JPH09330515A - Magnetic recording medium and manufacture thereof - Google Patents

Magnetic recording medium and manufacture thereof

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Publication number
JPH09330515A
JPH09330515A JP8146324A JP14632496A JPH09330515A JP H09330515 A JPH09330515 A JP H09330515A JP 8146324 A JP8146324 A JP 8146324A JP 14632496 A JP14632496 A JP 14632496A JP H09330515 A JPH09330515 A JP H09330515A
Authority
JP
Japan
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magnetic
recording medium
magnetic recording
substrate
convex
Prior art date
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Pending
Application number
JP8146324A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuzo Yamamoto
裕三 山本
Hiroyuki Iguma
博行 猪熊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kao Corp filed Critical Kao Corp
Priority to JP8146324A priority Critical patent/JPH09330515A/en
Publication of JPH09330515A publication Critical patent/JPH09330515A/en
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  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for a magnetic recording medium, which can form arbitrarily controlled irregularities accurately and economically. SOLUTION: When the manufacture of a recording medium having at least a nonmagnetic substrate 12, a magnetic layer and a lubricant layer is performed by this method, pulse layer is selectively applied on the region including the part, where a magnetic head is brought into contact with the recording medium through the mask having the opening part in a specified shape at the time of the starting and stopping of the recording medium. Then, the surface is made rouph, and many irregularity parts 22 are formed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体及び
その製造方法に関し、更に詳しくはレーザーテクスチャ
により基板表面に所定の形状の凹凸部が形成された磁気
記録媒体及びその製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium and a method for manufacturing the same, and more particularly to a magnetic recording medium in which a substrate surface has irregularities of a predetermined shape formed by laser texture and a method for manufacturing the same. .

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】コンピ
ュータ等の外部記憶装置として用いられている固定ディ
スク等の磁気ディスクにおいては、その電磁変換特性を
向上させるための手段の一つとして、磁気ヘッドと磁気
ディスクとの間の距離、即ちグライド高さを小さくする
方法が用いられている。従って、一般に磁気ディスクの
表面は平滑であることが好ましいといえるが、あまりに
平滑過ぎると、磁気ヘッドが磁気ディスクに貼り付く、
いわゆるヘッド吸着の現象が起き、磁気ディスクや磁気
ヘッドが損傷するおそれがある。そこで、磁気ディスク
の表面を適度な粗さにするためのテクスチャ処理が一般
に行われている。
2. Description of the Related Art In a magnetic disk such as a fixed disk used as an external storage device of a computer or the like, a magnetic head is used as one of means for improving its electromagnetic conversion characteristics. A method of reducing the distance between the disk and the magnetic disk, that is, the glide height is used. Therefore, it can generally be said that the surface of the magnetic disk is preferably smooth, but if it is too smooth, the magnetic head sticks to the magnetic disk,
A so-called head suction phenomenon occurs, and the magnetic disk and the magnetic head may be damaged. Therefore, a texture process for making the surface of the magnetic disk an appropriate roughness is generally performed.

【0003】かかるテクスチャ処理としては、例えば、
磁気ディスクの基板の表面を研磨テープ等により機械的
に研磨する方法や、特開平3−272018号公報や特
開平6−290452号公報に記載されているように、
磁気ディスクの基板の表面にパルスレーザーを照射して
離散的な凹凸部を形成して、粗面化する方法が知られて
いる。
As such texture processing, for example,
As described in JP-A-3-272018 and JP-A-6-290452, a method of mechanically polishing the surface of a magnetic disk substrate with a polishing tape or the like,
A method is known in which a surface of a substrate of a magnetic disk is irradiated with a pulse laser to form discrete uneven portions to roughen the surface.

【0004】しかしながら、上記研磨テープ等により機
械的に研磨する方法では、基板が脆性材料の場合には、
研磨中に基板表面にマイクロクラックがはいりやすく、
その結果、得られる磁気記録媒体にエラーが生じやすく
なる。また、ゾーンテクスチャも形成しづらい。一方、
特開平3−272018号公報や特開平6−29045
2号公報に記載されている方法では、シングルビームの
レーザーにより基板表面を粗面化するので、生産性がよ
くない。また、形成される凹凸部の形状が円形や楕円形
に限られ、磁気記録媒体の耐摩耗性等の向上のために最
適化された凹凸部を形成することが困難である。
However, in the method of mechanically polishing with the above-mentioned polishing tape or the like, when the substrate is a brittle material,
Micro cracks easily enter the substrate surface during polishing,
As a result, errors easily occur in the obtained magnetic recording medium. It is also difficult to form zone texture. on the other hand,
JP-A-3-272018 and JP-A-6-29045
In the method described in Japanese Patent Publication No. 2, the surface of the substrate is roughened by a single beam laser, so that the productivity is not good. Further, the shape of the uneven portion formed is limited to a circle or an ellipse, and it is difficult to form the uneven portion optimized for improving the wear resistance of the magnetic recording medium.

【0005】従って、本発明の目的は、任意にコントロ
ールされた凹凸を精度よく且つ経済的に形成し得る磁気
記録媒体の製造方法を提供することにある。また、本発
明の目的は、耐久性及び耐摩耗性等が高く、エラー特性
に優れた磁気記録媒体を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a magnetic recording medium capable of forming arbitrarily controlled irregularities accurately and economically. Another object of the present invention is to provide a magnetic recording medium having high durability and abrasion resistance and excellent error characteristics.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成すべく本
発明者らは鋭意検討を重ねた結果、所定形状の開口部を
有するマスク材を介してパルスレーザーを基板に選択的
に照射することにより、該マスク材の開口部の形状に略
対応した所定の形状を有する凹凸部が基板表面に形成さ
れることを知見した。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies made by the present inventors in order to achieve the above object, it is possible to selectively irradiate a substrate with a pulse laser through a mask material having an opening of a predetermined shape. As a result, it was found that an uneven portion having a predetermined shape substantially corresponding to the shape of the opening of the mask material is formed on the substrate surface.

【0007】本発明は、上記知見に基づきなされたもの
であり、非磁性基板と、磁性層と、潤滑剤層とを少なく
とも有する磁気記録媒体の製造方法において、上記非磁
性基板における、上記磁気記録媒体の起動及び停止時に
磁気ヘッドと該磁気記録媒体との接触が生じる部位を含
む領域に、所定の形状の開口部を有するマスク材を介し
てパルスレーザーを選択的に照射し、その表面を粗面化
して、多数の凹凸部を形成することを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法を提供することにより、上記目的を達
成したものである。
The present invention has been made based on the above findings, and in a method for manufacturing a magnetic recording medium having at least a non-magnetic substrate, a magnetic layer and a lubricant layer, the magnetic recording on the non-magnetic substrate is performed. A region including a portion where the magnetic head comes into contact with the magnetic recording medium at the time of starting and stopping the medium is selectively irradiated with a pulse laser through a mask material having an opening of a predetermined shape to roughen the surface. The above object is achieved by providing a method for manufacturing a magnetic recording medium, which is characterized by forming a large number of concavo-convex portions by planarizing.

