspected in step S078. If it is determined that all the foreign substances have not been visually inspected, the process returns to step S0.
Returning to step 71, the operations from step S071 to step S078 are repeated for the foreign substance to be visually observed next.

【0043】そして、今回の異物検査で検出された異物
全部について目視検査したら、制御部41はレチクル搬
送部105に目視検査したレチクルをレチクル搬出部1
04に搬送する信号を出力する。そして、ステップS0
79で、そのレチクルはレチクル搬送部105によって
レチクル搬出部104に搬送される。このようにして、
一連のレチクルの検査が終了する。
Then, after visually inspecting all the foreign substances detected in the foreign substance inspection this time, the control section 41 sends the visually inspected reticle to the reticle unloading section 1 in the reticle transport section 105.
The signal to be conveyed to the output unit 04 is output. Then, step S0
At 79, the reticle is transported to the reticle unloading section 104 by the reticle transport section 105. In this way,
A series of reticle inspections is completed.

【0044】この様に本発明の実施の形態である異物検
査装置では、異物検査部101で検出された欠陥を目視
で検査したときに、異物検査部101で検出されたもの
が何によるものかを記録に残すことが出来る。例えば、
検出されたものが実際には、ノイズによるもの、レチク
ルに形成された回路パターンを修正した際に生じた修正
痕、レチクルに形成された回路パターンの力ケおよびハ
ガレによるもの、レチクルの回路パターンを形成してい
る欠陥等が検出される。この様な違いは、異物検査部1
01で判別できず、目視検査時に実際に判明する。
As described above, in the foreign matter inspection apparatus according to the embodiment of the present invention, when a defect detected by the foreign matter inspection unit 101 is visually inspected, what is detected by the foreign matter inspection unit 101 depends on what is detected. Can be recorded. For example,
What is actually detected is due to noise, correction marks generated when the circuit pattern formed on the reticle is corrected, power and peeling of the circuit pattern formed on the reticle, and the circuit pattern of the reticle. Defects and the like that are formed are detected. Such a difference is caused by the foreign substance inspection unit 1
01 and cannot be determined, and are actually found at the time of visual inspection.

【0045】本発明の実施の形態である異物検査装置で
は、コメントを異物の位置情報と対応づけて記録するこ
とができるのでその異物の特徴を保存・管理できるよう
になる。また、この異物検査装置では、以前に行った検
査結果を、再び検査する際に表示できるようになってい
る。この様に以前に検査した結果が残っていると、その
情報を利用して、目視検査を行う使用者が迅速に判断を
下すことができるので、スループットの向上につなが
る。
In the foreign matter inspection apparatus according to the embodiment of the present invention, the comment can be recorded in association with the positional information of the foreign matter, so that the characteristics of the foreign matter can be stored and managed. Further, in this foreign matter inspection apparatus, the result of the previously performed inspection can be displayed when the inspection is performed again. In this way, if the result of the previous inspection remains, the user who performs the visual inspection can make a quick decision using the information, thereby leading to an improvement in throughput.

【0046】また、更に本発明の実施の形態では、異物
の位置情報と対応づけられてる情報は、コメントの他
に、異物検査部101で検出された異物の大きさに関す
る情報を対応づけて記憶し、表示している。検出された
異物が極小さい異物の場合には、露光時に影警を及ぼさ
ないこともあるので、この様に異物の大小についても、
最終的にレチクルが使用できるか否かを判断する際に、
重要な検討事項となる。したがって、その異物の大きさ
に関する情報についても、対応づけて記憶、表示するこ
とは、大変有意義である。
Further, in the embodiment of the present invention, the information associated with the position information of the foreign matter is stored in association with the comment and information on the size of the foreign matter detected by the foreign matter inspection unit 101 in addition to the comment. And display. If the detected foreign matter is a very small foreign matter, it may not affect the shadow at the time of exposure.
When determining whether a reticle can be used finally,
This is an important consideration. Therefore, it is very significant to store and display the information on the size of the foreign matter in association with the information.

