JPH102865A - Inspecting device of reticle and inspecting method therefor - Google Patents

Inspecting device of reticle and inspecting method therefor

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JPH102865A
JPH102865A JP8156593A JP15659396A JPH102865A JP H102865 A JPH102865 A JP H102865A JP 8156593 A JP8156593 A JP 8156593A JP 15659396 A JP15659396 A JP 15659396A JP H102865 A JPH102865 A JP H102865A
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JP
Japan
Prior art keywords
reticle
foreign matter
data
foreign
inspection
Prior art date
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Application number
JP8156593A
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Japanese (ja)
Inventor
Toru Tanida
徹 谷田
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
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Publication of JPH102865A publication Critical patent/JPH102865A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To minimize the visual inspection by a user by storing the state of a foreign matter adhered to a reticle judged to be usable in an inspection data memory part, and judging a reticle substantially in the same state to be usable without depending on the judgement of the user. SOLUTION: When a user judges a reticle 1 to be usable by the observation of a foreign matter, an usable signal is inputted to a total control part 20. Signals related to the position coordinate where the foreign matter is present and the magnitude of the scattered light at that time are outputted from the control part 20 to an inspection data memory part 21 together with the bar code information attached to the reticle 1. The memory part 21 stores the information. When a foreign matter inspected by a laser scattering type foreign matter inspecting part 101 is smaller than the foreign matter stored in the memory part 21, the control part 20 judges that it is a usable reticle, and a reticle carrying part delivers the reticle 1 to a usable reticle delivering part.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、投影露光法による
半導体製造に必要な工程であるレチクル検査法に係り、
レチクルに付着した異物を検出してレチクル使用の可否
を判定するレチクル検査法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reticle inspection method, which is a step required for manufacturing a semiconductor by a projection exposure method.
The present invention relates to a reticle inspection method for detecting foreign matter attached to a reticle and determining whether to use the reticle.

【0002】[0002]

【従来の技術】投影露光法による半導体製造では、レチ
クルに形成されたパターンを縮小してウェハーに回路パ
ターンを形成する。そのため、異物が付着したレチクル
を用いて投影露光法による半導体製造を行うと、異物の
像もウェハー上に結像してしまい、ウェハーに形成され
た回路パターンに欠陥が生じてしまう。
2. Description of the Related Art In semiconductor manufacturing by a projection exposure method, a pattern formed on a reticle is reduced to form a circuit pattern on a wafer. Therefore, when a semiconductor is manufactured by a projection exposure method using a reticle to which foreign matter has adhered, an image of the foreign matter is also formed on the wafer, and a defect occurs in a circuit pattern formed on the wafer.

【0003】この様なことが生ずるのを防ぐために、近
年、レチクル上に透明な保護膜であるペリクル膜を覆う
ことで、レチクルに異物が付着することを防いでいる。
この回路パターンの原型が形成されたレチクルにペリク
ル膜を備えた様子を図7に示す。この様に、レチクルの
基板71の表面(パターンが形成された面)及び裏面の
それぞれにペリクル膜用の枠73を設け、その枠73に
ペリクル膜72を張設している。また、レチクルの基板
71には、クロム膜で形成されたクロムパターン74に
よって回路パターンの原盤が形成されている。
In recent years, in order to prevent such a problem from occurring, foreign substances are prevented from adhering to the reticle by covering the reticle with a pellicle film which is a transparent protective film.
FIG. 7 shows a state in which a pellicle film is provided on the reticle on which the prototype of the circuit pattern is formed. As described above, the pellicle film frame 73 is provided on each of the front surface (the surface on which the pattern is formed) and the back surface of the reticle substrate 71, and the pellicle film 72 is provided on the frame 73. A reticle substrate 71 has a circuit pattern master formed by a chrome pattern 74 formed of a chrome film.

【0004】この様に異物の付着を防ぐためレチクル上
にペリクル膜を設けているが、しかしながら、実際に
は、ペリクル膜を設けたレチクルでも、保管期間、移動
回数、使用回数の増加に伴い、ペリクルで囲まれた内部
で異物が発生してしまう。その一例を図8に示す。図8
は、ペリクル膜によって形成された内部に異物が発生し
た状態を示す。ペリクル膜によって形成された内部に異
物が発生した場合、その異物85、86は基板71また
はクロムパターン74に付着してしまう。
As described above, a pellicle film is provided on a reticle in order to prevent foreign matter from adhering. However, in practice, even with a reticle provided with a pellicle film, the storage period, the number of movements, and the number of times of use increase. Foreign matter is generated inside the area surrounded by the pellicle. One example is shown in FIG. FIG.
Indicates a state in which a foreign substance is generated inside the pellicle film. When foreign matter is generated inside the pellicle film, the foreign matter 85, 86 adheres to the substrate 71 or the chrome pattern 74.

【0005】クロムパターン74に付着した異物86
は、半導体製造にとっては影響がないが、基板71に直
接付着した異物85は、半導体製造にとって欠陥となる
影響を及ぼす。この様にレチクル上に付着した異物は、
半導体の製造に当たって欠陥を発生させる要因となる。
したがって、異物を検出する方法をする必要がある。
Foreign matter 86 adhered to chrome pattern 74
Has no effect on semiconductor manufacturing, but the foreign matter 85 directly adhered to the substrate 71 has a bad influence on semiconductor manufacturing. Foreign matter adhering to the reticle in this way
This is a factor that causes defects in the manufacture of semiconductors.
Therefore, there is a need for a method for detecting foreign matter.

【0006】ところで、レチクル上に付着した異物を検
出する方法として、レーザー散乱型検査装置がある。こ
の装置は、レチクルをレーザー光を照射して、レチクル
からの発せられる散乱光を受光する受光素子を複数個別
々の位置に備えている。これらの受光素子は光を受光し
た場合、その光を電気信号に変換している。異物がレチ
クル上に存在しているか否かは、それぞれの受光素子か
らの電気信号を統合的に分析して行われる。レーザー光
が照射された位置に異物が有るか無いかを検出する。こ
の装置は、レーザー光とレチクルとを相対的に移動させ
ることができるので、2次元的に異物が有るか否かを検
出できる。
[0006] As a method of detecting a foreign substance adhering on a reticle, there is a laser scattering type inspection apparatus. This apparatus includes a plurality of light receiving elements at different positions for irradiating a reticle with laser light and receiving scattered light emitted from the reticle. When these light receiving elements receive light, they convert the light into an electric signal. Whether or not the foreign matter exists on the reticle is determined by integrally analyzing the electric signals from the respective light receiving elements. It is detected whether or not there is any foreign matter at the position where the laser beam has been irradiated. This device can relatively move the laser beam and the reticle, so that it is possible to two-dimensionally detect whether or not there is a foreign substance.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなレーザー散乱型検査装置では、異物の有無は検出で
きるが、その異物が投影露光による半導体の製造を行っ
た際に、悪影響を及ぼすものであるかについては判断す
ることができない。例えば、図9に示す図は、ステッパ
ーなどの投影露光装置において使用可能なペリクル付き
レチクルを示した図であるが、レーザー散乱型検査装置
は図9に示す様なところに存在する異物を検出してしま
う。しかしながら、この様な場所に存在する異物は、投
影露光による半導体製造において、なんら悪影響を及ぼ
さない。ところで図9は、ステッパーなどの投影露光装
置で使用可能なペリクル付きレチクルの説明図である。
レーザー散乱型検査装置では、パターン上の異物86や
致命的でない欠陥パターン87を検出してしまうが、こ
の様な異物が存在したとしても、このレチクルを用いて
半導体製造を行ってもいっこうに差し支えない。
However, such a laser scattering type inspection apparatus can detect the presence or absence of foreign matter, but such foreign matter has a bad effect when manufacturing a semiconductor by projection exposure. I cannot judge it. For example, FIG. 9 shows a reticle with a pellicle that can be used in a projection exposure apparatus such as a stepper. However, a laser scattering type inspection apparatus detects foreign matter existing in a place as shown in FIG. Would. However, foreign matter present in such places has no adverse effect on semiconductor manufacturing by projection exposure. FIG. 9 is an explanatory diagram of a reticle with a pellicle that can be used in a projection exposure apparatus such as a stepper.
The laser scattering type inspection apparatus detects foreign matter 86 on the pattern and a non-fatal defect pattern 87. Even if such foreign matter exists, it is no problem if a semiconductor is manufactured using this reticle. Absent.