【0008】また、本発明は、上記方法により製造され
る好ましい磁気記録媒体として、非磁性基板と、磁性層
と、潤滑層とを少なくとも有する磁気記録媒体におい
て、上記非磁性基板における、上記磁気記録媒体の起動
及び停止時に磁気ヘッドと該磁気記録媒体との接触が生
じる部位を含む領域に多数の凹凸部が形成されており、
該凹凸部は、該凹凸部が形成されていない領域における
中心線(JIS B0601)よりもその最低部が低い
位置にある凹部と、該凹部を取り囲み且つ該中心線より
もその最高部が高い位置にある凸形状輪郭部とから構成
されており、その1個当たりの平均面積が0.1〜50
0μm2 であると共に、その全面積が該凹凸部が形成さ
れている上記領域の面積の50〜99.8%であること
を特徴とする磁気記録媒体を提供するものである。
The present invention also provides, as a preferred magnetic recording medium manufactured by the above method, a magnetic recording medium having at least a non-magnetic substrate, a magnetic layer and a lubricating layer, wherein the magnetic recording is performed on the non-magnetic substrate. A large number of uneven portions are formed in a region including a portion where the magnetic head and the magnetic recording medium come into contact with each other when the medium is started and stopped,
The concavo-convex portion has a concave portion whose lowermost portion is lower than the center line (JIS B0601) in a region where the concavo-convex portion is not formed, and a position which surrounds the concave portion and whose highest portion is higher than the central line. And the convex contour portion in FIG.
The present invention provides a magnetic recording medium having a size of 0 μm 2 and a total area of 50 to 99.8% of the area of the region where the irregularities are formed.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】まず、本発明の磁気記録媒体の製
造方法の好ましい実施形態について図面を参照して説明
する。ここで、図1は、本発明の磁気記録媒体の製造方
法の一実施形態に用いられる装置を示す概略図であり、
図2(a)〜(c)は、本実施形態の方法に用いられる
マスク材の要部の形状を拡大して示す平面図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION First, a preferred embodiment of a method for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention will be described with reference to the drawings. Here, FIG. 1 is a schematic view showing an apparatus used in an embodiment of a method for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention,
2A to 2C are enlarged plan views showing the shape of the main part of the mask material used in the method of the present embodiment.

【0010】本実施形態の方法においては、図1に示す
ように、非磁性基板12における、磁気記録媒体の起動
及び停止時に磁気ヘッドと該磁気記録媒体との接触が生
じる部位を含む領域(以下、この領域を「ヘッドランデ
ィングゾーン」という)に、所定の形状の開口部を有す
るマスク材30を介してパルスレーザー32を選択的に
照射し、その表面を粗面化して、多数の凹凸部を形成す
る。
In the method of the present embodiment, as shown in FIG. 1, a region (hereinafter referred to as a region) on the non-magnetic substrate 12 including a portion where the magnetic head and the magnetic recording medium come into contact with each other when the magnetic recording medium is started and stopped. This region is referred to as a "head landing zone"), and a pulse laser 32 is selectively irradiated through a mask material 30 having an opening of a predetermined shape to roughen the surface to form a large number of irregularities. Form.

【0011】本実施形態の方法について更に詳細に説明
すると、レーザー装置34で発生したパルスレーザー3
2はマスク材30を通過することによって多重ビームと
なる。この多重ビームのパルスレーザー32は、レンズ
36で集光されて所定のビーム径とされた後、上記非磁
性基板12の上記ヘッドランディングゾーンに照射され
る。上記非磁性基板12は、その中心部においてスピン
ドル38の一端によって保持されている。そして、該ス
ピンドル38の他端は回転手段(図示せず)に接続して
おり、上記非磁性基板12をその円周方向に所定回転数
で回転可能とさせている。その結果、上記ヘッドランデ
ィングゾーンにのみパルスレーザー32が照射され、該
ヘッドランディングゾーンのみを選択的に粗面化し、多
数の凹凸部を形成することができる。
The method of this embodiment will be described in more detail. The pulse laser 3 generated by the laser device 34 is used.
2 passes through the mask material 30 to become a multiple beam. The multi-beam pulse laser 32 is condensed by a lens 36 to have a predetermined beam diameter, and then is irradiated onto the head landing zone of the non-magnetic substrate 12. The non-magnetic substrate 12 is held by one end of a spindle 38 at the center thereof. The other end of the spindle 38 is connected to a rotating means (not shown) so that the non-magnetic substrate 12 can rotate in the circumferential direction at a predetermined rotation speed. As a result, only the head landing zone is irradiated with the pulse laser 32, and only the head landing zone can be selectively roughened to form a large number of uneven portions.

【0012】上記非磁性基板12の表面における上記凹
凸部の形成方法について更に詳述すると、該凹凸部は、
上記パルスレーザー32のエネルギーによる材料除去・
変形により形成される。即ち、該パルスレーザー32が
照射された部分に光化学反応が生じ、該部分の原子・分
子間の結合が断ち切られ、原子・分子が瞬時に分散・飛
散することにより、上記凹凸部が形成される。その結
果、上記非磁性基板12の表面にマイクロクラックを生
じさせることなく、該表面を粗面化することができる。
The method of forming the uneven portion on the surface of the non-magnetic substrate 12 will be described in more detail.
Material removal by the energy of the pulse laser 32
It is formed by deformation. That is, a photochemical reaction occurs in the portion irradiated with the pulse laser 32, the bonds between the atoms and molecules in the portion are cut off, and the atoms and molecules are instantaneously dispersed and scattered to form the uneven portion. . As a result, the surface of the non-magnetic substrate 12 can be roughened without generating microcracks.

【0013】本実施形態の方法に用いられる開口部を有
する上記マスク材30としては、例えば、図2(a)に
示す十文字状のスリットが形成されたマスク材、図2
(b)に示すスリット(互いに120度ずつ離れ、同じ
長さを有し、一端が同一点上に位置する3本の直線から
なるスリット)が形成されたマスク材、或いは図2
(c)に示すような網目状マスク材を用いることができ
るがこれらには限定されない。そして、これらのマスク
材を用いることにより、該マスク材の開口部の形状に略
対応する凹凸部が上記非磁性基板の表面に形成される。
例えば、図2に示すマスク材30のうち、図2(a)に
示すマスク材を用いた場合には、図4(後述する)に示
す形状の凹凸部が形成され、図2(b)に示すマスク材
を用いた場合には、図5(後述する)に示す形状の凹凸
部が形成される。また、図2(c)に示すマスク材を用
いた場合には、略円形ないし楕円形の凹凸部が形成され
る。
As the mask material 30 having an opening used in the method of the present embodiment, for example, a mask material in which cross-shaped slits shown in FIG.
A mask material formed with slits (slits formed by three straight lines having the same length at 120 degrees apart from each other and one end located on the same point) shown in FIG.
A mesh mask material as shown in (c) can be used, but is not limited thereto. Then, by using these mask materials, an uneven portion substantially corresponding to the shape of the opening of the mask material is formed on the surface of the non-magnetic substrate.
For example, when the mask material shown in FIG. 2A is used among the mask materials 30 shown in FIG. 2, an uneven portion having a shape shown in FIG. 4 (described later) is formed, and the mask material shown in FIG. When the mask material shown in the figure is used, an uneven portion having a shape shown in FIG. 5 (described later) is formed. Further, when the mask material shown in FIG. 2C is used, a substantially circular or elliptical uneven portion is formed.

【0014】図2(a)及び(b)に示すマスク材30
におけるスリットの幅、大きさ及び数等や、図2(c)
に示すマスク材30における線径及び線間隔等に特に制
限はなく、上記非磁性基板の表面に形成しようとする上
記凹凸部の大きさや重なり合いの程度等に応じて適宜選
択し得る。また、図2(a)及び(b)に示すマスク材
30におけるスリットは、例えばステンレス製等の板状
材を、フォトレジストを用いエッチングすることにより
形成することができる。例えば、図2(a)に示すマス
ク材30を用いる場合には十文字状のスリットの縦・横
の長さは0.001〜100μmであることが好まし
く、0.01〜20μmであることが更に好ましい。該
スリットの幅は0.001〜100μmであることが好
ましく、0.01〜20μmであることが更に好まし
い。
The mask material 30 shown in FIGS. 2A and 2B.
Width, size and number of slits in Fig. 2 (c)
There is no particular limitation on the wire diameter, line spacing, etc. in the mask material 30 shown in (4), and it can be appropriately selected depending on the size of the uneven portion to be formed on the surface of the non-magnetic substrate, the degree of overlapping, and the like. The slits in the mask material 30 shown in FIGS. 2A and 2B can be formed by etching a plate-shaped material such as stainless steel using a photoresist. For example, when using the mask material 30 shown in FIG. 2A, the vertical and horizontal lengths of the cross-shaped slits are preferably 0.001 to 100 μm, and more preferably 0.01 to 20 μm. preferable. The width of the slit is preferably 0.001 to 100 μm, more preferably 0.01 to 20 μm.

