JPH0942854A - Heating furnace - Google Patents

Heating furnace

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JPH0942854A
JPH0942854A JP19049795A JP19049795A JPH0942854A JP H0942854 A JPH0942854 A JP H0942854A JP 19049795 A JP19049795 A JP 19049795A JP 19049795 A JP19049795 A JP 19049795A JP H0942854 A JPH0942854 A JP H0942854A
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substrate
hot plate
heating
plate
temperature
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Haruo Sankai
春夫 三階
Kiyoshi Imaizumi
潔 今泉
Shinya Yamama
伸也 山間
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Hitachi Plant Technologies Ltd
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Hitachi Techno Engineering Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heating furnace which can heat and harden uniformly the paste applied on the surface of a base and can produce the base of high quality and of which the area of installation is small. SOLUTION: A plurality of elevating pins 15 which pierce a hot plate 16 equipped with a heater 22 and are movable in the vertical direction are provided inside a furnace body 2 and a base 12 brought in from an opening part 9 of a partition 8 is loaded on the elevating pins 15 having risen. The elevating pins 15 lower the base 12 to the vicinity of the hot plate 16 and the base is preheated by the heated hot plate 16. Then, the elevating pins 15 lower further and the base 12 is vacuum-sucked on the hot plate 16 and heated thereby principally. Thereafter the elevating pins 15 rise and elevate the base 12 to the original position and a nitrogen gas is blown against the surface of the base 12 from a nozzle of a gas supply pipe 23 so as to facilitate cooling of the base 12. After the base 12 is cooled, it is brought out from the opening part 9.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、主に液晶用基板やプリ
ント基板などの製造工程において、基板を加熱するため
の加熱炉に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heating furnace for heating a substrate mainly in a manufacturing process of a liquid crystal substrate, a printed circuit board or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近、液晶パネルは、軽量,薄形でかつ
低消費電力である特長を持つために、ディスプレイ用と
して広く使用されるようになってきた。液晶パネルの製
造工程では、液晶パネル用のガラス基板上に塗布された
シ−ル剤を加熱硬化させる工程があるが、その加熱手段
として、従来、ガラス基板をホットプレート上に載置し
て、所望の温度でシ−ル剤の加熱を行なうホットプレ−
ト式の加熱炉を使用している。
2. Description of the Related Art Recently, liquid crystal panels have been widely used for displays because of their features of being lightweight, thin, and having low power consumption. In the manufacturing process of the liquid crystal panel, there is a step of heating and curing the sealant applied on the glass substrate for the liquid crystal panel, but as a heating means thereof, conventionally, the glass substrate is placed on a hot plate, Hot plate that heats the sealant at the desired temperature
I use a heating furnace of the type.

【0003】図9は特開平2−83230号公報に記載
されているかかる従来の加熱炉の一例の概略構造を示す
縦断面図、図10は図9の分断線E−Eに沿う断面図で
あって、40は加熱炉の搬入部、41は炉体、42は加
熱炉の搬出部、43は基板搬送機構、44は炉体ケ−
ス、45はモ−タ、46はボ−ルネジ、47はナット、
48はリニアガイド、49は横移動機構、50はモ−
タ、51はボ−ルネジ、52はナット、53はリニアガ
イド、54はカム、55はガイド、56は縦移動機構、
57は基板移動板、58は架台フレーム、59は基板、
60a〜60cはホットプレ−ト(以下、特定のホット
プレートを表わすときには、符号の末尾に英小文字を付
けて60a,60b,60cといい、総称するときに
は、ホットプレート60という)、61は柱、62は排
気管である。
FIG. 9 is a vertical sectional view showing a schematic structure of an example of such a conventional heating furnace described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-83230, and FIG. 10 is a sectional view taken along a section line EE in FIG. Reference numeral 40 denotes a heating furnace carry-in section, 41 denotes a furnace body, 42 denotes a heating furnace carry-out section, 43 denotes a substrate transfer mechanism, and 44 denotes a furnace body case.
45, a motor, 46 a ball screw, 47 a nut,
48 is a linear guide, 49 is a lateral moving mechanism, and 50 is a motor.
51, a ball screw, 52, a nut, 53, a linear guide, 54, a cam, 55, a guide, 56, a vertical movement mechanism,
57 is a substrate moving plate, 58 is a gantry frame, 59 is a substrate,
Numerals 60a to 60c denote a hot plate (hereinafter, when a specific hot plate is represented, the characters are referred to as 60a, 60b, 60c with a lowercase letter added to the end of the code, and when collectively referred to as a hot plate 60), 61 is a pillar, 62 Is an exhaust pipe.

【0004】図9において、前工程でシール剤を塗布し
た基板59は、加熱炉内に搬入する前に、搬入部40で
保持される。炉体41の内部には、基板59を搭載して
加熱するためのホットプレ−ト60a〜60cが設けら
れている。シール剤の加熱硬化処理が終了した基板59
は加熱炉の搬出部42に搬送され、ここから次工程の装
置に搬出される。
In FIG. 9, the substrate 59 coated with the sealant in the previous step is held by the carry-in section 40 before being carried into the heating furnace. Inside the furnace body 41, hot plates 60a to 60c for mounting and heating the substrate 59 are provided. Substrate 59 on which the heat curing treatment of the sealing agent has been completed
Is carried to the carry-out section 42 of the heating furnace, and carried out from here to the apparatus for the next step.

【0005】炉体41内には、また、搬入部40から搬
出部42へ向って基板59を搬送する基板搬送機構43
がホットプレート60の下方に設けられ、これらホット
プレート60と基板搬送機構43が炉体ケ−ス44で覆
われている。この炉体ケ−ス44の天井部には、炉体ケ
−ス44内部で発生するガスを排出する排気管62が設
けられている。
In the furnace body 41, a substrate transport mechanism 43 for transporting a substrate 59 from the loading section 40 to the unloading section 42 is provided.
Are provided below the hot plate 60, and the hot plate 60 and the substrate transfer mechanism 43 are covered with a furnace case 44. An exhaust pipe 62 for exhausting gas generated inside the furnace case 44 is provided on the ceiling of the furnace case 44.

【0006】ホットプレート60は柱61で支えられて
おり、炉体ケ−ス44と柱61は装置下部の架台フレー
ム58に固定されている。基板搬送機構43はモ−タ4
5やボ−ルネジ46,ナット47,リニアガイド48な
どからなる横移動機構49と、モ−タ50やボ−ルネジ
51,ナット52,リニアガイド53,カム54,ガイ
ド55などからなる縦移動機構56と、炉体ケ−ス44
を貫通して搬入部40から搬出部42にかけて延在する
基板移動板57とで構成されている。
The hot plate 60 is supported by a column 61, and the furnace case 44 and the column 61 are fixed to a gantry frame 58 at the lower part of the apparatus. The board transfer mechanism 43 is a motor 4
5, a horizontal moving mechanism 49 including a ball screw 46, a nut 47, a linear guide 48, and the like, and a vertical moving mechanism including a motor 50, a ball screw 51, a nut 52, a linear guide 53, a cam 54, a guide 55, and the like. 56 and furnace case 44
And a substrate moving plate 57 extending from the carry-in section 40 to the carry-out section 42.

【0007】基板移動板57を駆動する横移動機構49
はモ−タ45の回転をボ−ルネジ46とナット47によ
り直線移動に変換し、リニアガイド48上で基板移動板
57を図9での左右方向に駆動する。横移動機構49が
基板移動板57を駆動する距離は、ホットプレ−ト60
a〜60cの中心間距離に等しい。
A horizontal moving mechanism 49 for driving the substrate moving plate 57
Converts the rotation of the motor 45 into a linear movement by means of a ball screw 46 and a nut 47, and drives the substrate moving plate 57 on the linear guide 48 in the horizontal direction in FIG. The distance by which the lateral moving mechanism 49 drives the substrate moving plate 57 is determined by the hot plate 60.
It is equal to the center-to-center distance of a to 60c.

【0008】また、縦移動機構56はモ−タ50の回転
をボ−ルネジ51とナット52により直線移動に変換
し、カム54をリニアガイド53上で駆動することによ
り、カム54上にあるガイド55を上下に駆動し、これ
によって基板移動板57を図9での上下方向に駆動す
る。
The vertical movement mechanism 56 converts the rotation of the motor 50 into a linear movement by means of the ball screw 51 and the nut 52, and drives the cam 54 on the linear guide 53 to guide it on the cam 54. 55 is driven up and down, and thereby the substrate moving plate 57 is driven up and down in FIG.

【0009】これらモータ45,50は夫々エンコーダ
を内蔵し、さらに、図示しない制御器と接続されてい
る。モータ45,50は、一定方向に一定量回転する
と、信号を制御器に送り、制御器は、この信号に応じ
て、モータ45,50の停止,正転及び逆転などを制御
する。
Each of the motors 45 and 50 has an encoder built therein and is further connected to a controller (not shown). When the motors 45, 50 rotate in a certain direction by a certain amount, they send a signal to the controller, and the controller controls stop, forward rotation, reverse rotation, etc. of the motors 45, 50 according to the signal.