【0008】だが、レーザー散乱型検査装置による検査
だけでは、この異物が半導体製造に悪影響を及ぼすかど
うかについては判断ができないため、異物が検出された
レチクルは全て人間が直接にレチクルの異物が検出され
た部分の拡大像を見てレチクルの使用の可否を判断しな
ければならない。この判断工程は実際、時間がかかるた
め半導体製造工程でのスループットを低下させていた。
However, it is not possible to judge whether or not the foreign matter adversely affects the semiconductor manufacturing by inspection using only a laser scattering type inspection apparatus. Therefore, all of the reticles in which the foreign matter is detected are directly detected by a human. It is necessary to judge whether or not the reticle can be used by looking at the enlarged image of the portion. This determination step actually takes a long time, so that the throughput in the semiconductor manufacturing process is reduced.

【0009】したがって、本発明ではレーザー散乱型検
査装置の検査方法を改良することにより、人間によるレ
チクルの目視検査を行いレチクルの使用の可否を判断す
る工程を出来うる限り少なくし、半導体製造工程で使用
するレチクルの歩留まりを少しでも良くすることを目的
としている。
Therefore, in the present invention, by improving the inspection method of the laser scattering type inspection apparatus, the number of steps for visually inspecting the reticle by a human to judge whether or not to use the reticle is reduced as much as possible. The purpose is to improve the yield of the reticle used.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明では、レチクルにレーザー光を照射して、前記
レチクル上の異物を検出する異物検出手段と、異物検出
手段から出力された前記レチクル上の異物に関する情報
を格納する異物情報格納手段と、少なくとも一回は異物
検出手段で検査されたレチクルについて、異物検出手段
によって出力されたレチクル上の異物の大きさの情報
と、異物情報格納手段から出力される以前に検出された
異物の大きさにに関する情報とを比較し、使用の可否を
判定する判定手段とを備えた
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, according to the present invention, a reticle is irradiated with a laser beam to detect a foreign substance on the reticle, and the reticle is output from the foreign substance detecting means. Foreign matter information storage means for storing information on foreign matter on the reticle, and information on the size of foreign matter on the reticle output by the foreign matter detection means and foreign matter information for the reticle inspected at least once by the foreign matter detection means Determining means for comparing the information on the size of the foreign substance detected before output from the means and determining whether or not use is possible;

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】次に、本発明を詳しく説明するた
めに、本発明の実施の一形態を挙げて説明する。図1に
は、本発明の実施の形態であるレチクル検査装置の構成
図を示す。また、図2には、そのレチクル検査装置の全
体構成図を示す。本レチクル検査装置は、図2に示すよ
うに、図1で示したレーザー散乱型異物検査部101と
目視型検査部102とを有し、更に検査するためのレチ
クルを収納する検査レチクル搬入部201と、本レチク
ル検査装置で使用不能と判断されたレチクルを収納する
使用不能レチクル搬出部202と、本レチクル検査装置
で使用可能と判断されたレチクルを収納する使用可能レ
チクル搬出部203、レチクルを搬送するアームを備え
たレチクル搬送手段204とを備えて、レチクル検査装
置全体を制御する全体制御計算機205を備えている。
Next, in order to explain the present invention in detail, an embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 shows a configuration diagram of a reticle inspection apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 shows an overall configuration diagram of the reticle inspection apparatus. As shown in FIG. 2, the reticle inspection apparatus includes a laser scattering foreign matter inspection unit 101 and a visual inspection unit 102 shown in FIG. 1, and further includes an inspection reticle carry-in unit 201 for storing a reticle for inspection. And an unusable reticle unloading unit 202 for storing a reticle determined to be unusable by the reticle inspection device, a usable reticle unloading unit 203 for storing a reticle determined to be usable by the reticle inspection device, and transport of the reticle And a reticle transport unit 204 having an arm for controlling the reticle inspection apparatus.

【0012】また、検査レチクル搬入部201、使用不
能レチクル搬出部202および使用可能レチクル搬出部
203では、レチクルはレチクルケースに収納されてい
るため、レチクル搬送手段204には、レチクルケース
を開閉しレチクルケースからレチクルを取り出す機構が
およびレチクルケースへレチクルを収納させる機構を有
している。
In the inspection reticle carry-in section 201, the unusable reticle carry-out section 202, and the usable reticle carry-out section 203, the reticle is housed in a reticle case. The mechanism for taking out the reticle from the case has a mechanism for storing the reticle in the reticle case.

【0013】具体的には、レチクル搬送手段204に
は、ロボットアームとロボットアーム駆動部材とを備え
ている。ロボットアームは、レチクルおよびレチクルケ
ースを搬送するため備えている。また、ロボットアーム
駆動部材は、ロボットアームを検査レチクル搬入部20
1、使用不能レチクル搬出部202、使用可能レチクル
搬出部203、レーザー散乱型検査部101および目視
型検査部102の各構成へ移動させるために備えてい
る。
More specifically, the reticle transport means 204 includes a robot arm and a robot arm driving member. The robot arm is provided for transporting a reticle and a reticle case. Further, the robot arm driving member connects the robot arm to the inspection reticle loading section 20.
1. It is provided for moving to an unusable reticle unloading unit 202, usable reticle unloading unit 203, laser scattering type inspection unit 101, and visual inspection unit 102.

【0014】検査レチクル搬入部201、使用不能レチ
クル202および使用可能レチクル搬出部203には、
ロボットアームが進入してきたときに、レチクルケース
の蓋部を開閉する機構を有している。レチクルケースに
収納されているレチクルのロボットアームでの取り出し
や収納を可能としている。レーザー散乱型異物検査部1
01は、図1に示した構成を有している。
The inspection reticle carry-in section 201, unusable reticle 202 and usable reticle carry-out section 203 include:
A mechanism is provided for opening and closing the lid of the reticle case when the robot arm enters. The reticle stored in the reticle case can be taken out and stored by the robot arm. Laser scattering type foreign matter inspection section 1
01 has the configuration shown in FIG.

【0015】レーザー散乱型検査部101は、検査台
2、レーザー光源3、受光部4、信号処理手段5、検査
台駆動手段6、レーザー検査制御手段7を備えている。
検査台2は、異物の検査をするレチクル1を載置するた
めの台であり、検査台駆動手段6によって2次元的に移
動することができる。レーザー光源3は、異物を検査す
るレチクル1にレーザー光を照射するための光源であ
る。受光部4は、レチクル上に存在する異物があるとき
に発生する散乱光を検出するためのものである。
The laser scattering type inspection unit 101 includes an inspection table 2, a laser light source 3, a light receiving unit 4, a signal processing unit 5, an inspection table driving unit 6, and a laser inspection control unit 7.
The inspection table 2 is a table on which the reticle 1 for inspecting foreign substances is placed, and can be moved two-dimensionally by the inspection table driving means 6. The laser light source 3 is a light source for irradiating the reticle 1 for inspecting foreign matter with laser light. The light receiving section 4 is for detecting scattered light generated when there is a foreign substance present on the reticle.