【0015】本実施形態の方法に用いられるレーザー装
置は、上記凹凸部を形成する上記非磁性基板の材質等に
応じて適宜選択することができ、例えば上記非磁性基板
としてカーボン基板を用いる場合には、エキシマレーザ
ーを好適に用いることができる。また、上記レーザー装
置におけるパルスレーザーの周期、出力及び照射数等
は、上記非磁性基板の種類や粗面化の度合いに応じて適
宜選択することができる。例えば、カーボン基板にエキ
シマレーザーを照射する場合には、パルスの周期は50
〜200kHzであることが好ましく、出力(エネルギ
ー)は0.01〜1000mJであることが好ましく、
照射数は1000〜1000×103 回であることが好
ましく、基板回転数は1〜10万rpmであることが好
ましい。
The laser device used in the method of the present embodiment can be appropriately selected according to the material of the non-magnetic substrate for forming the concavo-convex portion, for example, when a carbon substrate is used as the non-magnetic substrate. For, an excimer laser can be preferably used. Further, the period, output, irradiation number, and the like of the pulse laser in the laser device can be appropriately selected according to the type of the nonmagnetic substrate and the degree of roughening. For example, when the carbon substrate is irradiated with an excimer laser, the pulse cycle is 50
To 200 kHz, and the output (energy) is preferably 0.01 to 1000 mJ.
The irradiation number is preferably 1000 to 1000 × 10 3 times, and the substrate rotation number is preferably 1 to 100,000 rpm.

【0016】本実施形態の方法においては、パルスレー
ザーが上記非磁性基板に直角に照射されるが、本発明の
方法はかかる実施形態に限定されず、例えば該パルスレ
ーザーを斜めから照射してもよい。また、本発明の方法
に用いられる上記マスク材としては、一種類のみのスリ
ットが形成されたマスク材のみならず、二種類以上のス
リットが形成されたマスク材を用いてもよい。或いは、
二枚以上のマスク材を組み合わせて用いてもよい。な
お、本発明の方法に関して特に詳述しなかった点につい
ては、通常の磁気記録媒体の製造方法に関する説明が適
宜適用される。
In the method of this embodiment, the non-magnetic substrate is irradiated with the pulse laser at a right angle, but the method of the present invention is not limited to this embodiment. For example, the pulse laser may be obliquely irradiated. Good. Further, as the mask material used in the method of the present invention, not only a mask material having only one kind of slit formed but also a mask material having two or more kinds of slits formed may be used. Alternatively,
Two or more mask materials may be used in combination. It should be noted that, for points that are not particularly described in detail regarding the method of the present invention, the description regarding the method for manufacturing a normal magnetic recording medium is appropriately applied.

【0017】次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法に
よって製造される磁気記録媒体の好ましい一実施形態を
図面を参照して説明する。ここで、図3は、本発明の磁
気記録媒体の好ましい一実施形態の構造を示す概略断面
図である。
Next, a preferred embodiment of a magnetic recording medium manufactured by the method for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention will be described with reference to the drawings. Here, FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a preferred embodiment of the magnetic recording medium of the present invention.

【0018】図3に示す実施形態の磁気記録媒体10
は、非磁性基板12と、該非磁性基板12上に順次設け
られた第1及び第2下地層13、14、磁性層16、保
護層18並びに潤滑剤層20とを具備している。なお、
図3に示す実施形態の磁気記録媒体10においては、簡
便のために凹凸部は省略されている。
The magnetic recording medium 10 of the embodiment shown in FIG.
Includes a non-magnetic substrate 12, and first and second underlayers 13 and 14, a magnetic layer 16, a protective layer 18, and a lubricant layer 20, which are sequentially provided on the non-magnetic substrate 12. In addition,
In the magnetic recording medium 10 of the embodiment shown in FIG. 3, the uneven portion is omitted for simplicity.

【0019】本実施形態の磁気記録媒体10を構成する
各層についてそれぞれ説明すると、まず上記非磁性基板
12としては、例えば、Al基板、NiPめっきAl合
金基板、強化ガラス基板、結晶化ガラス基板、セラミッ
クス基板、Si合金基板、Ti基板、Ti合金基板、プ
ラスチック基板、カーボン基板、及びこれらの複合材料
から成る基板等が使用できる。これらのうち、特にカー
ボン基板、就中ガラス状カーボン基板は、小径/薄板化
に有利であり、耐衝撃性・耐熱性に優れ、しかも導電性
も有しているので、本発明において好ましく用いられ
る。
Each layer constituting the magnetic recording medium 10 of the present embodiment will be described. First, as the non-magnetic substrate 12, for example, an Al substrate, a NiP plated Al alloy substrate, a strengthened glass substrate, a crystallized glass substrate, a ceramics. A substrate, a Si alloy substrate, a Ti substrate, a Ti alloy substrate, a plastic substrate, a carbon substrate, a substrate made of a composite material of these, or the like can be used. Of these, the carbon substrate, especially the glassy carbon substrate, is advantageous in reducing the diameter / thin plate, is excellent in impact resistance and heat resistance, and is also electrically conductive, so that it is preferably used in the present invention. .

【0020】上記非磁性基板12における、磁気記録媒
体の起動及び停止時に磁気ヘッドと該磁気記録媒体との
接触が生じる部位を含む領域、即ち上記ヘッドランディ
ングゾーンには、本発明の方法に従い、所定の形状の開
口部を有するマスク材を介してパルスレーザーが選択的
に照射されることにより、その表面が粗面化され、多数
の凹凸部が形成されている。
According to the method of the present invention, a region of the non-magnetic substrate 12 including a portion where the magnetic head and the magnetic recording medium come into contact with each other at the time of starting and stopping the magnetic recording medium, that is, the head landing zone is predetermined according to the method of the present invention. By selectively irradiating the pulse laser through the mask material having the opening of the shape, the surface is roughened, and a large number of irregularities are formed.

【0021】上記凹凸部の形状について図4を参照して
説明する。ここで、図4は、上記凹凸部の形状を示す概
略斜視図である。図4に示す凹凸部22は、上記パルス
レーザーの単パルスによって、所定の中心線平均粗さR
aを有する鏡面仕上げされた上記非磁性基板12上に単
一の凹凸部として形成されており、その輪郭は略クロー
バー形である。該凹凸部22は、凹部28と、該凹部2
8を取り囲み該凹凸部22の外形を画定する凸形状輪郭
部24とから構成されている。該凸形状輪郭部24は、
上記非磁性基板12の平坦部26から凸状に隆起してお
り、且つその最高部(稜線の部分)が該平坦部26にお
ける中心線(JISB 0601に準拠して測定)より
も高い位置にある。一方、上記凸形状輪郭部24によっ
て取り囲まれている上記凹部28は、上記非磁性基板1
2の平坦部26から凹状に陥没しており、且つその最低
部が上記中心線よりも低い位置にある。また、図4に示
す上記凹凸部22においては、上記凹部28の略中心部
に凸状に隆起した突起(図示せず)が形成されているこ
とも好ましい。
The shape of the uneven portion will be described with reference to FIG. Here, FIG. 4 is a schematic perspective view showing the shape of the uneven portion. The uneven portion 22 shown in FIG. 4 has a predetermined center line average roughness R by the single pulse of the pulse laser.
It is formed as a single concavo-convex portion on the mirror-finished non-magnetic substrate 12 having a, and its contour is substantially clover-shaped. The concavo-convex portion 22 includes a concave portion 28 and the concave portion 2
And a convex contour portion 24 that surrounds 8 and defines the outer shape of the irregular portion 22. The convex contour portion 24 is
The non-magnetic substrate 12 is raised in a convex shape from the flat portion 26, and its highest portion (ridge line portion) is located higher than the center line of the flat portion 26 (measured in accordance with JIS B 0601). . On the other hand, the concave portion 28 surrounded by the convex contour portion 24 has the non-magnetic substrate 1
The second flat portion 26 is recessed in a concave shape, and the lowest portion thereof is located at a position lower than the center line. Further, in the concave-convex portion 22 shown in FIG. 4, it is also preferable that a protrusion (not shown) protruding in a convex shape is formed at a substantially central portion of the concave portion 28.