【0010】基板59に塗布されたシール剤は、急速に
硬化が進行して物性が変化する特有の臨界温度を有して
おり、この臨界温度を越えると、急速に硬化する。従っ
て、臨界温度を越えて加熱するときの温度と時間が基板
59全面で一様でないと、シール剤の硬化にむらが生
じ、硬さや接着性などの特性が不均一となって基板59
の品質が低下する。
The sealant applied to the substrate 59 has a specific critical temperature at which the curing progresses rapidly and the physical properties change, and when it exceeds this critical temperature, it cures rapidly. Therefore, if the temperature and time for heating beyond the critical temperature are not uniform over the entire surface of the substrate 59, the curing of the sealant will be uneven, and properties such as hardness and adhesiveness will be non-uniform, and the substrate 59 will not be uniform.
The quality will be reduced.

【0011】さらに、基板59を急激に加熱すると、基
板59の温度が上昇して安定化するまで基板59面上の
温度差が大きくなり、これがシール剤の特性むらの原因
となるし、さらに熱応力が大きくなって破損することも
ある。このため、一旦シール剤が硬化しにくい臨界温度
以下の温度で基板59を予熱している。そこで、一般
に、ホットプレート60の温度は、この予熱ができるよ
うにするため、搬入部40側からホットプレート60の
配列順に段階的に高くするようにすることが行なわれて
いる。
Further, when the substrate 59 is rapidly heated, the temperature difference on the surface of the substrate 59 increases until the temperature of the substrate 59 rises and stabilizes, which causes unevenness in the properties of the sealant. In some cases, the stress may be increased to cause breakage. Therefore, the substrate 59 is once preheated at a temperature lower than the critical temperature at which the sealant is hardly cured. Therefore, in general, the temperature of the hot plate 60 is increased step by step in the arrangement order of the hot plates 60 from the loading unit 40 side in order to enable the preheating.

【0012】従来、必要な加熱を行なうための温度や時
間などを確保し、製造ラインの要求する間隔で基板59
を供給するために、ホットプレート60の温度と数量
を、予熱を行なう部分については、搬入側から順に段階
的に高くする温度と基板59を搬送する間隔によって定
まる保持時間などの条件でもって、また、臨界温度以上
の所望する温度で加熱する部分については、保持する温
度と基板59を搬送する間隔により定まる保持時間など
の条件に応じて定めている。
Conventionally, the temperature, time, and the like for performing necessary heating are secured, and the substrate 59 is provided at intervals required by the production line.
In order to supply the hot plate 60, the temperature and quantity of the hot plate 60 are preliminarily increased in a stepwise manner from the loading side, under conditions such as a temperature and a holding time determined by an interval for transporting the substrate 59. The portion to be heated at a desired temperature equal to or higher than the critical temperature is determined according to conditions such as a holding time determined by a holding temperature and an interval at which the substrate 59 is transported.

【0013】図9及び図10に示す従来の加熱炉では、
ホットプレート60aは予熱を行なう部分であって、温
度は臨界温度より低く、ホットプレート60b,60c
は臨界点以上の所望する温度で加熱(本加熱)する部分
であって、温度は臨界温度以上の所望する同一温度に保
持している。
In the conventional heating furnace shown in FIGS. 9 and 10,
The hot plate 60a is a part for preheating, the temperature is lower than the critical temperature, and the hot plates 60b, 60c are
Is a portion to be heated (mainly heated) at a desired temperature above the critical point, and the temperature is maintained at the same desired temperature above the critical temperature.

【0014】次に、かかる構造の加熱炉の、基板59に
塗布されたシール剤を加熱硬化するための動作を説明す
る。
Next, the operation of the heating furnace having such a structure for heating and curing the sealant applied to the substrate 59 will be described.

【0015】まず、搬入部40に基板59が載置される
と、モータ50が回転してカム54を搬入部40側へ移
動させ、これとともにガイド55が上方に移動して基板
移動板57が持ち上がる。この過程で基板移動板57が
搬入部40に搭載されている基板59を乗せて上昇さ
せ、基板59は搬入部40から離れる。基板移動板57
が所定の高さまで持ち上がると、モータ50が停止して
その高さに保持される。
First, when the substrate 59 is placed on the carry-in section 40, the motor 50 rotates to move the cam 54 to the carry-in section 40 side, and with this, the guide 55 moves upward and the board moving plate 57 moves. Lift up. In this process, the board moving plate 57 places the board 59 mounted on the carry-in section 40 and raises it, and the board 59 is separated from the carry-in section 40. Board moving plate 57
When is lifted to a predetermined height, the motor 50 stops and is held at that height.

【0016】次に、モータ45が回転して基板移動板5
7を搬出部42側に移動させる。そして、基板移動板5
7に載置されている基板59がホットプレート60aの
上方まで搬送されると、モータ45が停止する。かかる
状態で、モータ50が上記とは逆方向に回転し、カム5
4を搬出部42側へ移動させて基板移動板57をホット
プレート60の面より下げて停止する。これにより、基
板59はホットプレート60a上に搭載される。
Next, the motor 45 rotates and the substrate moving plate 5
7 is moved to the unloading section 42 side. Then, the substrate moving plate 5
When the substrate 59 placed on 7 is transported above the hot plate 60a, the motor 45 stops. In this state, the motor 50 rotates in the opposite direction to the above,
4 is moved to the unloading section 42 side, and the substrate moving plate 57 is lowered from the surface of the hot plate 60 and stopped. Thus, the substrate 59 is mounted on the hot plate 60a.

【0017】しかる後、モータ45が上記とは逆の方向
に回転し、これとともに、基板移動板57が搬入部40
側に移動する。そして、基板移動板57が元の位置に戻
ると、モータ45が停止して、1回の動作を終了する。
After that, the motor 45 rotates in the opposite direction to the above, and at the same time, the substrate moving plate 57 causes the loading section 40 to move.
Move to the side. Then, when the substrate moving plate 57 returns to the original position, the motor 45 stops, and one operation ends.

【0018】この1回目の動作が終了すると、予熱が行
なわれる所定時間経過後、再び基板移動板57が上記の
動作を繰り返し、基板59をホットプレート60aから
ホットプレート60bに移す2回目の動作が行なわれ、
次いで、3回目の動作で基板59がホットプレート60
bからホットプレート60cに移され、加熱処理終了後
の4回目の動作でホットプレート60cから搬出部42
に搬出される。
When the first operation is completed, after a lapse of a predetermined time during which preheating is performed, the substrate moving plate 57 repeats the above operation again, and the second operation of moving the substrate 59 from the hot plate 60a to the hot plate 60b is performed. Done
Next, the substrate 59 is moved to the hot plate 60 by the third operation.
b from the hot plate 60c to the hot plate 60c.
To be carried out.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
加熱炉においては、以下のような問題がある。
However, the conventional heating furnace has the following problems.

【0020】基板59はその上面にシール剤が塗布され
ているので、搬送するときには、基板移動板57によっ
て下面が支えられる。このため、ホットプレート60
は、図10に示すように、基板59の基板移動板57で
支えられる部分以外の部分を搭載するように設けられて
いる。
Since the upper surface of the substrate 59 is coated with a sealant, the lower surface is supported by the substrate moving plate 57 during transport. Therefore, the hot plate 60
10, is provided so as to mount a portion of the substrate 59 other than the portion supported by the substrate moving plate 57.

【0021】さらに、寸法の異なる基板59に対応させ
るために、基板59の送り方向の両側に基板59を支え
る基板移動板57が移動可能に設けられており、このた
め、ホットプレート60は基板59の送り方向と直角な
方向での幅寸法が制限され、基板59が大きくなれば、
基板59のホットプレート60上からはみ出す部分の面
積が大きくなる。このため、基板59のこのはみ出した
周縁端部の温度が上昇しにくく、さらに、基板59の移
動中には、基板59を支える基板移動板57との接触に
より基板移動板57に熱が奪われ、ホットプレート60
面から離れることで温度が低下する。炉体ケース44は
加熱温度が異なる複数のホットプレート60と基板移動
板57やその稼働部を収容しているため、その容積及び
全高は大きく、炉体ケース44内における大きな温度差
で炉体ケース44内全体で対流が生じる。この対流は基
板移動板57の上下左右の動きで乱れを生じ易く、それ
によってホットプレート60間を移動する基板59の表
面温度が一定せず、シール剤の硬化が不均一となる。
Further, in order to accommodate substrates 59 having different sizes, substrate moving plates 57 that support the substrate 59 are movably provided on both sides of the substrate 59 in the feeding direction, and therefore the hot plate 60 is provided on the substrate 59. If the width of the board 59 becomes large in the direction perpendicular to the feeding direction of
The area of the portion of the substrate 59 protruding from the hot plate 60 is increased. For this reason, the temperature of this protruding peripheral edge portion of the substrate 59 is unlikely to rise, and further, during the movement of the substrate 59, heat is absorbed by the substrate moving plate 57 due to contact with the substrate moving plate 57 that supports the substrate 59. , Hot plate 60
The temperature drops as you move away from the surface. Since the furnace body case 44 accommodates a plurality of hot plates 60 having different heating temperatures, the substrate moving plate 57, and its operating part, its volume and overall height are large, and the furnace body case 44 has a large temperature difference. Convection occurs throughout 44. The convection is likely to be disturbed by the vertical and horizontal movements of the substrate moving plate 57, whereby the surface temperature of the substrate 59 moving between the hot plates 60 is not constant, and the curing of the sealant becomes uneven.