【0016】レーザー光源3からレチクルに照射され、
レチクルによって反射された光のうち、異物が有る場合
に発生する散乱光を検出して、異物の有無および異物の
大きさを検出している。また、検査台2が検査台駆動手
段6によって走査されることで、レーザー光を2次元的
にレチクル上に照射することができる。このように検査
台2の位置を制御しつつ、散乱光の有無を受光部4で検
出することによって、レチクル上にある異物の位置を検
出することができる。また、得られる散乱光の強度によ
って異物の大きさを検出することが出来る。
The reticle is irradiated from the laser light source 3,
Among the light reflected by the reticle, scattered light generated when there is a foreign substance is detected, and the presence or absence of the foreign substance and the size of the foreign substance are detected. In addition, the inspection table 2 is scanned by the inspection table driving means 6 so that the laser light can be two-dimensionally irradiated on the reticle. As described above, by controlling the position of the inspection table 2 and detecting the presence or absence of scattered light by the light receiving unit 4, the position of the foreign matter on the reticle can be detected. Further, the size of the foreign matter can be detected based on the intensity of the obtained scattered light.

【0017】信号処理部5は、受光部4から得られた散
乱光に関する情報をデジタル化して、散乱光の有無およ
び散乱光の大きさに関する信号を出力する。この信号処
理部5で出力された信号をレーザー散乱検査制御部7に
出力する。レーザー散乱検査制御部7は、検査台2を2
次元走査するためのXY駆動部6の制御を行い、検査台
2の位置制御を行う。
The signal processing unit 5 digitizes the information on the scattered light obtained from the light receiving unit 4 and outputs a signal on the presence or absence of the scattered light and the magnitude of the scattered light. The signal output from the signal processing unit 5 is output to the laser scattering inspection control unit 7. The laser scattering inspection controller 7 sets the inspection table 2 to 2
The XY drive unit 6 for dimensional scanning is controlled, and the position of the inspection table 2 is controlled.

【0018】ところで、本発明の実施の一形態であるレ
チクル検査装置では、まず最初に検査レチクル搬入部2
01から検査するレチクルを取り出し、レチクル搬送部
204によってレーザー散乱型検査部101に搬入され
る。そして、レーザー散乱型検査部101に搬入された
レチクルは、図1に示す検査台1に固定される。ところ
で、検査するレチクルが検査レチクル搬入部201にあ
るときに、図示されていないバーコード読みとり手段に
よりレチクル1の一部に設けられたバーコードを読みと
り、レチクルの識別信号を全体制御部20に出力する。
In the reticle inspection apparatus according to one embodiment of the present invention, first, the inspection reticle loading section 2
The reticle to be inspected is taken out of the laser scatter inspection unit 101 and is loaded into the laser scattering type inspection unit 101 by the reticle transport unit 204. Then, the reticle carried into the laser scattering inspection unit 101 is fixed to the inspection table 1 shown in FIG. By the way, when the reticle to be inspected is in the inspection reticle carry-in section 201, a barcode reading section (not shown) reads a barcode provided on a part of the reticle 1, and outputs a reticle identification signal to the overall control section 20. I do.

【0019】そして、次にレーザー散乱検査制御部7で
検査台駆動手段6を制御しつつレチクル1を2次元的に
ラスター走査を行いながら、レーザー3のからの光をレ
チクル1に照射して、散乱光の有無を受光部4で検出す
る。そして、受光部4で検出された散乱光について、受
光部4から出力される受光信号を元に、信号処理部5で
判別しながらある強度以上の散乱光信号が有れば、異物
が存在するとしてレーザー散乱検査制御部7に信号を出
力する。そして、レーザー散乱検査制御部7では、信号
処理部5で信号が出力された時点におけるレーザースポ
ットの照射位置を割り出し、レチクル1における異物の
存在する位置座標を全体制御部20に出力する。また、
このとき受光部4で受光した散乱光の大きさに関する信
号も全体制御部20に出力する。このようにして、レー
ザー3から光がレチクル1の検査領域を検査するまで、
レーザー散乱検査制御部7でXY駆動部6を制御しなが
ら異物検査を行う。
Then, while the inspection table driving means 6 is controlled by the laser scattering inspection control section 7, the reticle 1 is irradiated with light from the laser 3 while performing two-dimensional raster scanning. The presence or absence of scattered light is detected by the light receiving unit 4. If the scattered light detected by the light receiving unit 4 has a scattered light signal of a certain intensity or more determined by the signal processing unit 5 based on the light receiving signal output from the light receiving unit 4, a foreign substance is present. And outputs a signal to the laser scattering inspection controller 7. Then, the laser scattering inspection control unit 7 determines the irradiation position of the laser spot at the time when the signal is output from the signal processing unit 5, and outputs the position coordinates where the foreign matter exists on the reticle 1 to the overall control unit 20. Also,
At this time, a signal relating to the magnitude of the scattered light received by the light receiving unit 4 is also output to the overall control unit 20. In this way, until the light from the laser 3 inspects the inspection area of the reticle 1,
The foreign substance inspection is performed while controlling the XY drive section 6 by the laser scattering inspection control section 7.

【0020】レチクル1の検査領域を検査し終わった
ら、先に記憶したレチクルの識別信号を元に、検査デー
ター記憶部21に記憶されたデーターから以前に同じレ
チクルについて検査を行っているかを検索する。このと
きに、以前に同じレチクルを検査していない場合には、
すぐに全体制御部20によって、異物の存在する位置座
標に関する信号を顕微鏡検査制御部15に出力する。そ
して、異物検査が完了したレチクル1は、レチクル搬送
部204のロボットアームによって目視型検査部102
に搬送され、目視型検査部102の顕微鏡部13の台
(ステージ)12に固定される。レチクル1の顕微鏡部
13の台に固定が完了したら、先の検査で異物が検出さ
れた位置に顕微鏡部13の視野が入るように顕微鏡検査
制御部15から顕微鏡ステージ駆動部14に移動信号を
出力する。そして、使用者が顕微鏡部13の光学顕微鏡
を用いて、異物を観察する。
When the inspection area of the reticle 1 has been inspected, a search is made from the data stored in the inspection data storage unit 21 as to whether the same reticle has been previously inspected, based on the previously stored reticle identification signal. . At this time, if you have not previously inspected the same reticle,
Immediately, the overall control unit 20 outputs a signal relating to the position coordinates where the foreign matter exists to the microscopic inspection control unit 15. Then, the reticle 1 on which the foreign substance inspection is completed is sent to the visual inspection section 102 by the robot arm of the reticle transport section 204.
And is fixed to the stage (stage) 12 of the microscope unit 13 of the visual inspection unit 102. When the fixing of the reticle 1 to the stage of the microscope unit 13 is completed, a movement signal is output from the microscope inspection control unit 15 to the microscope stage driving unit 14 so that the field of view of the microscope unit 13 is located at the position where the foreign matter is detected in the previous inspection. I do. Then, the user observes a foreign substance using the optical microscope of the microscope unit 13.

【0021】この時に、使用者が異物を観察して、レチ
クル1の使用の可否を判定する。そして、使用者がレチ
クル1を使用可と判断した場合には、使用者が全体制御
部20に使用可の信号を入力する。そして、全体制御部
20は、異物の存在する位置座標およびその時の散乱光
の大きさに関する信号をレチクル1に付されたバーコー
ド情報と共に検査データー記憶部21に出力する。そし
て、全体制御部20からレチクル搬送部204にレチク
ル1を搬送する信号を出力され、そして、レチクル搬送
部204によって、レチクル1が使用可能レチクル搬出
部202に搬送される。
At this time, the user observes the foreign matter and determines whether or not the reticle 1 can be used. When the user determines that the reticle 1 can be used, the user inputs a signal indicating that the reticle 1 can be used to the overall control unit 20. Then, the overall control unit 20 outputs to the inspection data storage unit 21 signals relating to the position coordinates of the presence of the foreign matter and the magnitude of the scattered light at that time together with the barcode information attached to the reticle 1. Then, a signal for transporting the reticle 1 is output from the overall control unit 20 to the reticle transport unit 204, and the reticle 1 is transported by the reticle transport unit 204 to the usable reticle unloading unit 202.

