JPH0948679A - セラミックスフィルタエレメント及びその製造方法 - Google Patents
セラミックスフィルタエレメント及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH0948679A JPH0948679A JP7197586A JP19758695A JPH0948679A JP H0948679 A JPH0948679 A JP H0948679A JP 7197586 A JP7197586 A JP 7197586A JP 19758695 A JP19758695 A JP 19758695A JP H0948679 A JPH0948679 A JP H0948679A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particles
- layer
- glaze
- weight
- filter element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B38/00—Porous mortars, concrete, artificial stone or ceramic ware; Preparation thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
- C04B2111/00474—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00
- C04B2111/00793—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00 as filters or diaphragms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Filtering Materials (AREA)
- Porous Artificial Stone Or Porous Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 石炭を燃料とする発電設備から発生する石炭
灰を除去するための高温ガス脱塵用のセラミックスフィ
ルタエレメント及びその製造方法の提供。 【解決手段】 重量％で、ＳｉＯ2 ：７０〜８０％，Ａ
ｌ2 Ｏ3 ：１０〜１６％，ＭｇＯ：２．５〜４％，Ｎａ
2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：５〜１０％の釉薬：１０〜２５重量部と
主たる粒径範囲が１００〜４００μｍのコージェライ
ト：１００重量部とで構成された管状基材内面に、平均
粒径が２〜２０μｍのセラミックス粒子が付着してなる
セラミックスフィルタエレメント。
灰を除去するための高温ガス脱塵用のセラミックスフィ
ルタエレメント及びその製造方法の提供。 【解決手段】 重量％で、ＳｉＯ2 ：７０〜８０％，Ａ
ｌ2 Ｏ3 ：１０〜１６％，ＭｇＯ：２．５〜４％，Ｎａ
2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：５〜１０％の釉薬：１０〜２５重量部と
主たる粒径範囲が１００〜４００μｍのコージェライ
ト：１００重量部とで構成された管状基材内面に、平均
粒径が２〜２０μｍのセラミックス粒子が付着してなる
セラミックスフィルタエレメント。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、石炭を燃料とする
発電設備から発生する石炭灰を除去するための高温ガス
脱塵用のセラミックフィルタ及びその製造方法に関す
る。
発電設備から発生する石炭灰を除去するための高温ガス
脱塵用のセラミックフィルタ及びその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、石炭を燃料とする加圧流動床ボイ
ラの開発が進められ、この燃焼ガスでガスタービンの運
転を行なうシステムの検討が行なわれている。この際、
燃焼ガスの脱塵を行なう目的で、高温で機能するセラミ
ックフィルタが必要になる。このガス温度は８５０℃以
上であり、従来のバグフィルタなどの装置は使用できな
い。そのため、熱に強いセラミックフィルタの開発が進
められている。脱塵すべき石炭灰の粒径は数μｍであ
る。石炭灰を除去できる微粒セラミックスのみで構成し