【0022】また、基板59がホットプレート60間の
移動を繰り返すことにより、基板59と基板移動板57
及びホットプレート60との接触回数が多くなるため、
発塵量が多くなる。そして、基板59の温度低下を防止
するために、ホットプレート60間における移動時間は
短時間とすることが望ましいが、このために基板59を
ホットプレート60間で高速度で移動させるようにする
と、炉体41内部の気流が大きく乱れて塵埃が舞い上が
り、一層清浄度が低下する。また、基板移動板57の駆
動部がホットプレート60と同じ炉体ケース44の内部
にあり、さらに対流により外気が進入するので、清浄度
が低下する。以上のことからして、基板59に塵埃が付
着することにより、その品質が低下する。
The substrate 59 and the substrate moving plate 57 are repeatedly moved between the hot plates 60.
And since the number of contact with the hot plate 60 increases,
A large amount of dust is generated. Then, in order to prevent the temperature drop of the substrate 59, it is desirable that the moving time between the hot plates 60 is short, but for this reason, if the substrate 59 is moved at a high speed between the hot plates 60, The air flow inside the furnace body 41 is greatly disturbed, dust is blown up, and the cleanliness is further reduced. In addition, since the driving unit of the substrate moving plate 57 is located inside the furnace case 44, which is the same as the hot plate 60, and the outside air enters by convection, the cleanliness is reduced. From the above, dust adheres to the substrate 59, and the quality thereof deteriorates.

【0023】さらに、所望する加熱を与えてシール剤を
加熱硬化した後の基板59を加熱炉に接続される下流の
装置に供給する量を確保するためには、炉体が長くなっ
て大きな据付け面積が必要となり、特に、基板59の製
造装置はクリ−ンル−ムに設置することが多いので、設
置面積が問題となる。
Further, in order to secure a sufficient amount to supply the substrate 59 after the sealing agent is heated and hardened by the desired heating to the downstream apparatus connected to the heating furnace, the furnace body becomes long and a large installation is required. An area is required, and in particular, since the manufacturing apparatus for the substrate 59 is often installed in a clean room, the installation area becomes a problem.

【0024】同様な問題は、プリント基板における導電
ペーストなどの焼成でも見受けられる。
A similar problem can be seen when firing a conductive paste or the like on a printed circuit board.

【0025】本発明の目的は、かかる問題を解消し、基
板面表面に塗布したシール剤やペーストなどを均一に加
熱硬化することができ、高品質な基板を得ることができ
るようにした設置面積の小さな加熱炉を提供することに
ある。
An object of the present invention is to eliminate such a problem, and to uniformly heat and cure the sealing agent or paste applied to the surface of the substrate surface so that a high quality substrate can be obtained. To provide a small heating furnace.

【0026】[0026]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、加熱板を貫通する複数の小孔と、該小孔
を貫通する複数の小径の棒形状で加熱板より上方に突出
可能に設けた基板の保持手段と、該基板の保持手段を昇
降させる昇降手段と、該加熱板より上方に突出する該基
板の保持手段の長さを制御して予熱,本加熱,冷却の各
温度に温度制御する手段と、該加熱板と該基板の該保持
手段を包含し外気と遮る容器とを備え、該容器の一面に
該基板を水平方向に移動して該容器内の該基板の保持手
段上に搭載する開口部を設ける。
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention has a plurality of small holes penetrating the heating plate and a plurality of small diameter rods penetrating the small holes and is arranged above the heating plate. Preheating, main heating, and cooling are controlled by controlling the length of the substrate holding means that is provided so as to project, the raising and lowering means that raises and lowers the substrate holding means, and the substrate holding means that projects above the heating plate. The substrate in the container is provided with a means for controlling the temperature to each temperature, a container that includes the heating plate and the holding means for the substrate and shields it from the outside air, and horizontally moves the substrate to one surface of the container. An opening to be mounted on the holding means is provided.

【0027】[0027]

【作用】基板の保持手段を複数の小径の棒形状として加
熱板内を貫通して設けているので、加熱板の面積を広く
取れ、基板面を全て加熱板の面に密着することができ、
熱伝導により基板面を全て均等に加熱できる。
Since the substrate holding means is provided as a plurality of rods each having a small diameter and penetrating through the inside of the heating plate, a large area of the heating plate can be obtained and the entire substrate surface can be adhered to the heating plate surface.
The entire surface of the substrate can be heated uniformly by heat conduction.

【0028】また、1個の加熱板上での基板の上下だけ
で予熱,本加熱及び冷却を行なうことができるので、全
容積や容器内の全高を抑えることができる。従って、容
器内の温度は均一化して温度差が少なくなり、対流の発
生は少なく加熱温度は安定する。基板の保持手段は基板
との接触面積が僅かであるので、摩擦による発塵は少な
く、加熱板への基板の搭載は加熱板に近付けた予熱位置
から搭載することで搭載時の加熱板周囲の気流の乱れは
少なくでき、また、容器内の対流を抑えているので、塵
埃を舞い上げることがなく、清浄度の低下を防止でき
る。
Further, since preheating, main heating and cooling can be performed only by the upper and lower sides of the substrate on one heating plate, the total volume and the total height in the container can be suppressed. Therefore, the temperature in the container is made uniform, the temperature difference is reduced, convection is less likely to occur, and the heating temperature is stable. Since the substrate holding means has a small contact area with the substrate, there is little dust generation due to friction, and the substrate is mounted on the heating plate by mounting the substrate from the preheating position close to the heating plate. The turbulence of the air flow can be reduced, and since the convection in the container is suppressed, dust is not raised and the cleanliness can be prevented from lowering.

【0029】[0029]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面により説明す
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0030】図1は本発明による加熱炉の一実施例の外
観を示す正面図であって、1は架台フレーム、2は炉
体、3は制御部、4はベース板、5は支柱、6は枠組、
8は隔壁、9は開口部である。
FIG. 1 is a front view showing the appearance of an embodiment of a heating furnace according to the present invention, in which 1 is a gantry frame, 2 is a furnace body, 3 is a control unit, 4 is a base plate, 5 is a support, and 6 Is a framework,
Reference numeral 8 is a partition wall, and 9 is an opening.

【0031】図2は図1の分断線A−Aに沿う断面図で
あって、10は扉(点検扉)、11は昇降手段、12は
基板、13は排気管、14は搬送ロボットであり、図1
に対応する部分には同一符号を付けている。
FIG. 2 is a sectional view taken along the section line A--A in FIG. 1. 10 is a door (inspection door), 11 is a lifting means, 12 is a substrate, 13 is an exhaust pipe, and 14 is a transfer robot. , Figure 1
Are assigned the same reference numerals.

【0032】図3は図1の分断線B−Bに沿う要部断面
図であって、15は昇降ピン、16はホットプレ−ト、
17は支柱、18は放熱防止カバー、19は位置ずれ防
止ピン、20は真空吸着孔、21は真空配管、22は加
熱用ヒ−タ、23は給気管、24は縦駆動板、25は横
枠であり、前出図面に対応する部分には同一符号を付け
ている。
FIG. 3 is a sectional view of the main part taken along the section line B--B in FIG. 1, where 15 is a lifting pin, 16 is a hot plate,
17 is a column, 18 is a heat dissipation prevention cover, 19 is a displacement prevention pin, 20 is a vacuum suction hole, 21 is a vacuum pipe, 22 is a heating heater, 23 is an air supply pipe, 24 is a vertical drive plate, and 25 is a horizontal drive plate. It is a frame, and portions corresponding to the above-mentioned drawings are denoted by the same reference numerals.

【0033】図4は図2の分断線C−Cに沿う要部断面
図であって、前出図面に対応する部分には同一符号を付
けている。
FIG. 4 is a sectional view of an essential part taken along the section line CC of FIG. 2, and the same reference numerals are given to the parts corresponding to the above drawings.

【0034】図1及び図2において、この実施例の加熱
炉は、脚部を有する架台フレーム1により床面に設置さ
れている。架台フレーム1は加熱を行なう炉体2を収納
する空間部分Iと、後述する基板12の保持手段を昇降
させる基板12の温度制御手段や加熱炉全体の制御手段
となる制御部3を収容する空間部分IIとの上下2段に分
割されている。
1 and 2, the heating furnace of this embodiment is installed on the floor by a gantry frame 1 having legs. The gantry frame 1 is a space for accommodating a space portion I for accommodating a furnace body 2 for heating, a temperature control means for the substrate 12 for elevating and lowering a holding means for the substrate 12, which will be described later, and a control section 3 for controlling the entire heating furnace. It is divided into two stages, upper and lower with the part II.