【0047】さらに、異物検査部101で異物検査して
いるときの検査条件も合わせて対応づけて、記憶表示す
ることも可能である。検査条件も合わせて対応づけて、
記憶・表示をすれば、異物検査部101で検出された異
物が、検出感度を上げた際に生じやすくなる疑似欠陥で
ある可能性が高いか低いの目安を使用者に与えることが
でき、目視検査時の判断を迅速に促す効果がある。
Further, it is also possible to store and display the inspection conditions when the foreign substance inspection is performed by the foreign substance inspection section 101 in association with the inspection conditions. Inspection conditions are also matched,
If storage and display are performed, it is possible to give the user a high or low indication that the foreign matter detected by the foreign matter inspection unit 101 is likely to be a pseudo defect that is likely to occur when the detection sensitivity is increased. This has the effect of promptly prompting a judgment at the time of inspection.

【0048】他にも、この異物検査装置では、以上に掲
げた効果の他に、次のような効果を奏する。目視検査工
程で使用可能と判断されたレチクルを用いて、縮小投影
露光機で露光しウェハー上での回路パターン形成に失敗
したときに、その原因を掴む材料として、目視検査時の
コメントが重要となる。そのときに目視検査時のコメン
トが記録されていれば、使用可能と判断したときのコメ
ントを参照することで、原因究明の資料とすることが出
来る。また、そのコメントはレチクル上における位置と
対応して記録されているので、ウェハー上で生じた欠陥
がレチクル上のどの部分にある欠陥が原因となりうるの
かが容易に判る。
In addition, this foreign matter inspection apparatus has the following effects in addition to the effects described above. When using a reticle determined to be usable in the visual inspection process with a reduction projection exposure machine and failing to form a circuit pattern on the wafer, comments on the visual inspection are important as a material to grasp the cause. Become. If a comment at the time of the visual inspection is recorded at that time, it can be used as a material for investigating the cause by referring to the comment when it is determined that it is usable. In addition, since the comment is recorded in correspondence with the position on the reticle, it is easy to determine at which part of the reticle the defect generated on the wafer may be caused.

【0049】ところで、外部記憶手段44は、携帯の容
易なフロッピーディスクや光磁気ディスクでも構わな
い。このように外部記憶手段44が携帯の容易な媒体で
あれば、本発明の実施の形態である異物検査装置と、縮
小投影露光装置とが各々別々の場所に有るような場合、
欠陥の位置情報および大きさ情報と、目視検査時につけ
たコメントとをプリントアウトした紙を添付して、レチ
クルを異物検査装置のある場所から縮小投影露光装置の
ある場所まで移動させるときに、添付した紙が大変じゃ
まになる恐れがある。しかしながら、本発明の実施の形
態である異物検査装置は携帯の容易なフロッピーディス
クや光磁気ディスクにダウンロードすることができるの
で、この様な問題も解決することが出来る。
The external storage means 44 may be a portable floppy disk or a magneto-optical disk. As described above, if the external storage unit 44 is a medium that is easy to carry, if the foreign matter inspection apparatus according to the embodiment of the present invention and the reduced projection exposure apparatus are located at different locations,
Attach the paper when the reticle is moved from the location of the foreign matter inspection device to the location of the reduction projection exposure device by attaching a paper printed out with the position information and size information of the defect and the comment given during the visual inspection. Torn paper can be very disturbing. However, the foreign matter inspection apparatus according to the embodiment of the present invention can be downloaded to a portable floppy disk or a magneto-optical disk, so that such a problem can be solved.

【0050】ところで、縮小投影露光装置に用いられる
レチクルは、図10に示すようにレチクル500の回路
パターンが形成されたパターン面501にペリクル膜5
03が備えられたものがー般に用いられる。この様なレ
チクルを検査するような場合、本発明の実施の形態であ
る異物検査装置では、ガラス面501、その裏側である
パターン面502及びペリクル膜503とをそれぞれ異
物検査部101で欠陥の検査を行い、欠陥が検出された
場合、目視検査を行う必要がある。
The reticle used in the reduction projection exposure apparatus has a pellicle film 5 on a pattern surface 501 on which a circuit pattern of a reticle 500 is formed as shown in FIG.
Those provided with 03 are generally used. In the case of inspecting such a reticle, in the particle inspection apparatus according to the embodiment of the present invention, the glass surface 501, the pattern surface 502 on the back side thereof, and the pellicle film 503 are each inspected for defects by the particle inspection unit 101. When a defect is detected, it is necessary to perform a visual inspection.