た場合、エレメントの圧損が高くなりろ過面積が大きく
なりすぎる。そのため、粗い骨格層粒子の表面に水など
を加えてスラリ化した微粒子を塗布する方法などが一般
的である。
ラの開発が進められ、この燃焼ガスでガスタービンの運
転を行なうシステムの検討が行なわれている。この際、
燃焼ガスの脱塵を行なう目的で、高温で機能するセラミ
ックフィルタが必要になる。このガス温度は８５０℃以
上であり、従来のバグフィルタなどの装置は使用できな
い。そのため、熱に強いセラミックフィルタの開発が進
められている。脱塵すべき石炭灰の粒径は数μｍであ
る。石炭灰を除去できる微粒セラミックスのみで構成し
た場合、エレメントの圧損が高くなりろ過面積が大きく
なりすぎる。そのため、粗い骨格層粒子の表面に水など
を加えてスラリ化した微粒子を塗布する方法などが一般
的である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】塗布法では、確実に固
定できず信頼性の面で劣っていた。また、焼結後、初期
ダストを脱塵層として利用する方法もあるが、圧損の経
時的な増加を抑えられず信頼性が劣る。更に、骨格層粒
子と脱塵層粒子とを密着させるには同じ材質の粒子を使
わざるを得ず、例えば灰と接触する脱塵層の化学的な安
定性を高めるには、Ａｌ2 Ｏ3 粒子の使用が望ましいが
焼結温度が異なるため採用できない。この他、脱塵層が
厚くなるため、エレメントとしての圧損も高くなる。そ
こで、これらの問題を解決するためには、成形後に均一
な脱塵層粒子を付着させ、同時焼成によって強固に形成
する方法を取らねばならない。
定できず信頼性の面で劣っていた。また、焼結後、初期
ダストを脱塵層として利用する方法もあるが、圧損の経
時的な増加を抑えられず信頼性が劣る。更に、骨格層粒
子と脱塵層粒子とを密着させるには同じ材質の粒子を使
わざるを得ず、例えば灰と接触する脱塵層の化学的な安
定性を高めるには、Ａｌ2 Ｏ3 粒子の使用が望ましいが
焼結温度が異なるため採用できない。この他、脱塵層が
厚くなるため、エレメントとしての圧損も高くなる。そ
こで、これらの問題を解決するためには、成形後に均一
な脱塵層粒子を付着させ、同時焼成によって強固に形成
する方法を取らねばならない。
【０００４】本発明は上記技術水準に鑑み、上記要望に
応じうるセラミックスフィルタエレメント及びその製造
方法を提供しようとするものである。
応じうるセラミックスフィルタエレメント及びその製造
方法を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は（１）重量％
で、ＳｉＯ2 ：７０〜８０％，Ａｌ2 Ｏ3 ：１０〜１６
％，ＭｇＯ：２．５〜４％，Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：５〜１
０％の釉薬：１０〜２５重量部と主たる粒径範囲が１０
０〜４００μｍのコージェライト：１００重量部とで構
成された管状基材表面に、平均粒径が２〜２０μｍのセ
ラミックス粒子が付着してなることを特徴とするセラミ
ックスフィルタエレメント及び（２）重量％で、ＳｉＯ
2 ：７０〜８０％，Ａｌ2 Ｏ3 ：１０〜１６％，Ｍｇ
Ｏ：２．５〜４％，Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：５〜１０％の釉
薬：１０〜２５重量部と主たる粒径範囲が１００〜４０
０μｍのコージェライト：１００重量部との混合物を管
状形状に成形後、密封した内面に、平均粒径が２〜２０
μｍのセラミックス粒子を気体と共に送気し付着させた
後、焼成することを特徴とするセラミックスフィルタエ
レメントの製造方法である。
で、ＳｉＯ2 ：７０〜８０％，Ａｌ2 Ｏ3 ：１０〜１６
％，ＭｇＯ：２．５〜４％，Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：５〜１
０％の釉薬：１０〜２５重量部と主たる粒径範囲が１０
０〜４００μｍのコージェライト：１００重量部とで構
成された管状基材表面に、平均粒径が２〜２０μｍのセ
ラミックス粒子が付着してなることを特徴とするセラミ
ックスフィルタエレメント及び（２）重量％で、ＳｉＯ
2 ：７０〜８０％，Ａｌ2 Ｏ3 ：１０〜１６％，Ｍｇ
Ｏ：２．５〜４％，Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：５〜１０％の釉