【0035】架台フレーム1の上部空間部分Iには、横
向きに配置されるベース板4とこれを支えて縦向きに配
置される支柱5との組合せからなる枠組6が2組設けら
れ、これらが横方向に配置されている。1つの枠組6で
は、この上部空間部分Iの天井側のベース板4と底面側
のベース板4とこれらの間のペース板4とが互いに水平
に配置され、これらが左右両側2ヵ所ずつで支柱5によ
り支えられている。この1つの枠組6で上下2つの空間
ができて、夫々に炉体2が設置される。従って、架台フ
レーム1の上部空間部分Iには、上側に2台ずつ,下側
に2台ずつ計4台の炉体2が設置される。
In the upper space portion I of the gantry frame 1, there are provided two sets of frameworks 6 each including a combination of a base plate 4 arranged in a horizontal direction and columns 5 supporting the base plate 4 arranged in a vertical direction. It is arranged horizontally. In one frame 6, the base plate 4 on the ceiling side of the upper space portion I, the base plate 4 on the bottom side, and the pace plate 4 between them are arranged horizontally, and these are supported at two places on each of the left and right sides. Supported by 5. This one frame 6 creates two upper and lower spaces, and the furnace body 2 is installed in each of them. Therefore, in the upper space portion I of the gantry frame 1, two furnace bodies 2 are installed, two on the upper side and two on the lower side.

【0036】炉体2の加熱を行なう部分は容器状の隔壁
8で覆われ、この隔壁8の底部がベース板4に固定され
ている。この隔壁8には、図2に示すように、基板12
の搬入搬出を行なう開口部9が設けている。また、隔壁
8による容器の両側には、図2に示すように、取外し可
能に扉(点検扉)10が設けられている。そして、隔壁
8の片側の点検扉10は加熱炉の外面側となるので、点
検扉10を外して炉体2の保守を行なうことができる。
The heating portion of the furnace body 2 is covered with a partition 8 having a container shape, and the bottom of the partition 8 is fixed to the base plate 4. As shown in FIG. 2, the partition wall 8 has a substrate 12
An opening 9 is provided for carrying in and out. Further, detachable doors (inspection doors) 10 are provided on both sides of the container by the partition wall 8 as shown in FIG. Since the inspection door 10 on one side of the partition 8 is on the outer surface side of the heating furnace, the inspection door 10 can be removed and the furnace body 2 can be maintained.

【0037】各炉体2毎に昇降手段11が設けられ、夫
々ベース板4に固定されている。昇降手段11は内部に
図示しない駆動モータ、ボールネジなどよりなる往復運
動機構を有しており、その動作は制御部3で制御され
る。図3に示すように、昇降手段11には、この往復運
動機構によって上下方向に駆動される縦駆動板24が接
続され、この縦駆動板24は炉体2内に伸延している。
Elevating means 11 is provided for each furnace body 2 and is fixed to the base plate 4, respectively. The elevating means 11 has a reciprocating mechanism including a drive motor, a ball screw, and the like (not shown), and its operation is controlled by the control unit 3. As shown in FIG. 3, the elevating means 11 is connected with a vertical drive plate 24 which is vertically driven by the reciprocating mechanism, and the vertical drive plate 24 extends into the furnace body 2.

【0038】炉体2内では、図3及び図4に示すよう
に、縦駆動板24に複数の横枠25が接続されており、
横枠25の上面に昇降ピン15が接続されている。昇降
ピン15は小径の棒形状のものであり、基板12の保持
手段である。また、炉体2内には、基板12と接触して
これを加熱する加熱板としてのホットプレ−ト16が配
置され、このホットプレ−ト16は支柱17を介してベ
ース板4に固定されている。
In the furnace body 2, as shown in FIGS. 3 and 4, a plurality of horizontal frames 25 are connected to the vertical drive plate 24,
The lifting pins 15 are connected to the upper surface of the horizontal frame 25. The elevating pins 15 are rod-shaped with a small diameter, and are holding means for the substrate 12. A hot plate 16 as a heating plate for contacting and heating the substrate 12 is arranged in the furnace body 2, and the hot plate 16 is fixed to the base plate 4 via a column 17. .

【0039】ホットプレ−ト16の外側には、放熱防止
カバー18が設けられている。放熱防止カバー18はス
テンレス鋼などの金属板からなり、ホットプレート16
から僅かに離れてそれを覆うようにしている。これによ
り、ホットプレート16と放熱防止カバー18との間に
空気層が形成され、この空気層によってホットプレート
16の放熱量を抑え、温度の安定を図っている。ホット
プレ−ト16と放熱防止カバー18には、これらを垂直
方向に貫通する小孔が設けられている。
A heat radiation prevention cover 18 is provided on the outside of the hot plate 16. The heat radiation prevention cover 18 is made of a metal plate such as stainless steel.
Slightly away from it to cover it. As a result, an air layer is formed between the hot plate 16 and the heat radiation prevention cover 18, and the amount of heat radiation of the hot plate 16 is suppressed by this air layer to stabilize the temperature. The hot plate 16 and the heat radiation preventing cover 18 are provided with small holes penetrating them vertically.

【0040】基板12は、ホットプレート16の上方で
複数個配設された昇降ピン15上に搭載される。昇降ピ
ン15は対象となる全ての基板12の形状に対応するよ
うに適宜な配置で設けられており、そのホットプレート
16面より突き出る夫々の長さが互いに等しくなるよう
にしている。また、隔壁8に設けた開口部9と昇降ピン
15の位置関係は、基板12が開口部9から水平に移動
して炉体2内に搬入されたとき、この基板12がそのま
ま昇降ピン15上に搭載できるように設定されている。
The substrate 12 is mounted on the elevating pins 15 arranged in plural above the hot plate 16. The elevating pins 15 are provided in an appropriate arrangement so as to correspond to the shapes of all the target substrates 12, and their lengths protruding from the hot plate 16 surface are made equal to each other. Further, the positional relationship between the opening 9 provided on the partition wall 8 and the lifting pin 15 is such that when the substrate 12 is moved horizontally from the opening 9 and is loaded into the furnace body 2, the substrate 12 remains on the lifting pin 15. It is set to be mounted on.

【0041】炉体2内の稼働部分は昇降手段11によっ
て昇降する縦駆動板24や昇降ピン15であり、昇降手
段11は炉体2外に配置され、開口部9から水平方向に
基板12が搬入されるので、炉体2内は縦駆動板24や
昇降ピン15の駆動範囲と基板12の搬入に必要な空間
があればよく、これらによって隔壁8は全高が抑えられ
ている。
The operating parts in the furnace body 2 are the vertical drive plate 24 and the lifting pins 15 which are lifted and lowered by the lifting and lowering means 11. The lifting and lowering means 11 is arranged outside the furnace body 2 and the substrate 12 is horizontally arranged from the opening 9. Since it is carried in, it suffices that the furnace body 2 has a drive range for the vertical drive plate 24 and the lift pins 15 and a space required for carrying in the substrate 12, and the partition wall 8 is suppressed in overall height.

【0042】ホットプレート16の上面には、基板12
の位置ずれ防止ピン19と一定間隔で配置された複数個
の真空吸着孔20とが配置されている。位置ずれ防止ピ
ン19は、基板12の形状に応じてその固定位置を変更
できるように、ねじ止めなどで脱着可能にホットプレー
ト16に固定された棒状のものであって、基板12が搭
載される部分を周りから囲むように設けられたものであ
り、例えば、長方形の基板12に対してその四辺方向に
位置する。
On the upper surface of the hot plate 16, the substrate 12
And a plurality of vacuum suction holes 20 arranged at regular intervals. The misalignment prevention pin 19 is a rod-shaped member that is detachably fixed to the hot plate 16 by screwing or the like so that the fixing position can be changed according to the shape of the substrate 12, and the substrate 12 is mounted thereon. It is provided so as to surround the portion from the periphery, and is located in the four sides of the rectangular substrate 12, for example.

【0043】ホットプレ−ト16の内部には、加熱用の
ヒ−タ22と真空吸着孔20に連結された真空配管21
とが設けられており、さらに、真空配管21には、制御
部3によって駆動制御される図示しない真空ポンプが接
続されている。
Inside the hot plate 16 is a vacuum pipe 21 connected to a heater 22 for heating and a vacuum suction hole 20.
And a vacuum pump (not shown) that is driven and controlled by the control unit 3 is connected to the vacuum pipe 21.

【0044】また、炉体2の内側上部の開口部9側に
は、給気手段としての給気管23が設けられている。給
気管23は多数のノズルを開口部9と反対側の略水平方
向に向けて設けられたパイプ状のものであって、気体
(例えば、窒素ガス)をその内部に通してこれらノズル
から炉体2内に給気する。
An air supply pipe 23 as an air supply means is provided on the inner upper side of the furnace body 2 on the side of the opening 9. The air supply pipe 23 is a pipe-shaped pipe provided with a number of nozzles directed substantially in the horizontal direction on the side opposite to the opening 9, and allows gas (for example, nitrogen gas) to pass therethrough and pass through the furnace body from these nozzles. Air is supplied into 2.