【0022】また、使用者が使用不能と判断したときに
は、使用者が全体制御部20に使用不能の信号を入力す
る。そして、全体制御部20からレチクル搬送部204
にレチクル1を搬送する信号を出力され、そして、レチ
クル搬送部204によって、使用不能となったレチクル
1が使用不能レチクル搬出部202に搬送される。とこ
ろで、先に記憶したレチクルの識別信号を元に、検査デ
ーター記憶部21に記憶されたデーターから以前に同じ
レチクルについて検査を行っているかを検索した際に、
以前にレチクル検査を行って、その検査データーが記憶
されている場合には、次の通りである。
When the user determines that the device cannot be used, the user inputs an unusable signal to the overall control unit 20. Then, the reticle transport section 204
The reticle transport unit 204 outputs a signal that transports the reticle 1, and the reticle transport unit 204 transports the disabled reticle 1 to the unusable reticle unloading unit 202. By the way, based on the reticle identification signal previously stored, when the data stored in the inspection data storage unit 21 is searched for whether the same reticle has been previously inspected,
The case where the reticle inspection has been performed before and the inspection data is stored is as follows.

【0023】以前にレチクル検査を行っているレチクル
について、異物検査の検査データーと検査データー記憶
部21に格納されている記憶データーとを全体制御部2
0で比較する。そして、まず検査データー記憶部21に
格納されている記憶データーに対して、そのデーターに
無い位置に存在している異物が有るか否かを検出する。
このとき、検査データ記憶部21に記憶されている位置
に対して完全に一致しなくとも、検査データー記憶部2
1に記憶されている位置にある程度の許容範囲を持たし
て、その位置以外に存在している異物の有無を検出して
いる。この許容範囲は、レチクルが使用しようされる環
境に対して適当な許容範囲を、全体制御部20で決定す
る。
For the reticle which has been previously subjected to the reticle inspection, the inspection data of the foreign substance inspection and the storage data stored in the inspection data storage unit 21 are stored in the overall control unit 2.
Compare with 0. Then, first, it is detected whether or not there is a foreign substance existing at a position not included in the inspection data with respect to the storage data stored in the inspection data storage unit 21.
At this time, even if the position does not completely match the position stored in the inspection data storage unit 21, the inspection data storage unit 2
The position stored in No. 1 has a certain allowable range, and the presence or absence of a foreign substance existing at a position other than the position is detected. The overall control unit 20 determines an allowable range appropriate for an environment in which the reticle is to be used.

【0024】このとき、検査データー記憶部21に格納
されている記憶データーに無い位置に存在する異物が有
る場合には、その異物の大きさがどのくらいの大きさな
のかを全体制御部20で今検出した異物の検査データー
から割り出す。そして、レチクルの使用条件に対して既
に割り出された異物の大きさの基準ランクよりも大きい
か否かを全体制御部20で比較する。この時に基準ラン
クよりも異物が大きい場合は、全体制御部20からレチ
クル搬送部204にレチクル1を台12に搬送する命令
の信号を出力する。更に全体制御部20から顕微鏡検査
部15へ新たに発見された異物の位置座標に関する信号
を出力する。そして、レチクル1が台12に固定された
ら、顕微鏡検査部15から顕微鏡ステージ駆動部14へ
顕微鏡13の顕微鏡の視野内に新たに発見された異物の
位置座標が入るように移動命令を出力する。そして、使
用者は顕微鏡部13を用いて異物の観察を行い、そのレ
チクルの使用の可否を判断する。
At this time, if there is a foreign substance present at a position that does not exist in the stored data stored in the inspection data storage unit 21, the overall control unit 20 determines the size of the foreign substance. It is determined from the inspection data of the detected foreign matter. Then, the overall control unit 20 compares whether or not the size of the foreign matter already determined with respect to the use condition of the reticle is larger than the reference rank. At this time, if the foreign matter is larger than the reference rank, a signal of an instruction to transport the reticle 1 to the pedestal 12 is output from the overall control unit 20 to the reticle transport unit 204. Further, a signal relating to the position coordinates of the newly found foreign matter is output from the overall control unit 20 to the microscope inspection unit 15. Then, when the reticle 1 is fixed to the base 12, a movement command is output from the microscope inspection unit 15 to the microscope stage driving unit 14 so that the position coordinates of the newly found foreign substance are included in the field of view of the microscope of the microscope 13. Then, the user observes the foreign matter using the microscope unit 13 and determines whether or not the reticle can be used.

【0025】そして、使用不能と判断されたレチクル
は、レチクル搬送部204によって使用不能レチクル搬
出部202に搬送される。また、レチクルが使用可とな
った場合には、使用者が全体制御部20にレチクル使用
可とを入力する。そして、全体制御部20ではレチクル
1を使用可能レチクル搬出部203に搬出する命令をレ
チクル搬送部204に出力する。そして、レチクル搬送
部204のロボットアームは台12に固定されたレチク
ル1を掴み、そして、レチクル1は使用可能レチクル搬
出部203に搬送する。また、全体制御部20から検査
データ記憶部21に、異物の存在する位置座標およびそ
の時の散乱光の大きさに関する信号をレチクル1に付さ
れたバーコード情報と共に出力する。そして、検査デー
タ記憶部21は、これらの異物の位置座標、散乱光の大
きさ、バーコード情報を記憶する。
The reticle determined to be unusable is conveyed to the unusable reticle unloading unit 202 by the reticle conveying unit 204. When the reticle becomes usable, the user inputs to the overall control unit 20 that the reticle can be used. Then, the overall control unit 20 outputs a command to unload the reticle 1 to the usable reticle unloading unit 203 to the reticle transport unit 204. Then, the robot arm of the reticle transport unit 204 grasps the reticle 1 fixed to the table 12, and transports the reticle 1 to the usable reticle unloading unit 203. Further, the overall control unit 20 outputs to the inspection data storage unit 21 a signal relating to the position coordinates of the presence of the foreign matter and the magnitude of the scattered light at that time, together with the barcode information attached to the reticle 1. Then, the inspection data storage unit 21 stores the position coordinates of these foreign substances, the magnitude of scattered light, and barcode information.

【0026】また、許容範囲外に存在する異物の大きさ
が基準ランクよりも小さい場合には、つぎに許容範囲内
に存在する異物について、その異物の大きさは基準ラン
クよりも大きいか否かを全体制御部20で比較検討す
る。許容範囲内に存在する異物が基準ランクよりも小さ
い場合は、そのレチクルを使用可能レチクルと判断し、
全体制御部20からレチクル搬送部202に使用可能レ
チクル搬出部203に搬送する命令を出力し、レチクル
搬送部202によって検査台2に載置されたレチクル1
を使用可能レチクル搬出部203に搬送する。
If the size of the foreign matter outside the allowable range is smaller than the reference rank, then, regarding the foreign matter existing within the allowable range, whether the size of the foreign matter is larger than the reference rank is determined. Are compared and examined by the overall control unit 20. If the foreign matter within the allowable range is smaller than the reference rank, the reticle is determined to be a usable reticle,
A command to convey to the usable reticle unloading unit 203 is output from the general control unit 20 to the reticle conveying unit 202, and the reticle 1 placed on the inspection table 2 by the reticle conveying unit 202.
Is transported to the usable reticle unloading section 203.