薬：１０〜２５重量部と主たる粒径範囲が１００〜４０
０μｍのコージェライト：１００重量部との混合物を管
状形状に成形後、密封した内面に、平均粒径が２〜２０
μｍのセラミックス粒子を気体と共に送気し付着させた
後、焼成することを特徴とするセラミックスフィルタエ
レメントの製造方法である。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明によれば、平均粒径が２〜
２０μｍのセラミックス粒子がＳｉＯ2 ：７０〜８０
％，Ａｌ2 Ｏ3 ：１０〜１６％，ＭｇＯ：２．５〜４
％，Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ 2 Ｏ：５〜１０％（以上の％は重量％
を意味する。以下同じ）の釉薬と主たる粒径範囲が１０
０〜４００μｍのコージェライトとで構成された基材で
ある骨格層表面に密着している。これは、骨格層原料混
合物を管状形状に成形後、密封した内面に、平均粒径が
２〜２０μｍの細かいコージェライト粒子を気体と共に
送気し付着させることで骨格層粒子間を機械的に埋める
ことと、その後焼成することで骨格層に添加された釉薬
によって、細かい付着粒子が強固に接着されるためであ
る。
２０μｍのセラミックス粒子がＳｉＯ2 ：７０〜８０
％，Ａｌ2 Ｏ3 ：１０〜１６％，ＭｇＯ：２．５〜４
％，Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ 2 Ｏ：５〜１０％（以上の％は重量％
を意味する。以下同じ）の釉薬と主たる粒径範囲が１０
０〜４００μｍのコージェライトとで構成された基材で
ある骨格層表面に密着している。これは、骨格層原料混
合物を管状形状に成形後、密封した内面に、平均粒径が
２〜２０μｍの細かいコージェライト粒子を気体と共に
送気し付着させることで骨格層粒子間を機械的に埋める
ことと、その後焼成することで骨格層に添加された釉薬
によって、細かい付着粒子が強固に接着されるためであ
る。
【０００７】骨格層原料がコージェライト粒子のみの場
合、その焼成は１４００℃以上の温度で行う必要があ
る。この温度で焼成すると表面に付着させた粒子が骨格
層と比較して微細であるため、焼結し易く均一な脱塵層
を設けることができない。そこで、本発明では骨格層原
料に予めコージェライトの焼成温度より融点の低い釉薬
を配合する。釉薬の成分はＳｉＯ2 ：７０〜８０％，Ａ
ｌ2 Ｏ3 ：１０〜１６％，ＭｇＯ：２．５〜４％，Ｎａ
2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：５〜１０％の範囲に限定する。この範囲
に限定する理由の一つは結晶化せず非晶質であるガラス
の状態を保つためである。釉薬が溶けて冷却中に結晶が
析出すると結合力が大きく低下する。その第二は釉薬と
して高い１３００℃以上の融点をもつためである。ガラ
ス化して融点を下げるためなら、ほう酸や鉛酸化物など
多くの添加剤があるが、これらを使用すると大幅に融点
が低下する。これらを使わずに、高融点化するためには
上記組成範囲内に抑える必要がある。また、配合量をコ
ージェライト粒：１００重量部に対して１０〜２５重量
部に限定した理由は、１０重量部未満では溶融後の釉薬
の粘性が高いため粒子表面を均一に被覆することが難し
く、後述する脱塵用微粒コージェライト粒子の付着が均
一にならない。逆に、２５重量部を越える量であると、
釉薬でコージェライト粗粒で構成された粗粒空隙が埋ま
ることがあり、エレメントとして重要な空隙率を一定に
保つことが難しいからである。
合、その焼成は１４００℃以上の温度で行う必要があ
る。この温度で焼成すると表面に付着させた粒子が骨格
層と比較して微細であるため、焼結し易く均一な脱塵層
を設けることができない。そこで、本発明では骨格層原
料に予めコージェライトの焼成温度より融点の低い釉薬
を配合する。釉薬の成分はＳｉＯ2 ：７０〜８０％，Ａ
ｌ2 Ｏ3 ：１０〜１６％，ＭｇＯ：２．５〜４％，Ｎａ
2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：５〜１０％の範囲に限定する。この範囲
に限定する理由の一つは結晶化せず非晶質であるガラス
の状態を保つためである。釉薬が溶けて冷却中に結晶が
析出すると結合力が大きく低下する。その第二は釉薬と
して高い１３００℃以上の融点をもつためである。ガラ