【0045】また、隔壁8の開口部9に対向する側の面
には、炉体2内で発生する塵埃やシール剤の硬化処理に
より発生するガスを排気するための排気管13が設けら
れている。炉体2内の内圧を上げるために、給気管23
による窒素ガスの給気量より排気管13による排気量を
少なくしている。
On the surface of the partition wall 8 facing the opening 9 is provided an exhaust pipe 13 for exhausting dust generated in the furnace body 2 and gas generated by the curing treatment of the sealant. There is. In order to increase the internal pressure in the furnace body 2, the air supply pipe 23
The amount of exhaust gas from the exhaust pipe 13 is smaller than the amount of nitrogen gas supplied by the exhaust gas.

【0046】外部から炉体2内への基板12の搬入及び
搬出は、図2に示すように、図示する形状の搬送ヘッド
を持ち、制御部3の制御によって炉体2内の昇降ピン1
5と連動して動作する搬送ロボット14などが使用され
る。
For loading and unloading the substrate 12 into and from the furnace body 2 from the outside, as shown in FIG. 2, the carrier head having the illustrated shape is used, and the lifting pins 1 in the furnace body 2 are controlled by the control unit 3.
The transfer robot 14 or the like that operates in conjunction with the device 5 is used.

【0047】次に、以上のような構成のこの実施例の動
作を図5により説明する。なお、図5は、図4と同様
に、図2の分断線C−Cから開口部9側をみた図であ
る。
Next, the operation of this embodiment having the above construction will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a view of the opening 9 side from the dividing line CC of FIG. 2 as in FIG.

【0048】始めに、図5(a)に示すように、基板1
2が、搬入ロボット14(図2)により、開口部9から
水平方向に炉体2内に搬入され、上昇している昇降ピン
15上に搭載される。このとき、ホットプレ−ト16
は、基板12に塗布されたシール剤が急速に硬化する臨
界温度を越える所望の温度に保持されている。ホットプ
レート16は隔壁8によって外気と遮断されているか
ら、その温度は安定しており、また、炉体2内は、ホッ
トプレート16の熱により、外気温よりも高温に保たれ
ている。
First, as shown in FIG. 5A, the substrate 1
2 is carried into the furnace body 2 from the opening 9 in the horizontal direction by the carrying-in robot 14 (FIG. 2), and is mounted on the ascending / descending elevating pins 15. At this time, hot plate 16
Is maintained at a desired temperature above the critical temperature at which the sealant applied to the substrate 12 rapidly cures. Since the hot plate 16 is isolated from the outside air by the partition wall 8, its temperature is stable, and the inside of the furnace body 2 is kept at a higher temperature than the outside air temperature by the heat of the hot plate 16.

【0049】給気管23は、常に、そのノズルから常温
の窒素ガスを開口部9と反対側の方向に向けて略水平に
吹き出している。給気管23のノズルから供給する窒素
ガスは高清浄度のものであって、この窒素ガスの供給に
より、炉体2内は高清浄度が維持されている。また、排
気管13(図2)は、常に、炉体2内の空気を排出し、
炉体2内で発生するわずかな塵埃やシール剤の加熱で発
生するガスを排気している。
The air supply pipe 23 constantly blows nitrogen gas at room temperature from its nozzle in a direction substantially opposite to the direction of the opening 9. The nitrogen gas supplied from the nozzle of the air supply pipe 23 has a high degree of cleanliness, and the supply of this nitrogen gas maintains the inside of the furnace body 2 with a high degree of cleanliness. Further, the exhaust pipe 13 (FIG. 2) constantly discharges the air in the furnace body 2,
A slight amount of dust generated in the furnace body 2 and a gas generated by heating the sealant are exhausted.

【0050】基板12を炉体2内に搬入すると、この基
板12は、ホットプレ−ト16からの輻射や炉体2内の
気温により、その表面温度が上昇する。このときの基板
12とホットプレート16との間隔は、ホットプレート
16の温度やシール剤などの条件に応じて異なる。
When the substrate 12 is carried into the furnace body 2, the surface temperature of the substrate 12 rises due to the radiation from the hot plate 16 and the temperature inside the furnace body 2. At this time, the interval between the substrate 12 and the hot plate 16 differs depending on conditions such as the temperature of the hot plate 16 and a sealant.

【0051】次に、図5(b)に示すように、昇降手段
11(図3)によって昇降ピン15が下げられ、基板1
2をホットプレ−ト16に近づけて保持する。このとき
の基板12とホットプレート16との間隔は、所望する
予熱温度に応じて異なる。この状態で基板12をホット
プレ−ト16の輻射により加熱する。基板12の温度は
さらに上昇するが、この基板12はホットプレ−ト16
から離れているため、ホットプレ−ト16の表面温度ま
では上昇しない。従って、基板12とホットプレート1
6との距離を調整することにより、基板12を所望する
温度に予熱できる。基板12が所望の温度に達すると、
昇降ピン15をさらに降下し、また、真空配管21に接
続している前述した真空ポンプを作動させ、真空吸着孔
20から吸気させる。
Next, as shown in FIG. 5 (b), the raising / lowering means 15 (FIG. 3) lowers the raising / lowering pin 15 so that the substrate 1
2 is held close to the hot plate 16. At this time, the interval between the substrate 12 and the hot plate 16 differs depending on a desired preheating temperature. In this state, the substrate 12 is heated by the radiation of the hot plate 16. Although the temperature of the substrate 12 further rises, the substrate 12 has a hot plate 16
Therefore, the temperature does not rise to the surface temperature of the hot plate 16. Therefore, the substrate 12 and the hot plate 1
By adjusting the distance from the substrate 6, the substrate 12 can be preheated to a desired temperature. When the substrate 12 reaches the desired temperature,
The elevating pin 15 is further lowered, and the above-mentioned vacuum pump connected to the vacuum pipe 21 is operated to suck air from the vacuum suction hole 20.

【0052】そして、図5(c)のように、昇降ピン1
5をさらに降下させることにより、基板12は位置ずれ
防止ピン19に囲まれて降下し、遂に、ホットプレ−ト
16上に載置される。すると、基板12は、真空吸着孔
20が作動していることにより、ホットプレート16に
真空吸着して密着固定し、例え基板12に反りがあって
も、ホットプレ−ト16との間に隙間が生じないし、加
熱中に位置ずれが生じるようなこともない。
Then, as shown in FIG. 5C, the lifting pin 1
By further lowering 5, the substrate 12 is lowered while being surrounded by the misalignment prevention pins 19, and finally placed on the hot plate 16. Then, the substrate 12 is vacuum-adsorbed and closely fixed to the hot plate 16 due to the operation of the vacuum adsorption hole 20, and even if the substrate 12 is warped, a gap is formed between the substrate 12 and the hot plate 16. It does not occur, and the positional deviation does not occur during heating.

【0053】基板12の反りやホットプレート16と昇
降ピン15の工作精度などが原因となって、基板12の
全面がホットプレート16に同時に接触し難い。このた
め、基板12は先にホットプレート16に接触した部分
から真空吸着孔20に引き寄せられ、これとともに搭載
位置からずれようとするが、位置ずれ防止ピン19で周
りが囲まれているので、機械的に所望する範囲内にずれ
防止がなされる。基板12をホットプレ−ト16に所望
の時間密着させて保持する。
Due to the warp of the substrate 12 and the working precision of the hot plate 16 and the lifting pins 15, it is difficult for the entire surface of the substrate 12 to contact the hot plate 16 at the same time. For this reason, the substrate 12 is attracted to the vacuum suction hole 20 from the portion that first comes into contact with the hot plate 16 and tries to deviate from the mounting position together therewith. The deviation is prevented within a desired range. The substrate 12 is held in close contact with the hot plate 16 for a desired time.

【0054】基板12の全面は、ホットプレート16に
密着することにより、熱伝導による加熱で一様な温度と
なる。これにより、基板12に塗布されたシール剤が均
質に加熱硬化される。
The entire surface of the substrate 12 is brought into close contact with the hot plate 16 so that it is heated to a uniform temperature by heat conduction. Thereby, the sealant applied to the substrate 12 is uniformly heated and cured.

【0055】基板12をホットプレ−ト16上で所望の
時間保持した後、真空吸着孔20による吸着を停止し、
昇降ピン15を上昇させ、図5(d)に示すように、再
び基板12を昇降ピン15に搭載した位置まで戻して保
持する。このとき、基板12はホットプレート16から
離れ、次第に温度が低下する。
After holding the substrate 12 on the hot plate 16 for a desired time, the suction by the vacuum suction holes 20 is stopped,
The lifting pins 15 are raised, and as shown in FIG. 5D, the substrate 12 is returned to the position where it is mounted on the lifting pins 15 and held. At this time, the substrate 12 separates from the hot plate 16 and the temperature gradually decreases.