【0027】また、許容範囲内に存在する異物のうち一
つでも基準ランクよりも大きい異物がある場合には、つ
ぎに検査データ記憶部21に記憶された検査データか
ら、位置が今検出された異物に対応する異物の大きさを
得て、検査データの異物の大きさと検出された異物の大
きさとの対比を行う。この対比は全体制御部20で行わ
れる。
If at least one of the foreign substances present in the allowable range is larger than the reference rank, the position is detected from the inspection data stored in the inspection data storage unit 21 next. The size of the foreign matter corresponding to the foreign matter is obtained, and the size of the foreign matter in the inspection data is compared with the size of the detected foreign matter. This comparison is performed by the overall control unit 20.

【0028】このときに、レーザー散乱型異物検査部1
01で検出された異物が検査データ記憶部21に記憶さ
れている異物の大きさよりも大きい場合には、全体制御
部20からレチクル搬送部202にレチクル1を目視検
査部102に搬送する命令を出力する。そして、更に全
体制御部20から顕微鏡検査部15へ検査データ記憶部
21に記憶されている異物の大きさよりも大きい異物の
位置座標に関する信号を出力する。そして、レチクル1
が台12に固定されたら、顕微鏡検査部15から顕微鏡
ステージ駆動部14へ顕微鏡13の顕微鏡の視野内に新
たに発見された異物の位置座標が入るように移動命令を
出力する。そして、使用者は顕微鏡部13を用いて異物
の観察を行い、そのレチクルの使用の可否を判断する。
At this time, the laser scattering foreign matter inspection unit 1
If the foreign matter detected in step 01 is larger than the size of the foreign matter stored in the inspection data storage unit 21, a command to transport the reticle 1 to the visual inspection unit 102 is output from the general control unit 20 to the reticle transport unit 202. I do. Then, a signal relating to the position coordinates of the foreign matter larger than the size of the foreign matter stored in the inspection data storage unit 21 is output from the overall control unit 20 to the microscope inspection unit 15. And reticle 1
Is fixed to the table 12, a movement command is output from the microscope inspection unit 15 to the microscope stage drive unit 14 so that the position coordinates of the newly discovered foreign matter fall within the field of view of the microscope of the microscope 13. Then, the user observes the foreign matter using the microscope unit 13 and determines whether or not the reticle can be used.

【0029】そして、使用不能と判断されたレチクル
は、レチクル搬送部204によって使用不能レチクル搬
出部202に搬送される。また、レチクルが使用可とな
った場合には、使用者が全体制御部20にレチクル使用
可とを入力する。そして、全体制御部20ではレチクル
1を使用可能レチクル搬出部203に搬出する命令をレ
チクル搬送部204に出力する。そして、レチクル搬送
部204のロボットアームは台12に固定されたレチク
ル1を掴み、そして、レチクル1は使用可能レチクル搬
出部203に搬送する。また、全体制御部20から検査
データ記憶部21に、異物の存在する位置座標およびそ
の時の散乱光の大きさに関する信号をレチクル1に付さ
れたバーコード情報と共に出力する。そして、検査デー
タ記憶部21は、これらの異物の位置座標、散乱光の大
きさ、バーコード情報を記憶する。
The reticle determined to be unusable is transported to the unusable reticle unloading unit 202 by the reticle transport unit 204. When the reticle becomes usable, the user inputs to the overall control unit 20 that the reticle can be used. Then, the overall control unit 20 outputs a command to unload the reticle 1 to the usable reticle unloading unit 203 to the reticle transport unit 204. Then, the robot arm of the reticle transport unit 204 grasps the reticle 1 fixed to the table 12, and transports the reticle 1 to the usable reticle unloading unit 203. Further, the overall control unit 20 outputs to the inspection data storage unit 21 a signal relating to the position coordinates of the presence of the foreign matter and the magnitude of the scattered light at that time, together with the barcode information attached to the reticle 1. Then, the inspection data storage unit 21 stores the position coordinates of these foreign substances, the magnitude of scattered light, and barcode information.

【0030】ところで、レーザー散乱型異物検査部10
1で検出された異物が検査データ記憶部21に記憶され
ている異物の大きさよりも小さい場合には、全体制御部
20によって使用可能レチクルとして判断され、レチク
ル1を使用可能レチクル搬出部203に搬送する命令を
出力する。そして、レチクル搬送部203は、レチクル
1を使用可能レチクル搬出部203に搬出する。
Incidentally, the laser scattering type foreign matter inspection unit 10
If the foreign matter detected in step 1 is smaller than the size of the foreign matter stored in the inspection data storage unit 21, it is determined as a usable reticle by the overall control unit 20, and the reticle 1 is transported to the usable reticle unloading unit 203. Output the instruction to execute. Then, reticle transport section 203 unloads reticle 1 to usable reticle unloading section 203.

【0031】以上行われる手順のうちすでに検査データ
を取得したレチクルの検査については、図3および図4
のフローチャートの様に表すことができる。図3に示す
フローチャートは、レチクル検査装置全体についてのフ
ローチャートで、図4に示すフローチャートは、全体計
算機205内におけるフローチャートである。図4は図
3の(A)のステップ内で行われるフローに対応する。
なお、検査データを取得していないレチクル検査におけ
るフローチャートは省略する。
Of the procedures performed above, the inspection of a reticle for which inspection data has already been acquired is described in FIGS.
Can be represented as in the flowchart of FIG. The flowchart shown in FIG. 3 is a flowchart for the entire reticle inspection apparatus, and the flowchart shown in FIG. 4 is a flowchart in the overall computer 205. FIG. 4 corresponds to the flow performed in the step of FIG.
Note that a flowchart in a reticle inspection for which inspection data has not been acquired is omitted.

【0032】ところで、最初のステップS001では、
検査レチクル搬入部201に搬入された被検査レチクル
を設置する。次のステップS002では、検査レチクル
搬入部201に設置された被検査レチクルのバーコード
を読みとり、全体制御計算機205にレチクル名を入力
する。そして、次のステップS003バーコードの読み
とりが終了した被検査レチクルは、レチクル搬送部20
4によって、レーザー散乱型検査部101に搬送され
る。そして、レーザー散乱型検査部101に搬送された
被検査レチクルの異物検査を実行する。また、同時にス
テップS004で、全体制御計算機205に入力された
レチクル名から、今回の検査より前に行った前回データ
を全体制御計算機205の検査データ記憶部21から検
索し、前回データを出力する。
By the way, in the first step S001,
The reticle to be inspected carried into the inspection reticle carry-in section 201 is installed. In the next step S002, the barcode of the reticle to be inspected installed in the inspection reticle carry-in section 201 is read, and the reticle name is input to the overall control computer 205. Then, the reticle to be inspected for which reading of the next step S003 barcode has been completed is sent to the reticle transport unit 20.
By 4, it is transported to the laser scattering type inspection unit 101. Then, a foreign substance inspection of the reticle to be inspected conveyed to the laser scattering type inspection unit 101 is performed. At the same time, in step S004, the reticle name input to the general control computer 205 is searched for the previous data performed before the current inspection from the inspection data storage unit 21 of the general control computer 205, and the previous data is output.