【0022】上記凸形状輪郭部24の高さは、上記中心
線を基準として、10〜500Åであることが好まし
く、20〜200Åであることが更に好ましい。上記高
さが10Åに満たないか又は500Åを超えると、磁気
ヘッドの浮上姿勢の変動が大きくなるので上記範囲内と
することが好ましい。一方、上記凹部28の深さは、上
記中心線を基準として、10〜3000Åであることが
好ましく、20〜500Åであることが更に好ましい。
上記深さが10Åに満たないと、上記凹凸部の中心線平
均粗さRaが上記非磁性基板12の中心線平均粗さRa
と同程度となってしまうので、磁気ヘッドとの接触面積
低減の効果が小さく、3000Åを超えると磁気ヘッド
の浮上安定性に影響を与える場合があるので上記範囲内
とすることが好ましい。
The height of the convex contour portion 24 is preferably 10 to 500 Å, more preferably 20 to 200 Å, based on the center line. If the height is less than 10 Å or exceeds 500 Å, the flying posture of the magnetic head fluctuates greatly. On the other hand, the depth of the recess 28 is preferably 10 to 3000 Å, and more preferably 20 to 500 Å, based on the center line.
If the depth is less than 10Å, the centerline average roughness Ra of the uneven portion is the centerline average roughness Ra of the non-magnetic substrate 12.
Therefore, the effect of reducing the contact area with the magnetic head is small, and if it exceeds 3000 Å, the floating stability of the magnetic head may be affected.

【0023】上記凹凸部22は、その1個当たりの平均
面積が0.1〜500μm2 であり、0.2〜100μ
2 であることが好ましい。上記平均面積が0.1μm
2 に満たないと、該凹凸部22の形状を制御することが
困難であり、500μm2 を超えると磁気ヘッドの浮上
姿勢が乱れ、ヘッドクラッシュの危険が増す。また、該
凹凸部22の面積は最小のもので0.05μm2 以上、
最大のもので900μm2 以下であることが好ましく、
特に、最小のもので0.1μm2 以上、最大のもので5
00μm2 以下であることが好ましい。また、上記凹凸
部22は、その全面積が該凹凸部22が形成されている
上記領域(即ち、上記ヘッドランディングゾーン)の面
積の50〜99.8%であり、70〜98%であること
が好ましい。該凹凸部22の全面積が上記ヘッドランデ
ィングゾーンの面積の50%未満であると磁気記録媒体
の起動及び停止時における磁気ヘッドと磁気記録媒体と
の摩擦力低減効果が小さく、99.8%を超えると上記
凸形状輪郭部24における磁気ヘッドと磁気記録媒体と
の間の接触圧力が大きくなりヘッドクラッシュが起こり
やすくなる。なお、上記凹凸部22の面積はSEM(走
査型電子顕微鏡)、ZYGO(レーザー光利用3次元表
面構造解析顕微鏡)、又は原子間力顕微鏡(AFM)観
察により測定することができる。
The above-mentioned concavo-convex portion 22 has an average area of 0.1 to 500 μm 2 , and 0.2 to 100 μm.
m 2 is preferred. The average area is 0.1 μm
If it is less than 2 , it is difficult to control the shape of the uneven portion 22, and if it exceeds 500 μm 2 , the flying posture of the magnetic head is disturbed and the risk of head crash increases. Further, the area of the uneven portion 22 is at least 0.05 μm 2 or more,
The maximum is preferably 900 μm 2 or less,
In particular, the minimum is 0.1 μm 2 or more, and the maximum is 5
It is preferably 00 μm 2 or less. The total area of the uneven portion 22 is 50 to 99.8% and 70 to 98% of the area of the region (that is, the head landing zone) in which the uneven portion 22 is formed. Is preferred. If the total area of the uneven portion 22 is less than 50% of the area of the head landing zone, the effect of reducing the frictional force between the magnetic head and the magnetic recording medium at the time of starting and stopping the magnetic recording medium is small, which is 99.8%. When it exceeds, the contact pressure between the magnetic head and the magnetic recording medium in the convex contour portion 24 becomes large, and the head crash easily occurs. The area of the uneven portion 22 can be measured by SEM (scanning electron microscope), ZYGO (laser light three-dimensional surface structure analysis microscope), or atomic force microscope (AFM) observation.

【0024】また、上記凹凸部22においては、上記凸
形状輪郭部24と該凹凸部22との投影面積比〔凸形状
輪郭部/(凸形状輪郭部+凹部)〕が2〜50%である
ことが好ましく、5〜30%であることが更に好まし
い。該投影面積比が2%に満たないと摺動耐久性に乏し
くなり、50%を超えると磁気ヘッドの吸着が生じやす
くなるので上記範囲内とすることが好ましい。なお、該
投影面積比の測定方法については、後述する実施例にお
いて詳述する。
In the concave-convex portion 22, the projected area ratio between the convex-shaped contour portion 24 and the concave-convex portion 22 [convex-shaped contour portion / (convex-shaped contour portion + recessed portion)] is 2 to 50%. It is preferably 5 to 30%, more preferably 5 to 30%. If the projected area ratio is less than 2%, the sliding durability becomes poor, and if it exceeds 50%, the magnetic head is likely to be attracted, so that it is preferably within the above range. The method of measuring the projected area ratio will be described in detail in Examples described later.

【0025】上記凹凸部22の別の形状を図5を参照し
て説明する。ここで、図5は、上記凹凸部の別の形状を
示す概略斜視図(図4相当図)である。なお、図5にお
いて特に詳述しない点については、図4に関して詳述し
た説明が適宜適用される。また、図5において、図4と
同じ部分には同じ符号を付した。図5に示す凹凸部22
は、その輪郭が略三角形である。そして、該凹凸部22
は、図4に示す凹凸部と同様に、その凸形状輪郭部24
は上記非磁性基板12の平坦部26から凸状に隆起して
おり、また、該凸形状輪郭部24によって取り囲まれた
凹部28は上記非磁性基板12の平坦部26から凹状に
陥没している。
Another shape of the uneven portion 22 will be described with reference to FIG. Here, FIG. 5 is a schematic perspective view (corresponding to FIG. 4) showing another shape of the uneven portion. It should be noted that, for points that are not described in detail in FIG. 5, the description described in detail with reference to FIG. 4 is appropriately applied. Further, in FIG. 5, the same parts as those in FIG. 4 are designated by the same reference numerals. Uneven portion 22 shown in FIG.
Has a substantially triangular outline. Then, the uneven portion 22
Is similar to the uneven portion shown in FIG.
Is raised in a convex shape from the flat portion 26 of the non-magnetic substrate 12, and the recess 28 surrounded by the convex-shaped contour portion 24 is recessed from the flat portion 26 of the non-magnetic substrate 12 in a concave shape. .

【0026】本発明の磁気記録媒体においては、上記凹
凸部の形状を、上述した形状以外の形状、例えば、円形
又は楕円形等とすることも可能であるが、凹凸部の耐摩
耗性、機械的的強度の観点から、図4及び図5にそれぞ
れ示すような略クローバー形及び略三角形の凹凸部とす
ることが好ましい。
In the magnetic recording medium of the present invention, the shape of the uneven portion may be a shape other than the above-mentioned shape, for example, a circular shape or an elliptical shape. From the viewpoint of the desired strength, it is preferable to form the substantially clover-shaped and substantially triangular uneven portions as shown in FIGS. 4 and 5, respectively.