ス化して融点を下げるためなら、ほう酸や鉛酸化物など
多くの添加剤があるが、これらを使用すると大幅に融点
が低下する。これらを使わずに、高融点化するためには
上記組成範囲内に抑える必要がある。また、配合量をコ
ージェライト粒：１００重量部に対して１０〜２５重量
部に限定した理由は、１０重量部未満では溶融後の釉薬
の粘性が高いため粒子表面を均一に被覆することが難し
く、後述する脱塵用微粒コージェライト粒子の付着が均
一にならない。逆に、２５重量部を越える量であると、
釉薬でコージェライト粗粒で構成された粗粒空隙が埋ま
ることがあり、エレメントとして重要な空隙率を一定に
保つことが難しいからである。
【０００８】次いで、特定の釉薬とコージェライトとで
構成された管状成型物の焼成前に脱塵用微細粒を付着さ
せることも大きな特徴である。本発明構成であれば、骨
格層粒子成形後も通気性がある。そこで、管などに成形
した両端を密封すれば、その内面に送った気体は骨格層
空隙から排出される。従って、平均粒径が２〜２０μｍ
の細かいセラミックス粒子を気体と共に送気し付着させ
ると、その内面に均一に付着する。特に、気体を使用す
ることにより、粒子は圧損の低い未付着部に段階的に付
着するため均一な状態が実現できる。この状態で焼成す
ることにより、脱塵層粒子は骨格層に添加された釉薬に
捕捉されるため骨格層表面に薄く均一に施工することが
可能である。この状態ではエレメントの洗浄や定期的に
行われる点検などによっても脱落することがなく理想的
なエレメントの製作が可能である。また、脱塵用微細粒
の材質は粒子自身の焼結ではなく前述した釉薬による接
着である。従って、釉薬の融点であるセラミックス材で
あればコージェライト以外でも使用できる。例えば、ア
ルミナや炭化ケイ素などの研磨材用途の粒子やムライト
やスラグなどの破砕粒の使用も可能である。
構成された管状成型物の焼成前に脱塵用微細粒を付着さ
せることも大きな特徴である。本発明構成であれば、骨
格層粒子成形後も通気性がある。そこで、管などに成形
した両端を密封すれば、その内面に送った気体は骨格層
空隙から排出される。従って、平均粒径が２〜２０μｍ
の細かいセラミックス粒子を気体と共に送気し付着させ
ると、その内面に均一に付着する。特に、気体を使用す
ることにより、粒子は圧損の低い未付着部に段階的に付
着するため均一な状態が実現できる。この状態で焼成す
ることにより、脱塵層粒子は骨格層に添加された釉薬に
捕捉されるため骨格層表面に薄く均一に施工することが
可能である。この状態ではエレメントの洗浄や定期的に
行われる点検などによっても脱落することがなく理想的
なエレメントの製作が可能である。また、脱塵用微細粒
の材質は粒子自身の焼結ではなく前述した釉薬による接
着である。従って、釉薬の融点であるセラミックス材で
あればコージェライト以外でも使用できる。例えば、ア
ルミナや炭化ケイ素などの研磨材用途の粒子やムライト
やスラグなどの破砕粒の使用も可能である。
【０００９】骨格層粒子の粒径範囲を１００〜４００μ
ｍに限定した理由はフィルタエレメントとしての圧損や
強度特性を維持するために最適範囲であるためで、該範
囲の釉薬配合量のもとでは、曲げ強さが１５０ｋｇ／ｃ
ｍ2 以上、ろ過速度３ｃｍ／ｓｅｃのろ過速度を１００
ｍｍＡｑ以下に抑えることができる。また、脱塵層粒子
の平均粒径を２〜２０μｍの範囲に限定した理由は平均
粒径が２μｍ未満の粒子では骨格層内への侵入が増え圧
損を高め、２０μｍを越える粒子では骨格層粒子ででき
た空隙に旨く付着しないためである。
ｍに限定した理由はフィルタエレメントとしての圧損や
強度特性を維持するために最適範囲であるためで、該範
囲の釉薬配合量のもとでは、曲げ強さが１５０ｋｇ／ｃ
ｍ2 以上、ろ過速度３ｃｍ／ｓｅｃのろ過速度を１００
ｍｍＡｑ以下に抑えることができる。また、脱塵層粒子
の平均粒径を２〜２０μｍの範囲に限定した理由は平均
粒径が２μｍ未満の粒子では骨格層内への侵入が増え圧
損を高め、２０μｍを越える粒子では骨格層粒子ででき
た空隙に旨く付着しないためである。
【００１０】
○（実施例の構成）以下図面に基づき本発明を詳しく説
明する。図１は完成したエレメントの本発明例（ａ）と
従来例（ｂ）の縦断面図である。従来例（ｂ）において
は骨格層粒子０１は接点部の焼結によって構成されてい
て、その表面には該粒子より細かい脱塵層粒子０２で覆
われている。この粒子と骨格層粒子との接合も焼結によ
るものであり、従来法で製造したエレメントの場合、脱