【0056】さらに、基板12がホットプレート16か
ら離れると、給気管23のノズルから吹き出す窒素ガス
が基板12の表面に吹き付けられ、これにより、基板1
2の冷却が促進する。窒素ガスによる冷却でもって、基
板12の余熱によるシール剤の硬化の進行を防止でき
る。
Further, when the substrate 12 is separated from the hot plate 16, the nitrogen gas blown from the nozzle of the air supply pipe 23 is blown onto the surface of the substrate 12, whereby the substrate 1
2 promotes cooling. Cooling with nitrogen gas can prevent the hardening of the sealant due to the residual heat of the substrate 12.

【0057】図5(a)〜(d)に示す昇降ピンの各位
置の時間的な変化は、基板12に塗布されたシール剤の
特性やホットプレート16の設定温度などの諸条件に応
じて異なる。基板12の温度が所望の値になって冷却が
完了すると、搬送ロボット14(図2)により、基板1
2は炉体2外に搬出され、基板12のシール剤の加熱硬
化処理が終了する。
The temporal change of each position of the lifting pins shown in FIGS. 5A to 5D depends on various conditions such as the characteristics of the sealant applied to the substrate 12 and the set temperature of the hot plate 16. different. When the temperature of the substrate 12 reaches a desired value and cooling is completed, the transfer robot 14 (FIG. 2) causes the substrate 1 to be cooled.
2 is carried out of the furnace body 2, and the heat curing of the sealant on the substrate 12 is completed.

【0058】以上のように、基板12をホットプレート
16から離れた位置で予熱することにより、基板12を
臨界温度以下の温度で予熱し、基板12をホットプレー
ト16に密着する時間を調整し、加熱後にホットプレー
ト16から離して臨界温度以下の温度に冷却することに
より、所望するシール剤の特性を得ることができる。
As described above, by preheating the substrate 12 at a position distant from the hot plate 16, the substrate 12 is preheated at a temperature below the critical temperature, and the time for adhering the substrate 12 to the hot plate 16 is adjusted, After the heating, the desired sealant characteristics can be obtained by separating from the hot plate 16 and cooling to a temperature below the critical temperature.

【0059】ホットプレート16は、隔壁8で覆うこと
により、外気の影響を受けにくくなり、その表面温度が
安定化して基板12を一様な温度で加熱できるので、基
板12に塗布したシール剤を均一に加熱硬化することが
できる。
Covering the hot plate 16 with the partition wall 8 makes it less likely to be affected by the outside air and stabilizes the surface temperature of the hot plate 16 to heat the substrate 12 at a uniform temperature. It can be uniformly heat-cured.

【0060】炉体2の駆動部は昇降ピン15を昇降させ
る昇降手段11のみであるので、構造が簡素化し、炉体
2の駆動部の制御は昇降ピン15の上下位置であるの
で、制御が単純化する。搬送ロボット14は隔壁8の前
面部に設けられた開口部9から基板12を搬入し、昇降
ピン15上に搭載し、加熱終了後に同じ位置で昇降ピン
15上にある基板12を搬出するので、制御が容易であ
る。
Since the drive part of the furnace body 2 is only the elevating means 11 for elevating the elevating pin 15, the structure is simplified, and the control of the drive part of the furnace body 2 is the up and down position of the elevating pin 15, so that the control is possible. To simplify. Since the transfer robot 14 carries in the substrate 12 from the opening 9 provided in the front surface of the partition wall 8 and mounts it on the lifting pins 15, and carries out the substrate 12 on the lifting pins 15 at the same position after heating is completed, Easy to control.

【0061】炉体2内では、その下部にある縦駆動板2
4の昇降範囲に隔壁8を切り欠いた部分から低温の外気
が侵入し、ホットプレート16上に沿って移動し、開口
部9より流出する気流が発生するが、給気管23のノズ
ルを開口部9と反対側の略水平方向に向けて設けたこと
により、開口部9へ向かう気流が打ち消される。
In the furnace body 2, the vertical drive plate 2 located below the furnace body 2
Low temperature outside air enters from the notched portion of the partition wall 8 in the ascending / descending range of 4, and moves along the hot plate 16 to generate an airflow flowing out of the opening 9. However, the nozzle of the air supply pipe 23 is opened. Since it is provided in the substantially horizontal direction on the side opposite to 9, the airflow toward the opening 9 is canceled.

【0062】また、給気管23から供給される窒素ガス
によって炉体2内の内圧は僅かに上昇するので、隔壁8
外から侵入しようとする気流が打ち消される。隔壁8で
囲まれた容積を抑えることができるので、ホットプレー
ト16の周囲の空間は僅かであり、ホットプレートの1
6の熱で炉体2内の温度は均一化し易く、炉体2内の上
部と下部の温度差が小さくなり、対流の発生量を抑える
ことができる。対流は基板12の動きで乱されないの
で、ホットプレート16の加熱温度が均一化し、基板1
2に塗布したシール剤を均一に加熱硬化することができ
る。
Further, since the internal pressure in the furnace body 2 is slightly increased by the nitrogen gas supplied from the air supply pipe 23, the partition wall 8
The airflow that tries to enter from outside is canceled out. Since the volume surrounded by the partition 8 can be suppressed, the space around the hot plate 16 is small,
With the heat of 6, the temperature inside the furnace body 2 is easily made uniform, the temperature difference between the upper part and the lower part inside the furnace body 2 becomes small, and the amount of convection generated can be suppressed. Since the convection is not disturbed by the movement of the substrate 12, the heating temperature of the hot plate 16 is made uniform,
The sealant applied to 2 can be uniformly heated and cured.

【0063】給気管23から給気する気体を不活性ガス
である窒素ガスとし、外気の侵入を抑えているので、炉
体2内の窒素ガスの濃度は高くなり、シール剤の酸化を
防止できる。
Since the gas supplied from the air supply pipe 23 is nitrogen gas which is an inert gas to suppress the invasion of the outside air, the concentration of the nitrogen gas in the furnace body 2 becomes high, and the oxidation of the sealant can be prevented. .

【0064】給気管23のノズル方向を開口部9と反対
側の略水平方向に向けて設けたが、給気管23のノズル
方向や給気量は、隔壁8の開口部9の位置やホットプレ
レート16の位置や温度などにより生ずる対流の方向や
流量などにより、その最適な給気管23のノズル方向や
給気量などは変更できる。一例として、隔壁8の全高が
低くて内部での対流を抑えてあるものについては、隔壁
8の開口部9に沿って流れる気流を発生させてエアーカ
ーテンを形成し、外気の侵入を抑えるようにしてもよ
い。
Although the nozzle direction of the air supply pipe 23 is set to be substantially horizontal on the side opposite to the opening 9, the nozzle direction of the air supply pipe 23 and the air supply amount are determined by the position of the opening 9 of the partition wall 8 and the hot plate. The optimum nozzle direction of the air supply pipe 23, the amount of air supply, and the like can be changed according to the direction and flow rate of convection caused by the position of 16, the temperature, and the like. As an example, in the case where the overall height of the partition wall 8 is low and the convection inside is suppressed, an air flow that flows along the opening 9 of the partition wall 8 is generated to form an air curtain so that the invasion of outside air is suppressed. May be.

【0065】この実施例では、炉体2の個数を4個とし
ている。炉体2の適正な個数は、炉体2内に基板12が
ある時間と、基板12を炉体2へ搬入及び搬出する時間
との合計時間を所望する基板12の供給時間で除した値
となる。各炉体2に一定間隔で順番に基板12を搬入
し、シール剤の加熱硬化処理を終了した基板12を順番
に取り出すことにより、シール剤の加熱硬化工程を終了
した基板12を一定の間隔で次段の装置へ供給できる。
従って、複数個の炉体2を備えることにより、基板12
を次段の装置などへ供給する間隔を確保できる。
In this embodiment, the number of furnace bodies 2 is four. The appropriate number of furnace bodies 2 is a value obtained by dividing the total time of the time when the substrate 12 is in the furnace body 2 and the time of loading and unloading the substrate 12 by the desired supply time of the substrate 12. Become. By loading the substrates 12 into the respective furnace bodies 2 in order at regular intervals and taking out the substrates 12 that have undergone the heat curing treatment of the sealing agent in order, the substrates 12 that have completed the heat curing step of the sealing agent are conducted at regular intervals. Can be supplied to the next stage device.
Therefore, by providing a plurality of furnace bodies 2, the substrate 12
It is possible to secure an interval for supplying the gas to the next stage device or the like.

【0066】また、複数台の炉体2のうちの1台が故障
しても、各炉体2を個別に温度管理することにより、故
障した炉体2を除いて運転することができ、製造ライン
を停止せずに保守できる。
Further, even if one of the plurality of furnace bodies 2 fails, by individually controlling the temperature of each furnace body 2, it is possible to operate the furnace body 2 except for the malfunction. Maintenance is possible without stopping the line.