【0027】また、本発明の磁気記録媒体においては、
図4及び図5に示すような上記凹凸部22同士が重なり
あった状態で形成されることが好ましい。即ち、上記パ
ルスレーザーを多重ビームとして照射し、図6に示すよ
うに、複数の凹凸部22,22,・・同士が重なりあっ
た状態で形成されることが好ましい。かかる形状の凹凸
部を形成することにより、磁気ヘッドとの接触面積を減
らせたり、また凸形状輪郭部の間隔のコントロールが可
能となり、テクスチャー形成の自由度が高くなるので好
ましい。更に、本発明の磁気記録媒体においては、一枚
の基板上に、形状の異なる複数の凹凸部が形成されてい
てもよい。なお、図6に示すような複数の凹凸部が重な
り合った形状を形成するためには、図2(a)及び
(b)に示すマスク材におけるスリット間の間隔や、図
2(c)に示すマスク材における網目間の間隔を小さく
すればよい。
In the magnetic recording medium of the present invention,
It is preferable that the concavo-convex portions 22 as shown in FIG. 4 and FIG. That is, it is preferable that the pulse laser is irradiated as a multiple beam to form a plurality of concavo-convex portions 22, 22, ... As shown in FIG. By forming the uneven portion having such a shape, the contact area with the magnetic head can be reduced, the interval between the convex contour portions can be controlled, and the degree of freedom in texture formation is increased, which is preferable. Further, in the magnetic recording medium of the present invention, a plurality of uneven portions having different shapes may be formed on one substrate. It should be noted that in order to form a shape in which a plurality of concavo-convex portions are overlapped as shown in FIG. 6, an interval between slits in the mask material shown in FIGS. 2A and 2B, and FIG. 2C are shown. It suffices to reduce the distance between the meshes in the mask material.

【0028】上記非磁性基板における上記凹凸部が形成
されたヘッドランディングゾーンは、磁気記録媒体の耐
久性及び耐摩耗性を向上させる観点から、その中心線平
均粗さ(Ra)が10〜100Åであることが好まし
く、その中心線平均高さ(Rp)が20〜300Åであ
ることが好ましい。
The head landing zone of the non-magnetic substrate, on which the irregularities are formed, has a center line average roughness (Ra) of 10 to 100 liters from the viewpoint of improving the durability and wear resistance of the magnetic recording medium. It is preferable that the center line average height (Rp) is 20 to 300 Å.

【0029】図1に示す実施形態の磁気記録媒体10に
おいて、上記非磁性基板12上に設けられる上記第1下
地層13は、媒体ノイズを一層低減化せしめる目的で用
いられるものであり、Ti又はTi合金から構成される
ものであることが好ましい。一方、該第1下地層13上
に設けられる上記第2下地層14は、上記磁性層16の
静磁気特性の向上を目的として設けられるものであり、
この目的のために、その材質としては該磁性層16を構
成する物質の格子定数に近いものを用いることが好まし
い。特に、該第2下地層14は、Cr又はCrを含む二
元合金からなることが静磁気特性の向上と共に媒体ノイ
ズの低減化の点から好ましい。該Crを含む二元合金の
例としては、CrTi、CrMo、CrW、CrNb、
CrSi、CrCo、CrTa等を挙げるこができる。
上記第1下地層13及び第2下地層14の厚さは、それ
ぞれ5〜200nm及び5〜150nmであることが好
ましい。
In the magnetic recording medium 10 of the embodiment shown in FIG. 1, the first underlayer 13 provided on the non-magnetic substrate 12 is used for the purpose of further reducing medium noise, and Ti or It is preferably composed of a Ti alloy. On the other hand, the second underlayer 14 provided on the first underlayer 13 is provided for the purpose of improving the magnetostatic characteristics of the magnetic layer 16.
For this purpose, it is preferable to use a material having a lattice constant close to that of the substance forming the magnetic layer 16. In particular, the second underlayer 14 is preferably made of Cr or a binary alloy containing Cr from the viewpoints of improving magnetostatic characteristics and reducing medium noise. Examples of the binary alloy containing Cr include CrTi, CrMo, CrW, CrNb,
Examples thereof include CrSi, CrCo, CrTa, and the like.
The thicknesses of the first underlayer 13 and the second underlayer 14 are preferably 5 to 200 nm and 5 to 150 nm, respectively.

【0030】次に、上記第2下地層14上に設けられる
上記磁性層16について説明すると、該磁性層16とし
ては、例えば、PVD(物理的気相成長法)により形成
された金属薄膜型の磁性層を挙げることができる。該金
属薄膜型の磁性層を形成する材料としては、例えばCo
Cr、CoNi、CoCrX(但し、X=Crを除
く)、CoCrPtX(但し、X=Cr及びPtを除
く)、CoSm、CoSmX(但し、X=Smを除
く)、CoNiX(但し、X=Niを除く)及びCoW
X(但し、X=Wを除く)(ここで、Xは、Ta、P
t、Au、Ti、V、Cr、Ni、W、La、Ce、P
r、Nd、Pm、Sm、Eu、Li、Si、B、Ca、
As、Y、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Ag、Sb
及びHf等からなる群より選ばれる1種又は2種以上の
金属を示す)等で表されるCoを主成分とするCo系の
磁性合金等を好ましく挙げることができる。使用に際し
ては、これらを単独で又は2種以上の組み合わせて用い
ることができる。上記磁性層16の厚さは20〜50n
mであることが好ましいが、かかる範囲には限定されな
い。
Next, the magnetic layer 16 provided on the second underlayer 14 will be described. As the magnetic layer 16, for example, a metal thin film type formed by PVD (Physical Vapor Deposition) is used. A magnetic layer can be mentioned. As a material for forming the metal thin film type magnetic layer, for example, Co
Cr, CoNi, CoCrX (excluding X = Cr), CoCrPtX (excluding X = Cr and Pt), CoSm, CoSmX (excluding X = Sm), CoNiX (excluding X = Ni) ) And CoW
X (however, X = W is excluded) (where X is Ta, P
t, Au, Ti, V, Cr, Ni, W, La, Ce, P
r, Nd, Pm, Sm, Eu, Li, Si, B, Ca,
As, Y, Zr, Nb, Mo, Ru, Rh, Ag, Sb
And a Co-based magnetic alloy containing Co as a main component represented by (indicating one or more metals selected from the group consisting of Hf and the like) and the like. In use, these can be used individually or in combination of 2 or more types. The magnetic layer 16 has a thickness of 20 to 50 n.
It is preferably m, but not limited to this range.

【0031】上記磁性層16上に設けられる上記保護層
18は、上記磁性層16を保護するために用いられるも
のである。上記保護層は、耐摩耗性の観点から力学的強
度の高い材料で形成されていることが好ましく、例え
ば、Al、Si、Ti、Cr、Zr、Nb、Mo、T
a、W等の金属の酸化物(酸化ケイ素、酸化ジルコニウ
ム等);該金属の窒化物(窒化ホウ素等);該金属の炭
化物(炭化ケイ素、炭化タングステン等);ダイヤモン
ドライクカーボン等のカーボン(炭素)及びボロンナイ
トライド等からなる群より選択される一種以上が用いら
れることが好ましい。また、上記材料の中でも、カーボ
ン、炭化ケイ素、炭化タングステン、酸化ケイ素、酸化
ジルコニウム、窒化ホウ素又はこれらの複合材料が好ま
しく、更に好ましくはカーボンであり、中でも特にダイ
ヤモンドライクカーボン及びガラス状カーボンが好まし
い。上記保護膜18の厚さは、一般に5〜25nmであ
ることが好ましい。なお、上記保護層18は、PVD等
により形成することができる。
The protective layer 18 provided on the magnetic layer 16 is used to protect the magnetic layer 16. The protective layer is preferably formed of a material having high mechanical strength from the viewpoint of wear resistance, and for example, Al, Si, Ti, Cr, Zr, Nb, Mo, T.
oxides of metals such as a and W (silicon oxide, zirconium oxide, etc.); nitrides of the metal (boron nitride, etc.); carbides of the metal (silicon carbide, tungsten carbide, etc.); carbon such as diamond-like carbon (carbon ) And boron nitride are preferably used. Among the above materials, carbon, silicon carbide, tungsten carbide, silicon oxide, zirconium oxide, boron nitride or a composite material thereof is preferable, carbon is more preferable, and diamond-like carbon and glassy carbon are particularly preferable. Generally, the thickness of the protective film 18 is preferably 5 to 25 nm. The protective layer 18 can be formed by PVD or the like.