塵層は骨格層表面にある厚みをもって形成される。これ
に対して、本発明実施例によると、骨格層粒子１１Ａは
溶けて表面を覆った釉薬層１１Ｂによって接着されてい
る。脱塵層粒子１２の付着もこの釉薬層１１Ｂによって
骨格層粒子１１Ａと間接的に接着されている。これによ
って、脱塵層粒子１２の厚さは必要最小限に止まる。従
って、圧損の増加も従来例と比較して僅かである。
明する。図１は完成したエレメントの本発明例（ａ）と
従来例（ｂ）の縦断面図である。従来例（ｂ）において
は骨格層粒子０１は接点部の焼結によって構成されてい
て、その表面には該粒子より細かい脱塵層粒子０２で覆
われている。この粒子と骨格層粒子との接合も焼結によ
るものであり、従来法で製造したエレメントの場合、脱
塵層は骨格層表面にある厚みをもって形成される。これ
に対して、本発明実施例によると、骨格層粒子１１Ａは
溶けて表面を覆った釉薬層１１Ｂによって接着されてい
る。脱塵層粒子１２の付着もこの釉薬層１１Ｂによって
骨格層粒子１１Ａと間接的に接着されている。これによ
って、脱塵層粒子１２の厚さは必要最小限に止まる。従
って、圧損の増加も従来例と比較して僅かである。
【００１１】図２は本発明製造方法の実施例を示す縦断
側面図である。図２において、（ａ）は脱塵層粒子の施
工前の状態を、（ｂ）は該粒子の施工後の状態を示す。
図２（ａ）において管状骨格層成形体２１は内径に相当
する金型の廻りに骨格層原料を充填する空間をもったゴ
ム型を配し、この空間に骨格層原料を充填した後密封シ
ールしたものを水槽にいれ、この水槽内の水を増圧する
ことにより成形する冷間静水圧プレス（略称ＣＩＰ成
形）によって成形したものである。
側面図である。図２において、（ａ）は脱塵層粒子の施
工前の状態を、（ｂ）は該粒子の施工後の状態を示す。
図２（ａ）において管状骨格層成形体２１は内径に相当
する金型の廻りに骨格層原料を充填する空間をもったゴ
ム型を配し、この空間に骨格層原料を充填した後密封シ
ールしたものを水槽にいれ、この水槽内の水を増圧する
ことにより成形する冷間静水圧プレス（略称ＣＩＰ成
形）によって成形したものである。
【００１２】通気性をもった骨格層成形体２１の端面は
シール板２２ａ，２２ｂで密閉されている。但し、片方
のシール板２２ｂには、通気管２３ｃ，２３ｂをもった
容器２３ａが連結されている。この容器２３ａ内には脱
塵層を形成させるためのセラミックス粒子２４ａが置か
れている。その量は骨格層成形体２１内表面積に対応し
た量が置かれている。
シール板２２ａ，２２ｂで密閉されている。但し、片方
のシール板２２ｂには、通気管２３ｃ，２３ｂをもった
容器２３ａが連結されている。この容器２３ａ内には脱
塵層を形成させるためのセラミックス粒子２４ａが置か
れている。その量は骨格層成形体２１内表面積に対応し
た量が置かれている。
【００１３】図２（ｂ）は脱塵層２４ｂ施工後の状態を
示すものであり、図示しない空気源から通気管２３ｂを
通じて送られた空気は容器２３ａ内のセラミックス粒子
２４ａに当たり、この粒子を浮遊させる。浮遊した粒子
は骨格層成形体２１内に通気管２３ｃを通じて空気と共
に導かれ、空気は管状骨格層成形体２１の空隙から排出
され、脱塵層粒子（セラミックス粒）２４ａのみが脱塵
層２４ｂを形成する。この後、１３００〜１３５０℃の
範囲で焼成することにより、図１に示したように釉薬に
よって表面に接着される。接着されない余分な粒子はダ
ストが付着するダーティ側に残るため、このまま使用す
ることも可能であるが、エレメントの初期圧損を一定に
するためにブラシや空気吹き付けなどによって除くこと
も可能である。
示すものであり、図示しない空気源から通気管２３ｂを
通じて送られた空気は容器２３ａ内のセラミックス粒子
２４ａに当たり、この粒子を浮遊させる。浮遊した粒子
は骨格層成形体２１内に通気管２３ｃを通じて空気と共
に導かれ、空気は管状骨格層成形体２１の空隙から排出
され、脱塵層粒子（セラミックス粒）２４ａのみが脱塵
層２４ｂを形成する。この後、１３００〜１３５０℃の
範囲で焼成することにより、図１に示したように釉薬に
よって表面に接着される。接着されない余分な粒子はダ
ストが付着するダーティ側に残るため、このまま使用す
ることも可能であるが、エレメントの初期圧損を一定に
するためにブラシや空気吹き付けなどによって除くこと
も可能である。
【００１４】○（実施例の効果）表１は本発明の実施例