【0033】そして、ステップS005で、検査データ
記憶部21から出力された前回データとステップS00
3で行った今回の検査データとを比較する。そして、ス
テップS006で、ステップS005の比較結果から図
4に示すフローチャートで使用不能レチクルか使用可能
レチクルかを判断する。最初に、検査データー記憶部2
1に記憶されている位置にある程度の許容範囲を持たし
てその位置以外(許容範囲外)に存在している異物の有
無の判断を行う(ステップS061)。そして、許容範
囲外に異物が存在するときには、許容範囲外に存在する
異物の大きさが基準ランクの大きさよりも大きいか(基
準ランク外か)否か(基準ランク内か)を判断する(ス
テップS062)。そして、その異物が基準ランク外で
あれば、使用不能レチクルと判断し、図3のステップS
008を実行する。また、このとき、基準範囲外にある
異物が全て基準ランク外では無い場合には、許容範囲内
にある異物の大きさが基準ランク外であるか否かを判定
する(ステップS063)。また、このステップS06
3は、ステップS061における判定で無いとなった場
合、直ちにステップS063の判定を行う。そして、ス
テップS063でその異物の大きさが基準ランク外で有
る場合には、ステップS064の判断を行う。また、ス
テップS063で異物の大きさが基準ランク外では無い
場合は、使用可能レチクルと判断し、図3のステップS
007の処理を行う。また、ステップS064では、許
容範囲内にある異物が、検査データ記憶部21に記憶さ
れた前回データ内のその許容範囲に対応する異物の大き
さよりも、大きいか否かを判定する。そして、許容範囲
内にある異物が検査データ記憶部21に記憶されている
対応する異物の大きさよりも大きい場合、使用不能レチ
クルと判断し、図4のステップS008の処理を行う。
また、許容範囲内にある異物が検査データ記憶部21に
記憶されている対応する異物の大きさよりも小さい場
合、ステップS007の処理を行う。
In step S005, the previous data output from the inspection data storage unit 21 is compared with the previous data in step S00.
The inspection data obtained in step 3 is compared with the current inspection data. Then, in step S006, it is determined from the comparison result in step S005 whether the reticle is unusable or reticle is usable in the flowchart shown in FIG. First, the inspection data storage unit 2
The position stored in No. 1 has a certain allowable range, and it is determined whether or not there is a foreign substance existing outside the position (outside the allowable range) (step S061). Then, when there is a foreign substance outside the allowable range, it is determined whether the size of the foreign substance outside the allowable range is larger than the size of the reference rank (outside the reference rank) or not (inside the reference rank) (step). S062). If the foreign matter is out of the reference rank, it is determined that the reticle is unusable, and step S in FIG.
008 is executed. At this time, if all the foreign substances outside the reference range are not outside the reference rank, it is determined whether or not the size of the foreign substances inside the allowable range is outside the reference rank (step S063). This step S06
In the case of No. 3, when the judgment is not made in step S061, the judgment in step S063 is immediately performed. If the size of the foreign substance is out of the reference rank in step S063, the determination in step S064 is performed. If the size of the foreign matter is not out of the reference rank in step S063, it is determined that the reticle is usable, and the reticle is determined to be usable in step S06 of FIG.
007 is performed. In step S064, it is determined whether the foreign matter within the allowable range is larger than the size of the foreign matter corresponding to the allowable range in the previous data stored in the inspection data storage unit 21 or not. If the foreign matter within the allowable range is larger than the size of the corresponding foreign matter stored in the inspection data storage unit 21, it is determined that the reticle is unusable, and the process of step S008 in FIG. 4 is performed.
If the foreign matter within the allowable range is smaller than the size of the corresponding foreign matter stored in the inspection data storage unit 21, the process of step S007 is performed.

【0034】この様にステップS006では、この様な
処理を行う。そして、使用可能レチクルと判断されたも
のは、ステップS007でレチクル搬送部204にレチ
クルを使用可能レチクル搬出部202へ搬送する。ま
た、使用不能レチクルと判断されたものは、次にステッ
プS008でレチクルをレチクル搬送部204によって
目視検査部102に搬送し、前回データの許容範囲内に
無くかつその異物が基準ランク外にある不一致異物また
は異物の大きさが前回データのものよりも大きくかつそ
の異物が基準ランク外にある不一致異物の位置座標を顕
微鏡ステージ駆動部14に出力する。そして、顕微鏡部
13の視野内に不一致異物が入るように台12が移動す
る。
In step S006, such processing is performed. If the reticle is determined to be usable, the reticle is transported to the reticle transport unit 204 by the reticle transport unit 204 in step S007. If the reticle is determined to be unusable, the reticle is transported to the visual inspection unit 102 by the reticle transport unit 204 in step S008, and the reticle is not within the allowable range of the previous data and the foreign matter is out of the reference rank. The position coordinates of the foreign matter or the inconsistent foreign matter whose size is larger than that of the previous data and whose foreign matter is outside the reference rank are output to the microscope stage driving unit 14. Then, the table 12 is moved so that the inconsistent foreign matter enters the visual field of the microscope unit 13.

【0035】そして、次にステップS009で、使用者
が顕微鏡部13の光学顕微鏡を用いて、その不一致異物
を目視検査を行う。次に、ステップS010で使用者が
そのレチクルを使用可能か否かの判断を行う。そして、
この時点で使用者が使用不能と判断した場合は、レチク
ルを使用不能レチクル搬出部202へ搬送する。また、
この時点で使用者が使用可能と判断した場合は、ステッ
プS011の処理を行う。
Then, in step S009, the user visually inspects the mismatched foreign matter using the optical microscope of the microscope unit 13. Next, in step S010, it is determined whether the user can use the reticle. And
At this point, if the user determines that the reticle is unusable, the reticle is transported to the unusable reticle unloading unit 202. Also,
At this point, if the user determines that it can be used, the process of step S011 is performed.

【0036】このときに、不一致異物について全数目視
検査を行った否かが判定され、全数行っていない場合に
は、ステップS008に戻り、不一致異物全数について
目視検査を行い使用可能か否かの判断を行うまで、ステ
ップS008からステップS011まで処理を繰り返し
行う。そして、全ての不一致異物を目視検査した結果、
使用可能と判断した際には、検査データ記憶部21に記
憶されている前回データを消去し、今回のレーザー散乱
検査部で検査した今回の検査データを検査データ記憶部
21で記憶する(ステップS012)。そして、ステッ
プS013で、レチクルを使用可能レチクル搬出部20
3に搬出する。
At this time, it is determined whether or not all the mismatched foreign substances have been visually inspected. If not, the process returns to step S008 to determine whether or not all the mismatched foreign substances can be visually inspected and used. The process is repeated from step S008 to step S011 until the determination is made. Then, as a result of visually inspecting all mismatched foreign substances,
If it is determined that the data can be used, the previous data stored in the inspection data storage unit 21 is deleted, and the current inspection data inspected by the current laser scattering inspection unit is stored in the inspection data storage unit 21 (step S012). ). Then, in step S013, the reticle can be used, and
Take out to 3.

【0037】これで、一つのレチクル検査で行う作業が
完了する。この様な処理に基づいて得られる結果の一例
は図5および図6に示す。図5(a)は本レチクル検査
装置で初めて検査したときに得られた異物の検出データ
であり、図5(b)は、再び異物検出を行ったときに得
られたデータを図で表したものである。この様に、本レ
チクル検査装置では図5(a)に示した状態で使用可能
と判断された場合、そのレチクルが図5(b)に示すよ
うな状態になったとしても、レチクル検査装置自体で使
用可能と判断することができる。また、図6(a)に示
すような状態のレチクルを使用可能とした場合、そのレ
チクル図6(b)に示すような状態になったときには、
本レチクル検査装置では使用不可能と判断することがで
きる。
Thus, the operation performed in one reticle inspection is completed. An example of a result obtained based on such processing is shown in FIGS. FIG. 5A shows detection data of a foreign substance obtained when the present reticle inspection apparatus inspects for the first time, and FIG. 5B shows data obtained when foreign substance detection is performed again. Things. As described above, when it is determined that the reticle inspection apparatus can be used in the state shown in FIG. 5A, even if the reticle is in the state shown in FIG. Can be determined to be usable. When the reticle in the state shown in FIG. 6A is usable, when the reticle is in the state shown in FIG. 6B,
It can be determined that the reticle inspection apparatus cannot be used.