【0032】上記保護層18上に設けられる上記潤滑剤
層18は、磁気記録媒体の走行性及び耐久性を向上させ
るために用いられるものであり、例えば厚さが5〜10
0Å程度になるように潤滑剤をスピンコーティング、デ
ィップコーティング、スプレーコーティング等の塗布手
段で塗布する方法や、フッ化炭素系化合物と酸素とを気
相重合(特に光CVD)する方法により形成することが
できる。該潤滑剤としては、フッ素系高分子を好適に用
いることができる。該フッ素系高分子としては、分子中
に極性基を有するもの及び極性基を有しないものの双方
を単独で又は組み合わせて用いることができる。分子中
に極性基を有する上記フッ素系高分子としては、分子量
が2000〜4000のパーフロロポリエーテル系の高
分子であって、末端に芳香族環又はOH基を有するもの
が好ましく用いられる。より詳細には、−(CF2 CF
2 O)n−(CF2 O)m −骨格を有し、末端に芳香族
環又はOH基を有し、且つ分子量が2000〜4000
であるものが好ましい。具体例としては、フォンブリン
AM2001、フォンブリンZ−dol(アウジモント
社)等が挙げられる。一方、分子中に極性基を有しない
上記フッ素系高分子としては、分子量が2000〜10
000のパーフロロポリエーテル系の高分子であって、
末端にパーフルオロアルキル基を有するものが好ましく
用いられる。より詳細には、CF3 −(CF2 CF
2 O)n −(CF2 O)m −CF3 で表わされ、分子量
が2000〜10000であるものが好ましい。具体例
としては、フォンブリンZ03(アウジモント社)等が
挙げられる。
The lubricant layer 18 provided on the protective layer 18 is used to improve the running property and durability of the magnetic recording medium, and has a thickness of 5 to 10, for example.
It is formed by a method of applying a lubricant by spin coating, dip coating, spray coating, or the like so as to be about 0 Å, or a method of vapor phase polymerization (especially photo CVD) of a fluorocarbon compound and oxygen. You can As the lubricant, a fluoropolymer can be preferably used. As the fluorine-based polymer, both those having a polar group in the molecule and those not having a polar group can be used alone or in combination. As the above-mentioned fluoropolymer having a polar group in the molecule, a perfluoropolyether polymer having a molecular weight of 2000 to 4000 and having an aromatic ring or an OH group at a terminal is preferably used. More specifically,-(CF 2 CF
2 O) n- (CF 2 O) m -skeleton, an aromatic ring or an OH group at the end, and a molecular weight of 2000 to 4000
Is preferred. Specific examples include Fomblin AM2001 and Fomblin Z-dol (Ausimont). On the other hand, the fluorine-containing polymer having no polar group in the molecule has a molecular weight of 2000 to 10
000 perfluoropolyether polymer,
Those having a perfluoroalkyl group at the terminal are preferably used. More specifically, CF 3 — (CF 2 CF
2 O) n - is represented by (CF 2 O) m -CF 3 , having a molecular weight of 2,000 to 10,000 are preferred. Specific examples include Fomblin Z03 (Ausimont).

【0033】本実施形態の磁気記録媒体においては、上
記非磁性基板におけるヘッドランディングゾーンに上述
の凹凸部が形成されていることにより、該磁気記録媒体
の表面にも該凹凸部に対応した凹凸部が形成される。そ
の結果、耐久性及び耐摩耗性に優れた磁気記録媒体とな
る。
In the magnetic recording medium of the present embodiment, since the uneven portion is formed in the head landing zone of the non-magnetic substrate, the uneven portion corresponding to the uneven portion is also formed on the surface of the magnetic recording medium. Is formed. As a result, the magnetic recording medium is excellent in durability and wear resistance.

【0034】本発明の磁気記録媒体は、例えば、磁気ド
ラム、磁気テープ、磁気カード及び磁気ディスク等とし
て有用であり、特に固定ディスク等の磁気ディスクとし
て有用である。
The magnetic recording medium of the present invention is useful as, for example, a magnetic drum, a magnetic tape, a magnetic card, a magnetic disk, and the like, and is particularly useful as a magnetic disk such as a fixed disk.

【0035】[0035]

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明は、かかる実施例に限定されるものでは
ない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to such examples.

【0036】〔実施例1〕図3に示す構成の磁気ディス
クを以下の手順により製造した。即ち、密度1.5g/
cm2 のアモルファスカーボン基板(サイズ2.5”)
を研磨し、その平均表面粗さを0.5〜1.0nmにし
た。このカーボン基板の表面を図1に示す装置及び図2
(c)に示すマスク材(線径0.03mm、線間隔0.
08mm)を用いて粗面化した。図1に示す装置におけ
るレーザー装置34としては、KrFエキシマレーザー
(波長248nm)を用い、レンズ36によりマスク材
30の縮小率を1/4とし、カーボン基板上における照
射面積を約2mm×4mmとした。その他の条件は表1
に従い、平面視略円形(クレータ状)の凹凸部が多数形
成されたカーボン基板を得た。このカーボン基板の中心
線平均粗さ(Ra)及び中心線平均高さ(Rp)を触針
式表面粗さ計〔Tencor(株)製:型式P2〕を用
いて下記条件で測定した。その結果を表2に示す。測定条件 : 触針先端半径 :0.6μm(針曲率半径) 触針押し付け圧力:7mg 測定長 :250μm×8箇所 トレース速度 :2.5μm/秒 カットオフ :1.25μm(ローパスフィルタ
ー)
Example 1 A magnetic disk having the structure shown in FIG. 3 was manufactured by the following procedure. That is, the density is 1.5 g /
cm 2 amorphous carbon substrate (size 2.5 ”)
Was polished to an average surface roughness of 0.5 to 1.0 nm. The surface of this carbon substrate is shown in FIG.
Mask material shown in (c) (wire diameter 0.03 mm, line spacing 0.
08 mm) was used to roughen the surface. A KrF excimer laser (wavelength 248 nm) is used as the laser device 34 in the device shown in FIG. 1, the reduction ratio of the mask material 30 is set to 1/4 by the lens 36, and the irradiation area on the carbon substrate is set to about 2 mm × 4 mm. . Other conditions are shown in Table 1.
According to this, a carbon substrate on which a large number of uneven portions having a substantially circular shape (crater shape) in plan view were formed was obtained. The center line average roughness (Ra) and center line average height (Rp) of this carbon substrate were measured under the following conditions using a stylus type surface roughness meter [manufactured by Tencor Corp .: model P2]. The results are shown in Table 2. Measurement condition : Stylus tip radius: 0.6 μm (needle curvature radius) Stylus pressing pressure: 7 mg Measurement length: 250 μm x 8 points Tracing speed: 2.5 μm / sec Cutoff: 1.25 μm (low pass filter)

【0037】また、上記凹凸部の1個当たりの平均面積
(μm2 )及びヘッドランディングゾーンの面積に対す
る該凹凸部の全面積(%)を下記の方法で測定した。そ
の結果を表2に示す。SEM(日立製作所製、FE−S
EM S−4000)により凹凸部が形成された領域を
120度おきに3ヶ所任意に観察・写真撮影し、各視野
の写真像から上記凹凸部の1個当たりの面積の最大値、
最小値及び平均値を求めると共に、該凹凸部の全面積の
面積比率を算出した。
The average area (μm 2 ) of each of the irregularities and the total area (%) of the irregularities with respect to the area of the head landing zone were measured by the following method. The results are shown in Table 2. SEM (Hitachi, FE-S
EMS-4000), the area where the uneven portion is formed is arbitrarily observed and photographed at three places every 120 degrees, and the maximum value of the area per one of the uneven portion is obtained from the photographic image of each visual field.
The minimum value and the average value were obtained, and the area ratio of the total area of the uneven portion was calculated.