のセラミックスフィルタエレメントの効果を示す試験結
果である。骨格層材料コージェライト粒の粒径範囲は分
級範囲を示すものである。厳密には、十分に除去されず
混在した範囲外の粒子が約５％程度含まれていた。ま
た、添加した釉薬の組成はＳｉＯ2 ：７４％，Ａｌ2 Ｏ
3 ：１６％，ＭｇＯ：３％，Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：７％を
用いた。この材料で外径：１７５×内径：１４０×長
さ：８００ｍｍのエレメントを試作し製法の影響を調べ
た。評価はエレメント圧損を計測した。この方法は図２
に示したと同様の装置を用いてエレメント内面に一定流
量の空気を流し、その時の圧損を計測したものである。
ろ過速度３ｃｍ／ｓｅｃの条件はエレメントろ過面積３
５１６．８ｃｍ2 に６３３リットル／ｍｉｎを流したも
のである。
のセラミックスフィルタエレメントの効果を示す試験結
果である。骨格層材料コージェライト粒の粒径範囲は分
級範囲を示すものである。厳密には、十分に除去されず
混在した範囲外の粒子が約５％程度含まれていた。ま
た、添加した釉薬の組成はＳｉＯ2 ：７４％，Ａｌ2 Ｏ
3 ：１６％，ＭｇＯ：３％，Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：７％を
用いた。この材料で外径：１７５×内径：１４０×長
さ：８００ｍｍのエレメントを試作し製法の影響を調べ
た。評価はエレメント圧損を計測した。この方法は図２
に示したと同様の装置を用いてエレメント内面に一定流
量の空気を流し、その時の圧損を計測したものである。
ろ過速度３ｃｍ／ｓｅｃの条件はエレメントろ過面積３
５１６．８ｃｍ2 に６３３リットル／ｍｉｎを流したも
のである。
【００１５】
【表１】
【００１６】この表から以下のことが明らかである。比
較例５は骨格層のみで成形したセラミックスフィルタエ
レメントである。エレメント圧損は低いが、使用中の石
炭灰の侵入を止められず短時間の石炭灰フィルタとして
の使用で圧損が上がってしまう。比較例６は釉薬を添加
せずコージェライトの焼結で構成したものである。集塵
層の厚さが厚くなるため圧損が集塵層のない比較例５に
対して２倍以上になる。また、比較例７は粒度範囲が外
れるものである。骨格層が密になるため圧損が範囲内の
ものと比較して高くなる。これに対して、本発明方法を
用いた範囲例１から５はエレメント圧損の上昇を最小限
にすることができる。
較例５は骨格層のみで成形したセラミックスフィルタエ
レメントである。エレメント圧損は低いが、使用中の石
炭灰の侵入を止められず短時間の石炭灰フィルタとして
の使用で圧損が上がってしまう。比較例６は釉薬を添加
せずコージェライトの焼結で構成したものである。集塵
層の厚さが厚くなるため圧損が集塵層のない比較例５に
対して２倍以上になる。また、比較例７は粒度範囲が外
れるものである。骨格層が密になるため圧損が範囲内の
ものと比較して高くなる。これに対して、本発明方法を
用いた範囲例１から５はエレメント圧損の上昇を最小限
にすることができる。
【００１７】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
方法によれば、エレメント圧損を上げることなく、精密
脱塵ができる高温フィルタの提供が可能である。特に、
エレメントの焼結を粒子自身の焼結ではなく、釉薬によ
る接着の工法を取ることにより、脱塵層粒子の選択肢が
大きく広がった。高温フィルタの開発は加圧流動床ボイ
ラなど後流側にガスタービンシステムが置かれる新発電
システムにとって不可欠のユニットであり、これらシス
テムの開発加速にも多大の効果が得られる。
方法によれば、エレメント圧損を上げることなく、精密
脱塵ができる高温フィルタの提供が可能である。特に、
エレメントの焼結を粒子自身の焼結ではなく、釉薬によ
る接着の工法を取ることにより、脱塵層粒子の選択肢が
大きく広がった。高温フィルタの開発は加圧流動床ボイ
ラなど後流側にガスタービンシステムが置かれる新発電
システムにとって不可欠のユニットであり、これらシス
テムの開発加速にも多大の効果が得られる。
【図１】本発明と従来法で作ったセラミックスフィルタ
エレメントの構造を模式的に示す縦断側面図。
エレメントの構造を模式的に示す縦断側面図。
【図２】本発明の施工法を示す縦断側面図。
Claims (2)
- 【請求項１】 重量％で、ＳｉＯ2 ：７０〜８０％，Ａ