【0051】本発明の実施の形態である異物検査装置で
は、この様な場合、コメントを入力する際に図11の様
な入力画面を表示して行うことでも構わない。また、上
記の本発明の実施の形態における異物検査装置は、個々
の異物ごとにコメントを付けて、記憶・表示している
が、本発明はこれ以外にも、複数個の異物をまとめて、
一つのグループの異物として認識し、そのグループ全体
に対してコメントを付けることでも構わない。この様に
コメントを付ける場合には、図11に示す入力画面を利
用して、ガラス面501全体、パターン面502全体、
ペリクル膜503全体にそれぞれーつのコメントを入力
するようにしても構わない。
In such a case, the foreign matter inspection apparatus according to the embodiment of the present invention may display an input screen as shown in FIG. 11 when inputting a comment. In addition, the foreign substance inspection device according to the embodiment of the present invention attaches a comment to each foreign substance and stores and displays the comment. However, the present invention also includes a plurality of foreign substances,
It may be recognized as a foreign substance of one group, and a comment may be added to the entire group. To add a comment in this manner, the entire glass surface 501, the entire pattern surface 502,
One comment may be input to the entire pellicle film 503.

【0052】なお、ガラス面501にもペリクルが設け
られているようなレチクルを検査するような場合には、
同様にガラス面側ぺリクルについてコメントを入力する
領域を設けても構わない。また、入力するコメントが予
め決まっているような場合は、入力が予想されるコメン
トを入力画面上にリストとして表示し、使用者がそのリ
ストを選択することで目動的に入力するようにすると、
更に操作性が向上する。
When inspecting a reticle in which a pellicle is also provided on the glass surface 501,
Similarly, a region for inputting a comment may be provided for the glass surface side vehicle. In addition, when the comment to be input is determined in advance, the comment to be input is displayed as a list on the input screen, and the user can input the comment dynamically by selecting the list. ,
Further, operability is improved.

【0053】[0053]

【発明の効果】本発明の様に、異物または欠陥の位置情
報に対応して、目視検査時にコメントを付加すること
で、欠陥の形状等の特徴を保存管理できるようになる。
また、更に再び異物検査を行ったときに、以前に行った
検査情報を得ることが出来るので、目視検査時での使用
可否の判断を迅速に行えるようになる。
According to the present invention, by adding a comment at the time of a visual inspection according to the position information of a foreign substance or a defect, characteristics such as the shape of the defect can be stored and managed.
Further, when the foreign substance inspection is performed again, the information of the previously performed inspection can be obtained, so that it is possible to quickly determine whether or not use is possible during the visual inspection.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】:本発明の実施の形態である異物検査装置の全
体構成概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram of the overall configuration of a foreign matter inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】:本発明の実施の形態である異物検査装置の異
物検査部の構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram of a foreign substance inspection unit of the foreign substance inspection apparatus according to the embodiment of the present invention.

【図3】:本発明の実施の形態である異物検査装置の目
視検査部の構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram of a visual inspection unit of the foreign substance inspection device according to the embodiment of the present invention.

【図4】:本発明の実施の形態である異物検査装置の全
体制御部の概略構成図である。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram of an overall control unit of the foreign substance inspection device according to the embodiment of the present invention.

【図5】:本発明の実施の形態である異物検査装置のフ
ローチャートを示した図である。
FIG. 5 is a diagram showing a flowchart of a foreign substance inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図6】:本発明の実施の形態である異物検査装置のフ
ローチャートを示した図である(図5の続き)。
FIG. 6 is a view showing a flowchart of the foreign matter inspection apparatus according to the embodiment of the present invention (continuation of FIG. 5).

【図7】:本発明の実施の形態である異物検査装置のフ
ローチャートを示した図である(図5の続き)。
FIG. 7 is a diagram showing a flowchart of the foreign matter inspection apparatus according to the embodiment of the present invention (continuation of FIG. 5).

【図8】:本発明の実施の形態である異物検査装置で表
示されるコメント入力画面の図である。
FIG. 8 is a diagram of a comment input screen displayed on the foreign substance inspection device according to the embodiment of the present invention.

【図9】:本発明の実施の形態である異物検査装置で表
示される前回の検査データを表示したときの図である。
FIG. 9 is a diagram when the previous inspection data displayed by the foreign substance inspection apparatus according to the embodiment of the present invention is displayed.

【図10】:ペリクル付きレチクルの断面図である。FIG. 10 is a sectional view of a reticle with a pellicle.