【0038】更に、上記凹凸部における上記凸形状輪郭
部と上記凹凸部との投影面積比〔凸形状輪郭部/(凸形
状輪郭部+凹部)〕を下記の方法で測定した。その結果
を表2に示す。測定装置として3次元表面構造解析顕微
鏡(ZYGO社製、型式MAX2MNT512)を用
い、上記凹凸部が形成された領域170μm×170μ
mを測定し、該凹凸部が形成されていない平坦部におけ
る中心線(平均基準線)より10Å深さでカットした際
の面積%を求め投影面積比とした。
Furthermore, the projected area ratio [the convex contour portion / (the convex contour portion + the concave portion)] of the convex contour portion and the concave and convex portion in the concave and convex portion was measured by the following method. The results are shown in Table 2. A three-dimensional surface structure analysis microscope (manufactured by ZYGO, model MAX2MNT512) is used as a measuring device, and the area 170 μm × 170 μ in which the above-mentioned concavo-convex portion is formed.
m was measured, and the area% at the time of cutting at a depth of 10 Å from the center line (average reference line) in the flat portion where the uneven portion was not formed was obtained and used as the projected area ratio.

【0039】このカーボン基板を精密洗浄した後、パレ
ットにロードし、4カソードを有するインライン式スパ
ッタリング装置にセットした。スパッタチャンバー内に
は、Ti、Cr、CoCr12Pt6 4 at%及びCの
ターゲットが設置されている。該スパッタチャンバー内
を排気して真空にし、次いで、該スパッタチャンバー内
にArガスを5mTorr導入した条件下、上記カーボ
ン基板をヒーターにより200℃まで加熱して、下記の
条件下にて順次各層の形成を行った。 (1)第1下地層 ・材料 :Ti ・基板バイアス電圧:0V ・膜厚 :50nm (2)第2下地層 ・材料 :Cr ・基板バイアス電圧:0V ・膜厚 :50nm (3)磁性層 ・材料 :CoCr12Pt6 4 at% ・基板バイアス電圧:−100V ・膜厚 :35nm (4)保護層 ・材料 :C ・基板バイアス電圧:−100V ・膜厚 :10nm
After precisely cleaning the carbon substrate, it was loaded on a pallet and set in an in-line type sputtering apparatus having 4 cathodes. Targets of Ti, Cr, CoCr 12 Pt 6 B 4 at% and C are installed in the sputtering chamber. The inside of the sputtering chamber is evacuated to a vacuum, and then the above carbon substrate is heated to 200 ° C. by a heater under the condition that Ar gas is introduced into the sputtering chamber at 5 mTorr, and each layer is sequentially formed under the following conditions. I went. (1) First underlayer-Material: Ti-Substrate bias voltage: 0V-Thickness: 50nm (2) Second underlayer-Material: Cr-Substrate bias voltage: 0V-Thickness: 50nm (3) Magnetic layer- materials: CoCr 12 Pt 6 B 4 at % · substrate bias voltage: -100 V, the film thickness: 35 nm (4) protective layer, materials: C-substrate bias voltage: -100 V, thickness: 10 nm

【0040】上記保護層形成後、Arガスを止め、上記
カーボン基板温度が50℃以下になるまで放置した。そ
の後、上記スパッタチャンバー内を大気開放し、保護層
までが形成された上記カーボン基板を取り出した。次い
で、上記保護層の表面にテープバニッシュを行い、続い
て潤滑剤フォンブリンAM2001(アウジモント社
製)を1.5nmの膜厚になるように塗布し、図3に示
す構成の磁気ディスクを得た。得られた磁気ディスクに
ついて、下記〔磁気ディスクの評価基準〕に従って、そ
れぞれ評価を行った。その結果を表2に示す。
After forming the protective layer, Ar gas was stopped and the carbon substrate was left to stand until the temperature became 50 ° C. or lower. Then, the inside of the sputtering chamber was opened to the atmosphere, and the carbon substrate having the protective layer formed was taken out. Next, tape burnishing was performed on the surface of the protective layer, and then a lubricant Fomblin AM2001 (manufactured by Ausimont) was applied to a thickness of 1.5 nm to obtain a magnetic disk having the configuration shown in FIG. . Each of the obtained magnetic disks was evaluated according to the following [Evaluation criteria for magnetic disks]. The results are shown in Table 2.

【0041】〔磁気ディスクの評価基準〕 <CSS特性>ヤマハ社製の薄膜ヘッド(Al2 3
TiC製スライダヘッド)を用い、ヘッド加重3.5
g、ヘッド浮上量2.8μインチ、回転数4500rp
mで5秒間駆動、5秒間停止のサイクルを繰り返して行
い、静摩擦係数が0.6を超えたときの回数が5〜10
万回のものをA、1〜5万回のものをB、1万回未満の
ものをCで表示した。 <GHT特性>PROQUIP社製MG150Tを用
い、50%スライダヘッドにより測定した。測定結果
は、1.5μインチの浮上高さの通過率が90%以上の
ものをS、50〜90%のものをA、30〜50%のも
のをB、30%以下のものをCで表示した。 <エラー特性>PROQUIP社製MG150Tを用
い、70%スライダヘッドにより、記録密度80KFC
I及びトラック幅3.5μmの条件で評価した。スライ
スレベルは60%とし、各磁気ディスク50枚について
連続16ビット以下のミッシングパルスを一つのエラー
として、このエラーの数をカウントし、以下のように評
価した。 A:評価ディスクの50%以上が、エラー個数が0〜1
5個である。 B:評価ディスクの50%以上が、エラー個数が16〜
45個である。 C:評価ディスクの50%以上が、エラー個数が46個
以上である。
[Evaluation Criteria for Magnetic Disks] <CSS Characteristics> Yamaha thin film head (Al 2 O 3
TiC slider head) and head load of 3.5
g, head flying height 2.8μ inch, rotation speed 4500rp
The cycle of driving for 5 seconds at m and stopping for 5 seconds was repeated, and the number of times when the coefficient of static friction exceeded 0.6 was 5 to 10
The value of 10,000 times is indicated by A, the value of 1 to 50,000 times is indicated by B, and the value of less than 10,000 times is indicated by C. <GHT characteristics> It was measured with a 50% slider head using MG150T manufactured by PROQUIP. The measurement results are as follows: S with a passing rate of 1.5 μ inch flying height of 90% or more as S, 50 to 90% as A, 30 to 50% as B, and 30% or less as C. displayed. <Error characteristics> Using a 150% slider head and a recording density of 80 KFC using MG150T manufactured by PROQUIP
Evaluation was performed under the conditions of I and a track width of 3.5 μm. The slice level was set to 60%, and for each of the 50 magnetic disks, a missing pulse of continuous 16 bits or less was regarded as one error, and the number of errors was counted and evaluated as follows. A: The number of errors is 0 to 1 in 50% or more of the evaluation disks
There are five. B: 50% or more of the evaluation discs had 16 or more errors
There are 45. C: 50% or more of the evaluation disks have 46 or more errors.

【0042】〔実施例2〜4〕実施例1におけるパルス
レーザーの照射条件を表1に示す条件に代える以外は実
施例1と同様に操作を行いカーボン基板の粗面化を行っ
た。得られたカーボン基板の表面状態を表2に示す。そ
の後は実施例1と同様に操作を行い磁気ディスクを得
た。得られた磁気ディスクの評価を実施例1と同様に行
った。その結果を表2に示す。
[Examples 2 to 4] A carbon substrate was roughened in the same manner as in Example 1 except that the pulse laser irradiation conditions in Example 1 were changed to those shown in Table 1. Table 2 shows the surface condition of the obtained carbon substrate. After that, the same operation as in Example 1 was performed to obtain a magnetic disk. The magnetic disk thus obtained was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

【0043】〔比較例1〕実施例1におけるパルスレー
ザーに代えて研磨テープを用い且つ表1に示す条件でカ
ーボン基板の表面を粗面化する以外は実施例1と同様に
操作を行いカーボン基板を得た。得られたカーボン基板
の表面状態を表2に示す。その後は実施例1と同様に操
作を行い磁気ディスクを得た。得られた磁気ディスクの
評価を実施例1と同様に行った。その結果を表2に示
す。
Comparative Example 1 A carbon substrate was prepared in the same manner as in Example 1 except that a polishing tape was used instead of the pulse laser in Example 1 and the surface of the carbon substrate was roughened under the conditions shown in Table 1. Got Table 2 shows the surface condition of the obtained carbon substrate. After that, the same operation as in Example 1 was performed to obtain a magnetic disk. The magnetic disk thus obtained was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