ｌ2 Ｏ3 ：１０〜１６％，ＭｇＯ：２．５〜４％，Ｎａ
2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：５〜１０％の釉薬：１０〜２５重量部と
主たる粒径範囲が１００〜４００μｍのコージェライ
ト：１００重量部とで構成された管状基材内面に、平均
粒径が２〜２０μｍのセラミックス粒子が付着してなる
ことを特徴とするセラミックスフィルタエレメント。 - 【請求項２】 重量％で、ＳｉＯ2 ：７０〜８０％，Ａ
ｌ2 Ｏ3 ：１０〜１６％，ＭｇＯ：２．５〜４％，Ｎａ
2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：５〜１０％の釉薬：１０〜２５重量部と
主たる粒径範囲が１００〜４００μｍのコージェライ
ト：１００重量部との混合物を管状形状に成形後、密封
した内面に、平均粒径が２〜２０μｍのセラミックス粒
子を気体と共に送気し付着させた後、焼成することを特
徴とするセラミックスフィルタエレメントの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7197586A JPH0948679A (ja) | 1995-08-02 | 1995-08-02 | セラミックスフィルタエレメント及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7197586A JPH0948679A (ja) | 1995-08-02 | 1995-08-02 | セラミックスフィルタエレメント及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0948679A true JPH0948679A (ja) | 1997-02-18 |
Family
ID=16376960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7197586A Pending JPH0948679A (ja) | 1995-08-02 | 1995-08-02 | セラミックスフィルタエレメント及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0948679A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101234445B1 (ko) * | 2010-08-30 | 2013-02-18 | 이근호 | 배기가스 정화용 세라믹 필터의 조성물 및 세라믹 하니컴 필터의 제조방법 |
| JP2015051917A (ja) * | 2007-08-03 | 2015-03-19 | エアシブ・インコーポレーテッドＥｒｒｃｉｖｅ， Ｉｎｃ． | 多孔質体および方法 |
| JP2015536820A (ja) * | 2012-11-21 | 2015-12-24 | 韓国生産技術研究院Ｋｏｒｅａ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ Ｏｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ | セラミックフィルタの製造方法 |
| US9796632B2 (en) | 2012-11-21 | 2017-10-24 | Korea Institute Of Industrial Technology | Method for manufacturing ceramic filter |
-
1995
- 1995-08-02 JP JP7197586A patent/JPH0948679A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015051917A (ja) * | 2007-08-03 | 2015-03-19 | エアシブ・インコーポレーテッドＥｒｒｃｉｖｅ， Ｉｎｃ． | 多孔質体および方法 |
| KR101234445B1 (ko) * | 2010-08-30 | 2013-02-18 | 이근호 | 배기가스 정화용 세라믹 필터의 조성물 및 세라믹 하니컴 필터의 제조방법 |