【0067】保守や点検を行なう点検扉10(図2及び
図4)は、基板12の搬入される面とは直角方向の側面
に設けているので、片側の点検扉10を開けて保守や点
検を行なっても、保守や点検を行なっている以外の炉体
2への基板12の搬入を妨げることがなく、加熱炉全体
を停止させることはない。
Since the inspection door 10 (FIGS. 2 and 4) for performing maintenance and inspection is provided on the side surface in the direction perpendicular to the surface into which the substrate 12 is loaded, one side of the inspection door 10 is opened for maintenance and inspection. Even if the above procedure is performed, the loading of the substrate 12 into the furnace body 2 other than the maintenance and inspection is not hindered, and the entire heating furnace is not stopped.

【0068】また、この実施例では、炉体2は上下に2
段、左右に2列の配置としたが、炉体2の配置は基板1
2を搬送する搬送ロボット14などとの組み合わせによ
り変更してもよい。炉体2は垂直方向のみに配置しても
よく、水平方向のみに配置してもよい。炉体2の配置
は、設置される室内の床面積や室内高さ,炉体数,搬送
ロボット14の移送範囲などの条件により、適正なもの
に選定できる。炉体2の全高は低いから、炉体2を垂直
方向に複数段重ねても、全体的にさほど高くならずに据
付け面積を小さくすることができる。
Further, in this embodiment, the furnace body 2 is vertically
Although the columns are arranged in two rows on each side, the furnace body 2 is arranged on the substrate 1
It may be changed in combination with the transfer robot 14 that transfers 2 or the like. The furnace body 2 may be arranged only in the vertical direction, or may be arranged only in the horizontal direction. The arrangement of the furnace body 2 can be appropriately selected depending on conditions such as the floor area and the height of the room in which the furnace body is installed, the number of furnace bodies, the transfer range of the transfer robot 14, and the like. Since the total height of the furnace body 2 is low, even if the furnace bodies 2 are stacked in a plurality of stages in the vertical direction, the installation area can be reduced without increasing the overall size.

【0069】さらに、この実施例では、対流の抑制によ
り炉体2内への外気の進入を抑え、清浄度を高くして塵
埃の基板12への付着を防止している。基板12が加熱
中にホットプレ−ト16に触れる回数は1回だけであ
り、また、基板12をホットプレート16に極く近い予
熱位置から搭載するので、ホットプレート16の周囲の
気流の乱れは少なく、塵埃を舞い上げることは少なくて
清浄度を維持できる。
Further, in this embodiment, by suppressing the convection, the outside air is prevented from entering the furnace body 2 and the cleanliness is enhanced to prevent the dust from adhering to the substrate 12. The number of times the substrate 12 touches the hot plate 16 during heating is only one, and since the substrate 12 is mounted from a preheating position very close to the hot plate 16, turbulence of the air flow around the hot plate 16 is small. , The dust is rarely blown up, and cleanliness can be maintained.

【0070】また、基板12と昇降ピン15との接触面
積は僅かであるので、基板12と昇降ピン15の摩擦に
よる塵埃の発生を抑えている。炉体2内は対流を抑えて
いるので、発生した塵埃は上方へ移動しにくく、基板1
2の清浄度を保つことができる。また、駆動部分である
昇降手段11は隔壁8外にあるため、内部の発塵量は少
なく、さらに、発生した塵埃を排気管13が排気するの
で、内部の清浄度を良好に保つことができて、塵埃の付
着の少ない高品質な基板12を得ることができる。
Further, since the contact area between the substrate 12 and the elevating pins 15 is small, the generation of dust due to the friction between the substrate 12 and the elevating pins 15 is suppressed. Since the convection inside the furnace body 2 is suppressed, the generated dust is difficult to move upward, and the substrate 1
A cleanliness of 2 can be maintained. Further, since the lifting / lowering means 11, which is a driving portion, is outside the partition 8, the amount of dust generated inside is small, and furthermore, the generated dust is exhausted by the exhaust pipe 13, so that the internal cleanliness can be kept good. As a result, it is possible to obtain a high-quality substrate 12 with less dust.

【0071】図6は図1に示した実施例で使用されるホ
ットプレ−ト16の他の具体例を示すヒータ22の長手
方向の断面図であって、26はギャップピンである。
FIG. 6 is a longitudinal sectional view of a heater 22 showing another specific example of the hot plate 16 used in the embodiment shown in FIG. 1, and 26 is a gap pin.

【0072】同図において、このホットプレ−ト16
は、図3に示した真空吸着孔20に換えて、ギャップピ
ン26をホットプレ−ト16の表面上に多数個配設し、
基板12をホットプレ−ト16から僅かに離して保持す
るようにしている。ギャップピン26は、基板12をそ
の予熱位置よりさらに近づけてホットプレート16面か
ら均等な間隔で基板12を保持するものである。
In this figure, this hot plate 16
In place of the vacuum suction holes 20 shown in FIG. 3, a large number of gap pins 26 are arranged on the surface of the hot plate 16,
The substrate 12 is held slightly away from the hot plate 16. The gap pins 26 bring the substrate 12 closer to the preheating position and hold the substrate 12 at even intervals from the surface of the hot plate 16.

【0073】このように構成することにより、輻射熱に
より均等に加熱でき、均質なシール剤特性を得ることが
できる。
With this configuration, it is possible to uniformly heat the radiant heat and obtain uniform sealing agent characteristics.

【0074】図7は本発明による加熱炉の他の実施例の
外観を示す正面図であって、27は冷却手段、28は冷
却板であり、前出図面に対応する部分には同一符号を付
けて重複する説明を省略する。
FIG. 7 is a front view showing the appearance of another embodiment of the heating furnace according to the present invention, in which 27 is a cooling means and 28 is a cooling plate, and the same reference numerals are given to the portions corresponding to the above drawings. A duplicate description will be omitted.

【0075】図8は図7での分断線D−Dに沿う縦断面
図であって、29は冷却水配管であり、図7に対応する
部分には同一符号を付けている。
FIG. 8 is a vertical sectional view taken along the line D--D in FIG. 7, in which 29 is a cooling water pipe, and the portions corresponding to FIG.

【0076】この実施例が図1に示した実施例と異なる
ところは、図7に示すように、図1に示した4個の炉体
2のうちの1個を冷却手段27に置き換えたことであ
る。
This embodiment is different from the embodiment shown in FIG. 1 in that one of the four furnace bodies 2 shown in FIG. 1 is replaced with a cooling means 27 as shown in FIG. Is.

【0077】冷却手段27は、図7及び図8に示すよう
に、炉体2から隔壁8を取り除き、さらに、ホットプレ
−ト16のヒ−タ22を冷却水配管29に置き換えた冷
却板28を設けたものである。冷却水配管29はその内
部に冷却水を導入し、冷却板28を常温まで冷却する。
冷却手段27は、炉体2と同様に、枠組6内に配置され
ている。
As shown in FIGS. 7 and 8, the cooling means 27 includes a cooling plate 28 in which the partition wall 8 is removed from the furnace body 2 and the heater 22 of the hot plate 16 is replaced with a cooling water pipe 29. It is provided. Cooling water is introduced into the cooling water pipe 29 to cool the cooling plate 28 to room temperature.
The cooling means 27 is arranged in the framework 6 like the furnace body 2.

【0078】次に、この実施例の動作を説明する。Next, the operation of this embodiment will be described.

【0079】炉体2による加熱工程は図1に示した実施
例の動作を示す図5(a)〜図5(d)の工程とほぼ同
一であって、図5(d)の状態で給気管23から気流を
基板12に吹き付けて基板12の温度が所望の温度より
低下すると、搬送ロボット14(図2)によって炉体2
内から取り出し、冷却手段27に移して冷却を行なう。
The heating process by the furnace body 2 is almost the same as the process of FIGS. 5 (a) to 5 (d) showing the operation of the embodiment shown in FIG. 1, and the heating is performed in the state of FIG. 5 (d). When the temperature of the substrate 12 becomes lower than a desired temperature by blowing an air flow from the trachea 23 onto the substrate 12, the transfer robot 14 (FIG. 2) causes the furnace body 2
It is taken out from the inside and transferred to the cooling means 27 for cooling.

【0080】冷却手段27では、図7に示すように、基
板12を保持した昇降ピン15を昇降手段11によって
降下させることにより、基板12を冷却板28上に搭載
して基板12の冷却を行なう。
In the cooling means 27, as shown in FIG. 7, the lifting pins 15 holding the substrate 12 are lowered by the lifting means 11 to mount the substrate 12 on the cooling plate 28 and cool the substrate 12. .