【図11】:本発明の実施の形態である異物検査装置で
表示されるコメント入力画面の図で、図10のペリクル
付きレチクルを検査したときの表示画面である。
11 is a view of a comment input screen displayed by the foreign substance inspection apparatus according to the embodiment of the present invention, which is a display screen when the reticle with a pellicle of FIG. 10 is inspected.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 異物検査部 2…レチクル、3…一軸ステージ、4A〜4C…駆動
部、5…スイッチングミラー、6…光源、7…スキャナ
ーミラー、8…集光レンズ、9、15…ミラー、10A
〜10E…光亀変換素子、11…異物検査制御部 102 目視検査部 201…光学顕微鏡、202…CCDカメラ、203…
ITVモニター、204…ステージ、205…ステージ
駆動手段、206…ステージ駆動制御部 103 レチクル搬入部 104 レチクル搬出部 105 レチクル搬送部 106 全体制御部 12…メモリ、41…制御部、42…情報入力手段、4
3…ディスプレイ、44…外部記憶手段 81…コメント記入欄 91…レチクル名表示領域、92…レチクルサイズ表示
領域、93…検査実行日時表示領域、94…異物位置表
示領域、95…異物大きさ情報表示領域、96…コメン
ト表示領域、97…検査結果コメント表示領域 501…レチクル、502…ガラス面、503…パター
ン面、504…ガラス面の入力領域、505…パターン
面の入力領域、506…ペリクルの入力領域
101 Foreign matter inspection unit 2 ... reticle, 3 ... uniaxial stage, 4A to 4C ... drive unit, 5 ... switching mirror, 6 ... light source, 7 ... scanner mirror, 8 ... condenser lens, 9, 15 ... mirror, 10A
10 to 10E: light turtle conversion element, 11: foreign matter inspection control unit 102 visual inspection unit 201: optical microscope, 202: CCD camera, 203 ...
ITV monitor, 204 stage, 205 stage drive means, 206 stage drive control unit 103 reticle loading unit 104 reticle unloading unit 105 reticle transport unit 106 overall control unit 12 memory, 41 control unit, 42 information input unit 4
3 display, 44 external storage means 81 comment field 91 reticle name display area, 92 reticle size display area, 93 inspection date and time display area, 94 foreign matter position display area, 95 foreign matter size information display Area, 96: Comment display area, 97: Test result comment display area 501: Reticle, 502: Glass surface, 503: Pattern surface, 504: Glass surface input region, 505: Pattern surface input region, 506: Pellicle input region