| JP2015536820A (ja) * | 2012-11-21 | 2015-12-24 | 韓国生産技術研究院Ｋｏｒｅａ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ Ｏｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ | セラミックフィルタの製造方法 |
| US9796632B2 (en) | 2012-11-21 | 2017-10-24 | Korea Institute Of Industrial Technology | Method for manufacturing ceramic filter |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8586166B2 (en) | Ceramic sintered body and ceramic filter | |
| JP4455708B2 (ja) | ハニカム構造体及びその製造方法 | |
| US7309370B2 (en) | Honeycomb filter for exhaust gas decontamination | |
| US8168127B2 (en) | Honeycomb structure, exhaust gas purifying apparatus and method for manufacturing honeycomb structure | |
| US7396586B2 (en) | Pore forming material for porous body, manufacturing method of pore forming material for porous body, manufacturing method of porous body, porous body, and honeycomb structural body | |
| JP4437084B2 (ja) | ハニカム構造体 | |
| JP4437085B2 (ja) | ハニカム構造体 | |
| JP5164575B2 (ja) | ハニカム構造体、ハニカム構造体の製造方法、排ガス浄化装置及び排ガス浄化装置の製造方法 | |
| EP2388057B1 (en) | Honeycomb structured body and method for manufacturing a honeycomb structured body | |
| JPS6328875B2 (ja) | ||
| WO2002040423A1 (fr) | Article poreux a base de carbure de silicium et son procede de preparation | |
| CN101374584A (zh) | 陶瓷峰窝过滤器 | |
| CN102811789A (zh) | 包括封堵用材料的过滤结构 | |
| US20110185690A1 (en) | Sic/glass-ceramic composite filter | |
| JPH0948679A (ja) | セラミックスフィルタエレメント及びその製造方法 | |
| EP1000914B1 (en) | Cordierite ceramic filter | |
| JP4784540B2 (ja) | 繊維強化セラミックス複合材料の製造方法 | |
| JPH08971A (ja) | セラミック膜の形成方法 | |
| JPS6061019A (ja) | 集塵用セラミツクスフイルタ | |
| JPH10299454A (ja) | 排ガスフィルタ及びその製造方法、それに用いる排ガスフィルタ用封止材 | |
| SE414920B (sv) | Sett att framstella ett foremal av ett material i form av ett pulver genom isostatisk pressning av en av pulvret forformad kropp | |
| JPH01194916A (ja) | 炭化ケイ素質ハニカム状フィルターの製造方法 | |
| JPH0551278A (ja) | セラミツク多孔体 | |
| JP3359429B2 (ja) | セラミックス接合用組成物と接合方法 | |
| EP0948388A1 (en) | Filter |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030708 |