【0081】冷却板28は冷却水配管29内を流れる冷
却水によって常時冷却されており、基板12が冷却板2
8と全面で接触することにより、熱伝導により基板12
の熱が奪われ、速やかに基板12の温度が低下する。基
板12が所望する温度まで低下すると、再び昇降ピン1
5を上昇させ、冷却板28の上方で基板12を昇降ピン
15により保持する。次に、冷却手段27で冷却した基
板12を搬送ロボット14(図2)で冷却手段27外へ
搬出し、加熱硬化処理を終える。
The cooling plate 28 is constantly cooled by the cooling water flowing in the cooling water pipe 29, and the substrate 12 is cooled by the cooling plate 2.
8 by contacting the entire surface with the substrate 8 by heat conduction.
The heat of the substrate 12 is removed, and the temperature of the substrate 12 is rapidly lowered. When the substrate 12 has cooled to the desired temperature, the lifting pin 1
5 is lifted and the substrate 12 is held above the cooling plate 28 by the lifting pins 15. Next, the substrate 12 cooled by the cooling means 27 is carried out of the cooling means 27 by the transfer robot 14 (FIG. 2), and the heat curing process is completed.

【0082】なお、この実施例では、冷却手段27の構
造は図8に示したものに限定することなく、どの様な構
造であってもよい。
In this embodiment, the structure of the cooling means 27 is not limited to that shown in FIG. 8 and may be any structure.

【0083】この実施例によれば、基板のシール剤を高
温で短時間で加熱硬化させ、その後強制的に冷却できる
ので、加熱硬化の工程に要する時間を短縮でき、加熱炉
の基板製造能力を向上させることができる。
According to this embodiment, since the sealant for the substrate can be heated and cured at a high temperature in a short time and then forcibly cooled, the time required for the heating and curing process can be shortened and the substrate production capacity of the heating furnace can be improved. Can be improved.

【0084】以上、本発明の実施例を説明したが、本発
明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to such embodiments.

【0085】即ち、上記実施例では、昇降ピン15の長
さを全て同じとしたが、基板12の中央部側を保持する
ホットプレート16の中央部側に位置する昇降ピン15
の長さを、ホットプレート16の端部に近い昇降ピン1
5の長さよりも短くしてもよい。一例として、基板12
の中央及び4隅の5個の昇降ピン15で支えるものにつ
いては、4隅の昇降ピン15の長さより中央部の昇降ピ
ン15の長さを僅かに短くする。昇降ピン15で基板1
2を支える際に、基板12は中央部が下方にたわむの
で、端部の各昇降ピン15が基板12を支える力が大き
く、かつ均一化してずれにくくなる。また、基板12を
ホットプレート16に搭載する際も、中央部より先にホ
ットプレート16に接触して吸着されるので、ホットプ
レート16に搭載時に生じるずれを抑えることができ
る。
That is, in the above-described embodiment, the lengths of the lifting pins 15 are all the same, but the lifting pins 15 located on the center side of the hot plate 16 that holds the center side of the substrate 12 are used.
The length of the lift pin 1 close to the end of the hot plate 16
It may be shorter than the length of 5. As an example, the substrate 12
For those supported by the five lifting pins 15 at the center and at the four corners, the length of the lifting pins 15 at the center is made slightly shorter than the length of the lifting pins 15 at the four corners. Board 1 with lifting pins 15
When the substrate 12 is supported, the central portion of the substrate 12 bends downward, so that each lifting pin 15 at the end has a large force to support the substrate 12 and makes it uniform and difficult to shift. Further, when the substrate 12 is mounted on the hot plate 16, the hot plate 16 is contacted and adsorbed prior to the central portion, so that the displacement that occurs during mounting on the hot plate 16 can be suppressed.

【0086】[0086]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基板表面に塗布したペーストを均一に加熱硬化すること
ができて、高品質な基板を製造することができるし、ま
た、設置面積も小さなものとすることができる。
As described above, according to the present invention,
The paste applied to the surface of the substrate can be uniformly heated and hardened to produce a high-quality substrate, and the installation area can be made small.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による加熱炉の一実施例を示す外観正面
図である。
FIG. 1 is an external front view showing an embodiment of a heating furnace according to the present invention.

【図2】図1の分断線A−Aに沿う断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA in FIG. 1;

【図3】図1の分断線B−Bに沿う断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along the line BB of FIG. 1;

【図4】図2の分断線C−Cに沿う断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along the section line CC of FIG. 2;

【図5】図1に示した実施例の動作説明図である。FIG. 5 is an operation explanatory diagram of the embodiment shown in FIG. 1;

【図6】図1におけるホットプレートの他の具体例を示
す縦断面図である。
FIG. 6 is a vertical cross-sectional view showing another specific example of the hot plate in FIG.

【図7】本発明による加熱炉の他の実施例を示す外観正
面図である。
FIG. 7 is an external front view showing another embodiment of the heating furnace according to the present invention.

【図8】図7の分断線D−Dに沿う断面図である。8 is a cross-sectional view taken along the section line DD of FIG.

【図9】従来の加熱炉の一例を示す縦断面図である。FIG. 9 is a vertical sectional view showing an example of a conventional heating furnace.

【図10】図9の分断線E−Eに沿う断面図である。10 is a cross-sectional view taken along the section line EE in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 架台フレーム 2 炉体 3 制御部 4 ベ−ス板 5 支柱 6 枠組 8 隔壁 9 開口部 10 点検扉 11 昇降手段 12 基板 13 排気管 14 搬送ロボット 15 昇降ピン 16 ホットプレ−ト 17 支柱 18 放熱防止カバー 19 位置ずれ防止ピン 20 真空吸着孔 21 真空配管 22 加熱用ヒータ 23 給気管 24 縦駆動板 25 横枠 26 ギャップピン 27 冷却手段 28 冷却板 29 冷却水配管 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Frame 2 Furnace body 3 Control part 4 Base plate 5 Support 6 Frame 8 Partition wall 9 Opening 10 Inspection door 11 Lifting means 12 Board 13 Exhaust pipe 14 Transfer robot 15 Lifting pin 16 Hot plate 17 Support 18 Heat dissipation prevention cover 19 Misalignment prevention pin 20 Vacuum adsorption hole 21 Vacuum piping 22 Heating heater 23 Air supply pipe 24 Vertical drive plate 25 Horizontal frame 26 Gap pin 27 Cooling means 28 Cooling plate 29 Cooling water piping

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/12 6921−4E H05K 3/12 B (72)発明者 山間 伸也 茨城県竜ケ崎市向陽台5丁目2番 日立テ クノエンジニアリング株式会社竜ヶ崎工場 内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Internal reference number FI Technical display location H05K 3/12 6921-4E H05K 3/12 B (72) Inventor Shinya Yamama 5 Koyodai, Ryugasaki, Ibaraki Prefecture 2-chome, Hitachi Techno Engineering Co., Ltd. Ryugasaki Plant

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 加熱板上に基板を搭載して加熱する加熱
炉において、 加熱板を貫通する複数の小孔と、 該小孔を貫通する複数の小径の棒形状で加熱板より上方
に突出可能に設けた基板の保持手段と、 該基板の保持手段を昇降させる昇降手段と、 加熱板より上方に突出する前記基板の保持手段の長さを
制御し、予熱,本加熱及び冷却の各温度に温度制御する
手段と、 加熱板と基板の保持手段を包含し、外気と遮る容器とを
備え、 該容器の一面に基板を水平方向に移動して容器内の前記
基板の保持手段上に搭載する開口部を設けたことを特徴
とする加熱炉。
1. A heating furnace for mounting a substrate on a heating plate and heating the substrate, comprising: a plurality of small holes penetrating the heating plate; and a plurality of small-diameter rods penetrating the small holes and protruding above the heating plate. Possible holding means for the substrate, raising and lowering means for raising and lowering the holding means for the substrate, and controlling the length of the holding means for the substrate protruding above the heating plate to control the preheating, main heating and cooling temperatures. A means for controlling the temperature, a heating plate and a holding means for the substrate are included, and a container for blocking the outside air is provided. The substrate is horizontally moved on one surface of the container and mounted on the holding means for the substrate in the container. A heating furnace provided with an opening for
【請求項2】 請求項1記載の加熱炉において、 容器内の開口部近傍で開口部より上方に給気手段を設
け、さらに該給気手段は開口部と反対側に給気口を設け
たことを特徴とする加熱炉。
2. The heating furnace according to claim 1, wherein an air supply means is provided near the opening in the container and above the opening, and the air supply means is provided with an air supply port on the side opposite to the opening. A heating furnace characterized by the above.
【請求項3】 請求項1記載の加熱炉において、 容器に基板を搬入する開口部を有する面と交差する方向
の面に容器内を露出させる扉を設けたことを特徴とする
加熱炉。
3. The heating furnace according to claim 1, wherein a door for exposing the inside of the container is provided on a surface in a direction intersecting a surface having an opening for loading a substrate into the container.
【請求項4】 請求項1記載の加熱炉において、 加熱板中央に設けた小径の棒形状とした基板保持手段の
加熱板より上方に露出する長さを加熱板端部に比べて短
くしたことを特徴とする加熱炉。
4. The heating furnace according to claim 1, wherein the length of the small-diameter rod-shaped substrate holding means provided in the center of the heating plate exposed above the heating plate is shorter than the end of the heating plate. A heating furnace characterized by.
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