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被検査物に光を照射し、前記被検査物か
ら来る光を光電変換素子で受光することにより前記被検
査物の表面に存在する異物を検出し、前記異物の位置を
検出する異物検査手段と、 前記異物検査手段から出力される前記異物が存在する位
置情報を格納する記憶手段と、 前記異物を目視検査する目視検査手段と、 前記異物検査手段により検出された異物の位置情報と対
応づけて、前記目視検査手段での目視検査に関する記述
を記録するコメント記憶手段とを備えたことを特徴とす
る異物検査装置
An object to be inspected is irradiated with light, and light coming from the object to be inspected is received by a photoelectric conversion element, thereby detecting foreign matter present on the surface of the object to be inspected and detecting the position of the foreign matter. Foreign matter inspection means, storage means for storing position information of the presence of the foreign matter output from the foreign matter inspection means, visual inspection means for visually inspecting the foreign matter, and position of the foreign matter detected by the foreign matter inspection means A foreign matter inspection device, comprising: comment storage means for recording a description of the visual inspection by the visual inspection means in association with information.
【請求項2】 更に、少なくとも前記記憶手段と前記コ
メント記憶手段とに記憶された前記異物が存在する位置
情報と、前記目視検査に関する記述を表示する表示手段
とを備えたことを特徴とする請求項1記載の異物検査装
2. The apparatus according to claim 1, further comprising a display unit for displaying position information of the foreign substance stored in at least the storage unit and the comment storage unit, and a description about the visual inspection. Item 1 foreign matter inspection device
【請求項3】 前記コメント記憶手段は、前記目視検査
手段での目視検査の検査内容または検査結果を記録する
ことを特徴とする請求項1記載の異物検査装置
3. The foreign matter inspection apparatus according to claim 1, wherein the comment storage unit records the inspection content or the inspection result of the visual inspection by the visual inspection unit.
【請求項4】 前記目視検査の検査内容または検査結果
は、前記目視検査手段で目視検査された欠陥の様子また
は目視検査時の使用者の判断内容であることを特徴とす
る請求項3記載の異物検査装置
4. The inspection content or inspection result of the visual inspection is a state of a defect visually inspected by the visual inspection means or a content of a user's judgment at the time of the visual inspection. Foreign matter inspection device
【請求項5】 前記記憶手段は、前記異物検査手段の光
電変換素子からの信号から、異物の大きさに関する情報
を、前記異物の位置情報と対応づけて記憶することを特
徴とする請求項1記載の異物検査装置
5. The storage unit according to claim 1, wherein information on a size of the foreign matter is stored in correspondence with position information of the foreign matter from a signal from a photoelectric conversion element of the foreign matter inspection unit. Foreign matter inspection device described
【請求項6】 前記表示手段は、更に前記記憶手段で記
憶された前記異物の位置情報及び前記異物の大きさ情報
と、前記コメント記憶手段で記憶された目視検査に関す
る記述とを対応づけて表示することを特徴とする請求項
5記載の異物検査装置
6. The display means further displays the position information of the foreign matter and the size information of the foreign matter stored in the storage means in association with the description relating to the visual inspection stored in the comment storage means. 6. The foreign matter inspection apparatus according to claim 5, wherein
【請求項7】 前記異物検査手段は、前記被検査物が少
なくとも一方の面にペリクル膜が設けられたレチクルま
たはフォトマスクを検査し、前記ペリクル膜、前記レチ
クルまたはフォトマスクの一方の面及び他方の面につい
て別々に異物を検出する異物検査手段であり、 前記欠陥の位置情報は、前記ペリクル膜、前記レチクル
またはフォトマスクの一方の面または他方の面のいづれ
かの情報と、かつ前記欠陥の座標情報であることを特徴
とする請求項1記載の異物検査装置
7. The foreign matter inspection means, wherein the object to be inspected inspects a reticle or photomask provided with a pellicle film on at least one surface, and one surface and the other of the pellicle film, the reticle or photomask. Foreign matter inspection means for separately detecting foreign matter on the surface of the pellicle film, the position information of any one of the pellicle film, the reticle or the photomask, and the coordinates of the defect 2. The foreign matter inspection apparatus according to claim 1, wherein the foreign matter inspection information is information.
【請求項8】 前記異物検査手段により検出された異物
の位置情報は、複数の異物が存在する領域を示したもの
であり、前記コメント記憶手段は、前記位置情報で示さ
れる領域に存在する複数の異物に関する記述を記憶する
ことを特徴とする請求項1記載の異物検査装置
8. The position information of the foreign matter detected by the foreign matter inspection means indicates an area where a plurality of foreign matters exist, and the comment storage means stores a plurality of foreign matters existing in the area indicated by the position information. 2. A foreign matter inspection apparatus according to claim 1, wherein a description relating to the foreign matter is stored.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007271952A (en) * 2006-03-31 2007-10-18 Toppan Printing Co Ltd Inspection method on stencil mask and device therefor
JP2008076169A (en) * 2006-09-20 2008-04-03 Olympus Corp Substrate inspection system
JP2008251042A (en) * 2008-06-13 2008-10-16 Hitachi High-Technologies Corp Remote maintenance system
US8235212B2 (en) 2002-12-27 2012-08-07 Asml Netherlands B.V. Mask transport system configured to transport a mask into and out of a lithographic apparatus
JPWO2016153052A1 (en) * 2015-03-26 2018-01-18 大日本印刷株式会社 Photomask manufacturing method and inspection apparatus
JP2019212235A (en) * 2018-06-08 2019-12-12 アンリツインフィビス株式会社 Article inspection system and program of the same

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8235212B2 (en) 2002-12-27 2012-08-07 Asml Netherlands B.V. Mask transport system configured to transport a mask into and out of a lithographic apparatus
JP2007271952A (en) * 2006-03-31 2007-10-18 Toppan Printing Co Ltd Inspection method on stencil mask and device therefor
JP2008076169A (en) * 2006-09-20 2008-04-03 Olympus Corp Substrate inspection system
JP2008251042A (en) * 2008-06-13 2008-10-16 Hitachi High-Technologies Corp Remote maintenance system
JPWO2016153052A1 (en) * 2015-03-26 2018-01-18 大日本印刷株式会社 Photomask manufacturing method and inspection apparatus
JP2019212235A (en) * 2018-06-08 2019-12-12 アンリツインフィビス株式会社 Article inspection system and program of the same

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