【0038】この様に使用者が使用可能と判断したとき
のレチクル1に付着した異物の状態を検査データ記憶部
21に記憶することで、本発明によるレチクル検査装置
は以前に使用可能と判断した状態とほぼ同様な状態のレ
チクルについては、使用者の判断を仰がずに使用可能と
判断できるようなった。したがって、異物が存在しても
使用可能な程度の異物であれば、いちいち使用者の手を
煩わすことなく、使用可能と判断される。その結果、ス
ループットの向上が計れる。
As described above, the state of the foreign matter adhering to the reticle 1 when the user determines that the reticle 1 is usable is stored in the inspection data storage unit 21. With respect to the reticle in a state substantially similar to the state, it can be determined that the reticle can be used without looking up at the user. Therefore, even if a foreign substance is present, if the foreign substance is of such a degree that it can be used, it is determined that the foreign substance can be used without bothering the user. As a result, it is possible to improve the throughput.

【0039】本発明の実施の形態におけるレチクル検査
装置では、使用の可否の判断の順番として、記憶された
データでの異物の許容範囲外に異物が存在するか否かを
判断し、つぎにその異物の大きさについて、基準ランク
外か否かを判断、その後に許容範囲内に有る異物が記憶
データのものよりも大きいか否かの判断の順番で行って
いる。しかし、記憶されたデータでの異物の許容範囲外
に異物が存在するか否かを判断、その異物の大きさにつ
いて基準ランク外か否かを判断、許容範囲内に有る異物
が記憶データのものよりも大きいか否かの判断について
の順番は、これに限られない。また、記憶されたデータ
での異物の許容範囲外に異物が存在するか否かを判断、
許容範囲内に有る異物が記憶データのものよりも大きい
か否かの判断を並列に行い、あとで、引っかかった異物
について基準ランク外のものか否かの判断を行えばよ
い。
In the reticle inspection apparatus according to the embodiment of the present invention, as the order of judging whether or not use is possible, it is determined whether or not a foreign substance exists outside the allowable range of the foreign substance in the stored data. For the size of the foreign matter, it is determined whether or not the size is outside the reference rank, and thereafter, whether or not the foreign matter within the allowable range is larger than that of the stored data. However, it is determined whether or not a foreign object exists outside the allowable range of the foreign object in the stored data, and whether or not the size of the foreign object is outside the reference rank. The order of the determination as to whether or not it is larger than this is not limited to this. Further, it is determined whether or not a foreign substance exists outside the allowable range of the foreign substance in the stored data,
The determination as to whether or not the foreign matter within the allowable range is larger than that of the stored data may be performed in parallel, and the determination as to whether or not the caught foreign matter is outside the reference rank may be made.

【0040】[0040]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のレチクル
検査装置および検査方法では、使用者による目視検査を
極力少なくすることが出来、半導体製造工程でのレチク
ル検査の歩留まりを向上させることができる。
As described above, with the reticle inspection apparatus and inspection method of the present invention, visual inspection by the user can be minimized, and the yield of reticle inspection in the semiconductor manufacturing process can be improved. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】:本発明の実施の形態であるレチクル検査装置
の主要部における概略図である。
FIG. 1 is a schematic view of a main part of a reticle inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】:本発明の実施の形態におけるレチクル検査装
置の概略図である。
FIG. 2 is a schematic diagram of a reticle inspection device according to an embodiment of the present invention.

【図3】:本発明の実施の形態におけるレチクル検査装
置の検査フローの図である。
FIG. 3 is a flowchart of an inspection flow of the reticle inspection apparatus according to the embodiment of the present invention.

【図4】:図3における検査フローのステップ(A)に
おけるフローを示した図である
FIG. 4 is a diagram showing a flow in step (A) of the inspection flow in FIG.

【図5】:本発明の実施の形態であるレチクル検査装置
において、使用可能と判断されるレチクルのモデル図で
ある。
FIG. 5 is a model diagram of a reticle determined to be usable in the reticle inspection apparatus according to the embodiment of the present invention.

【図6】:本発明の実施の形態であるレチクル検査装置
において、使用不可能と判断されるレチクルのモデル図
である。
FIG. 6 is a model diagram of a reticle determined to be unusable in the reticle inspection apparatus according to the embodiment of the present invention.

【図7】:ペリクル付きレチクルの側面図である。FIG. 7 is a side view of a reticle with a pellicle.

【図8】:異物を含むペリクル付きレチクルの側面図で
ある。
FIG. 8 is a side view of a reticle with a pellicle including foreign matter.

【図9】:ステッパーで使用可能なペリクル付きレチク
ルの側面図である。
FIG. 9 is a side view of a reticle with a pellicle usable in a stepper.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 レーザー散乱型検査部 1 レチクル 2 検査台 3 レーザー光源 4 受光部 6 XY駆動部 7 レーザー散乱検査制御部 102 目視検査部 12 台 13 顕微鏡部 14 顕微鏡用台 15 顕微鏡検査制御部 201 検査レチクル搬入部 202 使用不能レチクル搬出部 203 使用可能レチクル搬出部 204 レチクル搬送部 205 全体計算機 20 全体制御部 21 検査データ記憶部 Reference Signs List 101 laser scattering type inspection unit 1 reticle 2 inspection table 3 laser light source 4 light receiving unit 6 XY driving unit 7 laser scattering inspection control unit 102 visual inspection unit 12 units 13 microscope unit 14 microscope table 15 microscope inspection control unit 201 inspection reticle loading unit 202 Unusable reticle unloading unit 203 Unusable reticle unloading unit 204 Reticle transport unit 205 Overall computer 20 Overall control unit 21 Inspection data storage unit