【0044】〔比較例2〕実施例1におけるマスク材を
用いず且つ表1に示す条件を用いる以外は実施例1と同
様に操作を行いカーボン基板の粗面化を行った。得られ
たカーボン基板の表面状態を表2に示す。その後は実施
例1と同様に操作を行い磁気ディスクを得た。得られた
磁気ディスクの評価を実施例1と同様に行った。その結
果を表2に示す。
Comparative Example 2 A carbon substrate was roughened in the same manner as in Example 1 except that the mask material in Example 1 was not used and the conditions shown in Table 1 were used. Table 2 shows the surface condition of the obtained carbon substrate. After that, the same operation as in Example 1 was performed to obtain a magnetic disk. The magnetic disk thus obtained was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

【0045】[0045]

【表1】 [Table 1]

【0046】[0046]

【表2】 [Table 2]

【0047】表2に示す結果から明らかなように、カー
ボン基板におけるヘッドランディングゾーンに、マスク
材を介してパルスレーザーを選択的に照射することによ
り、その表面が粗面化され、特定の形状を有する凹凸部
が多数形成された本発明の磁気ディスク(実施例1〜
4)は、比較例1及び2の磁気ディスクに比して、CS
S特性及びGHT特性に優れると共に、エラー特性にも
優れることが分かる。
As is clear from the results shown in Table 2, by selectively irradiating the head landing zone on the carbon substrate with the pulsed laser through the mask material, the surface is roughened and a specific shape is obtained. The magnetic disk of the present invention having a large number of uneven portions (Examples 1 to 1)
4) is CS compared with the magnetic disks of Comparative Examples 1 and 2.
It can be seen that the S characteristic and the GHT characteristic are excellent and the error characteristic is also excellent.

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明の磁気記録媒体の製造方法によれ
ば、パルスレーザーの照射エリアを任意に選択できるの
で、ゾーンテクスチャを容易に形成できる。更に、パル
スレーザーを基板表面に直接照射すればよいので、レジ
ストや洗浄液のような消耗品も不要であり、設備コスト
も少なくてすみ、生産性が向上し経済的である。また、
本発明の磁気記録媒体は、基板のヘッドランディングゾ
ーンに特定の形状を有する凹凸部を形成することによ
り、耐久性及び耐摩耗性が高く、エラー特性に優れたも
のとなる。
According to the method of manufacturing a magnetic recording medium of the present invention, since the irradiation area of the pulse laser can be arbitrarily selected, the zone texture can be easily formed. Further, since it is sufficient to directly irradiate the substrate surface with the pulsed laser, consumables such as a resist and a cleaning liquid are not required, the equipment cost can be reduced, the productivity can be improved, and it is economical. Also,
The magnetic recording medium of the present invention has high durability and abrasion resistance and excellent error characteristics by forming the uneven portion having a specific shape in the head landing zone of the substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形態
に用いられる装置を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic view showing an apparatus used in an embodiment of a method for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention.

【図2】図2(a)〜(c)は、マスク材の要部の形状
を拡大して示す平面図である。
2 (a) to 2 (c) are enlarged plan views showing the shape of the main part of the mask material.

【図3】本発明の磁気記録媒体の好ましい一実施形態の
構造を示す概略断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a preferred embodiment of the magnetic recording medium of the present invention.

【図4】凹凸部の形状を示す概略斜視図である。FIG. 4 is a schematic perspective view showing a shape of an uneven portion.

【図5】凹凸部の別の形状を示す概略斜視図(図4相当
図)である。
FIG. 5 is a schematic perspective view (corresponding to FIG. 4) showing another shape of the uneven portion.

【図6】複数の凹凸部同士が重なりあった状態を示す概
略断面図である。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a state in which a plurality of uneven portions are overlapped with each other.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 磁気記録媒体 12 非磁性基板 14 下地層 16 磁性層 18 保護層 20 潤滑剤層 22 凹凸部 24 凸形状輪郭部 26 平坦部 28 凹部 30 マスク材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Magnetic recording medium 12 Non-magnetic substrate 14 Underlayer 16 Magnetic layer 18 Protective layer 20 Lubricant layer 22 Uneven portion 24 Convex contour portion 26 Flat portion 28 Recessed portion 30 Mask material

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非磁性基板と、磁性層と、潤滑剤層とを
少なくとも有する磁気記録媒体の製造方法において、 上記非磁性基板における、上記磁気記録媒体の起動及び
停止時に磁気ヘッドと該磁気記録媒体との接触が生じる
部位を含む領域に、所定の形状の開口部を有するマスク
材を介してパルスレーザーを選択的に照射し、その表面
を粗面化して、多数の凹凸部を形成することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。
1. A method of manufacturing a magnetic recording medium having at least a non-magnetic substrate, a magnetic layer, and a lubricant layer, comprising: a magnetic head and the magnetic recording when starting and stopping the magnetic recording medium on the non-magnetic substrate. To form a large number of irregularities by roughening the surface by selectively irradiating a region including a portion where the medium comes into contact with a pulsed laser through a mask material having an opening of a predetermined shape. And a method for manufacturing a magnetic recording medium.
【請求項2】 上記非磁性基板がカーボン基板である、
請求項1記載の磁気記録媒体の製造方法。
2. The non-magnetic substrate is a carbon substrate,
The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1.
【請求項3】 非磁性基板と、磁性層と、潤滑層とを少
なくとも有する磁気記録媒体において、 上記非磁性基板における、上記磁気記録媒体の起動及び
停止時に磁気ヘッドと該磁気記録媒体との接触が生じる
部位を含む領域に多数の凹凸部が形成されており、 該凹凸部は、該凹凸部が形成されていない領域における
中心線(JIS B0601)よりもその最低部が低い
位置にある凹部と、該凹部を取り囲み且つ該中心線より
もその最高部が高い位置にある凸形状輪郭部とから構成
されており、その1個当たりの平均面積が0.1〜50
0μm2 であると共に、その全面積が該凹凸部が形成さ
れている上記領域の面積の50〜99.8%であること
を特徴とする磁気記録媒体。
3. A magnetic recording medium having at least a non-magnetic substrate, a magnetic layer, and a lubricating layer, wherein the magnetic head and the magnetic recording medium are in contact with each other when starting and stopping the magnetic recording medium on the non-magnetic substrate. A large number of concavo-convex portions are formed in a region including a region where the concavo-convex portion occurs, and the concavo-convex portion has a lowermost part lower than the center line (JIS B0601) in the region where the concavo-convex portion is not formed. , A convex contour portion surrounding the concave portion and having a highest portion higher than the center line, and the average area per one is 0.1 to 50.
A magnetic recording medium having a size of 0 μm 2 and a total area of 50 to 99.8% of the area of the region where the irregularities are formed.
【請求項4】 上記凹凸部の形状が略クローバー形又は
略三角形状である、請求項3記載の磁気記録媒体。
4. The magnetic recording medium according to claim 3, wherein the irregularities have a substantially clover shape or a substantially triangular shape.
【請求項5】 上記凹凸部同士が重なりあった状態で形
成されている、請求項3又は4記載の磁気記録媒体。
5. The magnetic recording medium according to claim 3, wherein the uneven portions are formed so as to overlap each other.
【請求項6】 上記凸形状輪郭部と上記凹凸部との投影
面積比〔凸形状輪郭部/(凸形状輪郭部+凹部)〕が2
〜50%である、請求項3〜5の何れかに記載の磁気記
録媒体。
6. A projected area ratio [convex contour portion / (convex contour portion + concave portion)] of the convex contour portion and the uneven portion is 2
The magnetic recording medium according to any one of claims 3 to 5, which is -50%.
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