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レチクルにレーザー光を照射して、前記
レチクル上の異物を検出する異物検出手段と、 前記異物検出手段から出力された前記レチクル上の異物
に関する情報を格納する異物情報格納手段と、 少なくとも一回は前記異物検出手段で検査されたレチク
ルについて、前記異物検出手段によって出力されたレチ
クル上の異物の大きさの情報と、前記異物情報格納手段
から出力される以前に検出された異物の大きさにに関す
る情報とを比較し、使用の可否を判定する判定手段とを
備えたことを特徴とするレチクルの検査装置
1. A foreign matter detecting means for irradiating a reticle with a laser beam to detect foreign matter on the reticle, and a foreign matter information storing means for storing information on the foreign matter on the reticle output from the foreign matter detecting means. For a reticle inspected at least once by the foreign matter detecting means, the information on the size of the foreign matter on the reticle output by the foreign matter detecting means and the foreign matter detected before being output from the foreign matter information storage means A reticle inspecting apparatus, comprising: a deciding means for comparing information on the size of the reticle to determine whether or not it can be used.
【請求項2】 前記異物情報格納手段は、前記異物検出
手段からの情報から前記異物の大きさの情報および前記
異物の位置の座標データを記録することを特徴とする請
求項1記載のレチクル検査装置
2. The reticle inspection according to claim 1, wherein said foreign matter information storage means records size information of said foreign matter and coordinate data of a position of said foreign matter from information from said foreign matter detecting means. apparatus
【請求項3】 前記判定手段は、前記異物検出手段によ
って異物の検出を行ったレチクル上の異物に関する情報
から前記異物の大きさの情報および前記異物の位置の座
標データを出力する異物情報作成手段を備えていること
を特徴とする請求項2記載のレチクル検査装置
3. A foreign matter information creating means for outputting information on the size of the foreign matter and coordinate data of the position of the foreign matter from information on the foreign matter on the reticle for which foreign matter has been detected by the foreign matter detecting means. The reticle inspection apparatus according to claim 2, further comprising:
【請求項4】 前記判定手段は、前記異物情報格納手段
から出力される以前に存在していた異物の座標データ
と、前記異物情報作成手段からの前記異物の位置の座標
データとを比較し、以前に存在していた前記異物の位置
とは異なった位置に存在している新たな異物を検出し、
前記新たな異物の座標データを出力する異物位置比較手
段を有していることを特徴とする請求項1乃至3のうち
いづれか一項記載のレチクル検査装置
4. The method according to claim 1, wherein the judging means compares coordinate data of the foreign matter existing before being output from the foreign matter information storing means with coordinate data of a position of the foreign matter from the foreign matter information creating means. Detecting a new foreign substance present at a position different from the position of the foreign substance that existed before,
4. The reticle inspection apparatus according to claim 1, further comprising a foreign matter position comparing unit that outputs coordinate data of the new foreign matter.
【請求項5】 前記異物位置比較手段から出力される新
たな異物の座標データを得て移動するステージを設けた
顕微鏡部を設けたことを特徴とする請求項4記載のレチ
クル検査装置
5. A reticle inspection apparatus according to claim 4, further comprising a microscope provided with a stage that moves by obtaining new foreign object coordinate data output from said foreign object position comparing means.
【請求項6】 前記判定手段は、前記異物検出手段から
検出された異物を前記異物検出手段より得られるデータ
からある基準より大きい異物であるかを判定し、前記あ
る基準値よりも大きい異物の座標データを出力する異物
寸法検査手段を有したことを特徴とする請求項1乃至5
項のうちいづれか一項記載のレチクル検査装置
6. The foreign object detected by the foreign object detecting means determines whether the foreign object detected by the foreign object detecting means is a foreign object larger than a certain reference value. 6. The apparatus according to claim 1, further comprising a foreign matter size inspection unit for outputting coordinate data.
Reticle inspection apparatus according to any one of the above items.
【請求項7】 前記判定手段は、前記異物寸法検査手段
で出力された前記ある基準よりも大きい異物の座標デー
タを得て移動するステージを設けた顕微鏡部を設けたこ
とを特徴とする請求項4記載のレチクル検査装置
7. A microscope unit provided with a stage provided with a stage for moving by obtaining coordinate data of a foreign matter larger than the certain reference outputted by the foreign matter size inspection means. Reticle inspection device according to item 4.
【請求項8】 前記異物情報格納手段は、前記顕微鏡部
によってレチクル上の異物を検査した結果、使用可能と
判定されたレチクル上の異物に関する情報を格納するこ
とを特徴とする請求項7記載のレチクル検査装置
8. The apparatus according to claim 7, wherein said foreign matter information storage means stores information on the foreign matter on the reticle determined to be usable as a result of inspecting the foreign matter on the reticle by the microscope unit. Reticle inspection equipment
【請求項9】 前記レチクル上の異物に関する情報と、
そのレチクルの識別ネームとを対応させて前記異物情報
格納手段に格納することを特徴とする請求項1乃至8の
うちいづれか一項記載のレチクル検査装置
9. information on foreign matter on the reticle;
9. The reticle inspection apparatus according to claim 1, wherein the reticle is stored in the foreign matter information storage unit in association with an identification name of the reticle.
【請求項10】 レチクルにレーザー光を照射して、異
物の有無を検査し、 前記異物の存在が確認されたときに前記異物の第1の位
置データー、および前記異物第1の位置データーに対応
させ前記異物の第1の寸法データーを作成し、 前記第1の位置データーおよび第1の寸法データーを記
録し、 前記レチクルを再度異物の有無を検査し、異物の存在が
確認されたときに前記異物の第2の位置データー、およ
び前記異物の第1の位置データーに対応させ前記異物の
第2の寸法データーを作成し、 前記異物の第1の位置データーと前記第2の異物の位置
データーとを比較し、前記第1の位置データーと前記第
2の位置データーとが一致する箇所に該当する前記第1
の寸法データーと前記第2の寸法データーとを比較する
ことを特徴とするレチクル検査方法
10. A reticle is irradiated with a laser beam to check for the presence of a foreign substance. When the presence of the foreign substance is confirmed, the reticle corresponds to the first position data of the foreign substance and the first position data of the foreign substance. The first dimensional data of the foreign matter is created, the first position data and the first dimensional data are recorded, and the reticle is inspected again for the presence of the foreign matter. When the presence of the foreign matter is confirmed, Creating second dimension data of the foreign matter in correspondence with the second position data of the foreign matter and the first position data of the foreign matter, and obtaining the first position data of the foreign matter and the position data of the second foreign matter. And the first position data corresponding to a position where the first position data and the second position data match.
Reticle inspection method, comprising comparing the second dimension data with the second dimension data.
【請求項11】 前記第1の位置データーと前記第2の
位置データーとが一致する箇所に該当する前記第1の寸
法データーと前記第2の寸法データーとを比較し、前記
第1の寸法データーで示す異物の大きさに対し前記第2
の寸法データーで示す異物の大きさが大きい場合に、そ
の寸法データーに該当する位置データーより位置情報を
出力することを特徴とする請求項10記載のレチクル検
査方法
11. The first size data is compared with the second size data corresponding to a position where the first position data and the second position data match, and the first size data is compared with the first size data. The size of the foreign substance indicated by
11. The reticle inspection method according to claim 10, wherein when the size of the foreign matter indicated by the size data is large, position information is output from position data corresponding to the size data.
【請求項12】 前記第1の位置データーと前記第2の
位置データーとが一致する箇所に該当する前記第1の寸
法データーと前記第2の寸法データーとを比較し、前記
第1の寸法データーで示す異物の大きさに対し前記第2
の寸法データーで示す異物の大きさが大きい場合に、そ
の寸法データーに該当する位置データーより位置情報を
出力し、前記位置情報に該当する位置を目視で検査し、
使用の可否を判定することを特徴とする請求項10また
は11記載のレチクル検査方法
12. The first size data is compared with the second size data corresponding to a position where the first position data and the second position data match, and the first size data is compared with the first size data. The size of the foreign substance indicated by
When the size of the foreign matter indicated by the dimension data is large, the position information is output from the position data corresponding to the dimension data, and the position corresponding to the position information is visually inspected,
12. The reticle inspection method according to claim 10, wherein whether or not use is possible is determined.
【請求項13】 前記レチクルと光源とに相対的に移動
させる移動手段と、前記レチクルに前記光源からのレー
ザー光を照射し、前記レチクルから反射された光を検出
することによって前記レチクル上の異物を検出する異物
検出手段と、 前記異物検出手段によって異物の存在が認められたレチ
クルを目視で検査するための顕微鏡と、 前記顕微鏡を用いた検査により使用可能とされた前記異
物を有したレチクルの異物に関する情報を記録する異物
情報格納手段と、 少なくとも一回は前記異物検出手段で検査されたレチク
ルについて、前記異物検出手段によって異物の検出を行
ったレチクル上の異物に関する情報と、前記異物情報格
納手段から出力される以前に行った異物の検出に関する
情報とを比較し、使用の可否を判定する判定手段とを備
えたことを特徴とするレチクル検査装置
13. A moving means for relatively moving the reticle and the light source, and irradiating the reticle with laser light from the light source, and detecting light reflected from the reticle to detect foreign matter on the reticle. And a microscope for visually inspecting the reticle in which the presence of the foreign matter is recognized by the foreign matter detecting means, and a reticle having the foreign matter enabled by the inspection using the microscope. Foreign matter information storage means for recording information on foreign matter; information on foreign matter on a reticle at which foreign matter is detected by the foreign matter detection means at least once for the reticle inspected by the foreign matter detection means; Means for comparing the information output from the means with respect to the foreign substance detection performed before and determining whether or not use is possible. Reticle inspection device
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